DE2449832A1 - Verfahren zur herstellung einer negativen akkumulatorelektrode zur reversiblen speicherung und wiedergabe von wasserstoff - Google Patents

Verfahren zur herstellung einer negativen akkumulatorelektrode zur reversiblen speicherung und wiedergabe von wasserstoff

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DE2449832A1 DE19742449832 DE2449832A DE2449832A1 DE 2449832 A1 DE2449832 A1 DE 2449832A1 DE 19742449832 DE19742449832 DE 19742449832 DE 2449832 A DE2449832 A DE 2449832A DE 2449832 A1 DE2449832 A1 DE 2449832A1
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    • Y02P70/50Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Description

Patentanwälte
Dipl.-!ng. Richard Mülier-Börner 24498 32
Dip!.-ing. Hans-Heinrich Wey Berlin-Dahlem, Podbielskiallee 68
Berlin, den 16. Oktober 1974
BATTELLE MEMORIAL INSTITUTE Carouge/Genf
(Schweiz)
Verfahren zur Herstellung einer negativen Akkumulatorelektrode zur reversiblen Speicherung und Wiedergabe von Wasserstoff.
Es sind negative Elektroden für alkalische Akkumulatoren bekannt,bei welchen Hydride von Titan-Nickel-Legierungen als aktive Masse dienen. Beim Ladevorgang wird der durch kathodische Belastung einer solchen Elektrode an der fest/flüssig Phasengrenze entwickelte Wasserstoff in die Zwischengitterplätze der Ti-Ni-Legierung eingelagert. Der in dieser Weise interstitiell gespeicherte Wasserstoff wird bei anodischer Belastung der Elektrode wieder abgegeben und elektrochemisch zu Wasser umgesetzt.
Ein bedeutender Vorteil solcher Elektroden besteht in der sehr hohen Energiespeicherkapazität auf Grund der Tatsache, dass sie Wasserstoff in grosser Menge und in reversibler Weise, elektrochemisch aufzunehmen bzw. wieder abzugeben vermögen.
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Die besonders vorteilhafte interstitielle Wasserstoffaufnahme in die Zwischengitterplätze der Titan-Nickel-Legierungen bedingt aber eine wesentliche Gitterdehnung beim Ladevorgang, welche beim Entladevorgang unter Wasserstoffabgabe rückgängig gemacht wird. Die mechanische Beanspruchung der Elektrode infolge der wiederholten Volumenänderungen im Laufe der Lade- Entladezyklen, erfordert somit die Gewährleistung einer hohen mechanischen Festigkeit der Elektrode, damit eine befriedigende Lebensdauer erzielt werden kann.
Nach einem bekannten Vorschlag wird diesem Problem der mechanischen Beanspruchung u.a. dadurch Rechnung getragen, dass die Elektroden aus einer Pulvermischung hergestellt werden, in welcher man der aktiven Masse ein Kupferpulver als Binder bzw. Trägermetall zugibt. Zur Zeit werden z.B. Pulvermischungen verwendet, die 70 Gew.% aktiver Masse und 30 Gew.% Kupfer enthalten. Ferner wird zur besseren Stromableitung in der Elektrode sowie zur Erhöhung ihrer mechanischen Festigkeit ein Trägergerüst in Form eines Kupfernetzes in der Elektrodenplatte eingebettet.
Der gesamte Kupfergehalt der Elektrode beträgt in diesem Fall etwa 50 Gew.%.
Zur Erhöhung der spezifischen Speicherkapazität von solchen Elektroden müsste somit der Kupferanteil in der Elektrode vermindert werden, jedoch ohne dadurch ihre mechanische Stabili-
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tat und ihr Langzeitverhalten zu beeinträchtigen. Es handelt sich jedoch hier um die gleichzeitige Erfüllung von im Widerspruch zueinander stehenden Forderungen, da ja das Kupfer gerade dazu dient, die mechanische Stabilität der Elektrode zu gewährleisten.
Die vorliegende Erfindung bezweckt den oben erläuterten Problemen weitgehend Rechnung zu tragen und die Herstellung von Elektroden mit hoher Lebensdauer sowie mit hoher Energiespeicherkapazität zu erlauben.
