DE2247398A1 - Reinigungsverfahren - Google Patents
ReinigungsverfahrenInfo
- Publication number
- DE2247398A1 DE2247398A1 DE19722247398 DE2247398A DE2247398A1 DE 2247398 A1 DE2247398 A1 DE 2247398A1 DE 19722247398 DE19722247398 DE 19722247398 DE 2247398 A DE2247398 A DE 2247398A DE 2247398 A1 DE2247398 A1 DE 2247398A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- mixture
- liquid
- concentration
- azeotrope
- alcohol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D7/00—Compositions of detergents based essentially on non-surface-active compounds
- C11D7/50—Solvents
- C11D7/5036—Azeotropic mixtures containing halogenated solvents
- C11D7/5068—Mixtures of halogenated and non-halogenated solvents
- C11D7/5077—Mixtures of only oxygen-containing solvents
- C11D7/5081—Mixtures of only oxygen-containing solvents the oxygen-containing solvents being alcohols only
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/34—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping with one or more auxiliary substances
- B01D3/36—Azeotropic distillation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/08—Cleaning involving contact with liquid the liquid having chemical or dissolving effect
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
- B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
- B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
- C23G5/02812—Perhalogenated hydrocarbons
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/028—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons
- C23G5/02809—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents containing halogenated hydrocarbons containing chlorine and fluorine
- C23G5/02812—Perhalogenated hydrocarbons
- C23G5/02816—Ethanes
- C23G5/02819—C2Cl3F3
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/22—Secondary treatment of printed circuits
- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
- H05K2203/0779—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
- H05K2203/0783—Using solvent, e.g. for cleaning; Regulating solvent content of pastes or coatings for adjusting the viscosity
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/08—Treatments involving gases
- H05K2203/088—Using a vapour or mist, e.g. cleaning using water vapor
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/15—Position of the PCB during processing
- H05K2203/1518—Vertically held PCB
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum Reinigen
von verunreinigten Gegenständen und auf eine Vorrichtung hierfür.
Es ist allgemein bekannt, daß halogenierte Kohlenwasserstoffe als Reinigungsflüssigkeiten zur Entfernung der verschiedensten
Verunreinigungen von einer großen Reihe von Gegenständen verwendet werden können. So kann 1,1,2-Trichloro-1,2,2-trifluoroäthan
als Reinigungsflüssigkeit zur Entfernung
309816/0779
von unerwünschten Verunreinigungen von der Oberfläche von Polymeren
und Kunststoffen verwendet werden, da die genannte Flüssigkeit das Polymer oder das Kunststoffsubstrat nicht in
wesentlichem Ausmaß angreift. ·
Jedoch ergeben sich bei der Anwendung auf gedruckte Schaltungen, die sich im allgemeinen auf einem Kunststoffsubstrat befinden,
auf welchem polymere Isolationen enthaltende Bauteile und Markierungen befestigt sein können und auf denen sich LötfluSmittel
auf Kolophoniumbasis befinden können, zahlreiche Schwierigkeiten. Es ist hierfür ein Lösungsmittel oder eine
Lösungsaitte!zusammensetzung und ein Verfahren zum Reinigen
erforderlich, welche nicht das Kunststoffsubstrat oder die
genannten Bauteile angreifen, welche aber trotzdem die Flußmittel und die Flußmitfcelrückstände entfernen, die extrem
zäh sein können. Hierfür wurden Alkohole in Mischung mit dem primären Lösungsmittel, beispielsweise das Trichlorotrifluoroäthan,
verwendet, da der Alkohol bei der Entfernung der "lußmittel und der Flußmittelrückstände wirksamer ist
axs das primäre Lösungsmittel. Oftmals werden azeotrope
Gemische aus Alkoholen mit dem primären Lösungsmittel (die oft beim Siedepunkt verwendet werden) verwendet, aber derartige
Gemische enthalten u.U. nicht ausreichend von dem Alkohol, τ·" die Flußmittel wirksam zu entfernen. Demgemäß
stellt ale Verwendung von azeotropen Gemischen keineswegs
eine vollständige Antwort auf das Problem dar. Es wurden Anstrengungen gemacht, das Problem dadurch zu lösen, daß
man den verunreinigten Gegenstand in Mischungen aus dem primären Lösungsmittel und aus einer hohen Konzentration
von Alkoholen, die weit über dem azeotropen Punkt des ger. nnter. Oemischs liegt, eintaucht, wobei das Gemisch auf
\ rhältni~..äßig niec^ige Temperaturen gehalten wird, d.h.
in der Nähe von Raumtemperatur, beispielsweise 200C oder
309815/0779
•weniger. Gegebeneäfalls kann dann der Gegenstand in ein sauberes
kaltes Gemisch aus dem primären Lösungsmittel und dem Alkohol
in einen gesonderten Tank oder in eine kalte Flüssigkeit eingetaucht
werden, die durch Verdampfen eines Flüssigkeitsgemisches aus einem Flüssigkeitskörper und anschließende Kondensation in einer
Dampfzone erhalten wird, worauf dann die Flüssigkeit
vom Gegenstand ablaufen gelassen wird. Bei einem solchen
Verfahren gibt es ernsthafte Verluste an Lösungsmittel, da nämlich eine Schicht aus kaltem Lösungsmittel an den Gegenständen
hängt, die aus der Anlage herausgezogen werden. Außerdem ist es auch möglich daß eine wirksame Entfernung
von Flußmittel vom verunreinigten Gegenstand nicht erfolgt.
Reinigungsanlagen für die Behandlung von verunreinigten Gegenständen
können einen Flüssigkeitstank, in den die Gegenstände eingetaucht werden, aufweisen, wobei der Flüssigkeitstank
mit einen tjberfluß zu einem Sumpftank ausgerüstet ist.
Dieser letztere Tank enthält eine verhältnismäßig kleine
Menge Flüssigkeit, die am Siedepunkt gehalten wird. Der Zweck des Sumpfs besteht nicht darin, die Gegenstände mit
der Flüssigkeit in Kontakt zu bringen, sondern schmutziges Lösungsmittel zu sammeln, welches im Sumpf 'zusammenläuft.
Über dem Spiegel- der Flüssigkeit wird Dampf kondensiert
und zum Flüssigkeitstank zurückgeführt, wordurch die Anwesenheit von klarem Lösungsmittel im Flüssigkeitstank .
sichergestellt wird, während unreines Lösungsmittel in den Sumpf überläuft. Die Gegenstände werden aus dem Flüssigkeitstank
heraus und dann durch eine Dampfzone hindurch und abschließend aus der Anlage gezogen. Die Verwendung
von heißen oder siedenden Lösungsmittelgemischen, welche hohe Konzentrationen von Alkoho^ in den Tanks solcher Anlagen'
309115/0779
enthalten,ist nicht wirksam, da eine Erschöpfung des Alkohols
aus der Flüssigkeit und eine Zunahme des Alkohols im Sumpf eintritt. Das System ist deshalb nicht stabil und erfüllt
nicht den geforderten Reinigungszweck.
