DE4424135C2 - Meßvorrichtung für elektromagnetische Wellen - Google Patents
Meßvorrichtung für elektromagnetische WellenInfo
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- DE4424135C2 DE4424135C2 DE4424135A DE4424135A DE4424135C2 DE 4424135 C2 DE4424135 C2 DE 4424135C2 DE 4424135 A DE4424135 A DE 4424135A DE 4424135 A DE4424135 A DE 4424135A DE 4424135 C2 DE4424135 C2 DE 4424135C2
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Description
Die Erfindung betrifft eine Meßvorrichtung für elektromagne
tische Wellen.
Bekannt ist eine Mikrowellenmeßvorrichtung, die die Intensi
tät einer Mikrowelle durch Messen einer elektrischen Spannung
ermittelt, welche durch Gleichrichten eines von einer zu mes
senden Mikrowelle induzierten Stroms mittels einer Punktkon
takt-Siliziumdiode erhalten wird.
Eine andere bekannte Meßvorrichtung für elektromagnetische
Wellen verwendet einen Thermodetektor, etwa einen Thermistor
oder ein Bolometer.
Obwohl diese Meßvorrichtungen die Intensität einer elektro
magnetischen Welle in einem speziellen Wellenlängenbereich
messen, sind sie nicht in der Lage, die Wellenlänge der elek
tromagnetischen Welle zu messen. Die bekannte Mikrowellenmeß
vorrichtung eignet sich nicht zur Verwendung in einer
Hochtemperaturumgebung oder einer Umgebung, wo sie Strahlung
ausgesetzt ist, da ihr Temperaturanstieg infolge der Umge
bungstemperatur oder der Strahlungsabsorption eine Messung
hoher Genauigkeit verhindert.
Es ist ferner bekannt, optische Wellenlängen mittels eines
Spektrophotometers zu messen, das ein optisches Prismenspek
trometer und einen Photovervielfacher umfaßt. Eine lange
Radiowellenlänge wird mit Hilfe eines Empfängers gemessen,
der einen abgestimmten Oszillatorstrom entsprechend der emp
fangenen Radiowelle mißt. Eine kurze Wellenlänge, wie etwa
die von Röntgenstrahlen, wird mittels einer Kombination aus
einem Beugungsgitter und einem Zähler gemessen.
Obwohl jede dieser Wellenlängenmeßvorrichtungen einen spe
ziellen Aufbau aufweist, der für die genaue Messung einer
Wellenlänge (mit hoher Wellenlängenauflösung) in einem
bestimmten Wellenlängenbereich geeignet ist, können diese
Vorrichtungen aufgrund ihrer groß bemessenen Bauteile nicht
verkleinert werden. Die Wellenlängenbereiche, die von den
bekannten Wellenlängenmeßvorrichtungen gemessen werden können
(die dynamischen Bereiche) sind schmal, und es ist bislang
keine Wellenlängenmeßvorrichtung realisiert worden, die Wel
lenlängen vom Mikrowellenbereich bis zum Infrarotbereich
mißt.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine miniaturi
sierte Meßvorrichtung für elektromagnetische Wellen zu schaf
fen, die in der Lage ist, Wellenlängen vom Mikrowellenbereich
zum Infrarotbereich in jeder Umgebung zu messen.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch eine Meßvorrichtung
gemäß Patentanspruch 1 gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind in den
Unteransprüchen gekennzeichnet.
Bevor Ausführungsbeispiele der Erfindung beschrieben werden,
soll zunächst das der Erfindung zugrundeliegende Meßprinzip
anhand der Fig. 1 und 2 erläutert werden.
Die Bewegungsbahn eines durch Elektronenemission emittierten
Elektrons als eines geladenen Teilchens zu der es anziehenden
Anode wird durch eine Zyklotronbewegung verlängert, die durch
ein orthogonales Magnetfeld angeregt wird. Das Elektron auf
seiner Kreisbewegung wird durch wiederholte Zufuhr
kinetischer Energie durch die Zyklotronresonanz beschleunigt,
wenn die Zyklotronwinkelfrequenz ωc des Elektrons, welche von
der magnetischen Induktion orthogonal zur Kreisbahn des
Elektrons bestimmt wird, und die Winkelfrequenz ωf einer zu
messenden elektromagnetischen Welle übereinstimmen, die die
Elektronenbahn bestrahlt. Das beschleunigte Elektron stößt
mit Molekülen des verdünnten Gases zusammen und ionisiert die
Gasmoleküle. Die durch die Ionisation multiplizierten
,Elektronen werden von der Anode eingefangen, und die
ionisierten Teilchen werden von der Kathode eingefangen. Wenn
die Zyklotronresonanz verstärkt wird, erhält man eine sehr
viel höhere Spitze des Anodenstroms als in dem Fall, wo der
Anodenstrom nur auf den Elektronen beruht, die zur Anode
gelangen, wenn die Zyklotronresonanz nicht verstärkt wird. Da
man die Zyklotronresonanz-Winkelfrequenz durch Änderung der
magnetischen Induktion ändern kann, läßt sich die Wellenlänge
der bestrahlenden elektromagnetischen Welle dadurch
bestimmen, daß man beobachtet, bei welcher Induktion ein
Spitzenwert des Anodenstroms auftritt. Die diesem
Induktionswert entsprechende Zyklotronresonanz-Winkelfrequenz
ωc ist dann gleich der Winkelfrequenz ωf der bestrahlenden
elektromagnetischen Welle.
Dieses Prinzip soll unter Bezugnahme von Fig. 1 detaillierter
beschrieben werden. Die Meßvorrichtung für elektromagnetische
Wellen umfaßt gemäß Darstellung in Fig. 1 eine Elektronen
emissionsanordnung mit einer Kathode 1 und einer Gateelek
trode 2 (Steuerelektrode) sowie eine Anode 3 und eine Magnet
feldanlegeanordnung 4. Als Kathode 1 wird eine Kaltkathode
verwendet. Gemäß der vorliegenden Erfindung wird als Kathode
1 keine heiße Kathode verwendet. Elektronen werden aus der
Kathode 1 durch den Schottky-Effekt (Tunneleffekt) herausge
löst, da ein elektrisches Feld zwischen der Kathode 1 und der
Gateelektrode 2 die Austrittsarbeit des Kathodenmaterials
moduliert und die Potentialbarriere an
der Grenzfläche der Kathode 1 verringert. Die Stromdichte j
der durch Feldemission von der Kathode 1 emittierten Elek
tronen ist durch die folgende Fowler-Nordheim-Gleichung gege
ben:
j = BE₀² exp(-C/E₀), (1)
worin E₀ ein externes elektrisches Feld zwischen der Kathode
1 und der Gateelektrode 2 darstellt und B und C Konstanten
sind. Obwohl die Gleichung 1 unter der Annahme abgeleitet
ist, daß Elektronen auf Niveaus unterhalb des Fermi-Niveaus
bei 0°K emittiert werden, ist aus Experimenten bekannt, daß
die Gleichung temperaturunabhängig ist und auch bei Tempera
turen oberhalb der Raumtemperatur gültig ist.
