DE2449832A1 - Verfahren zur herstellung einer negativen akkumulatorelektrode zur reversiblen speicherung und wiedergabe von wasserstoff - Google Patents
Verfahren zur herstellung einer negativen akkumulatorelektrode zur reversiblen speicherung und wiedergabe von wasserstoffInfo
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Description
Patentanwälte
Dipl.-!ng. Richard Mülier-Börner 24498 32
Dipl.-!ng. Richard Mülier-Börner 24498 32
Dip!.-ing. Hans-Heinrich Wey Berlin-Dahlem, Podbielskiallee 68
Berlin, den 16. Oktober 1974
BATTELLE MEMORIAL INSTITUTE Carouge/Genf
(Schweiz)
Verfahren zur Herstellung einer negativen Akkumulatorelektrode zur reversiblen Speicherung
und Wiedergabe von Wasserstoff.
Es sind negative Elektroden für alkalische Akkumulatoren bekannt,bei welchen Hydride von Titan-Nickel-Legierungen als
aktive Masse dienen. Beim Ladevorgang wird der durch kathodische Belastung einer solchen Elektrode an der fest/flüssig
Phasengrenze entwickelte Wasserstoff in die Zwischengitterplätze der Ti-Ni-Legierung eingelagert. Der in dieser Weise
interstitiell gespeicherte Wasserstoff wird bei anodischer Belastung der Elektrode wieder abgegeben und elektrochemisch zu
Wasser umgesetzt.
Ein bedeutender Vorteil solcher Elektroden besteht in der sehr hohen Energiespeicherkapazität auf Grund der Tatsache,
dass sie Wasserstoff in grosser Menge und in reversibler Weise, elektrochemisch aufzunehmen bzw. wieder abzugeben vermögen.
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Die besonders vorteilhafte interstitielle Wasserstoffaufnahme in die Zwischengitterplätze der Titan-Nickel-Legierungen
bedingt aber eine wesentliche Gitterdehnung beim Ladevorgang, welche beim Entladevorgang unter Wasserstoffabgabe rückgängig
gemacht wird. Die mechanische Beanspruchung der Elektrode infolge der wiederholten Volumenänderungen im Laufe der Lade- Entladezyklen,
erfordert somit die Gewährleistung einer hohen mechanischen Festigkeit der Elektrode, damit eine befriedigende Lebensdauer
erzielt werden kann.
Nach einem bekannten Vorschlag wird diesem Problem der mechanischen Beanspruchung u.a. dadurch Rechnung getragen, dass
die Elektroden aus einer Pulvermischung hergestellt werden, in welcher man der aktiven Masse ein Kupferpulver als Binder bzw.
Trägermetall zugibt. Zur Zeit werden z.B. Pulvermischungen verwendet, die 70 Gew.% aktiver Masse und 30 Gew.% Kupfer enthalten.
Ferner wird zur besseren Stromableitung in der Elektrode sowie zur Erhöhung ihrer mechanischen Festigkeit ein Trägergerüst
in Form eines Kupfernetzes in der Elektrodenplatte eingebettet.
Der gesamte Kupfergehalt der Elektrode beträgt in diesem Fall etwa 50 Gew.%.
Zur Erhöhung der spezifischen Speicherkapazität von solchen Elektroden müsste somit der Kupferanteil in der Elektrode
vermindert werden, jedoch ohne dadurch ihre mechanische Stabili-
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tat und ihr Langzeitverhalten zu beeinträchtigen. Es handelt sich jedoch hier um die gleichzeitige Erfüllung von im Widerspruch
zueinander stehenden Forderungen, da ja das Kupfer gerade dazu dient, die mechanische Stabilität der Elektrode zu
gewährleisten.
Die vorliegende Erfindung bezweckt den oben erläuterten Problemen weitgehend Rechnung zu tragen und die Herstellung von
Elektroden mit hoher Lebensdauer sowie mit hoher Energiespeicherkapazität zu erlauben.