Es wurde nunmehr ein Verfahren zum Reinigen von verunreinigten
0 ■
Gegenständen gefunden, welches sich vollständig von den bisher
verwendeten unterscheidet. Dieses Verfahren gestattet eine
wirksame Reinigung von verunreinigten Gegenständen bei erhöhten Temperaturen. Das Verfahren ist stabil und vermeidet
die Nachteile früherer Verfahren.
So wird also gemäß der Erfindung ein Verfahren «um Heinigen
von verunreinigten Gegenständen in einem System vorgeschlagen, bei welchem ein azeotropbildendes Gemisch aus einem halogenierten
Kohlenwasserstofflösungsmittel und einem Hilfslösungsmittel
verwendet wird, wobei das Gemisch eine über des Azeotroppunkt liegende Konzentration des Hilfslösungsmittels
aufweist, bei welchem der Gegenstand mit eine« ersten erhitzten Gemisch in Berührung gebracht wird, das das halogenierte
Kohlenwasserstofflösungsmittel und das EiIfslösungsmittel
enthält, und hierauf mit einem zweiten flüssigen Gemisch gespült wird, welches einen niedrigeren Anteil an
Hilfslösungsmittel enthält, als er im ersten Flüssigkeitsgemisch
enthalten ist.
Vorzugsweise wird in das System kontinuierlich oder intermittierend
von einer äußeren Quelle ein im wesentlichen azeotropes Gemisch aus dem halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmittel
und dem HilfslÖsungsaittel eingeführt« Es können aber auch entsprechende Kengen der genannten Lösungsmittel,
die dem azeotropen Gemisch im wesentlichen entsprechen, verwendet werden.
309815/0779
Gemäß einer bevorzugten Form der Durchführung des erf indungs-^
gemäßen Verfahrens wird ein Verfahren zum Reinigen von verunreinigten Gegenständen vorgeschlagen, welches dadurch ausgeführt
wird, daß man den Gegenstand in das erste erhitzte Flüssigkeitsgemisch eintaucht, wobei sich dieses Gemisch in.einem
Sumpfraum eines Reinigungssystems befindet, worauf dann der
Gegenstand in das zweite Flüssigkeitsgemisch in einem Spülraum des genannten Systems eingeführt wird, wobei das erste
und das zweite Flüssigkeitsgemisch eine gemeinsame Dampfzone aufweisen. Vorzugsweise wird auch das zweite Flüssigkeitsgemisch
erhitzt. Dieses zweite Flüssigkeitsgemisch steht im Gleichgewicht mit dem Dampf in der Dampfzone über
dem Sumpf und den Spülräumen Und mit dem genannten Gemisch im Sumpfraum. (In anderen Worten heißt das, daß die Zusammensetzung
des zweiten Flüssigkeitsgemischs im wesentlichen mit dem Dampf in der Dampfζone über dem Sumpf konstant ist.)
Gegebenenfalls können mehrere Spülräume verwendet werden.
In geeigneter Weise wird das im wesentlichen azeotrope Gemisch oder werden die entsprechenden Mengen des halbgenierten
Kohlenwasserstofflösungsmittels und des Hilfslösungsmittels,
welche dem azeotropen Gemisch im wesentlichen entsprechen, kontinuierlich oder intermittierend in den Sumpf-
und/oder die Spülräume des Reinigungssystems eingeführt.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform des vorliegenden Verfahrens wird zumindest ein Teil, vorzugsweise die Gesamtmenge,
der durch Kondensation von Dämpfen aus der gemeinsamen Dampfzone erhaltenen Flüssigkeit in den Spülraum
zurückgeführt. Geeigneterweise wird auch dafür gesorgt, daß das Flüssigkeitsgemisch, welches vom Spülraum überfließt,
zum Sumpfraum fließt·
30 9815/0779
Vorzugsweise enthält das erste azeotropbildende Gemisch im
Sumpfraum:mindestens 5 Gewichtsteile (und insbesondere mindestens
10 Gewichtsteile) von dem Hilfelösungsmittel je
Gewichtsteile des Gesamtgemischs über dem Anteil, der dem Azeotrop selbst entspricht.
Von den halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmitteln, die
gemäß der Erfindung verwendet werden können, sollen Pluorchlorkohlenwasserstoffe
erwähnt werden, insbesondere solche, die 2 oder 3 Kohlenstoffatome enthalten, wie z.B. 1,1,2,2-»
Tetrachloro-1,2-difluoroäthan. 1,1,2-Trichloro-1,2,2-trifluoroäthan
gibt besonders gute Resultate.
Beispiele für Hilfslösungsmittel, die gemeinsam mit dem halogenierten
Kohlenwasserstofflösungsmittel verwendet werden können, um ein azeotropbildendes Gemisch zu ergeben, sind
Methylacetat, Nitroparaffine (beispielsweise Nitromethan)
und Alkohole, welche gleichfalls mit dem Trichlorotrifluoroäthan
ein Azeotrop bilden. So können Alkohole verwendet werden, die 1 bis 4 Kohlenstoffatome enthalten, wie z.B.
Methylalkohol, Äthylalkohol, tert-Butanol und Isopropylalkohol.
Der zuletzt genannte Alkohol ist besonders brauchbar.
Die Konzentration des Alkohols im halogenierten Kohlenwasserstoff,
der im Sumpf und in den Spülräumen verwendet wird, kann variieren, je nachdem, welcher halogenierte
Kohlenwasserstoff und welcher Alkohol verwendet wird. Wenn im Sumpfbeispielsweise 1,1,2-Trichloro-1,2,2-trifluoroäthan
und Isopropanol verwendet wird, dann wird es bevorzugt, daß die Konzentration des Isopropanola weniger als 70 Gew.-%
beträgt.