Die feldemittierten Elektronen bewegen sich zur Anode 3, zu
der sie aufgrund eines elektrischen Feldes zwischen Kathode
und Anode angezogen werden. Unter dem Einfluß eines Magnet
feldes führen die wandernden Elektronen eine Kreisbewegung
bei einer durch die folgende Gleichung gegebenen Winkelfre
quenz ωc auf einer XY-Ebene in einem orthogonalen Koordina
tensystem aus, dessen X-Achse in Richtung des elektrischen
Feldes E weist, während die Z-Achse längs dem gleichförmigen
orthogonalen Magnetfeld gerichtet ist:
ωc = eB/m = 175,65B GHz, (2)
worin e die elektrische Ladung eines Elektrons darstellt, m
die Masse eines Elektrons und B die Induktion des orthogona
len Magnetfeldes. Die Zyklotronwinkelfrequenz ωc hängt nicht
von der Geschwindigkeit eines Elektrons ab und ist proportio
nal zur magnetischen Induktion B. Daher nimmt die Winkelfre
quenz ωc zu, und die Kreisbahn (Bewegungsbahn) des Elektrons
wird länger, wenn die magnetische Induktion B vergrößert
wird. Die Elektronen führen also eine kreisende Bewegung aus,
während sie sich zur Anode 3 bewegen, wie in Fig. 1 (b)
gezeigt.
In dieser Situation wird die Zyklotronresonanz unter bestimm
ten Bedingungen verstärkt, wenn eine elektromagnetische Welle
die Elektronenbahn bestrahlt. Da das Elektron beschleunigt
wird, wenn die Winkelfrequenz ωf der Schwingung der elektro
magnetischen Welle mit der Zyklotronwinkelfrequenz ωc über
einstimmt und die Richtung des elektrischen Feldes der
bestrahlenden elektromagnetischen Welle mit der X-Achse
zusammenfällt, wird die Geschwindigkeit des sich in kreisen
der Bewegung befindenden Elektrons schneller, und der Radius
R der kreisenden Bewegung, der durch die nachfolgende Glei
chung gegeben ist, nimmt allmählich zu.
R = mv/(eB) = v/ωc (3)
Daher bewegt sich das Elektron auf einer spiralförmigen Bahn
in Richtung auf die Anode 3.
Da die Zyklotronresonanz-Winkelfrequenz ωc proportional zur
magnetischen Induktion B geändert werden kann, kann bei
Bestrahlung mit einer elektromagnetischen Welle unbekannter
Wellenlänge der Zustand der Verstärkung der Zyklotronresonanz
durch Ändern der magnetischen Induktion B eingestellt werden.
Bei der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung
wird die Zyklotronresonanz-Winkelfrequenz durch Änderung der
magnetischen Induktion B auf dem Wege der Änderung des Erre
gerstroms eines Elektromagneten geändert, der als die Magnet
feldanlegeanordnung 4 verwendet wird.
Wenn auf irgendeine Weise die Zyklotronresonanz als ein Punkt
des Zusammenfallens der Zyklotronresonanz-Winkelfrequenz ωc
mit der Winkelfrequenz ωf der Schwingung der elektromagneti
schen Welle festgestellt werden kann, dann kann die Wellen
länge der elektromagnetischen Welle aufgrund von Gleichung
(2) gemessen werden. Die vorliegende Erfindung gewinnt
beschleunigte Elektronen durch Zyklotronresonanz, gewinnt
vervielfachte geladenen Partikel (Ionenpaare) durch Ionisie
rung von Molekülen M des verdünnten Gases aufgrund der Kolli
sion der beschleunigten Elektronen mit den Gasmolekülen zur
Verstärkung eines Anodenstroms auf einen Spitzenwert und mißt
den so erhaltenen Anodenspitzenstrom.
Das verdünnte Gas ist mittels einer Abdichteinrichtung 5 in
einem Vakuumraum 6 dicht eingeschlossen. Da die durch die
Zyklotronresonanz beschleunigten Elektronen eine kinetische
Energie erhalten, die höher ist als die Dissoziationsenergie
der Moleküle (Atome) des verdünnten Gases, sowie eine erhöhte
Kollisionswahrscheinlichkeit aufgrund der verlängerten Bewe
gungsbahn als Ergebnis ihrer Spiralbewegung, kollidieren die
beschleunigten Elektronen mit den Gasmolekülen und dissoziie
ren sie mit der Folge der Ionisierung, so daß jedes Elektron
durch die Ionisierung ein oder zwei weitere Elektronen
erzeugt. Da die Ionisierungselektronen dann zur Auslösung
einer weiteren Ionisation von Gasmolekülen oder Atomen
beschleunigt werden, steigt die Zahl der vervielfachten Elek
tronen und Ionen in dem Vakuumraum exponentiell an. Die Elek
tronen werden von der Anode und die Ionen von der Kathode
eingefangen. Wenn die Zyklotronresonanz nicht verstärkt wird,
werden von der Anode nur feldemittierte Elektronen eingefan
gen und erzeugen einen kleinen Anodenstrom. Ein Anodenspit
zenstrom wird dagegen als Ergebnis vervielfachter Ladungsträ
ger beobachtet, wenn die Zyklotronresonanz verstärkt wird.