Zu diesem Zweck betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer negativen Akkumulatorelektrode mit einem stromleitenden
Trägergerüst sowie einer elektrochemisch aktiven Masse zur reversiblen Speicherung und Wiedergabe von Wasserstoff durch
elektrochemische Ladung und Entladung. Dieses Verfahren ist erfindungsgemäss dadurch gekennzeichnet, dass Pulverpartikel der
aktiven Masse derart mit Kupfer beschichtet werden, dass jedes Aktivmassepartikel unter Gewährleistung seiner elektrochemischen
Aktivität zur Aufnahme und Abgabe von Wasserstoff mindestens teilweise mit Kupfer ummantelt wird, und dadurch, dass die ummantelten
Aktivmassepartikel durch Erhitzen unter gleichzeitiger Anwendung von Druck zu einem porösen, mechanisch stabilen Elektrodenkörper
verarbeitet werden, der mit einem durch Versintern der Kupferummantelung der Aktivmassepartikel gebildetes Sinterträgergerüst
aus Kupfer durchsetzt ist.
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Aus einer solchen Beschichtung der Aktivmassepartikel mit Kupfer, ergeben sich erfindungsgemäss wichtige Vorteile.
Diese vorherige Kupferbeschichtung erlaubt nämlich bei der Elektrodenherstellung durch Heisspressen, die Gewährleistung
einer sehr gleichmässigen Verteilung des Kupfers und dadurch die Bildung einer stark zusammenhängenden jedoch relativ leichten,
gesinterten Kupfermatrix im gesamten Elektrodenkörper. Das als Bindemetall dienende Kupfer wird dadurch in optimaler Weise
herangezogen, um eine hohe mechanische Festigkeit sowie eine hohe Querleitfähigkeit in der Elektrode zu gewährleisten. Ferner
kann dadurch eine besonders wirksame Ausnutzung der aktiven Masse gewährleistet werden, da durch eine zweckmässige Wahl
der Herstellungsbedingungen der aufgebrachten Kupferschicht, diese Schicht erfahrungsgemäss wasseretoffdurchlässig gemacht
werden und somit die praktisch unbehinderte elektrochemische Aktivität der Elektrode gewährleistet werden kann.
Die erfindungsgemäss vorgesehene Beschichtung des Aktivmassepulvers
mit einer wasserstoffdurchlässigen Kupferschicht kann mit Vorteil durch Reduktion eines gelösten Kupfersalzes
an der Partikeloberfläche bewerkstelligt werden. Zu diesem Zweck kann das Pulver in eine Kupfersalzlösung unter gleichzeitiger
Zugabe eines organischen Reduktionsmittels (z.B. ein Aldehyd) eingebracht werden. Dadurch findet eine Reduktionsreaktion statt, bei welcher die Partikeloberfläche als Katalysator
wirkt, wobei das Kupfer sich unter Ausbildung einer Kupferschicht auf dieser Oberfläche chemisch abscheidet.
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Die Erzeugung einer für Wasserstoff hochdurchlässigen Kupferschicht kann dabei durch entsprechende Einstellung der
Abscheidungsparameter gewährleistet werden, wobei die Konzentration und Temperatur der Kupfersalzlösung sowie eine vorangehende
Aktivierung der Partikeloberfläche auf die Eigenschaften der Schicht einen Einfluss haben.
- Ferner kann auch für die chemische Reduktion der Kupfersalz lösung der Hydridwasserstoff des Aktivmassepulvers selbst
als Reduktionsmittel herangezogen werden. Bringt man beispielsweise ein Aktivmassepulver mit der Zusammensetzung TiNiH mit
einer wässrigen Kupfersalzlösung in Berührung, so reduziert der desorbierende Hydridwasserstoff an der Partikeloberfläche die
Kupferionen zu metallischem Kupfer gemäss der Gleichung:
2 TiNiH + Cu++ y 2 TiNi + Cu + 2H+
Die Geschwindigkeit der Desorption und damit der Abscheidung kann dabei über die Temperatur sowie die Kupferkonzentration
in der Lösung beeinflusst werden.