3098 15/0779
Die Flüssigkeit im Spültank besitzt eine andere Zusammensetzung
als die flüssigkeit im Sumpfraum. In der Praxis
besitzt das Lösungsmittelgemisch im Spülraum, wenn sich,
einmal stabile Bedingungen eingestellt haben, eine Konzentration des zweiten Lösungsmittels, die im allgemeinen
im Bereich zwischen dem Azeotrop bis nicht mehr als 11 Gew.-%
und vorzugsweise nicht mehr als 5 Gew.-% über dem Azeotrop
liegt. Dieses Verfahren des Eintauchens des verunreinigten Gegenstands in das genannte erhitzte Flüssigkeitsgemisch
im Sumpfraum alleine oder in Verbindung mit einer weiteren
Eintauchung in das erhitzte Lösungsmittelgemisch im Spülraum ist u.a. ein außergewöhnliches Merkmal des vorliegenden
Verfahrens. Bei Konzentrationen von Isopropanol im Bereich
von 10 bis 70% im Sumpfraum können Konzentrationen bis zu
14 Gew.-% Isopropanol im Spülraum verwendet werden. Im allgemeinen werden im Sumpf Konzentrationen an Isopropanol
von 10 bis 40 Gew.-% verwendet. Konzentrationen im Bereich von 22 bis 27 Gew.-% ergeben besonders brauchbare Resultate.
Bei diesen niedrigeren Bereichen im Sumpfraum werden im Spülraum vorzugsweise Konzentrationen bis zu 4% über den
azeotropen Gemischen verwendet. In einem speziellen Fall wurde gefunden, daß ein Lösungsmittelgemisch im Spültank,
welches 5»5% Isopropanol enthält, in Bezug auf den
Dampf in der Dampfzone über den Spül- und Sumpfräumen im
wesentlichen konstant wird, wobei ein Lösungsmittelgemisch im letzteren Baum 25% Isopropanol enthält und wobei beide
Gemische sieden.
Mit 1,1,2-Trichloro-i,2,2-trifluoroäthan als primäres Lösungsmittel
werden vorzugsweise Äthylalkoholkonzentrationen von 25 bis 30 Gew.-%, bezogen auf das Lösungsmittelgemisch,
im Sumpfraum verwendet, während bei Methylalkohol Konzen-
3098 t 5/0.77 9
trationen von 1? bis 22 Gew.-% bevorzugt werden* Bei diesen
Konzentrationen in den Sumpfgemischen enthalten die Spülräume
vorzugsweise eine Äthylalkoholkonzentration von 6 bis 8 Gew.-% und eine Methylalkoholkonzentration von 8 bis 10
Gew.-%.'
Das im wesentlichen azeotrope Gemisch, welches in das System eingeführt wird, kann eine Konzentration an zweitem Lösungsmittel
bis zur Konzentration des Lösungsmittels im Spültank enthalten. Gute Resultate können mit Gemischen von Lösungsmitteln erhalten werden, die innerhalb von 1 oder 2°C des
Siedepunktsdes Azeotrops sieden. Sehr gute Resultate wurden
erhalten, wenn das azeotrope Gemisch selbst verwendet wurde, wie z.B. das azeotrope Gemisch, welches aus 97*1 Gew.-%
i^^-Trichloro-i^^-trifluoroäthan und 2,9 Gew.-% Isopropanol
besteht. In geeigneter Weise wird das im wesentlichen azeotrope Gemisch als solches in das System eingeführt.
Gewünschtenfalls können auch entsprechende Mengen des primären
und sekundären Lösungsmittels, wie z.B. 1,1,2-Trichloro-1,2,2-trifluoroäthan
und Isopropanol, welche dem im wesentlichen azeotropen Gemisch entsprechen, gesondert in den
Sumpf und/oder Spülraum eingeführt werden. Die Menge des im wesentlichen .azeotropen Gemischs, die in das System
eingeführt wird, ist vorzugsweise diejenige, die erforderlich ist, die Pegel im Sumpf und in den Spülräumen konstant
zu harten.
Die Lösungsmittelgemische im Sumpf und in den Spülräumen werden auf eine Temperatur von mehr als Raumtemperatur
(in einigen Fällen 200C) gehalten. Gewöhnlich werden die
Gemische auf eine Temperatur von mindestens 3O0C und vorzugsweise
mindestens 4O0C gehalten. Es wird noch welter
bevorzugt, die Lösungsmittelgemische auf dem Siedepunkt zu
309815/0779
halten, weiche im Palle von Gemischen aus Ί ,1,2--Trichloron,2,2-trifluoroäthan
oftmals im Bereich von 45 bis 500C
liegen.
Andere Lösungsmittel oder Zusätze können der beim vorliegenden Verfahren verwendeten Lösungsmittelzusammensetzung zugegeben
werden, wenn es erwünscht ist, die Reinigungs- oder Lösungskraft zu modifizieren» Geeignete Zusätze sind
kationische, anionische und nicht-ionische Detergenzien. In einigen Fällen'kann auch Wasser zugegeben werden, und
zwar insbesondere dann, wenn die Zusammensetzungen ein Betergenz umfassen. Dies ist aber nicht wesentlich.
Es ist gewöhnlich unnötig, in den Lösungsmittelgemis.chen Stabilisatoren zu verwenden. Es ist jedoch möglich, daß
Stabilisatoren unter korrosiven Bedingungen erwünscht sein können, wie z.B. unter solchen Bedingungen, bei denen
die Lösungsmittelgemische mit Leichtmetallen, wie z.B. Zink und Aluminium,· in Kontakt kommen.
Ein vorteilhaftes Merkmal des vorliegenden Verfahrens liegt
darin, daß das System außergewöhnlich stabil ist, d.h. daß die Konzentrationen des sekundären Lösungsmittels, beispielsweise
Isopropanol in den verschiedenen Räumen effektiv
während der gesamten langen Lebensdauer der Lösungsmittelgemische aufrecht erhalten werden können. Es wird auch ·
eine gleichmäßig hohe Entfernung von Verunreinigungen bewirkt. Beispielsweise wurde das Verfahren'24 st am'Tage
unter intermittierendem Reinigen von verunreinigten Gegenständen während eines Zeitraums von 220::st durchgeführt,
worauf der Gewichtsprozentsatz, an Isopropanol im Sumpfraum im wesentlichen der gleiche war wie zu Beginn des Betriebs,
309 8 1 5/0779
d.h., daß der Isopropanolgehalt zunächst 23,6% betrug und während des Betriebs innerhalb der Grenzwerte von 23,3%
bis 23,9/6 blieb. Im Spülraum blieb die Zusammensetzung ebenfalls weitgehend konstant, wobei der Isopropanolgehalt
zunächst 5,4% betrug und innerhalb der Grenzwerte
von 5,3 bis 5,6% blieb..Das vorliegende Verfahren besitzt
auch die Vorteile, daß Entzündungen vermieden werden.
Das vorliegende Verfahren eignet sich für eine große Heihe
von Anwendungen, einschließlich der Entfernung von zähen LötfluSmitteln von elektrischen Vorrichtungen. Insbesondere
eignet es sich zur Entfernung von Flußmitteln von einer Vorrichtung, die sich auf einem Kunststoff- oder Harzsubstrat
befindet, wobei die Platten oder die darauf befindlichen Komponenten nicht beschädigt werden.
