DE1690626C3 - Verfahren und Anordnung zur Steuerung des Elektronenstrahles einer Elektronenstrahlanlage - Google Patents
Verfahren und Anordnung zur Steuerung des Elektronenstrahles einer ElektronenstrahlanlageInfo
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- DE1690626C3 DE1690626C3 DE1690626A DEN0031068A DE1690626C3 DE 1690626 C3 DE1690626 C3 DE 1690626C3 DE 1690626 A DE1690626 A DE 1690626A DE N0031068 A DEN0031068 A DE N0031068A DE 1690626 C3 DE1690626 C3 DE 1690626C3
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
- H01J37/3045—Object or beam position registration
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Heranführen des Elektronenstrahls einer Elektronenstrahlanlage
an einen BearbeitungspunLt eines Werkstücks, bei dem bei Übereinstimmung des Abtastpunktes des Elektronenstrahls
mit einem im Abstand vom Bearbeitungspunkt befindlichen, markierten Bezugspunkt ein Signal
durch einen Detektor zur Bestimmung der Ausgangslage für die Bearbeitung aufgenommen wird.
Ein derartiges Verfahren ist aus der US-PS 31 12 391
bekannt. Der markierte Bezugspunkt, der die Gestalt einer öffnung hat, befindet sich beim bekannten
Verfahren auf einem Werkstücksträger unmittelbar neben miteinander zu verschweißenden Werkstücken
und hat einen Abstand vom Bearbeitungspunkt. Durch Bewegung der Elektronenstrahlquelle relativ zum
Werkstücksträger wird die Elektronenstrahlquelle genau über dem markierten Bezugspunkt angeordnet
Ein Signal zeigt dann an, daß die Justierung der Elektronenstrahlquelle relativ zum Werkstücksträger
beendet ist Dann wird die Elektronenstrahlquelle über den zwar genau gemessenen Abstand verschoben. Die
Positionierung des Elektronenstrahls relativ zum Werkstück erfolgt somit beim bekannten Verfahren
lediglich indirekt über die Justierung des Werkstücksträgers.
Aus der US-PS 29 89 614 ist es bekannt, ein Werkstück mit Hilfe eines Strahles geladener Teilchen in Abhängigkeit von einem gespeicherten Programm zu bearbeiten. Es fehlt jedoch bei diesem bekannten Verfahren die Ermittlung der Abweichung der Werkstückslage von der Sollposition vor der eigentlichen Bearbeitung.
Aus der US-PS 29 89 614 ist es bekannt, ein Werkstück mit Hilfe eines Strahles geladener Teilchen in Abhängigkeit von einem gespeicherten Programm zu bearbeiten. Es fehlt jedoch bei diesem bekannten Verfahren die Ermittlung der Abweichung der Werkstückslage von der Sollposition vor der eigentlichen Bearbeitung.
Aus der deutschen Patentschrift 10 72 763 ist es bekannt, bei einem Schweißverfahren zunächst das
Werkstück mit Hilfe eines Ladungsträgerstrahls verringerter Intensität abzutasten und dann, wenn er einen
Bearbeitungspunkt erreicht hat, ein Signal zu erzeugen, welches die Strahlintensität für die anschließende
Bearbeitung erhöht. Ein Hinweis daraut, wie der Ladungsträgerstrahl an den betreffenden Bearbeitungspunkt herangeführt wird, ist der deutschen Patentschrift
to 10 72 763 nicht zu entnehmen.
Bekannt ist außerdem, den Bearbeitungspunkt dadurch festzulegen, daß eine Abbildung der Werkstücksoberfläche
durch Bestrahlung des Werkstücks mit einem Elektronenstrahl erzeugt wird. Zu diesem Zweck
» wird ein Schirmbild verwendet. Aufgrund der Eigenschaften
des Schirms läßt sich mit dieser Maßnahme jedoch keine größere Genauigkeit als 10 μπι erreichen.
Außerdem wird aufgrund der Strahlablenkung das zwischengelegte Bild undeutlich.
■to Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren zum
Heranführen eines Elektronenstrahls einer Elektronenstrahlanlage an den Bearbeitungspunkt eines Werkstücks
zu schaffen, bei dem Abweichungen der Lage des markierten Bezugspunktes von einem bei der nachfolgenden
Bearbeitung verwendeten gespeicherten Koordinatensystem berücksichtigt werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 angegebenen
Maßnahmen gelöst.
Eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird nachfolgend an Hand der Zeichnungen näher
erläutert. Es zeigt
F i g. 1 ein Blockschaltbild,
F i g. 2 eine schematische Darstellung von Werkstück
F i g. 1 ein Blockschaltbild,
F i g. 2 eine schematische Darstellung von Werkstück
γ-, und einzustellendem Bearbeitungspunkt,
Fig.3 schematisch ein Werkstück, auf dem vier
Bezugspunkte markiert sind, und
Fig.4 ein Blockschaltdiagramm für die Abtastung der in Fig.3 dargestellten Bezugspunkte auf dem
to Werkstück.
Wie aus F i g. 1 zu entnehmen ist, ist innerhalb eines Gehäuses 1 einer Elektronenstrahlanlage ein Werkstück
5 angeordnet. Eine Elektronenkanone 2 erzeugt einen Elektronenstrahl, der durch eine Fokussierlinse 3
hr) und durch eine Ablenkspule 4 auf das Werkstück 5
fokussiert wird. Das Werkstück soll einer bestimmten Behandlung, beispielsweise Fräsen oder Bohren, unterzogen
werden. Als Bezugspunkt für das Heranführen
des Elektronenstrahls an den Bearbeitungspunkt ist eine Bohrung oder eine Randschicht vorgesehen. Solange
der Bezugspunkt beim Abtasten des Werkstücks mit dem Elektronenstrahl noch nicht erfaßt wird, ist die
Strahlintensität gegenüber der bei der eigentlichen Bearbeitung verringert Bei Übereinstimmung des
markierten Bezugspunktes mit dem Abtastpunkt des Elektronenstrahls wird ein Signal von einem Detektor 6
abgegeben und über einen Verstärker 7 an einen Komparator 8 weitergegeben. Dieser Komparator gibt
dann ein Signal an einen elektronischen Digital-Rechner 9 weiter.
Gemäß der vorliegenden Erfindung speichert der Digitalrechner 9 die Koordinaten eines Bearbeitungspunktes in einem Koordinatensystem, die daraufhin mit
den dem Bezugspunkt entsprechenden Koordinaten gemäß dem Signal verglichen werden. Daraufhin wird
df*r errechnete Verschiebewert zwischen dem Bearbeitungs-
und dem Bezugspunkt genau in einrn proportionalen Strom umgewandelt und dieser den Beugungsspulen
für die X- und Y- Richtung des Elektronenstrahls zugeführt Auf diese Weiss wird die Position des
Werkstücks relativ zum Elektronenstrahl elektrisch durch Strahlablenkung gesteuert. Mit demselben Effekt
kann der dem Verschiebewert entsprechende Strom einem Verstellmechanismus für das Werkstück zugeführt
werden. Bei der Feststellung des Bezugspunktes wird der Elektronenstrahl digital gesteuert durch
Digital-Analog-Wandler 10 und 11, deren Ausgang durch Verstärker 12, 13 verstärkt wird und den
Ablenkspulen 4 für die X- und y-Richtung zugeführt wird. Auf die gleiche Weise werden die Befehle für die
Zu- oder Abnahme der Strahlintensität vom Elektronenrechner über einen Digital-Analog-Wandler 15 und
einen Verstärker 16 der Elektronenstrahlkanone 2 zugeführt. Nach der Bestätigung durch den Elektronenrechner
9, daß der Elektronenstrahl mit dem Bearbeitungspunkt zur Deckung gebracht ist wird die
Strahlintensität entsprechend dem Befehl des Elektronenrechners für den eigentlichen Bearbeitungsvorgang
gesteigert.
