DE2243976B2

DE2243976B2 - Verfahren zur herstellung einer sekundaerelektronenemission vermindernden schicht fuer nachbeschleunigungs- farbbildroehren

Info

Publication number: DE2243976B2
Application number: DE19722243976
Authority: DE
Inventors: Akira Kasai Toshiaki Fukuda Kenji Nakai Hiromitu Mobara Misumi (Japan)
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1971-09-08
Filing date: 1972-09-07
Publication date: 1977-07-14
Also published as: DE2243976C3; FR2152730A1; CA974411A; US3873343A; GB1405899A; DE2243976A1; FR2152730B1

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer Sekundärelektronenemission vermindernden Schicht auf durch Primärclekironen beaufschlagten Flächen für Nachbeschleunigung-Farbbildröhren nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.

Es sind bereits Nachbeschleunigungs- Farbbildröhren entwickelt worden, bei denen auf der Innenwand eines Glaskolbens eine Sekundärelektronenemission vermindernde Schicht vorgesehen ist. Diese Schicht kann beispielsweise auf der Oberfläche einer Schatten- oder Lochmaske oder der Oberfläche einer anderen Einrichtung, auf die die Primärelektronen aufprallen, angeordnet scm. rlinc derartige Sekundärelektronenemission vermindernde Schicht für Naehbeschleunigungs-Farbbildröhren kann hergestellt werden, indem eine Mischungsschicht aus einem Sekundärelektronenemission vermindernden Material, wie z. B. Graphitteilchen, und aus einem anorganischen Bindemittel, wie z. B. Wasserglas, durch eine Wärmebehandlung bei der Herstellung der Röhre nicht weggebranni wird, so dal das Bindemittel selbst nach der Fertigstellung der Röhn beispielsweise auf der Oberfläche der Schatten- ode Lochmaske vorhanden ist.

Eine derartige Sekundärelektronenemission vermin dernde Schicht ist ein Film mit einer starken Haft- odei Klebekraft. Die Sekundärelektronenemission vermin dernde Wirkung einer solchen Schicht ist jedoch nich so groß, daß eine zufriedenstellende Arbeitsweise dei ίο Sekundärelcktronenemission vermindernden Schich erreicht wird. Dies beruht darauf, daß das Sekundärelek tronenemissionsverhältnis der Schicht aus dem anorga nischen Bindemittel aus Wasserglas od. dgl., die da« Sekundärelektronenemission vermindernde Matcria bedeckt, im allgemeinen groß ist, so daß die Anzahl dei in der anorganischen Bindemittelschicht erzeugter Sekundärelektronen beträchtlich wird, wodurch wiederum die Anzahl der von derSekundärelekironenemission vermindernden Schicht ausgesandten Sekundärelektronen groß wird.

Um das Sekundärelektronenemissionsverhältnis der Sekundärelektronenemission vermindernden Schicht /u verringern, wurde bereits diese Schicht mit z. B. einem organischen Bindemittel hergestel't, das bei der Wärmebehandlung wahrend der Fertigung der Röhre wegbrennt. Dabei wird die Sekundärelektronenemission vermindernde Schicht hergestellt, indem eine Suspension aus dem organischen Bindemittel und den Teilchen des Sekundarelektronenemission vermindernden Materials durch ein herkömmliches Sprühverfahren aufgesprüht wird. Das organische Bindemittel wird durch die Wärmebehandlung beim Herstellungsverfahren der Röhre weggebrannt. Die auf diese Weise erhaltene Sekundärelektronenemission vermindernde Schicht hat jedoch eine kleine Haftkraft und blättert leichi ab. so daß sie wenig geeignet ist.

