DE1521175B2 - Vorrichtung zur verdampfung von werkstoffen im vakuum - Google Patents
Vorrichtung zur verdampfung von werkstoffen im vakuumInfo
- Publication number
- DE1521175B2 DE1521175B2 DE19661521175 DE1521175A DE1521175B2 DE 1521175 B2 DE1521175 B2 DE 1521175B2 DE 19661521175 DE19661521175 DE 19661521175 DE 1521175 A DE1521175 A DE 1521175A DE 1521175 B2 DE1521175 B2 DE 1521175B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- evaporation
- electron
- electron beam
- partition
- electrical
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims description 37
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 23
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 18
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 14
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 12
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 3
- 230000000712 assembly Effects 0.000 claims description 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 claims description 2
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 claims 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 claims 2
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 claims 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 claims 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 claims 1
- 238000001803 electron scattering Methods 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 claims 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000010025 steaming Methods 0.000 claims 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims 1
- 239000006200 vaporizer Substances 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 239000000615 nonconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052573 porcelain Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating, or etching for evaporating or etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/28—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation
- C23C14/30—Vacuum evaporation by wave energy or particle radiation by electron bombardment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
mieden werden können. Die Vorrichtung zur Verdampfung von Werkstoffen im Vakuum durch Elektronenbeschuß
ist dadurch gekennzeichnet, daß die das Verdampfungsgut tragende der Verdampfung
dienende Unterlage als Teil einer zwei Raumbereiche gegeneinander elektrisch abschirmenden Trennwand
ausgebildet ist, wobei in dem einen Raumbereich die Einrichtung zur Erhitzung des genannten Teiles der
Trennwand durch Elektronenbeschuß vorgesehen ist, während die dieser Einrichtung abgewandte Seite des
genannten Teiles der abschirmenden Trennwand zur Aufnahme der zu verdampfenden Werkstoffe ausgebildet
ist.
Die Anwendung der Erfindung, wonach also die Erhitzung mittels Elektronenstrahls von der Rückseite
der dünn ausgebildeten Unterlage für den zu
verdampfenden Werkstoff her erfolgt, hat, wie beim direkten Beschüß der abdampfenden Oberfläche des
Werkstoffes den· Vorteil, daß im wesentlichen die Wärmeübertragung nur auf das -zu erhitzende und zu
verdampfende Gut selbst erfolgen muß und die Wärmeableitung
durch den Träger im Gegensatz zu allen bekannten anderen Erhitzungsverfahren sehr gering
gehalten werden kann. Bei der bekannten Methode der Widerstandsbeheizung eines als Werkstoffträger
dienenden Wolframbandes z.B. wird die Wärme auf der ganzen Fläche des Heizbandes durch Stromdurchgang
gleichmäßig verteilt erzeugt, obwohl nur ein kleiner Teil dieser Fläche als eigentliche Unterlage,
die in direktem Kontakt mit dem zu verdampfenden Werkstoff steht, für die Wärmeübertragung
nützlich ist. Mindestens 80% der erzeugten Wärmeenergie geht auf diese Weise durch freie Abstrahlung
und durch Wärmeableitung an die beiden Einspannelektroden verloren. Bei der Elektronenstrahlbeheizung
dagegen läßt sich die Wärmeerzeugung auf jene Stelle der Unterlage beschränken, wo sie unmittelbar
auf den zu verdampfenden Werkstoff übertragen wird. Da die nicht bedeckten Teile der Unterlage
nicht dem Elektronenbeschuß ausgesetzt zu werden brauchen, können die Abstrahlungsverluste wesentlich
geringer gehalten werden.
Ein erstes Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der anliegenden F i g. 1 dargestellt. Die Vorrichtung
ist auf einem Flansch 1 aufgebaut, der an eine Öffnung in der Grundplatte einer Vakuumaufdampfanlage
angeflanscht werden kann. 2 bezeichnet eine ringförmige Dichtungsnut mit einem elastischen
Dichtungsring 3, 4 ein zylindrisches, elektrisch isolierendes Teil, z.B. aus Porzellan, 5einen das Teil4
umgebenden zylindrischen Metallmantel und 6 eine Glühkathode, die über vakuumdichte elektrisch isolierte
Durchführungen 7 und 8 aus der Quelle 9 mit Heizstrom und mit einer negativen Beschleunigungsspannung
für die Elektronen von einigen 100 bis zu einigen 1000 Volt versorgt wird. Auf dem Metallmantel
5, der in elektrisch leitender Verbindung mit dem Flansch 1 steht, liegt eine dünne Blechscheibe
10, aus einem hochtemperaturfesten Metall, die als Verdampfungsunterlage für den zu verdampfenden
Werkstoff 12 dient und vorteilhafterweise mit einer Vertiefung 11 zur Aufnahme derselben versehen ist.