In F i g. 2 ist mit voll ausgezogenen Linien 28 ein Werkstückmuster dargestellt, auf dem ein theoretischer
Bezugspunkt 21 festgelegt ist. Die Koordinaten dieses Bezugspunktes werden im Elektronenrechner 9 gespeichert
und als Ursprung des Koordinatensystems eingesetzt. Weiterhin ist von vornherein die theoretische
Position eines Bearbeitungspunktes 23 zusammen mit der Bearbeitungsart im Elektronenrechner 9
gespeichert. Das Werkstück wird nun innerhalb des Gehäuses der Elektronenstrahlanlage befestigt. Dabei
ist es äußerst schwierig, den markierten Bezugspunkt 21a des Werkstücks mit dem theoretischen Bezugspunkt,
der als Ursprung des Koordinatensystems gewählt ist, zur Übereinstimmung zu bringen. In Fi g. 2
.zeigt das gestrichelt gezeichnete Quadrat 25 die Lage des Werkstücks mit der tatsächlichen Position des
Bearbeitungspunktes 23a. Es ist zu erkennen, daß der Bezugspunkt 21a des Werkstücks gegenüber dem
Ursprung 21 des im Rechner gespeicherten Koordinatensystems verschoben ist und daß deshalb eine
Feststellung der Lage des Bezugspunktes durch Bestrahlung des Werkstückes mit dem Elektronenstrahl
erforderlich ist. Während dieses Feststellvorganges ist die Strahlintensität nicht ausreichend, um i'ine Bearbeitung
des Werkstücks vorzunehmen. Die Digital-Analog-Wandler 10 und 11 werden so eingestellt, daß sie der
Beueuneslinse 4 elektrischen Strom in einer Größe zuführen, der die intermittierende Bestrahlung des
Werkstücks gemäß den Befehlen des Digitalrechners 9 bewirkt Beim Auftreffen des Strahles auf den
Bezugspunkt 21a, d.h. an dem Punkt, an dem sich
Koordinatenlinien X\ und Y\ schneiden, wird das
entsprechend abgegebene Signal von dem Detektor erfaßt und dem Komparator 8 zugeführt In diesem wird
es verglichen und dem Elektronenrechner 9 weitergeleitet Der Elektronenrechner bestätigt daraufhin die
ίο Position, in der der Elektronenstrahl auf den Bezugspunkt
21a auftrifft Die erforderlichen Verschiebewerte für das Werkstück sind demzufolge X\ und Y\, die in das
im Rechner 9 gespeicherte Koordinatensystem eingebracht werden, um dessen Ursprung mit dem Bezugspunkt
21a zur Deckung zu bringen. Dazu werden die Verschiebewerte in einen ihnen proportionalen Strom
oder eine proportionale Spannung gewandelt und entweder der Beugungslinse 4 oder einem Verstellmechanismus
14 zugeleitet Als Ergebnis wird nun der Elektronenstrahl elektrisch gesteuert, um entsprechend
den Anweisungen des Rechners den Bearbeitungspunkt 23a zu bestrahlen. Hierzu wird die Strahlintensität
automatisch gesteigert, um entsprechend dem gespeicherten Bearbeitungsvorgang die Bearbeitung vorzunehmen.
Um die Suche nach dem Bezugspunkt zu vereinfachen, kann der Beslrahlungsbereich des Werkstücks in
mehrere kleine Bereiche unterteilt sein. Wenn in einem der kleinen Bereiche der Bezugspunkt nicht vorhanden
w ist, wird das Werkstück entsprechend einem Befehl
durch den Rechner weiterbewegt und die Suche nach dem Bezugspunkt durch Bestrahlung eines weiteren der
kleinen Bereiche fortgesetzt.
Es ist auch möglich, die Koordinatenlage des
j-, Bezugspunktes zu Beginn oder nach Beendigung des
ersten Bearbeitungsvorganges zu markieren und die Lage im Rechner zu speichern.
Die bisherigen Ausführungen waren auf die Verwendung eines einzigen Bezugspunktes gerichtet. Es ist
jedoch vorteilhaft, zwei oder mehrere Bezugspunkte zu wählen, wenn die Werkstückbewegung eine Rotation
ist. In diesem Fall wird der Drehwinkel durch den Rechner 9 auf gleiche Weise wie bei Anwendung eines
einzigen Bezugspunktes errechnet und anschließend der
■π entsprechende Kompensationsstrom oder die entsprechende
Kompensationsspannung der Beugungslinse zugeführt.