Bei einer anderen Methode zur Durchführung des erfindungsgemä-?en
Verfahrens wird ein verunreinigter Gegenstand mit deo genannten ersten erhitzten Flüssigkeitsgemisch in
einen Reinigungssystem in Berührung gebracht, welches eisen Saum (Sumpfraum) aufweist, worauf dann der Gegenstand
zur Dampfzone über dem genannten Raum gezogen und darin mit dem genannten zweiten Flüssigkeitsgemisch gespült
wird, welches vorher durch Kondensation von Dämpfen aus der genannten Dampfzone erhalten worden ist. Bei einer
Abwandlung dieses Verfahrens wird der verunreinigte Gegenstand nach den Eintauchen in das erste erhitzte
Flüssigkeitsgemisch durch und aus der genannten Dampfzone gezogen, abkühlen gelassen und dann in die Dampfzone
zurückgeführt, wo er dann durch das genannte zweite Flüssigkeitsgemisch gespült wird, das durch direkte Kondensation
von Dämpfen aus der genannten Daapfzone auf dem
309815/0779
Al UOInO UNORIGINAL·
genannten abgekühlten Gegenstand erhalten wird.
Bei einer anderen Variante des vorliegenden Verfahrens befinden sich das erste und das zweite Flüssigkeitsgemisch
in voneinander getrennten Bäumen, die keine gemeinsame Dampfzone besitzen*"wobei kondensierte Flüssigkeit aus
den Dampf über dem genannten ersten erhitzten Gemisch zum
zweiten erhitzten Gemisch zurückgeführt wird.
Eine geeignete Vorrichtung, welche beim erfindungsgemäSen
Verfahren verwendet werden kann, ist in der beigefügten Zeichung (Figur 1) dargestellt, welche eine schematische
Ansicht im Querschnitt und nicht im Maßstab zeigt. Gemäß
der Zeichnung ist ein Behälter 1 in einen Sumpfraun 2 und
einen Spülraum 4 durch eine Wand 3 getrennt. Der Sumpfraum
enthält einen Körper aus dem ersten azeotropbildenden Gemisch, wie es oben beschrieben wurde, mit einer ausreichenden
Tiefe für die einzutauchenden verunreinigten.Gegenstände, und ist mit einem Erhitzer 5 ausgerüstet. Der Spülraum 4
in der Nachbarschaft des Sumpfraums 2 ist mit einem Erhitzer
6 ausgerüstet und enthält ein Volumen der zweiten Flüssigkeit, wie sie oben beschrieben wurde und welche
eine Zusammensetzung aufweist, die sich von derjenigen im Sumpfraum 2 unterscheidet. Die Dampfzone 7 steht sowohl
mit dem Sumpf 2 als auch mit dem Spülraum 4- in Verbindung.
Eine Kühlschlange 8 ist zur Kondensation von Dampf im Dampfraum 7 gemeinsam mit einem Trog 9 vorgesehen.
Der letztere dient zum Sammeln der kondensierten-Flüssigkeit. Ein Rohr "0 dient für die Rückführung des Kondensats
zum Spülraum ^i-. Eine kalte Leitung 11 ist an der Außenseite,
des Behälters vorgesehen, durch welche ein Kühlmedium hindurch.gefuh.rt
werden kann, um eine extra Kühlung zn erzielen. Ein Einla2 12 kann für die Zuführung eines im wesentlichen
309818/07-79
BAD ORIGINAU,
azeotropen Genischs wie oben beschrieben vorgesehen sein.
Gemä3 der Zeichung führt er in den Sunpfraum 2. Er kann
aber auch so angeordnet sein, daß er an irgendeinem geeigneten
Punkt in das Systen führt. Es sind auch Mittel (nicht gezeigt) vorgesehen, un die verunreinigten Gegenstände
durch die Vorrichtung hindurchzuführen. Der Veg für die Gegenstände wird durch die Linie dargestellt, die an
Eintrittspunkt 13 beginnt und durch den Sumpfraum 2 und
die Danpfzone 7 und den Spülraum 4 hindurchgeht und am
Austrittspunkt 14 endet.
Beim Betrieb werden die Lösungsmittelgemische in beiden
Räumen 2 und 4 erhitzt, und die Dämpfe aus beiden mischen sich in der Dampfzone 7» kondensieren sich an der Kühlschlange
8 und fließen als Flüssigkeit zurück in den SpülrauE
4, von wo aus überschüssige Flüssigkeit über die Wand J in den Sunpfraum 2 überfließt. Dieser kontinuierliche Flu3
von Flüssigkeit und Dampf erhält eine saubere Spülflüssigkeit in Raum 4 aufrecht und stellt sicher, daß Schmutz und
Verunreinigungen sich im Raum 2 ansammeln von wo aus sie in irgendeiner geeigneten Weise entfernt werden können,
beispielsweise durch periodische Entfernung der gesamten oder eines Teils, der schmutzigen Flüssigkeit. Die Pegel
der Flüssigkeiten werden dadurch aufrechterhalten, daß man frisches Lösungsmittelgemisch nach Bedarf zugibt, un Verluste
auszugleichen.
Die vorliegende Erfindung umfaßt auch eine Vorrichtung, die folgendes aufweist: einen Behälter mit einem Sumpfraum, der
mit einer Erhitzungsvorrichtung und mit einem Volumen aus einen azeotropbildenden Gemisch wie oben beschrieben mit
ausreichender Tiefe für die Eintauchung der verunreinigten
309815/0779
Gegenstände versehen ist, einen Spülraum oder Spülräume
in der ITähe des Sumpfraums, welche mit ein oder mehreren ■
Erhitzungsvorrichtungen versehen sind, wobei der Raum oder die Säume ein wie oben definiertes Flüssigkeitsvolumen
enthält, das sich von demjenigen im Sumpfraum unterscheidet,
wobei der Spülraum so ausgestaltet ist, daß er einen Überfluß von Flüssigkeit in den Sumpfraum gestattet, eine
Dampizone, die sowohl mit dem Sumpf als auch mit den Spülräumen
in Verbindung steht, eine Kühleinrichtung, welche eine Kondensation von Dampf über dem Sumpf und den Spülräumen
gestattet, und eine Einrichtung, die dazu geeignet ist, kondensierte Flüssigkeit in den Spülraum oder in die
Spülräume zurückzuführen.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung.