Es kommt auch eine elektrochemische Reduktion des Kupfersalzes in Frage, wobei das zu beschichtende Aktivmassepulver in
einer Kupfersalzlösung suspendiert und wiederholt kurzzeitig mit einer Festkathode einer mit stromgespeisten galvanischen
Zelle in Kontakt gebracht wird. Während dieses Kontaktes befin-
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det sich das Pulverpartikel auf dem gleichen Potential wie die Festkathode, so dass eine elektrochemische Reduktion unter
Abscheidung von Kupfer auf der Partikeloberfläche erzielt werden kann. Wenn das Pulverpartikel die Festkathode verlässt, wird
diese Reduktion unterbrochen. Somit kann durch Unterbrechung des Kontaktes, ein Konzentrationsausgleich an der Phasengrenzfläche
Partikel/Elektrolyt, zwischen zwei aufeinanderfolgenden Kontakten gewährleistet werden, wodurch eine Polarisation während
der elektrochemischen Beschichtung weitgehend umgangen werden kann. So erlaubt eine solche kathodische Reduktion, z.B.
unter Verwendung einer sogenannten Fliessbettelektrode, die Erzeugung einer einheitlichen Schicht auf der gesamten Partikeloberfläche.
Dabei lässt sich die Dicke der Schicht sowie ihre Porosität durch Einstellung der Abscheidungsparameter Stromdichte
und Zeit bestimmen. Bei geringen Stromdichten entstehen einheitliche Schichten mit geringer Porosität. Hingegen haben
hohe Stromdichten normalerweise die Ausbildung unregelmässiger, hochporöser Schichten zur Folge.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Beispielen und unter Bezugnahme auf Lebensdauerprüfungen erläutert, deren Ergebnisse
in der beiliegenden Zeichnung dargestellt sind:
Fig. 1 zeigt zwei Versuchskurven I, IA, in welchen die
Lebensdauer durch den Verlauf des Elektrodenpotentials bei Beendigung
der "Entladung in Ab-
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hängigkeit der Anzahl Lade- Entlade-Zyklen dargestellt ist, wobei die Kurve I für erfindungsgemäss hergestellte runde
Versuchselektroden und die Kurve IA für ähnliche, jedoch in an sich bekannter Weise hergestellte Vergleichselektroden
gelten.
Fig. 2 zeigt vier Versuchskurven II,
welche die Lebensdauer wie in Fig.l darstellen, wobei jedoch
die Kurven II, III bzw. HA, IHA für rechteckige Versuchselektroden bzw. Vergleichselektroden gelten.
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BEISPIEL 1
Als Ausgangsmaterial.für die Herstellung von negativen
Akkumulatorelektroden in Form von porösen, kreisförmigen bzw. rechteckigen Scheiben, wird ein Aktivmassepulver verwendet,
das aus einem Titan-Nickel-Hydrid besteht, worin Titan und Nickel in einem Gewichtsverhaltnis von etwa 1 : 1 miteinander
legiert sind, wobei die Korngrösse des Pulvers weniger als 33 .u beträgt.
Die Herstellung der Elektroden wird in nachstehender Weise vorgenommen
.
Das Aktivmassepulver wird mit Kupfer chemisch beschichtet. Die Partikeloberfläche wird zunächst durch Bildung von Palladiumkeimen
aktiviert. Zu diesem Zweck wird zuerst eine Vorbehandlung des Pulvers mit einer SnCl -Lösung (50 g/l SnCl2? 50 g/l
HCl 30%) bei Raumtemperatur während 30 Minuten vorgenommen, unter Verwendung von 100 g Pulver pro 200 cc Lösung. Das behandelte
Pulver wird danach, bis zur Neutralreaktion, mit destilliertem Wasser gewaschen, anschliessend in einer PdCl--Lösung
(0,5 g/l PdCl3; 10 g/l HCl 30%) bei Zimmertemperatur
während 20 Minuten gerührt und schliesslich wieder bis zur Neutralreaktion gewaschen.
Zur chemischen Beschichtung des so aktivierten Pulvers
mit Kupfer, wird ein Bad aus einer Lösung mit folgender Zusam-
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mensetzung verwendet:
CuSO4.5HO : 10 g/l (entspr. 2,5g Cu/1) KNaC4H4O6: 40 g/l
KOH: 10 g/l
Paraformaldehyd: 12 g/l
wobei die Lösung einen pH Wert von 10 - 12 aufweist.
