DE1690626A1 - Verfahren und Anordnung zur Steuerung des Elektronenstrahles einer Elektronenstrahlanlage - Google Patents

Verfahren und Anordnung zur Steuerung des Elektronenstrahles einer Elektronenstrahlanlage

Info

Publication number
DE1690626A1
DE1690626A1 DE1967N0031068 DEN0031068A DE1690626A1 DE 1690626 A1 DE1690626 A1 DE 1690626A1 DE 1967N0031068 DE1967N0031068 DE 1967N0031068 DE N0031068 A DEN0031068 A DE N0031068A DE 1690626 A1 DE1690626 A1 DE 1690626A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
electron beam
reference point
workpiece
signal
point
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE1967N0031068
Other languages
English (en)
Other versions
DE1690626C3 (de
DE1690626B2 (de
Inventor
Shingo Imura
Kazumitsu Tanaka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2827267A external-priority patent/JPS5127917B1/ja
Application filed by Jeol Ltd filed Critical Jeol Ltd
Publication of DE1690626A1 publication Critical patent/DE1690626A1/de
Publication of DE1690626B2 publication Critical patent/DE1690626B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE1690626C3 publication Critical patent/DE1690626C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • H01J37/3045—Object or beam position registration

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)

Description

Patentanwalt Dipl.-Phys. GERHARD LIEDL · 8 Mönchen 22, Steinsdorfstraße 22 Telefon 3984 6? fernschreiber 05/22 2M
B 3320
NIHON DENSHI KABUSHIKI KAISHA, 930 Kamirenjaku, Mitakashi,
TOKYO / JAPAN
Verfahren und Anordnung zur Steuerung dee Elektronenstrahls einer Elektronenstrahlanlage
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zur Steuerung des Elektronenstrahls einer Elektronenstrahlanlage an einen Bearbeitungspunkt eines Werkstückes.
109815/0017
169Q62S
Die Bearbeitung von Werkstücken mit Hilfe von Elektronen-Strahlen hat bereits Eingang in die Technik gefunden. Im allgemeinen wird im Laufe eines Arbeitsvorganges das Werkstück, beispielsweise eines aus Metall, innerhalb eines Gehäuses der Elektronenstrahlanlage neu positioniert, um entweder die Präs- oder Schneidbehandlung am selben Ort fe wie vorher oder an einer festgelegten anderen Stelle weiterzuführen. Bei diesem Vorgang der erneuten Positionierung tritt normalerweise der Fall ein, daß das Werkstück eine, gegenüber der ursprünglichen, veränderte Lage einnimmt. Eine exakte Neueinstellung und Bearbeitung ist jedoch dann schwierig.
Es ist eine bekannte Maßnahme, den Bearbeitungspunkt dadurch festzulegen, daß eine Abbildung der Werkstückoberfläche durch Bestrahlung des Werkstückes mit dem Elektronenstrahl erzeugt wird. Zu diesem Zweck wird ein Bildraster verwendet. Aufgrund der Eigenschaften de3 Bildrasters läßt sich mit dieeer Maßnahme jedoch keine größere Genauigkeit als 10μ erreichen. Außerdem wird aufgrund der Strahlablenkung das zwischengelegte Bild undeutlich.
Der vorliegenden Erfindung liegt demzufolge die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Anordnung vorzuschlagen,
109815/0617