Im einzelnen ist eine Farbbildröhre bekannt (DT-OS 15 37 070), bei der auf die Leuchtstoffe eine Aluminiumschicht mit großem Reflexionsvermögen aufgebracht ist, die mit einer porösen Graphitbrennschicht versehen ist. Die Graphitbremsschicht wird durch Aufstäuben einer kolloidalen Suspension von Graphitkörnchen in Äthylalkohol hergestellt, wobei der Durchmesser der Graphitkörnchen in der Größenordnung von I μΐη liegt. Dieser Suspension wird eine filmbildende Substanz (Kollodium oder Methylmethacrylat) beigefügt, die bei der üblichen Wärmebehandlung weggebrannt wird. Die verkohlten Verbrennungsrückstände dieser Substanz gewährleisten den Zusammenhalt der Graphitkörnchen miteinander und mit der Aluminiumschicht.

Durch eine Graphitschicht, die die Aluminiumschicht

des Bildschirms bedeckt, wird bei einer anderen bekannten Röhre eine Verbesserung des Kontrastes durch Verminderung der Sekundärelektronenemission des Schirmes erzielt (DT-OS 14 62 488).

Weiterhin ist noch ein Verfahren zur Herstellung von

gleichmäßigen Leuchtschirmen bekannt (DTPS 7 48 5%). bei dem der Leuchtstoff auf eine nicht ausheizbarc anorganische Bindemittelschicht, nämlich

<k> Wasserglas aufgebracht wird.

Fs ist .schließlich bekannt, den Röhrenkonus einer I.ochmasken-Farbbildrohre vor dem Aufbringen einer Graphitschicht mit Flußsäure aufzurauhen (»Funkschau«, 1967, Heft 17, S. 513-516).

i>i Es ist die Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung einer Sekundärelektronenemission vermindernden Schicht anzugeben, die eine erhöhte Haftkraft mit ihrer Unterlage und zugleich eine geringe

Sekundäremission aufweist.

Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der eingangs genannten Art erfindungsger.iäß durch die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs I angegebenen Merkmale gelöst.

Bei der Erfindung wird ein organisches Bindemittel verwendet und zugleich eine erhöhte Haftkraft der SekundürclcKironenemission vermindernden Schicht mit der Unterlage erreicht.

Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt

Fig. I einen Schnitt durch eine Schattenmaske zur Erläuterung eines bekannten Verfahrens zur Herstellung einer die Sekundärelektronenemission vermindernden Schicht.

Fig. 2 und 3 Schnitte durch Schatteimasken zur Erläuterung von Ausführungsbeispielen des erfindungsgemäßen Verfahrens.

Fig.4 ein Diagramm mit dem Sekundärelektronenemissionsverhaltnis (J) über der Beschleunigungsspannung der Primärelektronen (in Volt) für die in den Fig. 2 und 3 dargestellten, die Sekundärelektronenemission vermindernden Schichten,

Fig. 5 einen Schnitt durch eine Schattenmaske zur Erläuterung eines weiteren Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens, und

F i g. b ein Diagramm (ähnlich zu Fig.4) mit dem Sekundärelektronencmissionsverhältnis für die in der F i g. 5 dargestellte Schicht.

In F i g. 1 ist das Ergebnis eines bekannten Verfahrens zur Herstellung einer die Sekundärelektronenemission vermindernden Schicht für eine Nachbesehleunigungs-Farbbildröhre dargestellt. In dieser Figur ist eine Schatten- oder Lochmaske 1 vorgesehen, auf deren Oberfläche eine Sekundärelektronenemission vermindernde Schicht 2 ausgebildet ist. Diese Schicht 2 besteht aus einer Mischungsschicht aus einem Sekundärelektronenemission vermindernden Material 3, wie beispielsweise Graphitteilchen, und einem anorganischen Bindemittel 4, wie beispielsweise Wasserglas, das bei der Wärmebehandlung während der Herstellung der Röhre nicht weggebrannt wird.