Die Beschichtung erfolgt bei Zimmertemperatur unter starker Rührung dieses Bades mit dem darin suspendierten, vorbehandelten
Aktivmassepulver. Dadurch findet eine chemische Reaktion statt, die nach 2 Stunden beendet ist und die gewünschte Beschichtung
durch Umsetzung des Kupfersalzes zu Kupfer an der Partikeloberfläche des Pulvers ergibt. Das derart mit Kupfer chemisch beschichtete
Aktivmassepulver wird schliesslich gewaschen und unter Argon-Wasserstoff getrocknet und ist somit bereit für die Elektrodenherstellung
.
Das mit Kupfer beschichtete Aktivmassepulver wird zuerst kalt vorgepresst und danach durch Heisspressen unter Schutzgasatmosphäre
zu einem porösen Elektrodenkörper von gewünschter Form und Grosse verarbeitet, wobei die Kupferschicht einen zusammenhängenden
Sintersupport ergibt.
Nachstehend sind die Herstellungsbedingungen sowie sonstige Angaben für eine in oben beschriebener Weise erhaltene
Elektrodenserie wiedergegeben:
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Herstellungsbedingungen:
- Heisspressdruck: 8 t/cm
- Temperatur: 400 C
- Pressdauer: . 3 min.
- Schutzgas: A/H2 ~
E1ektrodendaten^
- aktive Masse: 1 bis 1,1 g
- Anteil des Cu-Sintersupports, Serie I: 20 Gew.%
- Stromableiter: zwei Cu-Drähte
(0,22mm φ, total 0,1 g)
- Abmessungen: Durchmesser 22 mm
Dicke 0,98 - 1 mm
- Halbzellenanordnung: mit zwei Ni-Gegenelektro-
den in Sandwichanordnung
- Elektrolyt: 4 N KOH
- Temperatur: 25°C
- Formierung: sukzessive Erhöhung der
eingeladenen Strommenge während 5 Lade-Entladezyklen
- Belastung während der Formierzyklen: 25 mA/g aktive Masse (C/10)
- Abschaltpotential: -700 mV gegen Hg/HgO
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- ii -
Lebensdauerprüfung:
- Halbzellenanordnung:
- Elektrolyt:
- Testtemperatur:
- Belastung bei Ladung und Entladung:
- Entladetiefe:
- Ladefaktor:
- Messung des Elektrodenpotentials E unter Last, jeweils am Ende der Entladephase,
in Abhängigkeit der Zyklenzahl (siehe Fig.l).
- Testende:
Prüfelektrode in Sandwichanordnung mit zwei Ni-Gittergegenelektroden
4N KOH
25°C
50 mA/g akt.Masse (C/5) 70% der C/5-Kapazität
1,15
wenn Abschaltpotential - 650 mV gegen Hg/HgO.
Serien II und III - Rechteckelektroden
Herstellungsbedingungen:
- Heisspressdruck:
- Temperatur:
- Pressdauer:
- Schutzgas:
1 t/cm'
550°C
10 min.
A/H2 - 93/7
Elektrodendaten:
- aktive Masse:
- Anteil des Cu-Sintersupports Serie II:
Serie III:
- Cu-Gittersupport: -Abmessungen: 5Q98 17/085
7 - 8 g
20 Gew.% Cu
10 Gew.% Cu
10 Gew.% Cu
1,1 bis 1,2 g
42 χ 64 χ 1 mm
42 χ 64 χ 1 mm
Formierung und Lebensdauerprüfung:
- Diese werden wie oben für die Serie I angegeben durchgeführt.
Zu Vergleichszwecken werden weitere, mit den Ziffern IA
bzw. HA, IHA nachstehend bezeichnete Elektrodenserien hergestellt.
Für diese Vergleichserien IA, HA, IHA werden dieselben,
oben angegebenen Heisspressbedingungen sowie Elektrodenabmessungen wie in den Serien I bis III verwendet. Hingegen werden
die Elektrodenkörper in an sich bekannter Weise aus Mischungen von Aktivmassepulver mit lamellarem Kupferpulver (mit der Markenbezeichnung
ECKA 7200 MP und mittl. Kornabmessungen von
0,1 χ 50 ,u) heissgepresst, um einen Vergleich der Elektrodenlebensdauer
mit den aus mit Kupfer beschichteten Aktivmassepulver erfindungsgemäss hergestellten Elektroden der entsprechenden
Serien I bzw. II,III zu erlauben.
