DE2443121A1 - Verfahren zum praezisen ausrichten eines elektronenstrahlmusters gegenueber vorbestimmten bereichen eines substrates - Google Patents

Verfahren zum praezisen ausrichten eines elektronenstrahlmusters gegenueber vorbestimmten bereichen eines substrates

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DE2443121A1
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2801338A1 (de) * 1977-01-24 1978-07-27 Hughes Aircraft Co Verfahren zur erzeugung der metallelektroden von halbleiter-bauelementen kleiner dimension

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5398781A (en) * 1976-11-25 1978-08-29 Jeol Ltd Electron ray exposure unit
DE2939044A1 (de) * 1979-09-27 1981-04-09 Ibm Deutschland Gmbh, 7000 Stuttgart Einrichtung fuer elektronenstrahllithographie
US4327292A (en) * 1980-05-13 1982-04-27 Hughes Aircraft Company Alignment process using serial detection of repetitively patterned alignment marks
US4431923A (en) * 1980-05-13 1984-02-14 Hughes Aircraft Company Alignment process using serial detection of repetitively patterned alignment marks
US4385238A (en) * 1981-03-03 1983-05-24 Veeco Instruments Incorporated Reregistration system for a charged particle beam exposure system
JPS5960306A (ja) * 1982-09-30 1984-04-06 Fujitsu Ltd 位置決定用チップを備えた試料
US4528452A (en) * 1982-12-09 1985-07-09 Electron Beam Corporation Alignment and detection system for electron image projectors
GB2146168A (en) * 1983-09-05 1985-04-11 Philips Electronic Associated Electron image projector
GB2157069A (en) * 1984-04-02 1985-10-16 Philips Electronic Associated Step and repeat electron image projector
JP2723508B2 (ja) * 1985-10-21 1998-03-09 日本電気株式会社 電子線直接描画のためのアライメント方法
US4871919A (en) * 1988-05-20 1989-10-03 International Business Machines Corporation Electron beam lithography alignment using electric field changes to achieve registration
US6146910A (en) * 1999-02-02 2000-11-14 The United States Of America, As Represented By The Secretary Of Commerce Target configuration and method for extraction of overlay vectors from targets having concealed features
EP1342465B1 (en) * 2002-03-05 2011-10-19 Kao Corporation Foam-type hair dye and foam-type hair dye discharge container
KR101041661B1 (ko) * 2003-07-30 2011-06-14 어플라이드 머티리얼즈 이스라엘 리미티드 다중 검출기들을 갖는 스캐닝 전자 현미경 및 다중 검출기기반 이미징을 위한 방법
US7842933B2 (en) * 2003-10-22 2010-11-30 Applied Materials Israel, Ltd. System and method for measuring overlay errors
JP4538421B2 (ja) 2006-02-24 2010-09-08 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
US9046475B2 (en) 2011-05-19 2015-06-02 Applied Materials Israel, Ltd. High electron energy based overlay error measurement methods and systems
DE102016223664B4 (de) * 2016-11-29 2024-05-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Strahlaustaster und Verfahren zum Austasten eines geladenen Teilchenstrahls
JP7007152B2 (ja) * 2017-10-19 2022-01-24 株式会社アドバンテスト 三次元積層造形装置および積層造形方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1690626A1 (de) * 1966-08-16 1971-04-08 Jeol Ltd Verfahren und Anordnung zur Steuerung des Elektronenstrahles einer Elektronenstrahlanlage
DE2056620A1 (de) * 1969-12-15 1971-06-16 Ibm Vorrichtung zur Belichtung von Halb leiterelementen
US3710101A (en) * 1970-10-06 1973-01-09 Westinghouse Electric Corp Apparatus and method for alignment of members to electron beams

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1804646B2 (de) * 1968-10-18 1973-03-22 Siemens AG, 1000 Berlin u. 8000 München Korpuskularstrahl-bearbeitungsgeraet
US3745358A (en) * 1971-05-10 1973-07-10 Radiant Energy Systems Alignment method and apparatus for electron projection systems

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1690626A1 (de) * 1966-08-16 1971-04-08 Jeol Ltd Verfahren und Anordnung zur Steuerung des Elektronenstrahles einer Elektronenstrahlanlage
DE2056620A1 (de) * 1969-12-15 1971-06-16 Ibm Vorrichtung zur Belichtung von Halb leiterelementen
US3710101A (en) * 1970-10-06 1973-01-09 Westinghouse Electric Corp Apparatus and method for alignment of members to electron beams

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2801338A1 (de) * 1977-01-24 1978-07-27 Hughes Aircraft Co Verfahren zur erzeugung der metallelektroden von halbleiter-bauelementen kleiner dimension

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5218552B2 (OSRAM) 1977-05-23
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US3849659A (en) 1974-11-19

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