mit deren Hilfe rascher und genauer als bei den bekannten Einrichtungen der Elektronenstrahl in den Bearbeitungepunkt gesteuert werden kann. Diese Aufgabe wird dadurch gelöst, daß das Werkstück, das mindestens einen markierten Bezugspunkt trägt, durch den Elektronenstrahl bei geringer Strahlintensität abgetastet wird und bei Übereinstimmung des Elektronenstrahles mit dem Bezugspunkt ein Signal durch einen Detektor aufgenommen wird, einem Elektronenrechner, ™ der die Koordinaten eines theoretischen Bezugspunktes gespeichert enthält, zugeführt wird und schließlich nach Errechnung des erforderlichen Verschiebeweges aus den Koordinaten eines theoretischen Bezugspunktes und den Koordinaten des markierten Bezugspunktes die tatsächliche Lage des Bearbeitungspunktes aus den ebenfalls gespeicherten Koordinaten seiner theoretischen Position ermittelt wird und über entsprechende Digital-Analog-Wandler analoge Steuergrößen zur Steuerung der Relativbewegung zwischen Elektronenstrahl ä und Werkstück der Elektronenstrahlanlage zugeführt werden·
Eine Ausführungeform der vorliegenden Erfindung wird nachfolgend anhand der beiliegenden Zeichnungen näher erläutert.
Es zeigen:
Pig. 1 ein Blockschaltdiagramm der erfindungsgemäßen Anordnung;
109815/0617
Fig· 2 eine schematische Darstellung von Werkstück und einzustellendem Bearbeitungspunkt;-
Fig. 3 schematisch ein Werkstück, auf dem zwei Bezugspunkte markiert sind und
Figo 4 ein Blockschaltdiagramm für die Abtastung der in
Fig. 3 dargestellten Bezugspunkte auf dem Werkstück.
Wie aus Fig. 1 zu entnehmen ist, ist innerhalb eines Gehäuses 1 einer Elektronenstrahlanlage ein Werkstück 5 angeordnet. Eine Elektronenkanone 2 erzeugt einen Elektronenstrahl, der durch eine Fokussierlinse 3 und durch eine Beugungslinse 4 auf das Werkstück 5 fokussiert wird..Das Werkstück soll einer bestimmten Behandlung, beispielsweise Fräsen oder Bohren, unterzogen werden. Als Bezugsbasis für die Steuerung des Elektronenstrahles in den Bearbeitungspunkt ist eine Bohrung oder eine Randschicht vorgesehen· Solange die Bezugsbasis, z.B. der Bezugspunkt, durch Bestrahlen des Werkstückes mit dem Elektronenstrahl erfaßt wirdι ist die Strahlintensität für die eigentliche Bearbeitung noch zu gering. Bei Erfassung des Bezugspunktes wird ein Signal abgegeben. Das Signal wird durch einen Detektor 6 abgetastet und in einen Komparator 8 nach Ver-
109815/0617
Stärkung durch einen Verstärker 7 eingespeiste Der Komparator 8 ist so eingestellt, daß er an einen Bigital-Reebner ein Signal weitergibt, sobald das Signal, äafl der Bezugspunkt erreicht ist, eintrifft«
Gemäß der vorliegenden Erfindung speichert der Mgital« Eechner 9 die Koordinaten einss Bearbeitungspunktes in einem (| Koordinatensystem, die daraufhin mit den äem Bezugspunkt entsprechenden Koordinaten gemäß dem Signal Tsrglichen werden. Daraufhin wird der erreöhnete Verschiebewert zwischen dem Bearbeitung©·» tmd dem Bezugspmikt genau ±n einen proportionalen Strom umgewandelt und dieser Sen BengmgB-spulen für- die X- und Y«Hiolitung des ElektiOneaetrahlB sn~ geführtβ Auf diese Weise xtfirü die Bositioa des W@rlestüskes relativ gum Elektrosienistrahl ©lektrisoii terc^ Stralil@"blenkung gesteuert. Hit demselbesi Effekt kana &®τ äem Ver~ schiebewert entsprechead© Ofeoa
für das Werkstück zugeführt werdea. B©i ä@T des Bezugspunktes wird der Slektxonezuartrahl digital gesteuert durch Digital-Aaalog-Wsndler 10 vubA Ii9 deren Auegang duroh-Verstärker 12S13 veratärkt tji'rd «ad des spulen für die X- und l^Rlahtwig der Baugimgsllnse führt wird» Auf die gleiohe Weise werden di© Befehl© für die Zu« oder Abnahme der Strahlintensität vom Ilektronen-