Zu diesem Zweck betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung einer negativen Akkumulatorelektrode mit einem stromleitenden Trägergerüst sowie einer elektrochemisch aktiven Masse zur reversiblen Speicherung und Wiedergabe von Wasserstoff durch elektrochemische Ladung und Entladung. Dieses Verfahren ist erfindungsgemäss dadurch gekennzeichnet, dass Pulverpartikel der aktiven Masse derart mit Kupfer beschichtet werden, dass jedes Aktivmassepartikel unter Gewährleistung seiner elektrochemischen Aktivität zur Aufnahme und Abgabe von Wasserstoff mindestens teilweise mit Kupfer ummantelt wird, und dadurch, dass die ummantelten Aktivmassepartikel durch Erhitzen unter gleichzeitiger Anwendung von Druck zu einem porösen, mechanisch stabilen Elektrodenkörper verarbeitet werden, der mit einem durch Versintern der Kupferummantelung der Aktivmassepartikel gebildetes Sinterträgergerüst aus Kupfer durchsetzt ist.
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Aus einer solchen Beschichtung der Aktivmassepartikel mit Kupfer, ergeben sich erfindungsgemäss wichtige Vorteile. Diese vorherige Kupferbeschichtung erlaubt nämlich bei der Elektrodenherstellung durch Heisspressen, die Gewährleistung einer sehr gleichmässigen Verteilung des Kupfers und dadurch die Bildung einer stark zusammenhängenden jedoch relativ leichten, gesinterten Kupfermatrix im gesamten Elektrodenkörper. Das als Bindemetall dienende Kupfer wird dadurch in optimaler Weise herangezogen, um eine hohe mechanische Festigkeit sowie eine hohe Querleitfähigkeit in der Elektrode zu gewährleisten. Ferner kann dadurch eine besonders wirksame Ausnutzung der aktiven Masse gewährleistet werden, da durch eine zweckmässige Wahl der Herstellungsbedingungen der aufgebrachten Kupferschicht, diese Schicht erfahrungsgemäss wasseretoffdurchlässig gemacht werden und somit die praktisch unbehinderte elektrochemische Aktivität der Elektrode gewährleistet werden kann.
Die erfindungsgemäss vorgesehene Beschichtung des Aktivmassepulvers mit einer wasserstoffdurchlässigen Kupferschicht kann mit Vorteil durch Reduktion eines gelösten Kupfersalzes an der Partikeloberfläche bewerkstelligt werden. Zu diesem Zweck kann das Pulver in eine Kupfersalzlösung unter gleichzeitiger Zugabe eines organischen Reduktionsmittels (z.B. ein Aldehyd) eingebracht werden. Dadurch findet eine Reduktionsreaktion statt, bei welcher die Partikeloberfläche als Katalysator wirkt, wobei das Kupfer sich unter Ausbildung einer Kupferschicht auf dieser Oberfläche chemisch abscheidet.
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Die Erzeugung einer für Wasserstoff hochdurchlässigen Kupferschicht kann dabei durch entsprechende Einstellung der Abscheidungsparameter gewährleistet werden, wobei die Konzentration und Temperatur der Kupfersalzlösung sowie eine vorangehende Aktivierung der Partikeloberfläche auf die Eigenschaften der Schicht einen Einfluss haben.
- Ferner kann auch für die chemische Reduktion der Kupfersalz lösung der Hydridwasserstoff des Aktivmassepulvers selbst als Reduktionsmittel herangezogen werden. Bringt man beispielsweise ein Aktivmassepulver mit der Zusammensetzung TiNiH mit einer wässrigen Kupfersalzlösung in Berührung, so reduziert der desorbierende Hydridwasserstoff an der Partikeloberfläche die Kupferionen zu metallischem Kupfer gemäss der Gleichung:
2 TiNiH + Cu++ y 2 TiNi + Cu + 2H+
Die Geschwindigkeit der Desorption und damit der Abscheidung kann dabei über die Temperatur sowie die Kupferkonzentration in der Lösung beeinflusst werden.