Die Wellenlänge der elektromagnetischen Welle wird aufgrund
des Erregerstroms des Elektromagneten bestimmt, bei dem die
Zyklotronresonanz verstärkt wird, wobei die Verstärkung
dadurch anhand eines Anodenspitzenstroms festgestellt wird,
daß der Erregerstrom gewobbelt wird, so daß er mit der Zeit
ansteigt. Da die Zyklotronresonanz-Winkelfrequenz ωc propor
tional dem Erregerstrom entsprechend der magnetischen Induk
tion B ist, können Wellenlängen über mehrere Größenordnungen
durch Änderung des Erregerstroms über mehr als etliche
Größenordnungen gemessen werden. Daher wird ein Wellenlängen
detektor mit einem großen Dynamikbereich realisiert, der Wel
lenlängen vom Mikrowellenbereich bis zum Infrarotbereich
mißt.
Da gemäß der Erfindung die Elektronen durch Kaltkathodenelek
tronenemission erhalten werden, kann die Meßvorrichtung in
beliebiger ungünstiger Umgebung, beispielsweise bei hohen
Temperaturen oder unter Strahlungseinfluß arbeiten, ohne von
Hintergrundstörungen beeinflußt zu sein. Da die Meßvorrich
tung für elektromagnetische Wellen gemäß der vorliegenden
Erfindung geeignet ist, mittels Halbleiterverarbeitungstech
niken hergestellt zu werden, ermöglicht sie eine Verkleine
rung und Kostenreduzierung.
Bei Verwendung der Meßvorrichtung für elektromagnetische Wel
len gemäß der vorliegenden Erfindung kann die Intensität
einer elektromagnetischen Welle dadurch bestimmt werden, daß
die Höhe des Anodenspitzenstroms gemessen wird, da die Spit
zenhöhe der Intensität der bestrahlenden elektromagnetischen
Welle entspricht.
Eine Verringerung des Grads des Vakuums, die durch einen zu
hohen Partialdruck des eingeschlossenen Gases verursacht
wird, unterdrückt die Kaltkathodenelektrodenemission und
behindert eine Entladung. Das eingeschlossene verdünnte Gas
der vorliegenden Erfindung vermeidet diese Behinderung. Wenn
das elektrische Potential der Anode zu hoch ist, wird die
Entladung behindert. Gemäß der vorliegenden Erfindung ist es
aber nicht notwendig, das elektrische Potential der Anode
anzuheben, da Elektronen durch Zyklotronresonanz, verstärkt
durch das elektrische Feld der bestrahlenden elektromagneti
schen Welle, beschleunigt werden. Obwohl das eingeschlossene
Gas sehr verdünnt ist, schreitet die durch Dissoziation aus
gelöste Ionisation ohne Probleme fort, weil die Kollisions
wahrscheinlichkeit der Elektronen mit dem eingeschlossenen
Gas bei der vorliegenden Erfindung aufgrund der Spiralbewe
gung der Elektronen erhöht ist.
Da die erste Ausführungsform der vorliegenden Erfindung die
Zyklotronresonanzfrequenz durch Wobbeln des Erregerstroms des
Elektromagneten, so daß er mit der Zeit zunimmt, ermittelt,
muß also die Intensität des gleichförmigen orthogonalen
Magnetfeldes allmählich variiert werden, was zu einer verlän
gerten Wobbelperiode führt. Daher eignet sich die Meßvorrich
tung der ersten Ausführungsform nicht so gut zur Messung von
Wellenlängen, die sich von Zeit zu Zeit ändern, da die ausge
dehnte Wobbelperiode die Wellenlängenmeßantwort verschlech
tert und die Toleranz der Abtastzeitsteuerungswahl verrin
gert. Die Meßvorrichtung für elektromagnetische Wellen der
zweiten Ausführungsform ist so aufgebaut, daß sie eine Echt
zeitwellenlängenmessung ermöglicht. Die Meßvorrichtung dieser
zweiten Ausführungsform umfaßt eine Vielzahl von Wellenlän
genmeßzellen, von denen jede die gleichen Funktionselemente
enthält wie die Meßvorrichtung der ersten Ausführungsform.
Die Magnetfeldanlegeanordnung der Meßzellen umfaßt eine feste
Magnetfeldanlegeanordnung zum Anlegen fester orthogonaler
Magnetfelder, wobei die magnetischen Induktionen der festen
Magnetfelder bei den einzelnen Meßzellen voneinander ver
schieden sind.
Die Zyklotronresonanz-Winkelfrequenz ωc in den einzelnen Zel
len weist daher einen jeweiligen individuellen Wert auf. Wenn
die zu messende elektromagnetische Welle alle Meßzellen
gleichmäßig bestrahlt oder wenn die Meßzellen so nahe beiein
ander angeordnet sind, daß unterstellt werden kann, daß die
elektromagnetische Welle alle Meßzellen gleichmäßig
bestrahlt, dann wird die Zyklotronresonanz nur in einer der
Meßzellen verstärkt, derjenigen nämlich, deren Zyklotronreso
nanz-Winkelfrequenz ωc gleich der Winkelfrequenz ωf der
Schwingung der bestrahlenden elektromagnetischen Welle ist.
In allen anderen Meßzellen wird die Zyklotronresonanz nicht
verstärkt. Die Wellenlänge der bestrahlenden elektro
magnetischen Welle kann daher auf Echtzeitbasis ohne Wobbeln
des Erregerstroms gemessen werden, indem die Zyklotronreso
nanz-Winkelfrequenz ωc der speziellen Meßzelle identifiziert
wird, deren Anodenstrom infolge der Zyklotronresonanz groß
ist. Darüberhinaus erleichtert die zweite Ausführungsform die
Messung der Intensität der elektromagnetischen Welle aufgrund
des Spitzenwerts des Anodenstroms und spektrometrische Mes
sungen der Wellenlängenverteilung der elektromagnetischen
Welle, wie die gleichzeitige Messung von Wellenlängen einer
Vielzahl elektromagnetischer Wellen.
Der Anodenstrom hängt von der räumlichen Ausrichtung der Meß
zelle in bezug auf die elektrische Feldebene der bestrahlen
den elektromagnetischen Welle ab. Die Genauigkeit der Wellen
längenmessung kann dadurch verbessert werden, daß die Meßvor
richtung der ersten Ausführungsform oder die Meßzellen der
zweiten Ausführungsform längs drei Achsen der orthogonalen
Koordinaten angeordnet werden, so daß die Zyklotronresonanz
für jede orthogonale Komponente des elektrischen Feldes der
elektromagnetischen Welle verstärkt wird.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungsbeispie
len unter Bezug auf die Zeichnungen näher erläutert. Es zei
gen:
Fig. 1 eine Darstellung zur Erläuterung des Prinzips der
vorliegenden Erfindung, wobei Fig. 1(a) eine schema
tische Schnittansicht einer Meßvorrichtung für elek
tromagnetische Wellen und Fig. 1(b) die Bewegung
eines emittierten Elektrons zeigen;
Fig. 2 eine den Aufbau einer ersten Ausführungsform einer
Meßvorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung zei
gende Darstellung, wobei Fig. 2(a) eine perspektivi
sche Ansicht und Fig. 2(b) eine Schnittansicht ist.