109315/0617
rechner über einen Bigiial-Analog-Wandler 15 und einen Verstärker 16 der Elektronenstrahlkanone 2 zugeführt. Mach der Bestätigung durch den Elektronenrechner 9? daß der Elektronenstrahl mit dem Bearbeitungspunkt zur Deckung gebracht ists wird die Strahlintensität entsprechend dem Befehl des Elektronenrechners für den eigentlichen Bearbeitraigsvorgang gesteigert»
In lig. 2 ist mit voll ausgesogenen Linien 28 ein Werkstückmuster dargestellt s auf dem ein theoretischer Bezugspunkt festgelegt ist· Die Koordinaten dieses Bezugspunktes,werden "im Elsktr-oasareclii&er 9 gespeieliert und als Ilrspnmg des KoorcünatiSHsgrateBis aingesets'&o Weiterhin-ist iron irorasiiereisi die -theoretische Position ©iaes BearbeitirngspisiJctes 23 sammss. ait öer Bearb@itimg©art im Elektronenreoiiner 9 epeieliert» Ba© ¥@rkstücls wira aim innerhalb fles Grehäuses' der Blek^yoaensiiSOiiisalage bsiestigte Dafeei ist e schwierig;, ä@a ma^ia^ten Bestagsp^akt -21s, des mit dem- tlteörstischen Bssisifspunkt D der dils Ursprtmg des Kooröinatensjst@ffis gev/llilt ist« smr ÜbersinstiEMmg sia bringen. Ia IFig® 2 saigt Qss gastrichelt ges©ielm©tt 25 di©- X«aga des Werkstilelsas. ait äex~ tßtsäeliliclien des !©arbeituüfspun&teo S3a* Bis ist au erlseang BezugBpimkt 21a des ¥erk©tüsk©@ gsgeaüber dem. ÜFspramg:-Si
10Θ8-1&7 0617.- BA0
1690826
des im Rechner gespeicherten Koordinatensystems verschoben ist und daß deshalb eine Peststellung der lage des Bezugspunktes durch Bestrahlung des Werkstückes mit dem Elektronenstrahl erforderlich ist. Während dieses Feststellvorganges ist die Strahlintensität nicht ausreichend, um eine Bearbeitung des Werkstückes vorzunehmen. Die Digital-Analog-Wandler 10 und 11 werden so eingestellt, daß sie der Beu- ä gungslinse 4 elektrischen Strom in einer Größe zuführen» der die intermittierende Bestrahlung des Werkstückes gemäß den Befehlen des Digital-Hechners 9 bewirkt» Beim Auf treffen des Strahles auf den Bezugspunkt 21a, d.h. an dem Punkt, an dem sieh Koordinatenlinien X- und Y^ schneidens, wird das entsprechend abgegebene Signal von dem Detektor erfaßt und dem Komparator 8 zugeführt. In diesem wird es "^eidlichen und dem Elektronenrechner 9 weit ergeleitet» Der Elektronenrechner bestätigt daraufhin die Position, in der der Elektronenstrahl auf den Bezugspunkt 21a auf trifft. Die erforderlichen Yerschie bewerte für das Werkstück sind demzufolge X- und Y.., die in das im Rechner 3 gespeicherte Koordinatensystem eingebracht werden» um dessen Ursprung mit dem Bezugspunkt 21a zur Deckung zu bringen.» Ds,su werden die Verschiebewerte in einen ihnen proportionalen Strom oder eine proportionale Spannung gewandelt und entweder der Beugungslinse 4 oder einem Yerstellmechanismus 14 zu-
BAD ORiGiNAi. 109815/0617
geleitet. Als Ergebnis wird num der Elektronenstrahl elektrisch gesteuert, um entsprechend den Anweisungen des Rechners den Bearbeitungspunkt 23a zu "bestrahlen. Hierzu wird die Strahlintensität automatisch, gesteigert, um entsprechend dem gespeicherten Beärbeitungsvorgang die Bearbeitung vorzunehmen*