Die Schicht 2 ist zwar vorteilhaft, da sie einen dünnen Film mil einer starken Haftkraft bildet, bei dem das anorganische Bindemittel 4 vollständig die Oberfläche der Teilchen des Materials 3 und die Oberfläche der Schicht 2 in der Form eines dünnen Filmes bedeckt. Auf der anderen Seite weist der die Sekundärelektronenemission vermindernde Effekt eine Tendenz auf, die in der Fig. 4 durch eine Kurve 20 dargestellt ist. Die Funktion als eine Sekundärelektronenemission vermindernde Schicht wird also nicht ausreichend erfüllt. Dies beruht darauf, daß da das Sekundärelektronenemissionsverhältnis (Δ) der Schicht aus dem anorganischen Bindemittel, wie beispielsweise Wasserglas, die das Material 3 bedeckt, im allgemeinen groß ist, die Anzahl der durch die anorganische Bindemittelschicht erzeugten Sekundärelektronen groß wird, so daß sehr viele Sekundärclektronen von der gesamten Schicht 2 ausgesandt werden. ίο

Um das Sekundärelektronenemissionsverhältnis der Sekundärelektronenemission vermindernden Schicht zu verringern, wurde versucht, diese mit einem Bindemittel, wie beispielsweise lediglich einem organischen Bindemittel, herzustellen, das bei der Wärmebehandlung während der Fertigung der Röhre wegbrennt. Im einzelnen wird die Sekundärelektronenemission vermindernde Schicht derart hergestellt, daß eine Suspension aus einem organischen Bindemittel und den Teilchen des Sckundärelektronenemission vermindernden Materials durch ein herkömmliches Sprühverfahren aufgesprüht wird. Das organische Bindemittel wird während der Wärmebehandlung beim Herstellungsverfahren der Röhre weggebrannt. Die auf diese Weise hergestellte Sekundärclektronenemission vermindernde Schicht weist jedoch eine schwache Bindekraft unter den Teilchen des Sekundärelektronenemission vermindernden Materials auf und blättert daher leicht ab.

Im folgenden wird die Erfindung anhand der F i g. 2 bis 6 beschrieben. In diesen Figuren werden für sich entsprechende Teile die gleichen Bezugszeichen verwendet.

In Fig.4 ist ein Schnitt durch eine Schattenmaske dargestellt. In dieser Figur ist eine anorganische Bindemittelschichl 8 auf einer Schattenmaske I aus einer anorganischen Verbindung vorgesehen. Als anorganische Verbindung eignet sich Wasserglas, das bei einer Wärmebehandlung nicht wegbrennt. Weiterhin ist eine Mischungsschicht 9 auf der anorganischen Bindemittelschicht 8 vorgesehen. In eier Schicht 9 sind die Teilchen des die Sekundarelekironenemission vermindernden Materials 3 und ein organisches Bindemittel 6 vermischt. Diese Sekundärelektronencmission vermindernde Schicht wird beispielsweise in der oben aufgezeigten Weise hergestellt.

Um das Abblättern der Sekundärelektronenemission vermindernden Schicht auszuschließen, ist ein anorganisches Bindemittel wie beispielsweise Wasserglas, das selbst bei einer Wärmebehandlung nicht wegbrennt, sehr dünn auf der Oberfläche der Schattenmaske 1 vorgesehen, auf die die Primärelektronen aufireffen. Auf diese Weise wird die anorganische Bindemittelschicht 8 zwischen 1 und 2 μηι click ausgebildet. Eine Suspension aus dem organischen Bindemittel β Lind den Teilchen des Materials 3, wie beispielsweise Graphit, dessen Korngröße nicht über einige μηι hinausgehl, wird auf die anorganische Bindemiiielschicht 8 durch ein herkömmliches Sprühverfahren aufgesprüht, um dadurch die Mischungsschicht 9 zu bilden. Danach wird das organische Bindemittel b durch eine Wärmebehandlung weggebrannt, um eine Sekundärelekironenemis sion vermindernde Schicht herzustellen, die aus der anorganischen Bindemittelschicht 8 und dem die Sekundärelektronenemission vermindernden Material besteht.