Fig. 3 eine graphische Darstellung, die den Zusammenhang
zwischen dem Anodenstrom und dem Spulenstrom der
ersten Ausführungsform zeigt,
Fig. 4 ein Blockdiagramm, das schematisch den Aufbau einer
zweiten Ausführungsform einer Meßvorrichtung gemäß
der vorliegenden Erfindung zeigt;
Fig. 5 eine Schnittansicht, die schematisch einen Aufbau
einer Meßzelle der zweiten Ausführungsform zeigt; und
Fig. 6 schematische Ansichten zur Erläuterung eines Herstel
lungsverfahrens der Meßvorrichtung der ersten Ausfüh
rungsform oder einer Meßzelle der zweiten Ausfüh
rungsform.
Fig. 2 zeigt den Aufbau einer ersten Ausführungsform einer
Meßvorrichtung für elektromagnetische Wellen gemäß der vor
liegenden Erfindung. Fig. 2(a) zeigt eine perspektivische
Ansicht und Fig. 2(b) eine Schnittansicht. Die Meßvorrichtung
10 umfaßt auf einem Siliziumsubstrat 11 eine (nachfolgend als
Isolierschicht bezeichnete) oxidierte Siliziumschicht 12, in
welcher eine Ausnehmung 12a in der Form eines umgekehrten
Trapezes ausgebildet ist, eine Wolfram-Kaltkathode (Emitter
elektrode) 13, die auf der Isolierschicht 12 ausgebildet ist
und viele kammzinkenartige Spitzen aufweist, die sich ausge
hend von einer Seite über die Ausnehmung 12a erstrecken, eine
rechteckige Molybdän-Gateelektrode (Steuerelektrode) 14, die
in der Ausnehmung 12a auf der Seite der Kaltkathode 13 ange
ordnet ist, eine Wolfram-Anode (Kollektorelektrode) 15, die
auf der Isolierschicht 12 ausgebildet ist und sich ausgehend
von der der einen Seite gegenüberliegenden anderen Seite über
die Ausnehmung 12a erstrecket, ein isolierendes Abdichtteil
16 (beispielsweise aus Quarz), das an seiner Unterseite mit
einer Ausnehmung 16a versehen ist, und einen Elektromagneten
18 mit einem Magnetkern 18a, der auf der Rückseite des Sili
ziumsubstrats 11 befestigt ist, und einer Elektromagnetspule
18b aus einem um den Magnetkern 18a gewickelten lackisolier
ten Draht. Wie aus der Darstellung in Fig. 2(b) erkennbar,
bilden die Ausnehmungen 16a und 12a einen Vakuumraum 17 zum
Einschluß eines verdünnten Wasserstoffgases. In Fig. 2(a) ist
das Abdichtteil 16 nicht dargestellt.
Typische Abmessungsparameter für die erste Ausführungsform
sind wie folgt. Größe (Chipgröße) des Siliziumsubstrats 11 2
mm × 2 mm; Dicke der Kathode 13 0,2 µm; Kantenbreite der
kammzinkenartigen Spitze 3 µm und Mittenabstand der Spitzen 6
µm, wobei die Kathode 13 270 Spitzen aufweist und ihre
Gesamtbreite 1,6 mm beträgt; Dicke, Breite und Länge der
Gateelektrode 0,2 µm, 1,6 mm bzw. 3 µm; Dicke und Breite der
Anode 15 0,2 µm bzw. 1,6 mm; Abstand zwischen der Kathode 13
und der Gateelektrode 14 0,7 µm; Abstand zwischen der Kathode
13 und der Anode 15 10 µm; und Durchmesser des zylindrischen
Magnetkerns 18a 1 mm. Der Magnetkern besteht aus Mn-Zn-Ferrit
mit einer spezifischen Permeabilität von 5000. Der Elektroma
gnet 18 ist dazu vorgesehen, ein Magnetfeld längs der Rich
tung (Z-Richtung) senkrecht zu einer Ebene anzulegen, welche
die Kathode 13 und die Anode 15 in dem Vakuumraum 17 enthält
(XY-Ebene). Der Vakuumraum 17 ist mit 3 × 10-19 Mol verdünn
ten Wasserstoffgases gefüllt.
An die Kathode 13 wird ein Null-Potential oder ein negatives
elektrisches Potential angelegt. Ein positives elektrisches
Potential wird an die Gateelektrode 14 angelegt. Ein elektri
sches Potential, das höher als das elektrische Gatepotential
ist, wird an die Anode 15 angelegt. Da das elektrische Feld
der Gateelektrode 14 die Austrittsarbeit von Wolfram modu
liert, um die Potentialbarriere an der Grenzfläche der
Kathode 13 zu verringern, werden Elektronen aus der Kathode
13 (1) durch den Schottky-Effekt (Tunneleffekt) herausgezo
gen.
Es ist aufgrund von Experimenten bekannt, daß die Stromdichte
der längs der X-Achse von der Kathode 13 (1) feldemittierten
Elektronen geringe Temperaturabhängigkeit aufweist. Die
Stromdichte der feldemittierten Elektronen zeigt bei hohen
Temperaturen oder unter Strahlungsaussetzung einen nahezu
stationären Wert. Da alle Stirnflächen der kammzinkenartigen
Spitzen der Kathode 13 in bezug auf die Gateelektrode 14
gleich angeordnet sind, erhält man von jeder der Stirnflächen
der Spitzen die gleiche Stromdichte.
Da die Schwellenspannung der Feldemission an jeder Stirnflä
che der Spitzen gleich ist, ist die Anfangsgeschwindigkeit
der emittierten Elektronen an den Stirnflächen gleich.
