DE2302969A1 - Glasiges oder kristallines material fuer phototrope schichten - Google Patents

Glasiges oder kristallines material fuer phototrope schichten

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    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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    • C03C3/32Non-oxide glass compositions, e.g. binary or ternary halides, sulfides or nitrides of germanium, selenium or tellurium
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    • C03C4/06Compositions for glass with special properties for photosensitive glass for phototropic or photochromic glass
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
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Description

  • Glasiges oder kristallines Material für phototrope Schichten In der Patentanmeldung P 21 56 304.2-45 wird beansprucht ein glasiges oder kristallines Material, das in dünner Schicht auf einen lichtdurchlässigen Träger aufgebracht, phototrope Eigenschaften in Form einer bei Anregung mit ultraviolettem oder kurzwellig-sichtbarem Licht erfolgender Extinktionserhöhung und nach Beendigung der Anregung erfolgenden Extinktionserniedrigung zeigt, dadurch gekennzeichnet, daß es aus mindestens einer nicht-lichtempfindlichen Men+#Xationenart, mindestens einer Anionenart und mindestens einer Me(l)+~ Kationenart besteht, wobei n den Wert 1, 2 oder 3 haben kann.
  • Es wurde nun überraschend gefunden, daß dünne Schichten mit besonders günstigen phototropen und gebrauchstechnischen Eigenschaften erzielt werden können, wenn das Material, das in dünner Schicht auf einem lichtdurchlässigen Träger aufgebracht wird, aus Kupfer-Kationen, Silber-Kationen und Chlor- und/oder Brom-Anionen besteht.
  • An dem nachstehenden Beispiel wird die Erfindung erläutert: Beispiel 1 Zur Erzeugung eines-phototropen Schichtmaterials im System Ag - Cu - Br werden 70,85 Gew.-% AgBr und 29,15 Gew.-% CuBr, beides taborqualität (99 %) der Fa. Riedel de Haen, Seelze im Mörser gemischt, in einem Quarztiegel bei 8000 C verschmolzen zu einer homogenen Schmelze,diese in eine Stahlform gegossen und auf Raumtemperatur abgekühlt Anschließend wird das Material mit dem Mörser zerkleinert (< 0,5 nm Korndurchmesser) und in das Wolfram-Schiffchen einer handelsüblichen Aufdampfanlage der Fa. Balzers, Frankfurt aufgegeben.
  • Zur Erzeugung der phototropen Schicht wird dieses Material bei 10 5 Torr auf ein handelsübliches Substrat-Glas, z.B.
  • Tempax-Glas der Fa. Schott oder Spiegelglas der Fa. Desag, Grunenplan aufgedampft.
  • Der Aufdampfprozeß erfolgt bei diesem Beispiel mit 1 bis 1,4 g Material, wobei das Substrat einen Abstand von etwa 40 cm zum Aufdampfschiffchen hat. Die Aufdampfzeit beträgt 60 Sekunden, an das Aufdampfschiffchen werden 2-5 A angelegt.
  • Es entsteht eine fast farblose, leicht grau getönte, 400 nm dicke Schicht auf dem Substrat. Wird das Substrat mit Schicht dem Rezipienten entnommen, so läßt sich die Phototropie durch Belichtung mit aktinischer Strahlung prüfen, Im belichteten Zustand ist die Llchtdurchlässigkeit des Substratglases mit Schicht 10 %, im unbelichteten Zustand beträgt sie ca. 60 %. Wenn die aktinische Strahlung abgeschaltet wird, regeneriert das belichtete Substratplättchen mit der Schicht zur Ausgangsdurchlässigkeit. Im belichteten Zustand ist die Farbe der Schicht blauschwarz.
  • In der nachstehenden Tabelle 1 sind weitere Beispiele für geeignete Zusammensetzungen des Schichtmaterials aufgeführt.
  • In der beigefügten Fig. 1 ist die Lage dieser Zusammensetzungen im Dreistoffsystem verdeutlicht.
  • Tabelle 1
    Beispiel Mol-% Ag Mol-8 Cu Mol-% Br
    Nr.
    2 49,2 9,2 41,6
    3 .56,4 4,9 38,7
    4 6-2,6 1,1 36,2
    5 40,9 14,2 44,9
    6 31,1 20,1 48,8
    7 19,5 27,0 53,5
    8 5,4 35,5 59,1
    9 35,0 32,5 32,5
    10 23,0 39,0 38,0
    11 10,0 45,0 45,0
    12 45,0 10,0 45,0
    13 40,0 20,0 40,0
    14 30,0 40,0 30,0
    15 5,0 30,0 65,0
    16 15,0 24,0 61,0
    17 25,0 17,0 58,0
    Beispiel 18 61,68 Gew.-% AgBr 38,32 Gew.-% CuBr Schmelzbedingungen: 8000 C; 1 min; Quarztiegel; Elektroofen; Brom-AtmosphAre Aufdampfbedingungen: 105 Torr, 4 A, 0,8 g Substanz, 40 cm Abstand, Substrat B 270 Phototropie der Schicht: Ausgangsdurchldt.ssigkeit 65 %, Sättigungstransmission nach 15 min aktinischer Bestrahlung 30 *, Halbwertzeit der Regeneration 18 min.