Obwohl bei einem derartigen Verfahren das organische Bindemittel 6 nach dem Sintern bei tier Herstellung der Röhre wegbrennt, ist die Sekundärelekironcnemission vermindernde Schicht mit einer ausreichend großen Bindekraft unter den Teilchen und einer ausreichend großen Bindekraft /wischen den Teilchen und der Schattenmaske 1 ausgestattet. Ein zufriedenstellender Einsatz ist daher in der Praxis möglich. Zusätzlich weist das anorganische Bindemittel ein großes Sekundärelektronenemissionsverhältnis lediglich in der Nähe der Oberfläche der Schattenmaske I auf, so daß das Sekundärclekironenemissionsverhältnis der Sekundärelektronenemission vermindernden Schicht auf einen ausreichend niedrigen Wert heruntergedrückt wird, wenn die Mischungsschicht 9 dick ausgebildet wird.

Beispiel I

Auf die Oberfläche einer Lochmaske wird Kaliwasserglas mit einer Konzentration von 10 Gew.-% aufgesprüht, um eine anorganische Bindemittelschicht

aus Wasserglas mil einer großen ll.iiikrafi im halbgelrockneten Zusland zu bilden, die I bis 2 μπι dick ist. Auf die anorganische Bindemitlelschieht wird eine Suspension aus Ciraphit und einem organischen Bindemittel in Wasser mit einem Gehall von b.b Gew.-% von floekcnförmigem Graphit bei einer Teilchengröße von 1 (im mit Hilfe einer Sprüheinrichtung aufgesprüht, um eine Misehungsschichi aus (jraphit und dem organischen Bindemittel /u bilden, die 10 μηι dick ist. Danach wird bei der Wärmebehandlung wahrend der Herstellung der Farbbildröhre die Mischiingsschichi erhitzt, um das organische Bindemittel wcgziibrennen. Auf diese Weise wird eine Sekundärelekiroiienemission vermindernde Schicht .ms der anorganischen Bindemitlelschicht und der Graphitschicht gebildet.

Die so hergestellte Sekundärelektronenemission vermindernde Schicht hat eine ausreichende Stärke. Wie aus einer Kurve 2.3 tier F i g. 4 hervorgeht, ist die .Sekundärelektronenemission vermindernde Wirkung der Schicht bei diesem Ausführungsbeispiel besser, verglichen mit der bekannten Mischiingsschichi. die aus dem anorganischen Bindemittel und dem Sekundärelektronenemission vermindernden Material besteht, und deren Kennlinie in der Kurve 20 gezeigt ist. Darüber hinaus ist die Kurve 23 sehr ähnlich zu einer Kennlinie, die bei Ciraphit allein ohne anorganische Bindemittel schicht aultritt, obwohl diese zuletzl genannte Kurve nicht dargestellt ist.

In !·' i g. J ist ein Schnitt zur Erläuterung eines zueilen Ausführimgsbeispiels der Erfindung dargestellt. Eine anorganische Bindemiltelschichl 10. die auf der Maske 1 vorgesehen ist. besteht aus einem anorganischen Bindemittel, wie beispielsweise Wasserglas, das bei einer Wärmebehandlung nicht wegbrennt, und aus einem feinen Pulver II. aus einem Material, wie beispielsweise Graphit oder Silber, das keine nachteilige Wirkung auf die Funktion der Bildröhre ausübt. Weiterhin ist eine Mischungsschicht 9 auf der anorganischen Bindemiltelschichl 10 vorgesehen, die aus Teilchen des die .Sekundarelektronenemission vermindernden Materials 3 und aus dem organischen Bindemittel 6 besteht. Das feine Culver Il bewirkt eine aufgerauhte Oberfläche der Bindemiltelschichl 10. so daß zwischen der Maske 1 und der Schicht 10 und _4<i zwischen der Mischungsschicht 9 und der Schicht 10 eine größere Haftkraft erhalten werden kann. Weilerhin erniedrigt die aufgerauhte Oberfläche die Sekundärelektronenemission von der anorganischen Bindemittelschicht. Die Sekundarelektronenemission vermindernde Schicht wird beispielsweise, wie weiter unten näher erläutert, hergestellt.