In Fig.3 sind auf dem Werkstück zwei Sätze von
Bezugsstellen dargestellt, wobei die Bezugsstellen jedes
κι Satzes um einen Abstand / auseinanderliegen. Fs hat
sich als vorteilhaft erwiesen, den Bezugsstellen die Form von Längsnuten zu geben. Außerdem kann durch die
Wahl zweier Sätze von Bezugsstellen der Fehler bei der Identifizierung der Bezugsstellen, der auf Grund von
r> Sprüngen oder Lunkern entsteht, vermieden werden. In Fig.4 ist ein Komparatorkreis 41 dargestellt, der zur
Feststellung der Signale dieser Art von Bezugsstellen geeignet ist Bei der Bestrahlung des Werkstücks mit
dem Elektronenstrahl wird das Signal der Bezugsstelle
bo A durch einen Detektor 42 abgetastet und durch einen
Verstärker 43 verstärkt. Das verstärkte Signal wird dann aufgespalten und einem Verzögerungskreis 44 und
einem Und-Gatter 45 zugeführt. Dar Verzögerungskreis
verzögert das Signal um einen Betrag von Sekunden,
wobei / der bereits erwähnte Abstand zwischen den Bezugsstellen A und Sund ν die Strahlgeschwindigkeit
des Elektronenstrahles ist. Wenn als nächstes der
Elektronenstrahl die Bezugsstelle B bestrahlt, wird das entsprechende Signal wiederum durch den Detektor 42
abgenommen und dem Komparator 41 über den Verstärker 43 zugeführt. Das Signal wird erneui
aufgespalten und dem Verzögerungskreis 44 und dem Und-Gatter 45 zugeführt. Zu diesem Zeitpunkt wird das
Signal entsprechend der Bezugsstelle A — verzögert
um den Betrag von r Sekunden — dem Und-Gatter 45
zugeleitet und dadurch in diesem ein Ausgangssignal erzeugt. Ein Digitalrechner 46 speichert die Position der
Bezugsstelle B entsprechend dem Ausgangssignal aus dem Und-Gatter 45. Sobald die Position der Bezugsstel
le B mit der ursprünglichen Position, die im Rechner 46 voreingestellt ist, übereinstimmt, erteilt dieser einen
Befehl zur Werkstückbearbeitung, so daß ein entsprechender Strom der Elektronc-nstrahlkanone zur Strahl-)
intisitätserhöhung zugeführt wird. Auf der voreingestellten, gespeicherten Position im Koordinatensystem
des Rechners wird der Verschiebewert berechnet und der entsprechende Kompensaüonsstrom oder die
entsprechende Kompensationsspannung der Beugelinse κι 4 zugeführt.
Wenn die Bewegung des Werstückes eine Drehung ist, werden die Bezugsstellen C und D zur Errechnung
des Drehwinkels verwendet.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Verfahren zum Heranführen des Elektronenstrahls einer Elektronenstrahlanlage an einen
Bearbeitungspunkt eines Werkstücks, bei dem bei Übereinstimmung des Abtastpunktes des Elektronenstrahls
mit einem im Abstand vom Bearbeitungspunkt befindlichen, markierten Bezugspunkt ein
Signal durch einen Detektor zur Bestimmung der Ausgangslage für die Bearbeitung aufgenommen
wird, gekennzeichnet durch folgende Maßnahmen:
a) das Werkstück (5) trägt mindestens einen markierten Bezugspunkt (21a,) und wird durch
den Elektronenstrahl mit verringerter Strahlintensität abgetastet,
b) das vom Detektor aufgenommene Signal wird einem elektronischen Digitalrechner (9) zugeführt,
der die Koordinaten eines theoretischen Bezugspunktes gespeichert enthält,
c) nach Errechnung des erforderlichen Verschiebeweges aus den gespeicherten Koordinaten
des theoretischen Bezugspunktes (21) und den Koordinaten des markierten Bezugspunktes
(2\a) wird aus den ebenfalls gespeicherten Koordinaten des theoretischen Bearbeitungspunktes (23) dessen tatsächliche Lage ermittelt,
d) dieser entsprechende Steuergrößen werden über Digital-Analog-Wandler (10, 11, 15) der
Elektronenstrahlanlage zur Steuerung der Relativbewegung zwischen Elektronenstrahl und
Werkstück (5) zugeführt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß durch die Digital-Analog-Wandler (10,
U, 15) analoge Ströme oder Spannungen einer Ablenkspule (4) der Elektronenstrahlanlage (2)
zugeführt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß bei einem Satz von markierten
Bezugspunkten das vom Detektor (6) abgegebene Signal für die Übereinstimmung des Elektronenstrahles
mit einem ersten Bezugspunkt (A) einem Komparator (41) zugeleitet wird, der aus einem
Verzögerungskreis (44) und einem Und-Gatter (45) besteht, wobei der Verzögerungskreis (44) die
Weitergabe dieses Signals an das Und-Gatter (45) um einen Zeitbetrag verzögert, der gleich der Zeit
ist, um ein bei Übereinstimmung des Elektronenstrahls mit einem zweiten Bezugspunkt (B) vom
Detektor abgegebenes Signal unmittelbar dem Und-Gatter zuzuleiten.