  • Beispiel 19 65,48 Gew.-% AgBr 34,52 Gew.-% CuBr Schmelzbedingungen: 8000 C; 30 sec; Pt-Tiegel; Induktionsofen, normale Atmosphäre Aufdaropfbedingungen: 10- 5 Torr; 2 A, 1,0 g Substanz, 40 cm Abstand, Substrat Tempax Phototropie der Schicht: Ausgangsdurchlässigkeit 60 %, Sättigungstransmission nach 15 min aktinischer Bestrahlung 12 %, Halbwertzeit der Regeneration 200 min.
  • Beispiel 20 40,85 Gew.-% CuCl 59,15 Gew.-% AgCl Schmelzbedingungen: 720° C; 2 min; Quarztiegel, Elektroofen, Cloratmosphäre Aufdampfbedingungen: wie in Beispiel 1 Phototropie der Schicht: Ausgangsdurchlässigkeit 80 %, Sättigungstransmission nach 15 min aktinischer Bestrahlung 48 %, Halbwertzeit Regeneration 4 min.
  • Beispiel 21 29,27 Gew.-% CuCl2 70,73 Gew.-% AgBr Schmelzbedingungen: 675% C; 1 min; Karamiktiegel, Elektroofen, normale Atmosphäre Aufdampfbedingungen: 4 x 1O5 Torr; 4 A; 20 g Substanz, 40 cm Abstand, Substrat Kunststoff (durchsichtig) Phototropie der Schicht: Ausgangsdurchlässigkeit 70 %; Sättigungstransmission nach 15 min aktinischer Bestrahlung 18 Br Regenerationshalbwertzeit 120 min.
  • Es wurde gefunden, daß ein vorher nicht zu einer homogenen Schmelze aufgeschmolzenes Gemisch der einzelnen Komponenten bei der Aufdainpfung fraktioniert und keine so günstigen Ergebnisse bringt.
  • Die auf ein Substrat aufgedampften Schichten lassen sich zur Verbesserung der Kratzfestigkeit auch überdecken mit Aufdampfglas der Fa. Schott, mit SiO2, Magnesiumfluorid oder Thoriumfluorid. Dieser weitere Prozeß eines Aufbringens einer Decl;schicht gehört jedoch nicht zum Unfang der Erfindung, er verbessert die Phototropie des Frfindungszieles nicht.
  • Es wurde gefunden, daß zum Zwecke der Verbesserung der Eigenschaften, z.B. der Kratzfestigkeit der Schicht, weitere Zusätze zum erfindungsgemäßen Material für die Beschichtung möglich sind, jedoch zur Erzielung ausreichender Phototropie möglichst unter 35 Gew. -% bleiben sollen. So lassen sich Ionen, z.B. der Elemente Pb, Zr, Si, Mg, Al und/oder La in Verbindung mit den erfinuungsgemäßen Anionen vor dem Schrlelzprozeß dem Gemenge ohne weiteres additiv zu 100 Gew.-% der z.B. in Tabelle 1 angeführten-Zusainmensetzungen (Synthesen), beigeben; die Phototropie wird jedoch zumindest proportional zur gegebenen Menge an Zusätzen verringert.
  • Als Beispiel für solche Zusätze werden im Beispiel 22, von der Zusammensetzung des Beispiels 19 ausgehend, Magnesiumionen in Verbindung mit dem erfindungsge#äßen Anion zugegeben.
  • Beispiel 22 6S,48 Gew.-% AgBr 33,52 Gew.-% CuBr 100,00 Gew.-Teile 12,00 Gew.-Teile MgBr2 Schmelzbedingungen: 8800 C; 60 sec; Quarztiegel; Gasofen, normale Atmosphäre Aufdampfbedingungen: 10 5 Torr; 4 A; 1,0 g Substanz, 40 cm Abstand, Substrat Kunststoff Phototropie der Schicht: Ausqangsdürchlässigkeit 65 %, Sättigungstransmission nach 15 min aktinischer Bestrahlung 19 %, Halbwertzeit der Regeneration 200 min.
  • Es wurde weiterhin gefunden, daß aus der Photochemie bekannte Zusätze zur Verschiebung der spektralen Empfindlichkeit, wie z.B. S oder Te, die gleiche oder ähnliche Wirkung bei ihrer Verwendung in den erfindungsmäßigen Schichten haben wie in der Photochemie.
  • Untersuchungen der Phototropie, z.B. am Schnitt CuBr-AgBr des Dreistoffsystems Cu-Ag-Br ergaben die in Fig. 2 gezeigten Regenerationsgeschwindigkeiten (Erhöhung der Transmission in % nach 10 min Verweilzeit ohne optische Anregung). In Fig. 3 sind die bei einer Standardbelichtung mit einer 150 W Xenonlampe XBO (Abstand 25 cm von der Probe) nach einer Belichtungszeit von 15 min gemessenen Transmissionswerte in 8 (Sättigungstransmission in %) in Abhängigkeit vom Mol.-%-Gehalt AgBr der Beispiele des AgBr-CuBr-Schnittes im Dreistoffsystem Cu-Ag-Br dargestellt.
  • Es wurde gefunden, daß vor allem im Bereich der eutektischen Mischung des Zweistoffsystems AgBr-CuBr (W. Jost und S. v. Salmuth (Z. phys. Chem. Neue Folge, Bd. 16 (1958) 5. 2.77-280> > im Bereich zwischen 50 Mol.-t und 70 Mol.-% AgBr besonders günstige phototrope Eigenschaften gefunden wurden. Es wird angenommen, daß die mehrphasig-kristallinen Ausscheidungen, aus denen die erfindungsgernäßen Schichten aufgebaut sind, mit ihren Phasengrenzen gerade im eutektischen, zumindest jedoch im Bereich der Mehrphasigkeit einen günstigen Einfluß auf die Phototropie haben.