Beim Betrieb werden die aus der Kathode 6 austretenden Elektronen auf die Verdampfungsunterlage
10 zu beschleunigt und erhitzen diese entsprechend der übertragenen Leistung. Die Innenwandung des
elektrisch isolierenden Teils 4 erhält dabei durch Streuelektronen eine negative Oberflächenladung,
welche den Strahlstrom soweit bündelt, daß er im wesentlichen nur den der Verdampfung dienenden
Teil des Bleches 10 trifft. Selbstverständlich können auch kompliziertere, bekannte elektronenoptische
Elektrodenanordnungen verwendet werden, um einen auf die Verdampfungsstelle fokussierten Elektronenstrahl
zu erzeugen.
Je dünner das als Verdampfungsunterlage dienende Blech 10 gewählt wird, desto besser bewahrt
ίο man die bekannten Vorteile der konventionellen Art
der Elektronenstrahlbeheizung, ohne deren Nachteile in Kauf nehmen zu müssen.
Als hochtemperaturfeste Baustoffe für den der Verdampfung dienenden Teil der elektrisch abschirmenden
Trennwand können alle bekannten elektrisch leitenden hochtemperaturfesten Materialien
verwendet werden, die eine hinreichende mechanische Festigkeit aufweisen. Es kommen also vor allem
die hochtemperaturfesten Metalle in Frage, die sonst
so für die Verdampfung mit Widerstandsbeheizung verwendet
werden, wie Wolfram oder Molybdänbleche, bzw. -folien, aber auch Nichtmetalle, z.B. Plättchen
aus Kohle, Graphit und Karbiden usw. Auch elektrische Nichtleiter, z.B. Plättchen aus Oxiden können
benutzt werden, wenn zum Elektronenbeschuß eine Elektronenkanone mit fokussiertem Strahl angewendet
wird, welche z.B. in der Anordnung der Fig.2 an Stelle der einfachen Glühkathode 24 vorgesehen
sein könnte. Die Hilfselektrode 26 kann dann entfallen und der Stromrückfluß von der Auftreffstelle der
Elektronen auf der isolierenden Unterlage 25 erfolgt
durch Streuung oder Glühemission von Elektronen, die von den benachbarten Teilen der Innenwandung
der Abschirmung 20 aufgefangen werden.
Im Sinne des Patentanspruchs bildet der metallische Mantel 5 zusammen mit dem Blech 10 eine elektrisch
abschirmende Trennwand zwischen einem Raumbereich A, in dem die Einrichtung zur Erhitzung des
zur Verdampfung dienenden Teils der besagten Trennwand mittels Elektronenstrahls vorgesehen ist,
während die der genannten Einrichtung abgewandte Seite dieser Trennwand, die an den Raumbereich B
grenzt, in welchem die Verdampfung stattfindet, muldenförmig zur Aufnahme des zu verdampfenden
Stoffes ausgebildet ist.
Die Raumbereiche .4 und B sind nicht nur elektrisch
gegeneinander abgeschirmt sondern weitgehend auch magnetisch, weil der Rückfluß des von
der Kathode 6 ausgehenden Elektronenstrahlstromes, gleichmäßig verteilt, radial über die Scheibe 10 und
längs des Mantels 5 erfolgt; die magnetischen Wirkungen des Elektronenstromes und des Rückflußstromes
heben sich auf diese Weise weitgehend auf; um auch die magnetische Wirkung der Kathodenwendel
6 auszuschalten, muß diese induktionsfrei aufgebaut, z. B. als Bifilarwendel ausgebildet sein.
. Um die magnetischen Wirkungen des Strahlstromes und des Kathodenheizstromes praktisch ganz
auszuschalten, kann im Rahmen der Erfindung auch von den bekannten, magnetisch abschirmenden
Materialien Gebrauch gemacht werden, indem ein zusätzlicher Mantel z.B. aus einem solchen Material
vorgesehen wird, der den Raum/1 im wesentlichen umschließt, wobei nur eine Öffnung zum Austritt des
erzeugten Dampfstromes freibleiben muß. Man kann auch den Flansch 1 und den Mantel 4 der F i g. 1
selbst aus magnetisch abschirmendem Material anfertigen, sofern — wegen deren geringeren elektri-
sehen Leitfähigkeit — der Rückflußstrom nicht zu
groß ist.