Es kommt auch eine elektrochemische Reduktion des Kupfersalzes in Frage, wobei das zu beschichtende Aktivmassepulver in einer Kupfersalzlösung suspendiert und wiederholt kurzzeitig mit einer Festkathode einer mit stromgespeisten galvanischen Zelle in Kontakt gebracht wird. Während dieses Kontaktes befin-
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det sich das Pulverpartikel auf dem gleichen Potential wie die Festkathode, so dass eine elektrochemische Reduktion unter Abscheidung von Kupfer auf der Partikeloberfläche erzielt werden kann. Wenn das Pulverpartikel die Festkathode verlässt, wird diese Reduktion unterbrochen. Somit kann durch Unterbrechung des Kontaktes, ein Konzentrationsausgleich an der Phasengrenzfläche Partikel/Elektrolyt, zwischen zwei aufeinanderfolgenden Kontakten gewährleistet werden, wodurch eine Polarisation während der elektrochemischen Beschichtung weitgehend umgangen werden kann. So erlaubt eine solche kathodische Reduktion, z.B. unter Verwendung einer sogenannten Fliessbettelektrode, die Erzeugung einer einheitlichen Schicht auf der gesamten Partikeloberfläche. Dabei lässt sich die Dicke der Schicht sowie ihre Porosität durch Einstellung der Abscheidungsparameter Stromdichte und Zeit bestimmen. Bei geringen Stromdichten entstehen einheitliche Schichten mit geringer Porosität. Hingegen haben hohe Stromdichten normalerweise die Ausbildung unregelmässiger, hochporöser Schichten zur Folge.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von Beispielen und unter Bezugnahme auf Lebensdauerprüfungen erläutert, deren Ergebnisse in der beiliegenden Zeichnung dargestellt sind:
Fig. 1 zeigt zwei Versuchskurven I, IA, in welchen die
Lebensdauer durch den Verlauf des Elektrodenpotentials bei Beendigung
der "Entladung in Ab-
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hängigkeit der Anzahl Lade- Entlade-Zyklen dargestellt ist, wobei die Kurve I für erfindungsgemäss hergestellte runde Versuchselektroden und die Kurve IA für ähnliche, jedoch in an sich bekannter Weise hergestellte Vergleichselektroden gelten.
Fig. 2 zeigt vier Versuchskurven II,
welche die Lebensdauer wie in Fig.l darstellen, wobei jedoch die Kurven II, III bzw. HA, IHA für rechteckige Versuchselektroden bzw. Vergleichselektroden gelten.
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BEISPIEL 1
Als Ausgangsmaterial.für die Herstellung von negativen Akkumulatorelektroden in Form von porösen, kreisförmigen bzw. rechteckigen Scheiben, wird ein Aktivmassepulver verwendet, das aus einem Titan-Nickel-Hydrid besteht, worin Titan und Nickel in einem Gewichtsverhaltnis von etwa 1 : 1 miteinander legiert sind, wobei die Korngrösse des Pulvers weniger als 33 .u beträgt.
Die Herstellung der Elektroden wird in nachstehender Weise vorgenommen .
A. Beschichtung der aktiven Masse
Das Aktivmassepulver wird mit Kupfer chemisch beschichtet. Die Partikeloberfläche wird zunächst durch Bildung von Palladiumkeimen aktiviert. Zu diesem Zweck wird zuerst eine Vorbehandlung des Pulvers mit einer SnCl -Lösung (50 g/l SnCl2? 50 g/l HCl 30%) bei Raumtemperatur während 30 Minuten vorgenommen, unter Verwendung von 100 g Pulver pro 200 cc Lösung. Das behandelte Pulver wird danach, bis zur Neutralreaktion, mit destilliertem Wasser gewaschen, anschliessend in einer PdCl--Lösung (0,5 g/l PdCl3; 10 g/l HCl 30%) bei Zimmertemperatur während 20 Minuten gerührt und schliesslich wieder bis zur Neutralreaktion gewaschen.
Zur chemischen Beschichtung des so aktivierten Pulvers
mit Kupfer, wird ein Bad aus einer Lösung mit folgender Zusam-
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mensetzung verwendet:
CuSO4.5HO : 10 g/l (entspr. 2,5g Cu/1) KNaC4H4O6: 40 g/l
KOH: 10 g/l
Paraformaldehyd: 12 g/l
wobei die Lösung einen pH Wert von 10 - 12 aufweist.