Das zu reinigende Material bestand aus gedruckten Schaltungen, die aus harzgebundenen Papierplatten bestanden,
auf denen sich Flußmittel befand. Der Flußmittelbelag war durch einmaliges Darüberstreichen mit einer Bürste "
über die Platte, anschließendes 2 min dauerndes Trocknen bei 700C, Eintauchen in Lot während 5 sek bei 2500C und
anschließendes 15 min dauerndes Liegenlassen aufgebracht worden. Die Flußmittel waren aktivierte Flußmittel auf
Kolophoniumbasis,'}'fm Handel unter den Warenzeichen
Zeva CA, Fry's R8, Fry's S64, Multicore PC25, .Alpha 7II,
Alpha 809 und Alpha 862 erhältlich sind.
Das Reinigungsverfahren war wie oben beschrieben und umfaßte ein Eintauchen der verunreinigten Gegenstände in
309815/0779
den Sumpfraum der Reinigungskammer während eines Zeitraums
1 min und ein anschließendes Eintauchen in eine benachbarte Spülkammer während 10 sek. Das Lösungsmittelgemisch im
Sumpf bestand aus 1,1,2-Trichloro-i,2,2-trifluoroathan,
welches 23 bis 24,5 Gew.-/b Isopropanol enthielt. Das Gemisch
im Spültank bestand aus 94,6 Gew.-% des genannten Trichlorotrif luoroäthans und 5 »4 Gew.-Js» Isopropanol.
Beide Flüssigkeiten wurden am Sieden gehalten. Der Dampf über den Flüssigkeitsspiegeln wurde durch Kühlschlangen
kondensiert, und Kondensat wurde zum Spültank zurückgeführt. Sin azeotropes Gemisch aus dem genannten Trichlorotrifluoroäthan
und dem genannten Alkohol wurde in den Sumpf mit einer Geschwindigkeit eingeführt, welche den
Spiegel der Flüssigkeit im Sumpf aufrechterhielt. Alle Flußmittelspuren wurden durch diese Behandlung ohne Beschädigung
der Platten entfernt.
Das zu reinigende Material und die Reinigungsverfahren waren wie in Beispiel 1, mit dem Unterschied daß:
(1) das Lösungsmitteigemisch im Sumpf aus
1,1,2-Trichloro-i,2,2-trifluoroäthan
mit 24 bis 25,5 Gew.-% Industriesprit
(96 Gew.-% Äthylalkohol, 4 Gew.-% Methylalkohol)
bestand,
(2) das Gemisch im Spültank aus 94,6 Gew.-%
des genannten Trichlorotrifluoroäthans
und 5,4 Gew.-% Industriesprit bestand,
und
309815/0779
(3) £as azeotrope Gemisch, welches dem Sumpf
zugeführt wurde, 96,2 Gew.-% von dem genannten Trichlorotrifluoroathan und 3,8 Gew.-%
Industriesprit enthielt.
Alle Spuren von Plufimittelrückständen wurden durch diese Behandlung
ohne Beschädigung der Flatten entfernt.
Das zu reinigende Material und die Verfahren zur Reinigung waren wie in Beispiel 1 beschrieben, außer daß:
(1) das Lösungsmittelgemisch im Sumpf aus
1,1,2-Trichloro-i,2,2-trifluoroäthan mit
22,5 bis 23 Gew.-% Isopropanol bestand,
und
(2) zwei Spültanks verwendet wurden, von denen einer sich in der Nachbarschaft des Sumpfs
befand und 5,4· Gew.-% Isopropanol enthielt,
und der andere sich vom Sumpf entfernt befand und 4,7 Gew.-% Isopropanol enthielt.
Es wurden alle Spuren der Flußmittelrückstände durch diese
Behandlung ohne Beschädigung der Platten entfernt.
30981
Claims (1)
- Patentansprüche1. Verfahren zum Reinigen eines verunreinigten Gegenstands in einem System, bei welchem ein azeotropbildendea Genisch aus einem halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmittel und einem Hilfslösungsmittel verwendet wird, wobei das Gemisch bezüglich des HilfslSsungsnittels eine Konzentration aufweist, die größer ist als diejenige des Azeotrops, dadurch gekennzeichnet, daß der Gegenstand mit einem ersten erhitzten flüssigen Gemisch in Berührung gebracht wird, welches das halogenierte Kohlenwasserstofflösungsmittel und das Hilfslösungsmittel enthält, und hierauf mit einem zweiten flüssigen Gemisch gespült wird, welches einen niedrigeren Anteil Hilfβίο sungsait te 1 enthalt, als er im ersten. Flüssigkeitsgemisch anwesend ist.2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daS in das System kontinuierlich oder intermittierend aus einer äußeren Quelle ein im wesentlichen azeotropes Geaisch aus den halogenierten Kohlenwasserstofflösungsmittel und dem Hilfslösungsmittel oder entsprechende Mengen der beiden Lösungsmittel, welche dem im wesentlichen azeotropen Gemisch entsprechen, eingeführt wird bzw. werden.3· Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daS man einen verunreinigten Gegenstand in das erste erhitzte Flüssigkeitsgemisch eintaucht, wobei dieses Genisch sich in einem Sumpfraum eines Heinigungssystems befindet, und daß man hierauf den Gegenstand in das zweite Flüssigkeitsgenisch in einem Spülraun des Systems einführt,309816/0779wobei'das erste und das zweite'Flüssigkeitsgemisch eine gemeinsame Dampfzone aufweisen.4. Verfahren nach Anspruch 3» dadurch, gekennzeichnet, daß das zweite Flüssigkeitsgemisch ebenfalls erhitzt wird.5. Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß das im wesentlichen azeotrope Gemisch oder die entsprechenden Mengen des halogenierten Kohlenwasserstoff lösungsmittels und des HilfslÖsungsmittels, die im wesentlichen dem azeotropen Gemisch entsprechen, kontinuierlich oder intermittierend in den Sumpfe und/oder Spülraum des Reinigungssystems eingeführt wird bzw. werden.6. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß zumindest ein Teil der'durch Kondensation von Dämpfen aus der gemeinsamen Dampfzone erhaltenen Flüssigkeit zum Spülraum zurückgeführt wird.7- Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 6 ^ dadurch gekennzeichnet, daß das Flüssigkeitsgemisch vom Spülraum in den Sumpfraum überfließt.8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das erste azeotropbildende Gemisch mindestens 5 Gewichtsteile von dem Eilfslösungsnittel je 100 Gewichtsteile, bezogen auf das Gesamtgemisch, über der Menge enthält, welche dem Azeotrop selbst entspricht.9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet 3 daß das erste azeotropbildende Gemisch mindestens 10 Gewichtsteile Hilfslösungsmifctel je 100 Gewichtsteile des Gesamtgemischs über dem Anteil enthält, der dem Azeotrop entspricht.309815/077S10. Verfahren nach einem der vorhergebenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das halogenierte Kohlenwasserstofflcsungsmittel aus einem Fluorochlorokohlenwasserstoff besteht.11 * Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Fluorochlorokohlenwasserstoff 2 oder 3 Kohlenstoffatome enthält.12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch- gekennzeichnet, daß der Fluorochlorokohlenwasserstoff aus 1f1,2-Trichloro-1,2,2-trifluoroäthan besteht.13· Verfahren nach einen der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Hilfslösungsmittel ein Alkohol ist, der 1 bis 4 Kohlenstoffatome enthält.14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Alkohol aus Äthylalkohol besteht.15. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet," daß der Alkohol aus Methylalkohol besteht.16. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Alkohol aus tert-Butanol besteht.I?. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Alkohol aus Isopropylalkohol besteht.16. Verfahren nach Anspruch 17» dadurch gekennzeichnet, da3 die Konzentration des Isopropylalkohols im ersten azeotrop-30981S/0779M!-'vtnO QA3bildenden Gemisch, weniger als 70 Gew.-% des Gemischs be-19· Verfahren nach. Anspruch 18, dadurch, gekennzeichnet, daß die Konzentration des Isopropylalkohols im azeotropbildenden Gemisch zwischen 10 und 40 Gew.-%, "bezogen auf das Geniisch, "beträgt.20. Verfahren nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Isopropylalkohols im azeotropbiIdenden Gemisch zwischen 22 und 27 Gew.-%, bezogen auf das Gemisch, "beträgt.21. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 "bis 2C, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite Flüssigkeitsgemisch im Spülraun eine Konzentration an Hilfslösungsniittel aufweist, die vom Azeotrop "bis zu nicht mehr als 11 Gew.-% über dem azeotropen Gemisch reicht.22. Verfahren nach Anspruch 21, dadurch gekennzeichnet, daß das zweite ITüssigkeitsgemisch im Spülraum eine Konzentration des.EiIfslösungsmittels aufweist, die von derjenigen des Azeotrops bis nicht mehr als 5 Gew.-% über derjenigen des azeotropen Gemischs reicht.23. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 13, ^7, "1S, 21 und 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Tsopropanols' in der ersten Flüssigkeit im Sumpfraue zwischen 10 und 70 Gew.-% liegt und daß die Konzentration des Isopropanols in der zweiten Flüssigkeit im Spülraum zwischen derjenigen des Azeotrops und bis zu 14 Gew.-% Isopropanol liegt.30981S/0779BAD ORIGJNAU24. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 13 und 17 bis 23, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Isopropanols in der ersten Flüssigkeit io Sumpfraua 22 bis 27 Gew.-;» des Gemische beträgt und daß die Eonsentretion des Isopropanols in der zweiten Flüssigkeit in Spülraum zwischen derjenigen des Azeotrops und "bis zu 7 Gew.-?a Isopropanol reicht.25· Verfahren nach einem der Anspräche 3 bis i4-t 21 oder 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des .Äthylalkohols in der ersten !Flüssigkeit im Sunpfraura 25 bis 30 Gew.-% beträgt.26. Verfahren nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Äthylalkohols in der zweiten Flüssigkeit im Spülraum 5 bis 8 Gew.~% beträgt.27. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 13* 15» oder 22, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Methylalkohols in der ersten Flüssigkeit im Sumpfraum 17 bis 22 Gew.-% beträgt.28. Verfahren nach Anspruch 27, dadurch gekennzeichnet, daß die Konzentration des Methylalkohols in der zweiten Flüssigkeit im Spülraum 8 bis 10 Gew.-% beträgt.29. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 "bis 28, esdurch gekennzeichnet, dal? das im wesentliche azeotrope Gemisch, welches in das System eingeführt wird, eine Konzentration an Hilfslösungsmittel aufweist, die von der Konzentration des Azeotrcps bi·; zu derjenigen im· opültank reicht.309815/077«»BAD ORIGINAL OAS30. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 28, dadurch gekennzeichnet, daß das azeotröpe Gemisch selbst in das Systee eingeführt wird.3"i. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 13 und 1? bis 24, 29 oder 30, dadurch gekennzeichnet, daß das in das System eingeführte azeotröpe Gemisch im wesentlichen aus 97," Gev.-% '!,i^-Trichloro-i^^-trifluoroäthan und 2,9 Gew.-% Isopropanol besteht.32. . Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 3^» dadurch gekennzeichnet, daß mehrere Spülräume verwendet werden.33· Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 32, dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur de.s Flüssigkeitsgeaischs im Sumpf und im Spülraum mindestens 300C beträgt und bis zum Siedepunkt der Gemische reicht.3^. Verfahren nach Anspruch 33» dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur der Gemische mindestens 1IO0C beträgt und bis zum Siedepunkt der Gemische reicht.35· Verfahren nach Anspruch 34» dadurch'gekennzeichnet, daß das j?lüs3igkeitsgenisch aus 1,1,2-TrIChIOrO-I,2,2-trifluoroäthan und Isopropanol besteht und die Temperatur im Bereich von -4-5 bis 500C liegt.36. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein verunreinigter Gegenstand mit den ersten erhitzren Plüssigkeitsgenisch in einem Reinigungssystem mit einem Raum (Sumpfraum) in Berührung gebracht wird, daß der jegenstand in die Dampf zone über diesen P.aunv gezogen wird und lsi? er dann dsrin ziit dem zweiten Flüssigkeitsge-aisch301015/0770 BADgespült wird, welches selbst durch Kondensation von Dämpfen aus der Dampfzone erhalten wird.57· Abwandlung des Verfahrens nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet, daß der Gegenstand nach dec Eintauchen in das erste erhitzte Flüssigkeitsgenisch durch die und aus der genannten Danpfzone gezogen wird, abkühlen gelassen wird und^ dann wieder in die genannte Dampfzone zurückgeführt wird, wo er dann durch das zweite Flüssigkeitsgemisch gespült wird, welches durch direkte Kondensation von Dämpfen aus der Dampfzone auf den. abgekühlten Gegenstand erhalten wird.33. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das erste und das zweite Flüssigkeitsgemisch sich in voneinander getrennten Häumen befinden und keine gerneinsane Dampfzone aufweisen, wobei kondensierte Flüssigkeit aus Dämpfen'über den ersten erhitzten Gemisch zum zweiten erhitzten Flüssigkeitsgemisch geführt wird.59· Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei den zu reinigenden Gegenstand um eine gedruckte Schaltung oder um ein Bauteil davon handelt, welche bzw. welches mit Flußmittelrückständen ve runre ini gt ist.40. Vorrichtung zum Reinigen von verunreinigten Gegenständen, welche einen Behälter mit folgenden Teilen aufweis-: einen 3umpfraum, der mit einer Erhitzungsvorrichtung ausgerüstet ist und ein Volumen eines azeotropbildenden Gemischs, wie es oben definiert wurde, mit einer zum Eintauchen der verunreinigten Gegenstände ausreichenden Tiefe enthält, ein oder mehrere >3pülräun:e in der liihe der.3 Oil β J 5/'!771 BAD ORIGINAL224738tSuEipirsuias j die nit einer Erhitzungsvorrichtung: oder init Erhitzungsvorrichtuiigen versehen sind "and ein Flüssigkeitsvolunen, wie es oben definiert wurde. T. das sich von demjenigen im Sumpf raum unterscheidet Λ enthält bzw. enthalten, wobei der ■ Sp-ülratna ausgestaltet ist,, daß Flüssigkeit in den Sunpfraura überflie3en kann, eine Dampfzone, die mit sowohl den Sumpfals auch mit den Spülräumen in Verbindung steht, eine Kühleinrichtung, die eine Kondensation von Dampf über den 3uEipf- und Spülräumen bewerkstelligt,und eine Einrichtung mit der kondensierte Flüssigkeit in den oder die Spülräune zurückgeführt· werden kann.WL-»t».R FINCKfc DtPL-MO. a »OH«BAD ORIGINALitLeerseite
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB4487671A GB1399867A (en) | 1971-09-27 | 1971-09-27 | Cleaning process |
US28911372A | 1972-09-14 | 1972-09-14 | |
US05/558,380 US3957531A (en) | 1971-09-27 | 1975-03-14 | Two tank cleaning process using a contaminated cleaning mixture capable of forming an azeotrope |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2247398A1 true DE2247398A1 (de) | 1973-04-12 |
DE2247398C2 DE2247398C2 (de) | 1985-06-27 |
Family
ID=27259865
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2247398A Expired DE2247398C2 (de) | 1971-09-27 | 1972-09-27 | Verfahren zum Reinigen von Gegenständen |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3957531A (de) |
CA (1) | CA1017655A (de) |
CH (1) | CH568103A5 (de) |
DE (1) | DE2247398C2 (de) |
FR (1) | FR2155354A5 (de) |
GB (1) | GB1399867A (de) |
NL (1) | NL174964C (de) |
Families Citing this family (37)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2660992C2 (de) * | 1975-12-08 | 1988-09-01 | Allied Corp., Morristown, N.J., Us | |
FR2345413A1 (fr) | 1975-12-08 | 1977-10-21 | Allied Chem | Compositions du genre azeotropes, a base de trichlorotrifluoroethane |
US4056403A (en) * | 1976-05-27 | 1977-11-01 | Olin Corporation | Solvent composition used to clean polyurethane foam generating equipment |
US4233120A (en) * | 1978-04-14 | 1980-11-11 | John Gladstone & Company (Engineering) Limited | Distillation method for solvent recovery |
US4260510A (en) * | 1978-10-23 | 1981-04-07 | Imperial Chemical Industries Limited | Cleaning composition |
US4269630A (en) * | 1979-10-01 | 1981-05-26 | George M. Stephenson | Two-step process and composition for cleaning polished surfaces |
US4483717A (en) * | 1981-10-08 | 1984-11-20 | Olmsted John H | Method of removing adsorbent contaminants from electrical apparatus |
EP0085560A1 (de) * | 1982-01-28 | 1983-08-10 | Diamond Shamrock Europe Limited | Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen Beschmutzter Gegenstände |
US4530601A (en) * | 1983-10-24 | 1985-07-23 | The Dow Chemical Company | Quantitative test for residual rosin on cleaned circuit boards |
US4984597B1 (en) * | 1984-05-21 | 1999-10-26 | Cfmt Inc | Apparatus for rinsing and drying surfaces |
US4778532A (en) * | 1985-06-24 | 1988-10-18 | Cfm Technologies Limited Partnership | Process and apparatus for treating wafers with process fluids |
US4911761A (en) * | 1984-05-21 | 1990-03-27 | Cfm Technologies Research Associates | Process and apparatus for drying surfaces |
US4648417A (en) * | 1985-02-11 | 1987-03-10 | Entek Manufacturing Inc. | Apparatus for degreasing a continuous sheet of thin material |
US4711256A (en) * | 1985-04-19 | 1987-12-08 | Robert Kaiser | Method and apparatus for removal of small particles from a surface |
US4983222A (en) * | 1988-04-14 | 1991-01-08 | Union Carbide Chemicals And Plastics Company Inc. | Vapor solvent decontamination of PCB transformer components |
IT1226507B (it) * | 1988-09-07 | 1991-01-23 | Ausimont Spa | Composizione solvente per il deflussaggio di circuiti stampati |
DE4002120A1 (de) * | 1990-01-25 | 1991-08-01 | Hoechst Ag | Neues azeotropartiges loesemittelgemisch und verfahren zur reinigung von elektronischen bauteilen mit hilfe desselben |
US5271774A (en) * | 1990-03-01 | 1993-12-21 | U.S. Philips Corporation | Method for removing in a centrifuge a liquid from a surface of a substrate |
DE4013369A1 (de) * | 1990-04-26 | 1991-10-31 | Hoechst Ag | Neues azeotropes oder azeotropartiges gemisch aus 2,2,2-trifluorethyl-1,1,2,2-tetrafluorethylether und ethanol sowie dessen verwendung |
US5090432A (en) * | 1990-10-16 | 1992-02-25 | Verteq, Inc. | Single wafer megasonic semiconductor wafer processing system |
US5106425A (en) * | 1990-10-22 | 1992-04-21 | Baxter International, Inc. | Method for maintaining a flammable solvent in a non-flammable environment |
US5082503A (en) * | 1990-10-22 | 1992-01-21 | Baxter International Inc. | Method for removing contaminants from the surfaces of articles |
US5113883A (en) * | 1990-10-22 | 1992-05-19 | Baxter International Inc. | Apparatus for cleaning objects with volatile solvents |
US5201960A (en) * | 1991-02-04 | 1993-04-13 | Applied Photonics Research, Inc. | Method for removing photoresist and other adherent materials from substrates |
MX9202882A (es) * | 1991-06-14 | 1993-07-01 | Petroferm Inc | Procedimiento de limpieza. |
DE59208347D1 (de) * | 1991-06-21 | 1997-05-22 | Solvay | Azeotropartiges Gemisch aus Methanol und 1H-Perfluorhexan |