Eine andere Ausführungsform der Erfindung zeigt die F i g. 2. Gegenüber der F i g. 1 unterscheidet sie
sich durch den anders geformten doppelwandigen Stromrückflußmantel 20, in dessen ringförmigem
Hohlraum 21 über eine Leitung 22 ein Kühlmedium zu- und über eine andere Leitung 23 wieder abgeführt
wird. Um die aus der Kathode 24 austretenden Elektronen auf die Verdampfungsunterlage 25 hin zu
bündeln, ist die Elektrode 26 vorgesehen, die beim Betrieb auf gleichem oder höherem negativem Potential
gehalten wird wie die elektronenemittierende Glühkathode. Der Spalt zwischen der Elektrode 26
und der benachbarten Wand des Stromrückflußmantels 20 ist so gering zu bemessen, daß in diesem Spalt
keine elektrischen Gasentladungen auftreten können, was bekanntlich dann gewährleistet ist, wenn die
theoretische mittlere freie Weglänge der Elektronen in dem im Spalt befindlichen Gas wesentlich größer
als die Spaltweite ist (Spaltweiten von 1 mm sind für die meisten Fälle passend).
Die Elektrode 26, z.B. aus Kupfer, kann so geformt werden, daß sie als Hohlspiegel für die von der
Kathode ausgesandte Wärmestrahlung wirkt und diese auf die Kathode zurückfokussiert, was eine bessere
Energieausnutzung bedeutet.
Die zwei bisher beschriebenen Beispiele haben den Vorteil, daß derjenige Teil der der elektrischen Abschirmung
dienenden Trennwand, welcher der Verdampfung dient, sehr leicht und ohne große Kosten
ausgewechselt werden kann. Weil die als Verdampfungsunterlagen dienenden Bleche dünn und außerdem
deren Bearbeitungskosten niedrig sind — im Gegensatz zur Herstellung von Verdampfungsschiffchen,
die aus den gleichen hochtemperaturfesten Metallen angefertigt werden müssen — arbeitet man
nach der Erfindung auch aus diesem Grunde sehr wirtschaftlich.
Die Verdampfungsunterlage selbst kann verschiedene Formen aufweisen, z. B. kann sie zwecks möglichst
geringer Wärmeableitung als engmaschiges Drahtnetz ausgebildet sein, wobei die Schmelze des
zu verdampfenden Stoffes durch ihre Oberflächenspannung zusammengehalten wird.
Die F i g. 3 zeigt in vergrößerter Darstellung eine Ausführungsform, bei der nur der zentrale, durch
Stege 30 getragene Teil 31 als Verdampfungsfläche dient, und die ebenfalls den Vorteil besitzt, daß die
Wärmeableitung von der Verdampfungsfläche allein durch die Stege sehr gering ist, zumal diese vom gesamten
Rückflußstrom durchflossen und dabei erwärmt werden. Man kann deshalb auch dickere
Bleche verwenden, die eine höhere Gebrauchsdauer ergeben. Es erweist sich, daß die kleinen Durchbrechungen
32 die elektrische Abschirmungswirkung der Trennwand kaum merklich beeinflussen.
In manchen Anwendungsfällen spielt die mögliche Gebrauchsdauer der Verdampfungsunterlage, obwohl
diese sehr billig und leicht zu ersetzen sind, eine entscheidende Rolle, dann nämlich, wenn eine größere
Stoffmenge verdampft werden soll ohne daß das Vakuum zwischendurch unterbrochen werden darf.
In diesem Falle kann man eine Anordnung, wie sie in Fig.4 dargestellt ist, benutzen. Dieses Beispiel
zeigt bezüglich der Elektronenstrahlerzeugungseinrichtung den gleichen Aufbau wie dasjenige der
Fig. 1, jedoch ist die Verdampfungsunterlage als kreisförmige Rinne 40 in einer Drehscheibe 41 ausgebildet.
Man gewinnt dadurch nicht nur eine größere Heizfläche, die mehr Verdampfungsgut 42 auf
einmal aufnehmen kann sondern kann z.B. an der Stelle 43 der Kreisrinne eine Zugabevorrichtung 44
vorsehen, die in F i g. 4 als Trichter angedeutet ist.