Die Beschichtung erfolgt bei Zimmertemperatur unter starker Rührung dieses Bades mit dem darin suspendierten, vorbehandelten Aktivmassepulver. Dadurch findet eine chemische Reaktion statt, die nach 2 Stunden beendet ist und die gewünschte Beschichtung durch Umsetzung des Kupfersalzes zu Kupfer an der Partikeloberfläche des Pulvers ergibt. Das derart mit Kupfer chemisch beschichtete Aktivmassepulver wird schliesslich gewaschen und unter Argon-Wasserstoff getrocknet und ist somit bereit für die Elektrodenherstellung .
B. Herstellung des Elektrodenkörpers
Das mit Kupfer beschichtete Aktivmassepulver wird zuerst kalt vorgepresst und danach durch Heisspressen unter Schutzgasatmosphäre zu einem porösen Elektrodenkörper von gewünschter Form und Grosse verarbeitet, wobei die Kupferschicht einen zusammenhängenden Sintersupport ergibt.
Nachstehend sind die Herstellungsbedingungen sowie sonstige Angaben für eine in oben beschriebener Weise erhaltene Elektrodenserie wiedergegeben:
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Serie Ι; Rundelektroden
Herstellungsbedingungen:
- Heisspressdruck: 8 t/cm
- Temperatur: 400 C
- Pressdauer: . 3 min.
- Schutzgas: A/H2 ~
E1ektrodendaten^
- aktive Masse: 1 bis 1,1 g
- Anteil des Cu-Sintersupports, Serie I: 20 Gew.%
- Stromableiter: zwei Cu-Drähte
(0,22mm φ, total 0,1 g)
- Abmessungen: Durchmesser 22 mm
Dicke 0,98 - 1 mm
- Halbzellenanordnung: mit zwei Ni-Gegenelektro-
den in Sandwichanordnung
- Elektrolyt: 4 N KOH
- Temperatur: 25°C
- Formierung: sukzessive Erhöhung der
eingeladenen Strommenge während 5 Lade-Entladezyklen
- Belastung während der Formierzyklen: 25 mA/g aktive Masse (C/10)
- Abschaltpotential: -700 mV gegen Hg/HgO
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- ii -
Lebensdauerprüfung:
- Halbzellenanordnung:
- Elektrolyt:
- Testtemperatur:
- Belastung bei Ladung und Entladung:
- Entladetiefe:
- Ladefaktor:
- Messung des Elektrodenpotentials E unter Last, jeweils am Ende der Entladephase, in Abhängigkeit der Zyklenzahl (siehe Fig.l).
- Testende:
Prüfelektrode in Sandwichanordnung mit zwei Ni-Gittergegenelektroden
4N KOH
25°C
50 mA/g akt.Masse (C/5) 70% der C/5-Kapazität 1,15
wenn Abschaltpotential - 650 mV gegen Hg/HgO.
Serien II und III - Rechteckelektroden
Herstellungsbedingungen:
- Heisspressdruck:
- Temperatur:
- Pressdauer:
- Schutzgas:
1 t/cm'
550°C
10 min.
A/H2 - 93/7
Elektrodendaten:
- aktive Masse:
- Anteil des Cu-Sintersupports Serie II:
Serie III:
- Cu-Gittersupport: -Abmessungen: 5Q98 17/085
7 - 8 g
20 Gew.% Cu
10 Gew.% Cu
1,1 bis 1,2 g
42 χ 64 χ 1 mm
Formierung und Lebensdauerprüfung:
- Diese werden wie oben für die Serie I angegeben durchgeführt.
Zu Vergleichszwecken werden weitere, mit den Ziffern IA bzw. HA, IHA nachstehend bezeichnete Elektrodenserien hergestellt. Für diese Vergleichserien IA, HA, IHA werden dieselben, oben angegebenen Heisspressbedingungen sowie Elektrodenabmessungen wie in den Serien I bis III verwendet. Hingegen werden die Elektrodenkörper in an sich bekannter Weise aus Mischungen von Aktivmassepulver mit lamellarem Kupferpulver (mit der Markenbezeichnung ECKA 7200 MP und mittl. Kornabmessungen von 0,1 χ 50 ,u) heissgepresst, um einen Vergleich der Elektrodenlebensdauer mit den aus mit Kupfer beschichteten Aktivmassepulver erfindungsgemäss hergestellten Elektroden der entsprechenden Serien I bzw. II,III zu erlauben.