Die auf diese Weise feldemittierten Elektronen bewegen sich,
angezogen durch das elektrische Feld E zwischen der Kathode
13 und der Anode 15, in Richtung auf die Anode. Da durch den
Elektromagneten 18 ein gleichförmiges Magnetfeld B orthogonal
zu dem elektrischen Feld E im Vakuumraum 17 angelegt wird,
führen die sich bewegenden Elektronen eine kreisende Bewegung
mit einer Zyklotronwinkelfrequenz ωc auf der XY-Ebene aus.
Die Zyklotronwinkelfrequenz ωc hängt nicht von der Geschwin
digkeit des Elektrons ab und ist proportional zur magneti
schen Induktion B. Daher nimmt die Zyklotronwinkelfrequenz ωc
mit zunehmender Induktion B zu, während die kreisförmige Bahn
(Bewegungsbahnlänge) des Elektrons länger wird. Das Elektron
führt also auf seinem Weg zur Anode 15 eine kreisende Bewe
gung aus. Wenn in dieser Situation eine elektromagnetische
Welle (zu messende elektromagnetische Welle), deren Schwin
gungswinkelfrequenz ωf mit der Zyklotronwinkelfrequenz ωc
übereinstimmt und deren elektrische Feldrichtung mit der
X-Achse übereinstimmt, die Elektronbahn bestrahlt, wird das
Elektron zu einem Maximalwert beschleunigt und bewegt sich
schneller, während der Radius seiner Kreisbahn allmählich
zunimmt. Daher wandert das Elektron längs einer Spiralbahn
zur Anode 15. Da die Zyklotronresonanz-Winkelfrequenz ωc pro
portional zur magnetischen Induktion B geändert werden kann,
kann der genannte Zustand übereinstimmender Frequenzen und
damit die Verstärkung der Zyklotronresonanz durch Änderung
der Induktion B herbeigeführt werden.
Bei der ersten Ausführungsform kann der Erregerstrom i des
Elektromagneten 18 variiert werden, und der Zustand der ver
stärkten Zyklotronresonanz wird durch Änderung der Induktion
B auf dem Wege der Änderung des Erregerstroms i des Elektro
magneten 18 erreicht. Da das Elektron beschleunigt wird, wenn
die Zyklotronresonanz einmal verstärkt wurde, wird ein Mole
kül M des verdünnten Wasserstoffgases durch die Kollision mit
dem beschleunigten Elektron ionisiert und ein Elektron
abgespaltet. Da dieses Ionisationselektron dann beschleunigt
wird und eine weitere Ionisation der Wasserstoffgasmoleküle
auslöst, tritt eine expotentielle Vervielfachung von Elektro
nen und Ionen in dem Vakuumraum 17 auf. Die vervielfachten
Elektronen werden von der Anode 15 eingefangen, während die
Ionen (Wasserstoffkerne) von der Kathode 13 eingefangen wer
den. Wenn die Zyklotronresonanz nicht verstärkt wird, werden
von der Anode nur feldemittierte Elektronen eingefangen, die
einen geringen Anodenstrom verursachen, während eine Anoden
stromspitze aufgrund der vervielfachten Ladungsträger den
Zustand verstärkter Zyklotronresonanz anzeigt.
Fig. 3 zeigt in graphischer Darstellung den Anodenstrom IA
bei einer Gatespannung von 200 V, einer Anodenspannung von
300 V und bei Bestrahlung mit einer Mikrowelle von 1,1 GHz,
wenn der Spulenstrom (Erregerstrom) i von 10 mA bis 140 mA
verändert wird. Die Darstellung in Fig. 3 beruht auf einer
Windungszahl n = 10 der Spule 18b. In Fig. 3 zeigt der
Anodenstrom IA eine scharfe Spitze bei einem Spulenstrom i
von 100 mA, und die Höhe der Spitze beträgt 50 µA. Da die
Zyklotronwinkelfrequenz ωc der magnetischen Induktion B und
damit dem Spulenstrom i proportional ist, kann eine Wellen
länge beispielsweise im Wellenlängenbereich zwischen 0,1 GHz
und 1,4 GHz dadurch gemessen werden, daß der Spulenstrom i
von 10 mA bis 140 mA geändert wird.
Da der Spulenstrom i über mehr als etliche Größenordnungen
geändert werden kann, wird eine Wellenlängenmeßvorrichtung
mit einem großen Dynamikbereich geschaffen, die Wellenlängen
in einem sich über mehr als etliche Größenordnungen
erstreckenden Wellenlängenbereich mißt. Daher können mittels
einer einzelnen Wellenlängenmeßvorrichtung Wellenlängen vom
Mikrowellenbereich bis zum Infrarotbereich gemessen werden.
Da die Meßvorrichtung die Elektronen aufgrund der Feldemis
sion von der Kaltkathode erhält, arbeitet die Meßvorrichtung
in jeder ungünstigen Umgebung, beispielsweise bei hohen Tem
peraturen oder Strahlungsaussetzung, ohne durch Hinter
grundstörungen beeinflußt zu werden. Da die Meßvorrichtung
sich dazu eignet, die Kathode 13, die Gateelektrode 14, die
Anode 15 etc. einschließlich einer Dünnfilmspule des Elektro
magneten 18, wenn nötig, mittels Halbleiterverarbeitungs- und
Dünnfilmabscheidungstechniken herzustellen, ermöglicht die
Meßvorrichtung eine extreme Verkleinerung und Kostenreduzie
rung. Darüberhinaus eignet sich die Meßvorrichtung der ersten
Ausführungsform dazu, die Intensität elektromagnetischer Wel
len durch Messung der Höhe des Spitzenwerts des Anodenstroms
zu bestimmen, da die Höhe des Spitzenwerts der Intensität der
bestrahlenden elektromagnetischen Welle entspricht.
Bei der ersten Ausführungsform ist in dem Vakuumraum 17 Was
serstoffgas in einem Ausmaß verdünnt eingeschlossen, das aus
reicht, den Grad des Vakuums nicht zu verschlechtern und
keine Elektronenemission zu behindern, aber zugleich eine
Entladung im Vakuumraum zu verhindern. Obwohl das einge
schlossene Gas sehr verdünnt ist, schreitet die durch die
Dissoziation ausgelöste Ionisation ohne Probleme voran, weil
der Kollisionsquerschnitt der Elektronen mit dem eingeschlos
senen Gas durch die Spiralbewegung der Elektronen vergrößert
ist.
Fig. 4 ist Blockdiagramm, das schematisch eine zweite Ausfüh
rungsform einer Meßvorrichtung für elektromagnetische Wellen
gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt. Fig. 5 ist eine
Schnittansicht, die schematisch den Aufbau der zweiten Aus
führungsform darstellt.