Erwähnt sei noch, daß die Erfindung besonders für die in neuerer Zeit vielfach angewendete Flashverdampfungstechnik
für die Verdampfung von Gemischen sich eignet, bei der intermittierend angewendete,
sehr starke Elektronenstrahlströme erforderlich sind. Die in diesem Falle sonst auftretenden elektrischen
und magnetischen Felder stören nicht nur wegen ihrer absoluten Stärke sondern auch wegen ihrer
zeitlichen Variation, wodurch in elektrischen Leitungen unerwünschte Wechselspannungen verursacht
werden, die Messungen sehr stören können. Mittels der Erfindung werden diese Störungen vermieden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (9)
1. Vorrichtung zur Verdampfung von Werk- daß bei entsprechender Fokussierung auf eine sehr
stoffen im Vakuum durch Elektronenbeschuß, 5 kleine Fläche schon mit mäßiger Leistung eine hohe
dadurch gekennzeichnet, daß die das Energiedichte und damit eine hohe Temperatur er-Verdampfungsgut
tragende der Verdampfung zielt wird. Ferner kann ein Elektronenstrahl durch dienende Unterlage als Teil einer zwei Raumbe- elektrische oder magnetische Felder leicht abgelenkt
reiche gegeneinander elektrisch abschirmenden und z.B. alternierend auf verschiedene Werkstoffe
Trennwand ausgebildet ist, wobei in dem einen io gerichtet werden, was für die Herstellung von Misch-Raumbereich
die Einrichtung zur Erhitzung des kondensaten Bedeutung hat. Die auf das Verdampgenannten
Teiles der Trennwand durch Elektro- fungsgut übertragene Energie ist bei der Elektronennenbeschuß
vorgesehen ist, während die dieser Strahlbeheizung bequem und genau regelbar, was für
Einrichtung abgewandte Seite des genannten Tei- die Automatisierung von Aufdampfanlagen wichtig
les der abschirmenden Trennwand zur Aufnahme 15 ist. Da sich überraschenderweise herausgestellt hat,
der zu verdampfenden Werkstoffe ausgebildet ist. daß es möglich ist, auch nichtmetallische Werkstoffe
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- wie z. B. Quarz mit dem Elektronenstrahl zu verkennzeichnet,
daß an sich bekannte elektronen- dampfen (wobei sich die Frage stellt, wie die übertraoptische
Elektrodenanordnungen zur Fokussie- gene elektrische Ladung von dem Isolator abgeführt
rung des aus einer Kathode austretenden Elektro- 20 wird — wahrscheinlich durch Elektronenstreuung,
nenstromes auf den der Verdampfung dienenden Sekundärelektronen oder infolge einer gewissen Leit-Teil
der Trennwand vorgesehen sind. f ähigkeit bei erhöhter Temperatur) würde der Elek-
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 bis 2, dadurch tronenstrahl das ideale Mittel zur Vakuumverdampgekennzeichnet,
daß der der Verdampfung die- fung von kleinen Werkstoffmengen jeder Art darsteinende
Teil der Trennwand aus einem hochtempe- 25 len, wäre er nicht auch mit einigen schwerwiegenden
raturfesten, elektrisch leitenden Werkstoff so Nachteilen verbunden.
dünn ausgebildet ist, daß die durch Wärmeleitung Ein erster Nachteil ergibt sich aus der unvermeid-
abgeführte Wärmemenge kleiner als die durch die liehen Ionisation des Dampfes durch den Strahl. Dies
thermische Ausstrahlung dieses Teiles bei Be- kann eine ungleichmäßige elektrische Aufladung der
triebstemperatur verlorengehende Wärmemenge 30 zu bedampfenden Unterlagen (wenn sie Isolatoren
ist. sind) zur Folge haben, was oft zu Kondensaten mit
4. Vorrichtung nach Anspruch 1 bis 3, dadurch unerwünschter Verteilung oder Struktur führt. Um
gekennzeichnet, daß der der Verdampfung die- diesem Nachteil zu begegnen, wurde schon vorgenende
Teil der Trennwand als auswechselbares schlagen, zwecks Abfangens der störenden Ladungs-Stück
einer Folie ausgebildet ist. 35 träger — Elektronen oder Ionen — ein metallisches
5. Vorrichtung nach Anspruch 1 bis 4, dadurch Netz oder Gitter als Abschirmelektrode zwischen der
gekennzeichnet, daß der der Verdampfung die- Dampfquelle und den zu bedampfenden Flächen annende
Teil der Trennwand als bewegliche Unter- zuordnen. Leider zeigt sich, daß ein derartiges, in
lage ausgebildet ist. den Weg des Dampfes gestelltes Hindernis nicht nur
6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- 40 die Gefahr der Abschattung von Teilen der Kondenkennzeichnet,
daß die Trennwand doppelwandig sationsfläche mit sich bringt, sondern auch zu wenig
ausgebildet und mit Innenkühlung durch ein strö- wirksam ist, wenn die Maschen des Netzes bzw. die
mendes Kühlmittel versehen ist. Abstände zwischen den Stäben des Gitters zu groß
7. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- sind und daß andererseits die Zwischenräume des
kennzeichnet, daß die Trennwand gleichzeitig als 45 Netzes oder Gitters, wenn sie zu klein sind, infolge
elektrische und magnetische Abschirmung ausge- Kondensation zuwachsen können.