Die Kurven der Fig. 1 und 2 zeigen die effektive Lebensdauer
{Zyklenzahl) der Elektrodenserien I, IA bzw. II, HA, IH, IHA, bis das Elektrodenpotentiel E einen Wert von etwa -650 mV
gegen Hg/HgO erreicht.
Das in Beispiel 1 beschriebene Aktivmassepulver wird als Ausgangsmaterial für die Herstellung von negativen Akkumulatorelektroden
in folgender Weise verwendet:
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Das Aktivmassepulver wird mit Kupfer chemisch beschichtet, indem
an der Pulverpartikel-Oberfläche ein Kupfersalz durch den in der aktiven Masse enthaltenen Wasserstoff, zu Kupfer umgesetzt wird.
Zu diesem Zweck wird das Aktivmassepulver in einer CuSO4-Lösung
(54 g CuSO./lj 16 ml HBF./l) unter Verwendung von 40 g
Pulver pro Liter Losung und unter starker Rührung, während 10
Stunden behandelt, wobei die Temperatur der Lösung in den ersten 2 Stunden auf 95°C gehalten und danach auf 700C erniedrigt
wird.
Bei dieser Behandlung wird die gewünschte Beschichtung dadurch
erzielt, dass das Kupfersalz durch den bei der erhöhten Temperatur der Lösung aus der aktiven Masse desorbierenden Wasserstoff
an der Partikeloberfläche zu Kupfer umgesetzt wird.
Das mit Kupfer beschichtete Pulver wird durch Filtern abgetrennt,
zuerst mit destilliertem Wasser und danach mit Alkohol gewaschen und schliesslich unter Argon-Wasserstoff getrocknet.
Das so erhaltene, mit Kupfer beschichtete Aktivmassepulver wird vor der Herstellung des Elektrodenkörpers mit Wasserstoff
beladen. Dies wird dadurch erzielt, dass das beschichtete Pulver zunächst unter Vakuum in einem Ofen auf 1000C aufgeheizt, anschliessend
bei 250 C unter Wasserstoffatmosphäre unter einem
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Druck von 1 atm. während einer Stunde behandelt und schliesslich unter Wasserstoff zum Abkühlen auf Zimmertemperatur gelassen
wird.
Die Elektrodenkörper werden schliesslich, wie in Beispiel 1 beschrieben,
durch Heisspressen hergestellt.
Die Formierung und Lebensdauerprüfung wird schliesslich ebenfalls wie in Beispiel 1 vorgenommen und ergibt vier Elektrodenserien,
deren Lebensdauer jenen der Serien I bis III in Beispiel 1 entsprechen.
Aus den in Figuren 1 und 2 dargestellten Versuchsergebnissen gehen verschiedene Vorteile hervor, die durch die erfin dungsgemäss
vorgesehene Beschichtung der Aktivmassepartikel, zwecks Bildung eines Sintertragergerusts durch Heisspressen erzielt
werden.
So zeigt sich beispielsweise aus Kurve I, dass die chemische Beschichtung mit nur 20 Gew.% Cu bereits eine nützliche
Lebensdauer(bis zu -650 mV) von etwa 400 Zyklen ergibt. Demgegenüber
wird nur etwa die Hälfte dieser Lebensdauer bei den entsprechenden Vergleichselektroden der Serie IA/, die aus einer
Pulvermischung mit 20 Gew.% lamellarem Pulver und 80 Gew.% aktive Masse unter den gleichen Heisspressbedingungen hergestellt
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Dieser Kupfergehalt von 20 Gew.% ist relativ gering, so dass
die Elektroden vorwiegend aus der elektrochemisch aktiven Masse bestehen und dennoch hohe nützliche Lebensdauern erzielt
werden können. Demgegenüber ergeben die entsprechenden Vergleichselektroden der Serie IA, auch mit 20 Gew.% Cu, eine Lebensdauer
von nur 200 Zyklen, im Vergleich zu 400 Zyklen für die Serie I.