Um die Suche nach dem Bezugspunkt zu vereinfachen, kann der Bestrahlungsbereich des Werkstückes in mehrere kleine Bereiche unterteilt sein. Wenn in einem der kleinen Bereiche der Bezugspunkt nicht vorhanden ist, wird das Werkstück entsprechend einem Befehl durch den Rechner weiterbewegt und die Suche nach dem Bezugspunkt durch Bestrahlung eines weiteren der kleinen Bereiche fortgesetzt.
Es ist auch möglich, die Koordinatenlage des Bezugspunktes zu Beginn oder nach Beendigung üem ersten Bearbeitungsvorganges zu markieren und die Lage im Rechner zu speichern.
Die bisherigen Ausführungen waren auf die Verwendung eines einsigen Bezugspunktes gerichtet· Bs ist jedoch vorteil·· : ' haft,. Ewei «der »ehrere Bezugspunkt« zu wühlen» wenn dl« ; Werfcetückbewegung eine Rotation ist« Xn diesem fall . wird der Drehwinkel öuroh den Rechner 9 auf gleiche Weiee
109815/0617
wie bei Anwendung eines einzigen Bezugspunktes errechnet und anschließend der entsprechende Kompensationastrom oder, die entsprechende Kompensationsspannung der Beugungslinse zugeführt. .
In Fig· 5 sind auf dem Werkstück zwei Sätze von Bezugsstellen dargestellt» wobei die BezugssteIlen jedes Satzes λ um einen Abstand 1 auseinanderliegen· Es hat sich als vorteilhaft erwiesen, den Bezugsstellen die Form von Längsnuten zu geben· Außerdem kann durch die Wahl zweier Säte· von Bezugestellen der Fehler bei der identifizierung der Bezugsstellen, der aufgrund von Sprüngen oder Lunkern entsteht, vermieden werden. In Fig. 4 ist ein Komparatorkreis 41 dargestellt, der zur Feststellung der Signale dieser Art von Bezugastellen geeignet iat. Bei der Be-* strahlung des Werkstückes mit dem Elektronenstrahl wird das Signal der Bezugsstelle A duroh einen Detektor 42 abgetastet und durch einen Verstärker 43 verstärkt. D&w verstärkte Signal wird dann aufgespalten und einem Verzögerungskreis 44 und einem Und-ßatter 45 zugeführt. Der Verzögerungskreis verzögert das Signal um einen Betrag von ,1 Sekunden, wobei 1 der bereits erwähnte Abstand zwi-
sehen den Bezugastellen A und B und γ die Strahlgeschwindigkeit des Elektronenstrahls ist. Wenn als nächstes
BAD ORIGINAL 109815/0617
der Elektronenstrahl die Bezugsstelle B bestrahlt, wird das entsprechende Signal wiederum durch den Detektor 42 abgenommen und dem Komparator 41 über den Verstärker 43 zugeführt· Das Signal wird erneut aufgespalten und dem Verzögerungskreis 44 und dem Und-Öatter 45 zugeführt. Zu diesem Zeitpunkt wird das Signal entsprechend der Bezugsstelle A
von
^- verzögert um am Betrag/1 Sekunden - dem Ünd-Gatter 45 "■ . ■ ■ .. .. ν
zugeleitet und dadurch in diesem ein Ausgangs signal erzeugt« Bin Digital-Heohner 46 speichert die Position der Bezugsstelle B entsprechend dem Ausgangesignal aus dem Ünd-Q*tter 45· Sobald die Position der Bezugsstelle B mit der ursprünglichen Position» die ia Rechner 46 voreingeetellt ist, übereinstimmtj erteilt dieser einen Befehl zur Werkstückbearbeitung, so daß ein entsprechender Strom der Elektronenstrahlkanone zur Strahlintensitätserhöhung zugeführt wird· Auf der voreingestellten, gespeicherten Position im Koordinatensystea des Rechners wird der Verschiebewert berechnet und der entsprechende Kompensationsstrom oder die entsprechende Kempens ati ons spannung der Beuge linse 4 su« geführt.
Wenn die Bewegöng. des Werkstückes eine Drehung ist, werden die Bezugestellen C und D zur Errechnung des Drehwinkels verwendet,
10981570617