Um das Abblättern der Sekundärelektronenemission vermindernden Schicht zu vermeiden, wird auf die Maske 1 eine Mischung aus der anorganischen Bindemittcllösung. die selbst bei der Wärmebehandlung nicht wegbrennt, und aus dem feinen Pulver aus dem Material, das keinen nachteiligen Einfluß auf die Funktion der Bildröhre ausübt, dünn aufgebracht, beispielsweise durch Sprühen, um die Bindemittelschicht 10 /u bilden. Danach wird eine Suspension aus den Teilchen des Materials 3. wie beispielsweise Graphit, mit einer Teilchengröße von einigen μηι oder weniger, durch ein herkömmliches Sprühverfahren aufgesprüht, um die Mischungsschicht 9 zu bilden, wobei die Suspension das organische Bindemittel 6 enthält Danach wird das organische Bindemittel durch die Wärmebehandlung weggebrannt.

In Übereinstimmung mit dem zuvor beschriebenen Verfahren hai selbst nach dem Wegbrennen des organischen Bindemittels 6 während lies Sinterns bei der Herstellung der Röhre die .Sekundarelektronenemission vermindernde Schicht eine ausreichend große Bindekraft unter ilen Teilchen sowie zwischen den Teilchen und dem Substrat. Sie ist daher für den praktischen Gebrauch sehr vorteilhaft Da das anorganische Bindemittel mit einem großen Sekundäielektronenemissionsverhältnis lediglich in der Nähe der Maske I vorgesehen ist. kann das Sekundärelektronenemissionsverhältnis der die Sektindärelektronenemission vermindernden Schicht genügend klein gemacht vv eitlen, wenn die Schicht dick hergestellt wird.

I? e i s ρ 1 e I 2

Fine Flüssigkeit aus einem Kaliwasserglas mit einer Konzentralion von 10 bis 5 Gew.-% von flockenförmigem Graphit und einer Teilchengröße von 0.3 um in Wasser wird auf die Oberfläche des Substrats einer Schalten- oder Lochmaske mit einer Sprüheinrichtung aufgesprüht. Auf diese Weise wird eine anorganische Bindemitlelschicht mit einer starken Haftkraft im halbgelrockneten Zustand und mit einer Schichtdicke von I bis 2 μηι ausgebildet. Eine Suspension aus Graphit und aus einem organischen Bindemittel in Wasser mit b.b Gevv.-% von flockenförmigem Graphit mit einer 1 teilchengröße von 1 μηι wird auf eli0 anorganische Bindemittclschicht mit Hilfe einer Sprüheinrichtung aufgesprüht. Auf diese Weise wird eine Mischlings schicht aus Graphit und dem organischen Bindemittel mit einer Schichtdicke von 7 μηι gebildet. Danach wird die Mischungsschicht wahrend der Wärmebehandlung bei der Herstellung der Farbbildröhre erhitzt, um das organische Bindemittel wegzubrennen.

Die auf diese Weise hergestellte Sekundarelektronenemission vermindernde Schicht hat eine ausreichende Stärke. Das Sekundärelektronenemissionsv erhältnis der Schicht ist durch die Kurve 23 in der F i g. 4 dargestellt (wie die Sekundarelektronenemission vermindernde Schicht gemäß dem Ausführungsbeispiel der (■" i g. 2).

Was die Dicke der Mischiingsschichi bei den Ausfiihriingsbeispielen der I'i g. 2 und 3 anbelangt, ist ein Wert von ungefähr 3 μηι ausreichend, um die Sekundarelektronenemission genügend zu vermindern. Ein Wen von ungefähr 5 bis 10 μπι ist im Hinblick auf die Herstellungsverfahren vorteilhaft. Die obere Grenze der Schichldicke liegt für den prakiischen Gebrauch bei ungefähr 30 μιη.