Die Kurven der Fig. 1 und 2 zeigen die effektive Lebensdauer {Zyklenzahl) der Elektrodenserien I, IA bzw. II, HA, IH, IHA, bis das Elektrodenpotentiel E einen Wert von etwa -650 mV gegen Hg/HgO erreicht.
Beispiel 2
Das in Beispiel 1 beschriebene Aktivmassepulver wird als Ausgangsmaterial für die Herstellung von negativen Akkumulatorelektroden in folgender Weise verwendet:
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A. Beschichtung der aktiven Masse
Das Aktivmassepulver wird mit Kupfer chemisch beschichtet, indem an der Pulverpartikel-Oberfläche ein Kupfersalz durch den in der aktiven Masse enthaltenen Wasserstoff, zu Kupfer umgesetzt wird.
Zu diesem Zweck wird das Aktivmassepulver in einer CuSO4-Lösung (54 g CuSO./lj 16 ml HBF./l) unter Verwendung von 40 g Pulver pro Liter Losung und unter starker Rührung, während 10 Stunden behandelt, wobei die Temperatur der Lösung in den ersten 2 Stunden auf 95°C gehalten und danach auf 700C erniedrigt wird.
Bei dieser Behandlung wird die gewünschte Beschichtung dadurch erzielt, dass das Kupfersalz durch den bei der erhöhten Temperatur der Lösung aus der aktiven Masse desorbierenden Wasserstoff an der Partikeloberfläche zu Kupfer umgesetzt wird.
Das mit Kupfer beschichtete Pulver wird durch Filtern abgetrennt, zuerst mit destilliertem Wasser und danach mit Alkohol gewaschen und schliesslich unter Argon-Wasserstoff getrocknet.
Das so erhaltene, mit Kupfer beschichtete Aktivmassepulver wird vor der Herstellung des Elektrodenkörpers mit Wasserstoff beladen. Dies wird dadurch erzielt, dass das beschichtete Pulver zunächst unter Vakuum in einem Ofen auf 1000C aufgeheizt, anschliessend bei 250 C unter Wasserstoffatmosphäre unter einem
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Druck von 1 atm. während einer Stunde behandelt und schliesslich unter Wasserstoff zum Abkühlen auf Zimmertemperatur gelassen wird.
B. Herstellung des Elektrodenkörpers
Die Elektrodenkörper werden schliesslich, wie in Beispiel 1 beschrieben, durch Heisspressen hergestellt.
Die Formierung und Lebensdauerprüfung wird schliesslich ebenfalls wie in Beispiel 1 vorgenommen und ergibt vier Elektrodenserien, deren Lebensdauer jenen der Serien I bis III in Beispiel 1 entsprechen.
Aus den in Figuren 1 und 2 dargestellten Versuchsergebnissen gehen verschiedene Vorteile hervor, die durch die erfin dungsgemäss vorgesehene Beschichtung der Aktivmassepartikel, zwecks Bildung eines Sintertragergerusts durch Heisspressen erzielt werden.
So zeigt sich beispielsweise aus Kurve I, dass die chemische Beschichtung mit nur 20 Gew.% Cu bereits eine nützliche Lebensdauer(bis zu -650 mV) von etwa 400 Zyklen ergibt. Demgegenüber wird nur etwa die Hälfte dieser Lebensdauer bei den entsprechenden Vergleichselektroden der Serie IA/, die aus einer Pulvermischung mit 20 Gew.% lamellarem Pulver und 80 Gew.% aktive Masse unter den gleichen Heisspressbedingungen hergestellt
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Dieser Kupfergehalt von 20 Gew.% ist relativ gering, so dass die Elektroden vorwiegend aus der elektrochemisch aktiven Masse bestehen und dennoch hohe nützliche Lebensdauern erzielt werden können. Demgegenüber ergeben die entsprechenden Vergleichselektroden der Serie IA, auch mit 20 Gew.% Cu, eine Lebensdauer von nur 200 Zyklen, im Vergleich zu 400 Zyklen für die Serie I.