Die in Fig. 4 gezeigte Meßvorrichtung 50 der zweiten Ausfüh
rungsform umfaßt 16 Elektromagnetfeld-Meßzellen 20 von 2 mm ×
2 mm, die auf einem Siliziumsubstrat 21 von 10 mm × 10 mm in
einer 4 × 4-Matrix aufgereiht sind. Wie in Fig. 5 gezeigt,
umfaßt jede Meßzelle auf dem Siliziumsubstrat 21 eine Sili
ziumoxidschicht (Isolierschicht) 22. Ein Dünnfilmelektro
magnet 28 mit einem Magnetkern 28a aus einem dünnen amorphen
CoFe-Band ist in der Siliziumoxidschicht 22 eingebettet, und
eine Dünnfilmspule 28b ist um den Magnetkern 28a gewickelt.
Auf der Siliziumoxidschicht 22 ist eine obere Isolierschicht
29 ausgebildet, in deren Oberseite sich eine Ausnehmung 29a
einer umgekehrten Trapezform befindet. Eine Wolfram-Kaltka
thode (Emitterelektrode) 23 ist über der oberen Isolier
schicht 29 angeordnet und weist kammzinkenartige Spitzen auf,
die sich von einer Seite der Ausnehmung 29a über diese
erstrecken. Eine rechteckförmige Niob-Gateelektrode 24 (zum
Herausziehen von Elektronen) ist an der Seite der Kaltkathode
23 in der Ausnehmung 29a angeordnet. Eine Anode 25 (Kollek
torelektrode) ist über der oberen Isolierschicht 29, der
Kathode 23 gegenüberliegend und ihr zugewandt, vorgesehen und
erstreckt sich über die Ausnehmung 29a. Sie setzt sich aus
einer Wolframschicht 25a und einer Niobschicht 25b zusammen.
Ein nicht dargestelltes Abdichtteil zum Einschluß von Wasser
stoffgas in einem Vakuumraum 27 ist ferner vorgesehen und
enthält an seiner Unterseite eine Ausnehmung ähnlich wie in
Verbindung mit der ersten Ausführungsform beschrieben.
Typische Abmessungsparameter der zweiten Ausführungsform sind
wie folgt: Dicke der Kathode 23 0,2 µm; Kantenbreite der
kammzinkenartigen Spitzen 3 µm und Mittenabstand der Spitzen
6 µm, wobei die Kathode 23 100 dieser kammzinkenartigen Spit
zen aufweist; Dicke der Gateelektrode 24 0,2 µm; Dicke der
Wolframschicht 25a der doppelschichtigen Anode 25 0,2 µm und
die der Niobschicht 25b 0,2 µm; und Abstand zwischen der
Kathode 23 und der Gateelektrode 24 0,7 µm. Der Dünnfilmelek
tromagnet 28 ist dazu vorgesehen, ein Magnetfeld an den
Vakuumraum 27 längs der Z-Richtung senkrecht zur XY-Ebene
anzulegen, welche die Kathode 23 und die Anode 25 enthält.
Die Windungszahl und die Breite der Spule 28b in dem Dünn
filmelektromagnet 28 der sechzehn Meßzellen 22 sind unter
schiedlich, weshalb die Induktion in Z-Richtung in jeder Meß
zelle 20 anders ist. Der Vakuumraum 27 ist mit 3 × 10-19 Mol
verdünnten Wasserstoffgases gefüllt, was einem Druck oder
Vakuumgrad von 3,75 × 10-10 Pa entspricht.
Wie in Fig. 4 gezeigt, dient ein Spannungsversorgungsblock 31
zur Lieferung der Spannungen an die Kathoden 23, Anoden 25,
und Gateelektroden 24. Ein Stromversorgungsblock 32 liefert
Ströme an die Spulen 28b der Dünnfilmelektromagneten 28 in
den einzelnen Meßzellen 20. Ein Strommeßblock 33 dient der
Messung der Anodenströme in den einzelnen Meßzellen 20. Ein
Datenverarbeitungsblock 34 ermittelt die Wellenlänge einer
elektromagnetischen Welle auf der Basis der gemessenen elek
trischen Stromwerte in den einzelnen Zellen und ist mit dem
so aufgebauten Chip zur Messung elektromagnetischer Wellen
verbunden.
Da die Meßvorrichtung der ersten Ausführungsform die Zyklo
tronresonanzfrequenz durch Wobbeln des Erregerstroms i mißt,
ist es nötig, die Intensität des gleichförmigen orthogonalen
Magnetfeldes allmählich zu verändern, was eine entsprechend
ausgedehnte Wobbelperiode zur Folge hat. Daher ist die
Meßvorrichtung der ersten Ausführungsform nicht sehr günstig,
wenn sich die Wellenlängen von Zeit zu Zeit ändern, da die
lange Wobbelperiode die Wellenlängenmeßantwort verschlechtert
und die Toleranz bei der Auswahl der Abtastzeitsteuerung ver
ringert. Die Meßvorrichtung der zweiten Ausführungsform geht
von einem Aufbau aus, der die Messung von Wellenlängen auf
Echtzeitbasis erleichtert. Die zweite Ausführungsform zeich
net sich durch eine Vielzahl von Meßzellen 20 aus, die ortho
gonale Magnetfelder erzeugen, deren Induktion jeweils auf
voneinander verschiedene Werte eingestellt ist. Die Zyklotron
resonanz-Winkelfrequenzen ωc der Meßzellen 20 weisen daher
von einander verschiedene Werte auf, weshalb die Zyklotronre
sonanz in einer der Meßzellen 20 verstärkt wird, derjenigen
nämlich, deren Zyklotronresonanz-Winkelfrequenz mit der
Schwingungswinkelfrequenz ωf der bestrahlenden magnetischen
Welle übereinstimmt oder ihr nahekommt, während in allen
anderen Zellen die Zyklotronresonanz nicht verstärkt wird.
Die Wellenlänge der elektromagnetischen Welle wird daher
anhand der Zyklotronresonanz-Winkelfrequenz ωc derjenigen
Zelle gemessen, die als die identifiziert wird, deren Zyklo
tronresonanz verstärkt ist und deren Anodenstrom groß ist.