bildet ist. Ein anderer Nachteil des Elektronenstrahls kann
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch ge- sich daraus ergeben, daß er unvermeidlich mit einem
kennzeichnet, daß die abschirmende Trennwand elektrischen und magnetischen Feld verbunden ist.
aus einem Werkstoff mit hoher magnetischer Per- 50 Diese Felder können zunächst ganz allgemein elektrimeabilität
ausgebildet ist. sehe Messungen irgendwelcher Art in der Verdamp-
9. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch ge- fungsanlage beeinträchtigen, speziell aber stören sie
kennzeichnet, daß die bewegliche Unterlage als dann, wenn die Kondensation in einem zur Unterlage
kreisförmige Rinne in einer drehbaren Scheibe in ganz bestimmter Weise orientierten elektrischen
ausgebildet ist. 55 oder magnetischen Feld vorgenommen werden soll,
wie z. B. bei der Herstellung von magnetischen dün-
nen Schichten mit vorgeschriebenen Vorzugsrichtungen der Magnetisierbarkeit (für Speicherelemente
von Computern) oder bei der Herstellung von op-
Zur Verdampfung von Werkstoffen sind Vorrich- 60 tisch polarisierenden Schichten durch Aufdampfen
tungen bekannt, bei denen in einer Vakuumkammer von Dielektriken in gerichteten elektrischen Feldern,
eine sogenannte Elektronenkanone angeordnet ist, Die erwähnten Felder stören auch, wenn an einer
deren Strahl beim Betrieb auf den zu verdampfenden Aufdampfschicht in statu nascendi elektronenopti-Werkstoff
trifft, ihn erhitzt und teilweise zur Ver- sehe Untersuchungen durchgeführt werden sollen,
dampfung bringt. Der erzeugte Dampf kann auf in 65 Die vorliegende Erfindung hat sich eine Vorrichder Nähe angeordneten, mit dem genannten Werk- tung zum Ziel gesetzt, mit der die Vorteile der Elekstoff zu überziehenden Unterlagen, z.B. auf Glas- tronenstrahlverdampfung praktisch ohne Einschränplatten, optischen Linsen, elektronenmikroskopi- kung ausgenutzt, die störenden Nachteile aber ver-
dampfung bringt. Der erzeugte Dampf kann auf in 65 Die vorliegende Erfindung hat sich eine Vorrichder Nähe angeordneten, mit dem genannten Werk- tung zum Ziel gesetzt, mit der die Vorteile der Elekstoff zu überziehenden Unterlagen, z.B. auf Glas- tronenstrahlverdampfung praktisch ohne Einschränplatten, optischen Linsen, elektronenmikroskopi- kung ausgenutzt, die störenden Nachteile aber ver-
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH1750165A CH452313A (de) | 1965-12-18 | 1965-12-18 | Vorrichtung zur Verdampfung von Stoffen im Vakuum |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1521175A1 DE1521175A1 (de) | 1969-07-31 |
DE1521175B2 true DE1521175B2 (de) | 1973-04-26 |
Family
ID=4425902
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19661521175 Pending DE1521175B2 (de) | 1965-12-18 | 1966-11-16 | Vorrichtung zur verdampfung von werkstoffen im vakuum |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3544763A (de) |
CH (1) | CH452313A (de) |
DE (1) | DE1521175B2 (de) |
FR (1) | FR1505169A (de) |
GB (1) | GB1105989A (de) |
NL (1) | NL6600952A (de) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4094269A (en) * | 1974-06-14 | 1978-06-13 | Zlafop Pri Ban | Vapor deposition apparatus for coating continuously moving substrates with layers of volatizable solid substances |
BG20711A1 (de) * | 1974-06-14 | 1975-12-20 | ||
US3996469A (en) * | 1975-01-06 | 1976-12-07 | Jersey Nuclear-Avco Isotopes, Inc. | Floating convection barrier for evaporation source |
US4048462A (en) * | 1975-01-17 | 1977-09-13 | Airco, Inc. | Compact rotary evaporation source |