Claims (1)

  1. Patentansprüche
    1. Verfahren zur Steuerung des Elektronenstrahles einer Elektronenstrahlanlage an.einen Bearbeitungspunkt eines Werkstückes, dadurch gekennzeichnet, daß das Werkstück (5), das mindestens einen markierten Bezugspunkt (21a) trägt, durch den Elektronenstrahl bei geringer Strahlintensität abgetastet wird und bei Übereinstimmung des Elektronenstrahl f les mit dem Bezugspunkt (21a) ein Signal durch einen detektor (6) aufgenommen wird, einem Elektronenrechner (9)» der die Koordinaten eines theoretischen Bezugspunktes (21) gespeichert enthält, zugeführt wird und schließlich nach. Errechnung des erforderlichen Verschiebeweges au® den Koordinaten eines theoretischen Bezugspunktes (Sl) und den Koordinaten des markierten Bezugspunktes (21a) die tatsächliche lage des Bearbeitungspunktes (23a) aus den ebenfalle gespeicherten Koordinaten seiner theoretischen Position (23) g ermittelt wird und über entsprechende Digital-Analog-Wand« ler (10,11,15) analoge Steuergrößen zur Steuerung der Helativbewegung zwischen Elektronenstrahl und Werkstück (5) der Elektronenatrahlanlag® angeführt werdea* -
    2, Verfahren nach Aftepmck 1, dadurch ■ durch di*. Bl^it*X-4»äO.crg^f«öiöXer (10flX»15) analog» Ströme oder Spann'jttgfen einer Bft«^aBg*spul· (4^ einer
    109815/0617 bad obigihal
    3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet» daß das vom Detektor (6) abgegebene Signal für die Übereinstimmung deft Elektronen* tr ahle« mit einem der Bezugspunkte (21a) einem Verzögerungskreis (44) und einem Und-Ga/bter (45) eines Komparatore (41) gemeineam zugeleitet wird und daß der Ver~ zögerungekreie (44) die Weitergabe dieses Signale an das Ünd-Gatter (45) um «inen Zeitbetrag verzögert, der der von dem Elektronenstrahl benötigten Zeit entspricht, um ein dem nächsten Bezugspunkt entsprechendes Signal zu erzeugen«
    4» Anordnung zur Steuerung des Elektronenstrahles in einen Bearbeitungepunkt gemäß dem Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet» daß ein Detektor (6) vorgesehen ist, der bei Übereinstimmung des das Werkstück (5) abtastenden Elektronenetrahlee mit mindestens einem markierten Bezugspunkt (21a) ein Signal an einen Komparator (θ) weiterleitet und daß ein Elektronenrechner (9) vorgesehen ist, der die Koordinaten eines theoretischen Bezugspunktes (21) sowie die eines Bearbeitungspunktee (23) gespeichert enthält und dem aus der tatsächlichen Lage des markierten Bezugspunktes (21a) errechneten Verschiebeweg entsprechende analoge Steuergrößen über Digital-Analog-Wandler den Ver-Stelleinrichtungen zur Steuerung des Werkstückes oder des Elektronenetrahlee zurückführt.
    BAD
    10981570617
    5. Anordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß auf dem Werkstück ein Satz von Bezugspunkten vorgesehen ist.
    6. Anordnung nach Ansprüchen 4 und 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Komparator (8) einen Verzögerungskreie (44) und ein Und-Gatter (45) enthält, denen das vom Detektor (6), abgegebene Signal gemeinsam zugeleitet wird.
    7. Anordnung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Elektronenrechner (9) die Art des vorzunehmenden Bearbeitungsganges verschlüsselt gespeichert enthält·
    8. Anordnung nach Anspruch 4 und einem der darauffolgenden, dadurch gekennzeichnet, daß dem Detektor (6) und den Digital-Analog-Wandlern (10,11,15) jeweils Verstärker (7 bzw. 12,13,16) nachgeschaltet sind.
    10 9 8 15/06 17
    Lee rs eite
DE1690626A 1966-08-16 1967-08-16 Verfahren und Anordnung zur Steuerung des Elektronenstrahles einer Elektronenstrahlanlage Expired DE1690626C3 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5382666 1966-08-16
JP2827267A JPS5127917B1 (de) 1967-05-02 1967-05-02