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Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5552675A (en) * | 1959-04-08 | 1996-09-03 | Lemelson; Jerome H. | High temperature reaction apparatus |
DE1765819A1 (de) * | 1968-07-23 | 1972-01-13 | Ibm Deutschland | Verfahren zur Bestimmung der Ablenkdaten fuer ein Ladungstraegerstrahl-Bearbeitungsgeraet |
US3644700A (en) * | 1969-12-15 | 1972-02-22 | Ibm | Method and apparatus for controlling an electron beam |
US3789185A (en) * | 1969-12-15 | 1974-01-29 | Ibm | Electron beam deflection control apparatus |
FR2087114A5 (de) * | 1970-05-05 | 1971-12-31 | Cit Alcatel | |
US3783228A (en) * | 1970-12-28 | 1974-01-01 | Agency Ind Science Techn | Method of manufacturing integrated circuits |
US3775581A (en) * | 1971-06-23 | 1973-11-27 | Welding Research Inc | Seam tracking method |
US3873802A (en) * | 1971-07-26 | 1975-03-25 | Welding Research Inc | Elector beam welding apparatus chicorporating a hole center locating means |
CA946480A (en) * | 1971-07-26 | 1974-04-30 | Sciaky Intertechnique S.A. | Hole center locator |
US3849659A (en) * | 1973-09-10 | 1974-11-19 | Westinghouse Electric Corp | Alignment of a patterned electron beam with a member by electron backscatter |
US4158122A (en) * | 1973-12-21 | 1979-06-12 | Obolonsky Alexei P | Method of measuring and stabilizing the diameter of heating point on workpiece in electron beam welding machine and on automatic device for realization thereof |
JPS5283177A (en) * | 1975-12-31 | 1977-07-11 | Fujitsu Ltd | Electron beam exposure device |
DE2719801C3 (de) * | 1977-04-28 | 1981-11-19 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Korpuskularstrahloptisches Gerät zur Bestrahlung eines Präparates mit einer Einrichtung zur Justierung desselben |
US4179316A (en) * | 1977-10-17 | 1979-12-18 | Sciaky Bros., Inc. | Method and apparatus for heat treating |
US4149085A (en) * | 1978-01-16 | 1979-04-10 | International Business Machines Corporation | Automatic overlay measurements using an electronic beam system as a measurement tool |
JPS5731134A (en) * | 1980-08-01 | 1982-02-19 | Hitachi Ltd | Drawing device by electron beam |
JPS57183034A (en) * | 1981-05-07 | 1982-11-11 | Toshiba Corp | Electron bean transfer device |
JPS5946026A (ja) * | 1982-09-09 | 1984-03-15 | Toshiba Corp | 試料位置測定方法 |
DE3243033A1 (de) * | 1982-11-22 | 1984-05-24 | Institut für Kerntechnik und Energiewandlung e.V., 7000 Stuttgart | Verfahren und anordnung zum bearbeiten eines werkstuecks mittels eines fokussierten elektronenstrahls |
DE3810391A1 (de) * | 1988-03-26 | 1989-10-05 | Leybold Ag | Einrichtung und verfahren fuer die steuerung und ueberwachung eines ablenkbaren elektronenstrahls fuer die metallbearbeitung |
DE4024084A1 (de) * | 1989-11-29 | 1991-06-06 | Daimler Benz Ag | Verfahren zum herstellen von hohlen gaswechselventilen fuer hubkolbenmaschinen |
US5483036A (en) * | 1993-10-28 | 1996-01-09 | Sandia Corporation | Method of automatic measurement and focus of an electron beam and apparatus therefor |
EP2575159B1 (de) * | 2011-09-30 | 2016-04-20 | Carl Zeiss Microscopy GmbH | Teilchenstrahlsystem und Verfahren zum Betreiben dieses Systems |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3284618A (en) * | 1962-03-16 | 1966-11-08 | Licentia Gmbh | Nominal value position control system |
GB1065060A (en) * | 1963-04-19 | 1967-04-12 | United Aircraft Corp | Improvements in and relating to apparatus for working articles with energised beams |
US3326176A (en) * | 1964-10-27 | 1967-06-20 | Nat Res Corp | Work-registration device including ionic beam probe |
-
1967
- 1967-08-07 FR FR117128A patent/FR1533755A/fr not_active Expired
- 1967-08-14 US US660432A patent/US3513285A/en not_active Expired - Lifetime
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- 1967-08-16 DE DE1690626A patent/DE1690626C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1690626B2 (de) | 1973-09-13 |
US3513285A (en) | 1970-05-19 |
FR1533755A (fr) | 1968-07-19 |
DE1690626A1 (de) | 1971-04-08 |
GB1201383A (en) | 1970-08-05 |
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