Claims (5)

  1. Patentansprüche
    b Glasiges oder kristallines Material, das in dünner Schicht auf einen lichtdurchlässigen Träger aufgebracht, phototrope Eigenschaften in Form einer bei Anregung mit ultraviolettem oder kurzwellig-sichtbarem Licht erfolgender Extintionserhöhung und nach Beendigung der Anregung erfolgenden Extinktionserniedrigung zeigt, und das aus mindestens einer nicht-lichtempfindlichen Me -Kationenart, mindestens einer Anionenart und mindestens einer Me(n-l)+-Kationenart besteht, wobei n den Wert 1, 2 oder 3 haben kann, nach Patentanmeldung P 21 56 304.2-45, dadurch gekennzeichnet, daß. es eine Zusammensetzung aufweist, die 2 - 60 Mol.-% Kupfer-Kationen, 5 - 58 Mol.-% Silber-Kationen und 8 - 85 Mol.-% Chlor- und/oder Brom-Anionen enthält.
  2. 2. Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es 15 - 80 Mol.-% Brom-Anionen enthält.
  3. 3. Material nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß seine Zusammensetzung innerhalb der eutektischen Mischung des Zweistoffsystems AgBr-CuBr liegt.
  4. 4. Material nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es Zusätze enthält, welche die spektrale Empfindlichkeit der phototropen Schichten verschieben.
  5. 5. Material nacn einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß es zur Verbesserung der Eigenschaften weitere Zusätze, wie z.B. Kationen der Elemente Pb, Zr, Si, Mg, Al und/oder La enthält.
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DE2302969B2 DE2302969B2 (de) 1975-11-20
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