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE1690626A1 true DE1690626A1 (de) 1971-04-08
DE1690626B2 DE1690626B2 (de) 1973-09-13
DE1690626C3 DE1690626C3 (de) 1979-02-08

Family

ID=26366331

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1690626A Expired DE1690626C3 (de) 1966-08-16 1967-08-16 Verfahren und Anordnung zur Steuerung des Elektronenstrahles einer Elektronenstrahlanlage

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3513285A (de)
DE (1) DE1690626C3 (de)
FR (1) FR1533755A (de)
GB (1) GB1201383A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2443121A1 (de) * 1973-09-10 1975-03-13 Westinghouse Electric Corp Verfahren zum praezisen ausrichten eines elektronenstrahlmusters gegenueber vorbestimmten bereichen eines substrates

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5552675A (en) * 1959-04-08 1996-09-03 Lemelson; Jerome H. High temperature reaction apparatus
DE1765819A1 (de) * 1968-07-23 1972-01-13 Ibm Deutschland Verfahren zur Bestimmung der Ablenkdaten fuer ein Ladungstraegerstrahl-Bearbeitungsgeraet
US3789185A (en) * 1969-12-15 1974-01-29 Ibm Electron beam deflection control apparatus
US3644700A (en) * 1969-12-15 1972-02-22 Ibm Method and apparatus for controlling an electron beam
FR2087114A5 (de) * 1970-05-05 1971-12-31 Cit Alcatel
US3783228A (en) * 1970-12-28 1974-01-01 Agency Ind Science Techn Method of manufacturing integrated circuits
US3775581A (en) * 1971-06-23 1973-11-27 Welding Research Inc Seam tracking method
US3873802A (en) * 1971-07-26 1975-03-25 Welding Research Inc Elector beam welding apparatus chicorporating a hole center locating means
CA946480A (en) * 1971-07-26 1974-04-30 Sciaky Intertechnique S.A. Hole center locator
US4158122A (en) * 1973-12-21 1979-06-12 Obolonsky Alexei P Method of measuring and stabilizing the diameter of heating point on workpiece in electron beam welding machine and on automatic device for realization thereof
JPS5283177A (en) * 1975-12-31 1977-07-11 Fujitsu Ltd Electron beam exposure device
DE2719801C3 (de) * 1977-04-28 1981-11-19 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Korpuskularstrahloptisches Gerät zur Bestrahlung eines Präparates mit einer Einrichtung zur Justierung desselben
US4179316A (en) * 1977-10-17 1979-12-18 Sciaky Bros., Inc. Method and apparatus for heat treating
US4149085A (en) * 1978-01-16 1979-04-10 International Business Machines Corporation Automatic overlay measurements using an electronic beam system as a measurement tool
JPS5731134A (en) * 1980-08-01 1982-02-19 Hitachi Ltd Drawing device by electron beam
JPS57183034A (en) * 1981-05-07 1982-11-11 Toshiba Corp Electron bean transfer device
JPS5946026A (ja) * 1982-09-09 1984-03-15 Toshiba Corp 試料位置測定方法
DE3243033A1 (de) * 1982-11-22 1984-05-24 Institut für Kerntechnik und Energiewandlung e.V., 7000 Stuttgart Verfahren und anordnung zum bearbeiten eines werkstuecks mittels eines fokussierten elektronenstrahls
DE3810391A1 (de) * 1988-03-26 1989-10-05 Leybold Ag Einrichtung und verfahren fuer die steuerung und ueberwachung eines ablenkbaren elektronenstrahls fuer die metallbearbeitung
DE4024084A1 (de) * 1989-11-29 1991-06-06 Daimler Benz Ag Verfahren zum herstellen von hohlen gaswechselventilen fuer hubkolbenmaschinen
US5483036A (en) * 1993-10-28 1996-01-09 Sandia Corporation Method of automatic measurement and focus of an electron beam and apparatus therefor
EP2575159B1 (de) * 2011-09-30 2016-04-20 Carl Zeiss Microscopy GmbH Teilchenstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben dieses Systems