Auf diese Weise wird mit der zweiten Ausführungsform eine
Wellenlängenmessung realisiert, die kein Wobbeln des Erreger
stroms erfordert. Die zweite Ausführungsform mißt die Inten
sität der elektromagnetischen Welle aufgrund der Spitzenhöhe
des Anodenstroms. Darüberhinaus erleichtert die zweite Aus
führungsform spektrometrische Messungen der Wellenlängenver
teilung der elektromagnetischen Welle, wie etwa die gleich
zeitige Messung der Wellenlängen einer Vielzahl elektromagne
tischer Wellen.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 6(A) bis 6(H) soll nachfolgend
die Herstellung der erfindungsgemäßen Meßvorrichtung anhand
einzelner Herstellungsschritte erläutert werden. Die Fig.
6(A) bis 6(H) zeigen jeweils Schnittansichten der Meßvorrich
tung im Verlauf ihrer Herstellung. Wie in Fig. 6(A) darge
stellt, wird die spiralförmige Dünnfilmspule 28b durch
Dampfabscheidung von Cu und durch photolithographische Tech
nik auf der Siliziumoxidschicht 22 ausgebildet, welche durch
Oxidation des Siliziumsubstrats 21 mit einer Dicke von 1 µm
hergestellt wurde. Die obere Isolierschicht 29 aus SiO₂ wird
mittels chemischer Dampfabscheidung (CVD) auf der Schicht 22
abgeschieden, um die Spule 28b zu bedecken und eine ebene
Oberfläche der Schicht 29 zu schaffen. Bei der Herstellung
der Dünnfilmspule 28b werden im Fall der zweiten Ausführungs
form die Windungszahl, die Spulenbreite sowie der Windungsab
stand für die einzelnen Zellen auf verschiedene Werte
gesetzt.
Wie in Fig. 6(B) dargestellt, wird dann auf der oberen Iso
lierschicht 29 eine Photoresistschicht 40 ausgebildet, die
dann in einem Abschnitt entsprechend dem mittleren Abschnitt
der Dünnfilmspule 28b mit einem durchgehenden Fenster verse
hen wird. Unter Verwendung der Photoresistschicht 40 als
Maske wird dann eine Nut 41 in der oberen Isolierschicht 29
in diesem mittleren Abschnitt der Dünnfilmspule 28b ausgebil
det und in der Nut eine CoFe-Legierung durch Sputtern abge
schieden. Auf diese Weise werden ein Magnetkern 28a aus der
CoFe-Legierung in der Nut 41 vergraben und eine Schicht 42
aus der CoFe-Legierung auf die Photoresistschicht 40 lami
niert.
Während dann mittels einer Lift-Off-Technik, bei der die
Photoresistschicht 40 und die Schicht 42 der CoFe-Legierung
mit Azeton ausgewaschen werden, diese Schichten 40 und 42
entfernt werden, bleibt der Magnetkern 28a in der Nut 41
zurück. Danach wird erneut auf der oberen Isolierschicht 29
mittels CVD eine SiO₂ Schicht abgeschieden, und die Oberflä
che dieser Schicht wird geebnet, wie in Fig. 6(C) gezeigt.
Hierdurch wird die Nut 40 mit SiO₂ aufgefüllt. Dann wird eine
Wolframschicht 43 auf der oberen Isolierschicht 29 durch
Sputtern abgeschieden.
Gemäß Darstellung in Fig. 6(D), wird dann eine Photoresist
schicht 44 aufgebracht und die Wolframschicht 42 zur Bildung
der Kathode 23 und der Wolframschicht 25a der Anode 25 mit
tels photolithographischer Technik zu einem vorgegebenen
Muster geformt.
Wie in Fig. 6(E) gezeigt, wird die Photoresistschicht 44 auf
der Wolframschicht 25a entfernt, nachdem die Ausnehmung 29a
in der oberen Isolierschicht 29 hergestellt wurde, wobei die
Kathode 23 und die Wolframschicht 25a der Anode 25 in der
zuvor gemusterten Form als Masken verwendet werden. Dann wird
die Gateelektrode 24 in der Ausnehmung 29a auf der Seite der
Kathode 23 ausgebildet, und eine Niobschicht 25b wird auf der
Wolframschicht 25a der Anode 25 durch Elektronenstrahlab
scheidung von Niob ausgebildet, nachdem eine Photoresist
schicht 45 mit einem Fenster auf der Seite der Kathode 23 in
der Ausnehmung 29a hergestellt wurde.
Wie in Fig. 6(F) gezeigt, bleiben die Gateelektrode 24 und
die Niobschicht 25b der Anode 25 zurück, wenn die Photore
sistschicht 44 und die Niobschicht auf der Kathode 23 sowie
die Photoresistschicht 45 und die Niobschicht in dem Aus
schnitt 29a mit Hilfe der Lift-Off-Technik entfernt werden,
bei der mit Azeton ausgewaschen wird.
Gemäß Darstellung in Fig. 6(G) wird eine Photoresistschicht
46 zur Ausbildung der kammzinkenartigen Spitzen der Kathode
23 unter Verwendung der mit einem entsprechenden Muster ver
sehenen Schicht 46 als Maske hergestellt. Die Photoresist
schicht 46 wird dann gemäß Fig. 6(H) entfernt. Am Ende dieses
Verfahrens erhält man den in Fig. 5 gezeigten Aufbau. Die
Herstellung der Meßvorrichtung für elektromagnetische Wellen
wird durch Abscheidung eines Isolationsabdichtteils (16 in
Fig. 2, in Fig. 5 nicht gezeigt) zum Einschluß eines verdünn
ten Wasserstoffgases in dem Vakuumraum 27 als einem Raum in
dem Ausschnitt 29a abgeschlossen.
Bei der oben beschriebenen Ausführungsform wird die magneti
sche Induktion jeder Meßzelle vorzugsweise dadurch auf einen
bestimmten Wert abgestimmt, daß die strukturellen Parameter
wie die Windungszahl der Spulen für die einzelnen Zellen
unterschiedlich gemacht wird, während die Zellen mit gleichen
Erregerströmen gespeist werden. Zum Erhalt einer bestimmten
magnetischen Induktion ist es aber, wie schon zuvor erwähnt,
auch möglich, die Erregerströme der Spulen 28b für die ein
zelnen Zellen unterschiedlich zu machen und die strukturellen
Parameter der einzelnen Zellen gleich zu wählen. Die Anzahl
der Zellen ist im Rahmen der vorliegenden Erfindung nicht auf
sechzehn beschränkt. Eine Meßvorrichtung, die mehr Meßzellen
aufweist, besitzt eine größere Wellenlängenauflösung oder
einen ausgedehnteren dynamischen Bereich für die Wellenlän
genmessung.