In F i g. 5 ist ein Schnitt /ur Erläuterung eines dritten Ausführungsbeispiels der Erfindung dargestellt. Die Mischungsschicht 2. die das anorganische Bindemittel 4 aus einer anorganischen Verbindung, wie beispielsweise Wasserglas, das bei einer Wärmebehandlung nicht wegbrennt, und die Teilchen aus dem die Sekundarelektronenemission vermindernden Material 3. enthält, ist auf der Maske 1 vorgesehen. Auf der Oberfläche der Mischungsschicht 2 ist eine Oberflächenschicht 12 vorgesehen, die aus den Teilchen des die Sekundarelektronenemission vermindernden Materials 3 besteht. Die Teilchen des Materials 3 sind in der Schicht 2 zur Verringerung der Sekundarelektronenemission von dieser Schicht und zur Aufrauhung der Oberfläche der Schicht 2 vorgesehen. Die aufgerauhte Oberfläche der Mischungsschicht gewährleistet auch eine größere Haftung zwischen dieser und der Oberflächenschicht.

Die Sekundarelektronenemission vermindernde Schicht wird beispielsweise wie folgt hergestellt: Um

Jas Abblättern der Sekundürelekironenemission vermindernden Schicht auszuschließen, ist auf der Oberfläche der Maske I eine Mischung aus dem anorganischen bindemittel 4 aus Wasserglas od. dgl., das selbst bei der Wärmebehandlung nicht wegbrennt, und aus den Teilchen des die Sekundärelektronenemission vermindernden Materials 3, wie beispielsweise Graphit, sehr dünn \orgesehen. Die Dicke der Schuht betragt 1 bis 2 μηι. In diesem Fall wird ein organisches Bindemittel, das bei der Wärmebehandlung wegbrennt. zur Frhöhung des Wirkungsgrades des Überzuges mit vermischt.

Danach wird eine Flüssigkeit, in der die Teilchen des Materials J mit einer kleineren Teilchengröße als einigen μπι in Wasser oder Äthylalkohol verteilt sind, auf die beschichtung durch ein herkömmliches Sprühverfahren, beispielsweise mit einer Sprüheinrichtung, aufgesprüht. Auf diese Weise wird die Oberflächenschicht 12 gebildet. Eine .Sekundärelektronenemission vermindernde Schicht besteht aus der Oberflächenschicht 12 und der Mischungsschicht 2. Die Dicke eier Oberflächenschicht 12 kann einige μηι oder mehr betragen. Die obere Grenze liegt ungefähr bei 20 μηι.

In Übereinstimmung mit den vorhergehenden Verfahren hat die Sekundärelekiionenemission vermindernde Schicht eine atisreichend große Bindekraft zu ischen den Teilchen sowie zwischen den Teilchen und dem Substrat. Sie ist deshalb für den praktischen Gebrauch vorteilhaft. Darüber hinaus kann das Sekiindärelekironenemissionsverliältnis der Schicht ausreichend niedrig gemacht werden, da das anorganische Bindemittel mit einem großen SekunJärelektronenemissionsverhältnis lediglich in der Nähe der Maske 1 vorgesehen ist.

H e i s ρ i e I ί

Fine gemischte Flüssigkeit mit Kaliwasserglas einer Konzentration von 10 Gew.-% und mit flockenförmigem Graphit mit einer Konzentration von b.b Gew.-'V» und einer Teilchengröße von I μηι wird auf die Oberfläche einer Lochmaske in einer Dicke \on ungefähr I bis 2 μηι mit Hilfe einer Sprüheinrichtung aufgesprüht, um die Mischungsschicht 2 zu bilden. Danach wird mit Hilfe son beispielsweise einer Sprüheinrichtung eine Flüssigkeit, in der flockenlormige Graphitteilchen in Wasser oder Allylalkohol mit einer Kozentration von I bis 10 Gew.-"'n, vorzugsweise son b bis 8 Gew.-'V'o, enthalten sind, auf die Mischungsschicht

ίο aufgesprüht, um die Oberflachenschicht zu bilden. Fine Sekundarelektronenemission vermindernde Schicht wird aus der Oberflächenschicht und der Mischungsschicht gebildet.