DE2628765C3 (de) * | 1976-06-26 | 1979-01-11 | Leybold-Heraeus Gmbh & Co Kg, 5000 Koeln | Vorrichtung zum Aufdampfen insbesondere sublimierbarer Stoffe im Vakuum mittels einer Elektronenstrahlquelle |
FR2623819A1 (fr) * | 1987-11-26 | 1989-06-02 | Thomson Csf | Four a bombardement electronique pour evaporation sous vide |
DE4016225C2 (de) * | 1990-05-19 | 1997-08-14 | Leybold Ag | Reihenverdampfer für Vakuumbedampfungsanlagen |
DE4100541C1 (de) * | 1991-01-10 | 1992-01-16 | Plasco Dr. Ehrich Plasma-Coating Gmbh, 6501 Heidesheim, De |
-
1965
- 1965-12-18 CH CH1750165A patent/CH452313A/de unknown
-
1966
- 1966-01-25 NL NL6600952A patent/NL6600952A/xx unknown
- 1966-11-16 DE DE19661521175 patent/DE1521175B2/de active Pending
- 1966-11-30 GB GB53526/66A patent/GB1105989A/en not_active Expired
- 1966-12-16 US US602399A patent/US3544763A/en not_active Expired - Lifetime
- 1966-12-19 FR FR87908A patent/FR1505169A/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1521175A1 (de) | 1969-07-31 |
NL6600952A (de) | 1967-06-19 |
CH452313A (de) | 1968-05-31 |
FR1505169A (fr) | 1967-12-08 |
GB1105989A (en) | 1968-03-13 |
US3544763A (en) | 1970-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0463230B1 (de) | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten | |
EP0478908B1 (de) | Verfahren und Anordnung zur gleichspannungs-bogenentladungsunterstützten, reaktiven Behandlung von Gut | |
EP0666933B1 (de) | Einrichtung zum plasmagestützten elektronenstrahl-hochratebedampfen | |
WO2012055458A1 (de) | Vorrichtung zum erzeugen eines elektronenstrahls | |
DE1278614B (de) | Elektrodenanordnung zur Fuehrung freier Elektronen im Vakuum und Verwendung der Anordnung als Ionisationsmanometer, Verstaerkerroehre und Getter-Ionenpumpe | |
DE1515303A1 (de) | Temperatur-Regelvorrichtung | |
DE19546827C2 (de) | Einrichtung zur Erzeugung dichter Plasmen in Vakuumprozessen | |
DE1521321B1 (de) | Zerstaeubungsapparat | |
DE1521175B2 (de) | Vorrichtung zur verdampfung von werkstoffen im vakuum | |
DE3226717C2 (de) | ||
DE1521363B2 (de) | Vorrichtung zur Überwachung der Aufdampfung in einer Vakuumanlage | |
DE4020158C2 (de) | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten | |
DE1953659C3 (de) | Ionenquelle für die Zerstäubung mit langsamen Ionen | |
DE2527609C3 (de) | Ionenquelle | |
DE19724996C1 (de) | Verfahren zum plasmaaktivierten Elektronenstrahlverdampfen und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
DE2628765C3 (de) | Vorrichtung zum Aufdampfen insbesondere sublimierbarer Stoffe im Vakuum mittels einer Elektronenstrahlquelle | |
DE4340984C2 (de) | Leitungsgekühlter Bremsfeld-Kollektor mit hoher thermischer Kapazität | |
DE4443740B4 (de) | Vorrichtung zum Beschichten von Substraten | |
DE1270354C2 (de) | Verfahren zum vakuumaufdampfen von schichten auf elektrisch isolierende unterlagen aus glas, keramik o.dgl. durch elektronenbeschuss | |
DE19731025C2 (de) | Targetkathodenanordnung | |
DE102023109753B3 (de) | Vorrichtung zum Beaufschlagen von Schüttgut mit beschleunigten Elektronen | |
DE102007051444B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Trockenätzen von kontinuierlich bewegten Materialien | |
DE1515313C3 (de) | Kathodenzerstäubungsvorrichtung | |
DE2838676C2 (de) | ||
DE2819114C3 (de) | Ionenimplantationsanordnung mit Steuerung des Auffangscheiben-Oberflächenpotentials |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
SH | Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971 |