Die Ausrichtung der Meßvorrichtung in bezug auf die bestrah
lende elektromagnetische Welle bestimmt den Wert des Anoden
stroms. Daher wird eine Ausrichtungsabhängigkeit der Wellen
längenmessung beseitigt und die Genauigkeit der Wellenlängen
messung verbessert, wenn die Vorrichtung oder die Meßzellen
der vorliegenden Erfindung gleichmäßig in den drei Dimensio
nen ausgerichtet werden, so daß die Zyklotronresonanz als
Antwort auf eine elektrische Feldkomponente längs jeder Achse
der orthogonalen Koordinaten verstärkt wird.
Wie oben beschrieben, weist eine Meßvorrichtung für elektro
magnetische Wellen eine oder mehrere Meßzellen auf, von denen
jede eine Elektronenemissionsanordnung mit einer Kaltkathode,
eine Elektroneneinfanganordnung mit einer Anode, die der
Kaltkathode in einem Vakuumraum gegenüberliegend angeordnet
ist, eine Magnetfeldanlegeanordnung zum Anlegen eines Magnet
feldes orthogonal zu einem elektrischen Feld zwischen der
Kathode und der Anode in dem Vakuumraum, und eine Abdichtan
ordnung zum Einschluß eines verdünnten Gases in dem Vakuum
raum enthält. Die Messung beruht auf der Verstärkung der
Zyklotronresonanz, die auftritt, wenn die Zyklotronfrequenz
der von der Kathode emittierten, zur Kathode wandernden Elek
tronen gleich der Frequenz einer zu messenden elektromagneti
schen Welle ist, deren elektrischer Feldvektor in der Rich
tung des elektrischen Feldes zwischen Kathode und Anode
liegt. Diese Verstärkung zeigt sich in einem steilen Anstieg
des Anodenstroms. Da die Zyklotronfrequenz der Induktion des
angelegten Magnetfeldes proportional ist, läßt sich durch
Änderung der Induktion einer Meßzelle und/oder durch unter
schiedliche Induktionen einer Vielzahl von Meßzellen für eine
Meßzelle der Zustand der verstärkten Zyklotronresonanz errei
chen und die zu messende Wellenlänge anhand der Zyklotronfre
quenz dieser Meßzelle bestimmen.
Claims (6)
1. Meßvorrichtung für elektromagnetische Wellen mit
einer oder mehreren Meßzellen, die jeweils umfassen:
eine Elektronenemissionsanordnung (13, 14; 23, 24) mit einer Kaltkathode (13; 23), die aufgrund eines angelegten elektrischen Feldes Elektronen emittiert,
eine Elektroneneinfanganordnung mit einer Anode (15; 25), die der Kathode (13; 23) in einem Vakuumraum (17; 27) gegenüberliegend angeordnet ist, um von der Kathode emit tierte Elektronen einzufangen,
eine Magnetfeldanlegeanordnung (18; 28) zum Anlegen eines Magnetfeldes orthogonal zu einem elektrischen Feld zwi schen der Kathode und der Anode in dem Vakuumraum, und
eine Abdichtanordnung (16) zum Einschluß eines verdünn ten Gases in dem Vakuumraum, welches durch die Kollision mit von der Kathode (13, 23) emittierten und zusätzlich beschleunigten Elektronen ionisierbar ist und dadurch zu einer Verstärkung des Elektronenstroms führt.
eine Elektronenemissionsanordnung (13, 14; 23, 24) mit einer Kaltkathode (13; 23), die aufgrund eines angelegten elektrischen Feldes Elektronen emittiert,
eine Elektroneneinfanganordnung mit einer Anode (15; 25), die der Kathode (13; 23) in einem Vakuumraum (17; 27) gegenüberliegend angeordnet ist, um von der Kathode emit tierte Elektronen einzufangen,
eine Magnetfeldanlegeanordnung (18; 28) zum Anlegen eines Magnetfeldes orthogonal zu einem elektrischen Feld zwi schen der Kathode und der Anode in dem Vakuumraum, und
eine Abdichtanordnung (16) zum Einschluß eines verdünn ten Gases in dem Vakuumraum, welches durch die Kollision mit von der Kathode (13, 23) emittierten und zusätzlich beschleunigten Elektronen ionisierbar ist und dadurch zu einer Verstärkung des Elektronenstroms führt.
2. Meßvorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß sie eine Meßzelle aufweist und die Magnetfeldanlege
anordnung (18) einen Elektromagneten umfaßt, dessen Erreger
strom veränderbar ist.
3. Meßvorrichtung nach einem der Ansprüche 1, dadurch
gekennzeichnet, daß sie mehrere Meßzellen (20) aufweist und
die Magnetfeldanlegeanordnung (28) jede der Meßzellen einem
Magnetfeld aussetzt, wobei die Induktionen der Magnetfelder
bei den einzelnen Meßzellen voneinander verschieden sind.
4. Meßvorrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprü
che, dadurch gekennzeichnet, daß sie auf einem Halbleitersub
strat (11; 21) eine mit einer Ausnehmung (12a; 29a) versehene
Isolierschicht (12; 29) aufweist, die Kathode (13; 23) auf
einer Seite der Ausnehmung auf der Isolierschicht und die
Anode (15; 25) auf der gegenüberliegenden anderen Seite der
Ausnehmung auf der Isolierschicht ausgebildet ist, auf der
Seite der Kathode in der Ausnehmung eine Steuerelektrode (14; 24)
vorgesehen ist, und die Ausnehmung (12a; 29a) zusammen
mit der Abdichtanordnung den die Kathode, die Anode und die
Steuerelektrode einschließenden Vakuumraum (17; 27) bildet.
5. Meßvorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeich
net, daß die Magnetfeldanlegeanordnung einen an der Rückseite
des Halbleitersubstrats (21) angeordneten Elektromagneten
(28) umfaßt.
6. Meßvorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeich
net, daß die Magnetfeldanlegeanordnung einen in der Iso
lierschicht (22) vergrabenen Dünnfilmelektromagneten (28)
umfaßt.
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