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3284618A (en) * 1962-03-16 1966-11-08 Licentia Gmbh Nominal value position control system
GB1065060A (en) * 1963-04-19 1967-04-12 United Aircraft Corp Improvements in and relating to apparatus for working articles with energised beams
US3326176A (en) * 1964-10-27 1967-06-20 Nat Res Corp Work-registration device including ionic beam probe

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2443121A1 (de) * 1973-09-10 1975-03-13 Westinghouse Electric Corp Verfahren zum praezisen ausrichten eines elektronenstrahlmusters gegenueber vorbestimmten bereichen eines substrates

Also Published As

Publication number Publication date
FR1533755A (fr) 1968-07-19
GB1201383A (en) 1970-08-05
DE1690626C3 (de) 1979-02-08
DE1690626B2 (de) 1973-09-13
US3513285A (en) 1970-05-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1690626A1 (de) Verfahren und Anordnung zur Steuerung des Elektronenstrahles einer Elektronenstrahlanlage
DE19935274C1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Bauteilen aus einer Werkstoffkombination
DE602004010262T2 (de) Verfahren zum bewegen einer mit einer kamera versehenen vorrichtung zu einer zielposition mittels eines steuersytems und steuersystem dafür
DE4407682C2 (de) Laserbearbeitungsvorrichtung und Verfahren zu deren Brennpunkteinstellung
DE2458370A1 (de) Energiestrahl-gravierverfahren und einrichtung zu seiner durchfuehrung
EP0849653B1 (de) Verfahren zur Steuerung eines Koordinatenmessgerätes und Koordinatenmessgerät
EP0166351A2 (de) Vorrichtung an einer Maschine für Umformarbeiten an blechförmigen Materialien
EP3645202A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur abtastung einer werkstückoberfläche eines metallischen werkstückes
DE2754732A1 (de) Automatisches messverfahren fuer eine numerisch gesteuerte werkzeugmaschine und vorrichtung zur durchfuehrung dieses verfahrens
DE2624121A1 (de) Verfahren zum genauen bearbeiten eines im arbeitsfeld eines bearbeitungslasers angeordneten werkstueckes sowie vorrichtung zur ausuebung des verfahrens
DE69215851T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum laserbearbeiten
DE3875539T2 (de) Automatisches lichtbogen-schweissverfahren.
DE2300163C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Korrektur von Lagefehlern in Gleisen
EP3180153B1 (de) Verfahren zum ermitteln von abstandskorrekturwerten beim laserbearbeiten eines werkstücks und zugehörige laserbearbeitungsmaschine
DE1638034A1 (de) Linien-Nachfolgevorrichtung
DE3446138A1 (de) Verfahren zur bestimmung der position eines werkstueckes in einer nc-gesteuerten maschine sowie eine nc-gesteuerte maschine zur durchfuehrung eines solchen verfahrens
DE112008003863T5 (de) Verfahren zum Erzeugen eines Antriebsmusters für ein Galvano-Scannersystem
WO2002006539A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum härten von flächen an bauteilen
DE2731142C3 (de) Verfahren zur Feststellung der Lage eines Elektronenstrahls in bezug auf auf einem Objekt angeordnete Ausrichtmarkierungen und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE19738096A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Positionierung eines Werkzeugs
DE19851411A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Vermessen von Fräs- oder Bohrwerkzeugen und zur Geometriekompensation im Automatikbetrieb an Werkzeugmaschinen
EP0037521A2 (de) Verfahren und Einrichtung zur automatischen Schweissbahnverfolgung
EP0603526B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum elektroerosiven Bearbeiten
EP0222219A2 (de) Einrichtung, bei der ein Elektronenstrahl auf ein Medium trifft
DE102019105079B4 (de) Verfahren zur Festlegung einer Bewegungsbahn eines additiv oder subtraktiv wirkenden Werkzeugs, Verfahren zur abtragenden Bearbeitung eines Werkstücks mittels Laserstrahl sowie Anlage hierfür

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)