Wie bereits erwähnt, geben die Kurven der Fig.2 die entsprechenden
Versuchsergebnisse für rechteckige Elektroden, die mit einem zentralen Kupfergitter versehen sind^ das etwa 10 Gew.%
des Elektrodengewichts beträgt. Bei solchen, wesentlich grösseren Elektroden ergibt sich bereits für die Elektrode der Serie III
(mit etwa 20 % Cu insgesamt) eine nützliche Lebensdauer von 300 Zyklen. Demgegenüber ergeben die entsprechenden Vergleichselektroden der Serie IIIA eine ganz unbefriedigende Lebensdauer
von etwa 70 Zyklen. Ferner ergibt sich bei den Elektroden der Serie II (mit etwa 30% Cu insgesamt) eine Lebensdauer von 380
Zyklen, dies im Vergleich zur ganz unbefriedigenden Lebensdauer von nur 130 Zyklen bei den Vergleichselektroden der Serie HA.
Diese Versuchsergebnisse zeigen somit, dass die erfindungsgemäss
hergestellten Elektroden eine wesentliche Senkung des Gesamtkupfergehalts der Elektroden unter Gewährleistung einer
hohen nützlichen Lebensdauer erlauben.
Es versteht sich, dass nicht nur TiNi sondern verschiedene andere Legierungsphasen wie z.B. Ti2Ni und insbesondere
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binäre Phasengemische dieser beiden Phasen als aktive Masse Verwendung finden können um die oben erwähnten Vorteile der
Erfindung zu erhalten. '
Patentansprüche;
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Claims (9)
1. Verfahren zur Herstellung einer negativen Akkumulatorelektrode mit einem stromleitenden Trägergerüst sowie einer
aktiven Masse zur reversiblen Speicherung und Wiedergabe von Wasserstoff durch elektrochemische Ladung und Entladung, dadurch
gekennzeichnet, dass Pulverpartikel der aktiven Masse derart mit Kupfer beschichtet werden, dass jedes Aktivmassepartikel
unter Gewährleistung seiner elektrochemischen Aktivität zur Aufnahme und Abgabe von Wasserstoff, mindestens teilweise
mit Kupfer ummantelt wird, und dadurch, dass die ummantelten Äktivmassepartikel durch Erhitzen, unter gleichzeitiger
Anwendung von Druck zu einem porösen, mechanisch stabilen Elektrodenkörper verarbeitet werden, der mit einem durch Versintern
der Kupferummantelung der Aktivemassepartikel gebildetes Sinterträgergerüst aus Kupfer durchsetzt ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Aktivmassepartikel mit einer Kupfersalzlösung in Berührung
gebracht und durch eine Reduktion an der Partikeloberfläche mit Kupfer beschichtet werden.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Aktivmassepartikel mit einer Kupfersalzlösung unter Zugabe
eines Reduktionsmittels in Berührung gebracht werden, so dass die Kupferbeschichtung durch Reduktion an der Partikeloberfläche
bewerkstelligt wird.
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4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,
dass die Kupfersalzlösung während der Kupferbeschichtung erhitzt
wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
dass die Partikeloberfläche vor der Kupferbeschichtung
einer Aktivierungsbehandlung unterworfen wird.
6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Kupferbeschichtung durch Reduktion mittels Wasserstoff bewerkstelligt,
der aus den hydrierten Aktivmassepartikeln^bei erhöhter Temperatur desorbiert wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Aktivmassepartikel durch eine elektrochemische Reduktion
an der Partikeloberfläche mit Kupfer beschichtet werden.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Kupferbeschichtung durch kathodische Reduktion an der Oberfläche
der Aktivmassepartikel bewerkstelligt wird, indem diese Partikel in einer Kupfersalzlösung suspendiert und mit einer
festen Kathode einer mit elektrischem Strom gespeisten galvanischen Zelle wiederholt kurzzeitig in Berührung gebracht werden.
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9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass
ein Trägergitterwerk aus Kupfer in das ummantelte Aktivmassepulver eingebettet wird, das anschliessend zu einem Elektrodenkörper
verarbeitet wird.
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DE4007573A1 (de) * | 1989-03-10 | 1990-09-20 | Sanyo Electric Co | Elektrode aus wasserstoffabsorbierender legierung zur verwendung in einer alkali-akkumulatorzelle und verfahren zur herstellung |
Also Published As
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FR2248618B1 (de) | 1980-04-18 |
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