Wie bereits erwähnt, geben die Kurven der Fig.2 die entsprechenden Versuchsergebnisse für rechteckige Elektroden, die mit einem zentralen Kupfergitter versehen sind^ das etwa 10 Gew.% des Elektrodengewichts beträgt. Bei solchen, wesentlich grösseren Elektroden ergibt sich bereits für die Elektrode der Serie III (mit etwa 20 % Cu insgesamt) eine nützliche Lebensdauer von 300 Zyklen. Demgegenüber ergeben die entsprechenden Vergleichselektroden der Serie IIIA eine ganz unbefriedigende Lebensdauer von etwa 70 Zyklen. Ferner ergibt sich bei den Elektroden der Serie II (mit etwa 30% Cu insgesamt) eine Lebensdauer von 380 Zyklen, dies im Vergleich zur ganz unbefriedigenden Lebensdauer von nur 130 Zyklen bei den Vergleichselektroden der Serie HA.
Diese Versuchsergebnisse zeigen somit, dass die erfindungsgemäss hergestellten Elektroden eine wesentliche Senkung des Gesamtkupfergehalts der Elektroden unter Gewährleistung einer hohen nützlichen Lebensdauer erlauben.
Es versteht sich, dass nicht nur TiNi sondern verschiedene andere Legierungsphasen wie z.B. Ti2Ni und insbesondere
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binäre Phasengemische dieser beiden Phasen als aktive Masse Verwendung finden können um die oben erwähnten Vorteile der Erfindung zu erhalten. '
Patentansprüche;
25 687
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Claims (9)

PATENTANSPRÜCHE
1. Verfahren zur Herstellung einer negativen Akkumulatorelektrode mit einem stromleitenden Trägergerüst sowie einer aktiven Masse zur reversiblen Speicherung und Wiedergabe von Wasserstoff durch elektrochemische Ladung und Entladung, dadurch gekennzeichnet, dass Pulverpartikel der aktiven Masse derart mit Kupfer beschichtet werden, dass jedes Aktivmassepartikel unter Gewährleistung seiner elektrochemischen Aktivität zur Aufnahme und Abgabe von Wasserstoff, mindestens teilweise mit Kupfer ummantelt wird, und dadurch, dass die ummantelten Äktivmassepartikel durch Erhitzen, unter gleichzeitiger Anwendung von Druck zu einem porösen, mechanisch stabilen Elektrodenkörper verarbeitet werden, der mit einem durch Versintern der Kupferummantelung der Aktivemassepartikel gebildetes Sinterträgergerüst aus Kupfer durchsetzt ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Aktivmassepartikel mit einer Kupfersalzlösung in Berührung gebracht und durch eine Reduktion an der Partikeloberfläche mit Kupfer beschichtet werden.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Aktivmassepartikel mit einer Kupfersalzlösung unter Zugabe eines Reduktionsmittels in Berührung gebracht werden, so dass die Kupferbeschichtung durch Reduktion an der Partikeloberfläche bewerkstelligt wird.
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4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Kupfersalzlösung während der Kupferbeschichtung erhitzt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Partikeloberfläche vor der Kupferbeschichtung einer Aktivierungsbehandlung unterworfen wird.
6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Kupferbeschichtung durch Reduktion mittels Wasserstoff bewerkstelligt, der aus den hydrierten Aktivmassepartikeln^bei erhöhter Temperatur desorbiert wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Aktivmassepartikel durch eine elektrochemische Reduktion an der Partikeloberfläche mit Kupfer beschichtet werden.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Kupferbeschichtung durch kathodische Reduktion an der Oberfläche der Aktivmassepartikel bewerkstelligt wird, indem diese Partikel in einer Kupfersalzlösung suspendiert und mit einer festen Kathode einer mit elektrischem Strom gespeisten galvanischen Zelle wiederholt kurzzeitig in Berührung gebracht werden.
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9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein Trägergitterwerk aus Kupfer in das ummantelte Aktivmassepulver eingebettet wird, das anschliessend zu einem Elektrodenkörper verarbeitet wird.
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