Die so hergestellte Sekundarelektronenemission vermindernde Schicht hat eine ausreichende Stärke, Das Sekundärelektronenenussionsverhaltnis ist durch eine Kurve 26 in der F i g. b dargestellt, die dem Fall gleicht, in dem Graphit allein ohne Mischungsschicht 2 verwendet wird. Fs liegt ein ausgezeichneter Wirkungsgrad bei der Verminderung der Sekundärelektronenemission vor.

Die Sekundärelektronen vermindernde Schicht verbessert das HiId einer Nachbesehleunigungs-Farbbildröhre. Sie kann nicht nur auf der Schattenmaske sondern auch auf anderen Teilen vorgesehen sein, aiii die Primärelektronen einfallen, beispielsweise auf der Innenwänden eines Glaskolbens, auf einem Maskenua geroder auf einer Schirnigelektrode.

Das Verfahren ist sehr vorteilhaft, da es eiik beschichtung liefert, deren Bindeki aft der Teilchen de* Sekundarelektronenemission vermindernden Material· groß ist, da die Stärke der gesamten Sekundarelektro nenemission vermindernden Schicht und die Haftkraf der Schicht mil dem Substrat ausreichend groß und d;

3s das Sekundärelekironenemissionsverhältnis gegeniibei bekannten Schichten zur Verminderung der Sekundär elektronenemission, die anorganische Bindemittel vei wenden, verringert ist.

Hierzu 2 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

I. Verfahren zur Herstellung einer Sekundärelektronenemission vermindernden Schicht auf durch Primärelektronen beaufschlagten Flächen in Nachbeschleunigungs-Farbbildröhren, bei dem eine Mischungsschicht aus einem Sekundärelektronenemission vermindernden Material und einem organischen Bindemittel aufgebracht wird und bei dem die Mischungsschicht bei der Herstellung der Röhre einer Wärmebehandlung unterworfen wird, durch die das organische Bindemittel entfernt wird, dadurch gekennzeichnet, daß vor dem Aufbringen der Mischungsschicht (9) eine anorganische Bindemittelschicht (8,10), die bei der Wärmebehandlung nicht weggebrannt wird, auf der Fläche aufgebracht wird, und daß anschließend die Mischungsschicht (9) auf der anorganischen Bindemittelschicht (8,10) aufgebracht wird.
2. Verfahren nach Anspruch I. dadurch gekennzeichnet, daß die anorganische Bindemittelschicht (8, 10) in einer Schichtdicke von 1 bis 2 μηι aufgebracht wird.
3. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Mischungsschicht (9) in einer Schichtdicke von 3 bis 30 μΐη aufgebracht wird.
4. Verfahren nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet, daß die Mischlingsschicht (9) in einer Schichtdicke von 5 bis 10 μηι aufgebracht wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Sekundärelektronenemisssion vermindernde Material (3) eine Korngröße von höchstens einigen μ in aufweist.
6. Verfahren nach Anspruch I. dadurch gekennzeichnet, daß als das Sekundärelektronencmission vermindernde Material (3) Graphit verwendet wird.
7. Verfahren nach Anspruch I. dadurch gekennzeichnet, daß ein feines Pulver (11) aus einem die Funktion der Bildröhre nicht nachteilig beeinflussenden Material der anorganischen Bindemittelschicht (10) beigefügt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß für das die Funktion der Bildröhre nicht nachteilig beeinflussende Material (11) Graphit oder Silber verwendet wird.