EP0519432A3 (en) * | 1991-06-21 | 1993-05-05 | Hoechst Aktiengesellschaft | Azeotrope-like mixture of 2-propanol and 1h-perfluorohexane |
ATE258084T1 (de) * | 1991-10-04 | 2004-02-15 | Cfmt Inc | Superreinigung von komplizierten mikroteilchen |
US6355113B1 (en) | 1991-12-02 | 2002-03-12 | 3M Innovative Properties Company | Multiple solvent cleaning system |
DE69320725T2 (de) * | 1992-06-29 | 1999-04-01 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Harzzusammensetzung zum Dichten und eine mit Dichtharzzusammensetzung bedeckte Halbleitervorrichtung |
US5401429A (en) * | 1993-04-01 | 1995-03-28 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Azeotropic compositions containing perfluorinated cycloaminoether |
US5494601A (en) * | 1993-04-01 | 1996-02-27 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Azeotropic compositions |
US6187729B1 (en) * | 1993-12-14 | 2001-02-13 | Petroferm Inc. | Cleaning composition comprising solvating agent and rinsing agent |
US6039059A (en) | 1996-09-30 | 2000-03-21 | Verteq, Inc. | Wafer cleaning system |
US6328809B1 (en) | 1998-10-09 | 2001-12-11 | Scp Global Technologies, Inc. | Vapor drying system and method |
JP2004140196A (ja) * | 2002-10-17 | 2004-05-13 | Nec Electronics Corp | 半導体装置の製造方法および基板洗浄装置 |
US7052556B1 (en) | 2003-03-10 | 2006-05-30 | Montie-Targosz Enterprises, Llc | Process for removal of paint from plastic substrates |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL251879A (de) * | 1959-05-22 | 1900-01-01 | ||
US2153577A (en) * | 1935-03-07 | 1939-04-11 | Du Pont | Process of degreasing |
DE2003189A1 (de) * | 1969-02-06 | 1970-09-03 | Allied Chem | Loesungsmittelgemisch |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2220124A (en) * | 1938-07-20 | 1940-11-05 | Westvaco Chlorine Products Cor | Degreasing |
GB550703A (en) * | 1941-07-18 | 1943-01-20 | William Edward Booth | Improvements in the degreasing of metal articles |
US2999816A (en) * | 1960-08-15 | 1961-09-12 | Du Pont | Azeotropic composition |
NL129954C (de) * | 1964-04-02 | |||
US3723332A (en) * | 1970-11-27 | 1973-03-27 | Allied Chem | Stabilized perchlorofluorocarbon compositions |
US3881949A (en) * | 1973-02-27 | 1975-05-06 | Du Pont | Vapor degreaser process employing trichlorotrifluoroethane and ethanol |
-
1971
- 1971-09-27 GB GB4487671A patent/GB1399867A/en not_active Expired
-
1972
- 1972-09-26 CH CH1398972A patent/CH568103A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-09-26 FR FR7234011A patent/FR2155354A5/fr not_active Expired
- 1972-09-26 CA CA152,600A patent/CA1017655A/en not_active Expired
- 1972-09-27 NL NLAANVRAGE7213041,A patent/NL174964C/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-09-27 DE DE2247398A patent/DE2247398C2/de not_active Expired
-
1975
- 1975-03-14 US US05/558,380 patent/US3957531A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2153577A (en) * | 1935-03-07 | 1939-04-11 | Du Pont | Process of degreasing |
NL251879A (de) * | 1959-05-22 | 1900-01-01 | ||
DE2003189A1 (de) * | 1969-02-06 | 1970-09-03 | Allied Chem | Loesungsmittelgemisch |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL7213041A (de) | 1973-03-29 |
US3957531A (en) | 1976-05-18 |
AU4659372A (en) | 1974-03-21 |
GB1399867A (en) | 1975-07-02 |
NL174964C (nl) | 1984-09-03 |
DE2247398C2 (de) | 1985-06-27 |
FR2155354A5 (de) | 1973-05-18 |
CA1017655A (en) | 1977-09-20 |
CH568103A5 (de) | 1975-10-31 |
NL174964B (nl) | 1984-04-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2247398A1 (de) | Reinigungsverfahren | |
DE2345037C2 (de) | Verfahren zum Reinigen von Gegenständen | |
DE69604477T2 (de) | Reinigung von Teilen unter Verwendung von umweltfreundlichen Lösungsmitteln | |
DE69131853T2 (de) | Reinigungsverfahren | |
DE2133852A1 (de) | Lösungsmittelzusammensetzungen | |
DE2355908C3 (de) | Homogenes flüssiges Mittel zum Behandeln von Oberflächen | |
DE2008468A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Entfernung von Wasser aus einem nicht absorbierenden Gegenstand | |
DE2025635C3 (de) | Verfahren zur Entfernung von Wasser von einem nicht absorbierenden Gegenstand | |
DE2711056A1 (de) | Verfahren zum passivieren von metallflaechen | |
DE69616293T2 (de) | Reinigungsverfahren und -vorrichtung | |
DE69204852T2 (de) | Verfahren zum entfernen von wachs mit einem nichtchlorierten lösungsmittel. | |
DE1276981B (de) | Emulsion vom Wasser-in-OEl-Typ zum Reinigen und/oder Trocknen von Metall-, Gummi-, Kunststoff- und/oder Lackoberflaechen | |
DE3125613A1 (de) | Dampfentfettungsverfahren und loesungsmittelgemisch hierfuer | |
DE4022927A1 (de) | Zusammensetzungen aus dichlorpentafluorpropanen und aceton | |
DE4227130A1 (de) | Zusammensetzungen aus 1-Chlor-2,2,2-trifluorethyldifluormethylether und partiell fluorierten Alkanolen | |
DE69113941T2 (de) | Verfahren zur Reinigung von Artikeln. | |
DE2133850C3 (de) | Lösungsmittelzusammensetzungen | |
DE2049340A1 (de) | C hlorokohlenwasserstofflosungsmittel | |
DE2133853C3 (de) | Lösungsmittelzusammensetzungen | |
AT279304B (de) | Reinigungs- oder Trocknungsmittel für metallische und andere Gegenstände | |
DE2301357C2 (de) | Verfahren zur Entfernung von Flüssigkeiten von einem Gegenstand | |
DE2946233C2 (de) | Reinigungsmittel zur Verwendung in der ersten Stufe bei einem Verfahren zum Reinigen und Trocknen der Oberfläche eines festen Gegenstandes | |
DE2133849B2 (de) | ||
DE69300217T2 (de) | Verfahren zur Entfettung einer Vielzahl von Objekten. | |
DE1937272A1 (de) | Halogenierte Kohlenwasserstoff-Stoffzusammensetzungen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OD | Request for examination | ||
AG | Has addition no. |
Ref country code: DE Ref document number: 2345037 Format of ref document f/p: P |
|
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
AG | Has addition no. |
Ref country code: DE Ref document number: 2345037 Format of ref document f/p: P |
|
8365 | Fully valid after opposition proceedings |