DE2224843B2 - Naphthochinondiazidsulfonsaeureester und diese enthaltende lichtempfindliche massen - Google Patents

Naphthochinondiazidsulfonsaeureester und diese enthaltende lichtempfindliche massen

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DE2224843B2
DE2224843B2 DE19722224843 DE2224843A DE2224843B2 DE 2224843 B2 DE2224843 B2 DE 2224843B2 DE 19722224843 DE19722224843 DE 19722224843 DE 2224843 A DE2224843 A DE 2224843A DE 2224843 B2 DE2224843 B2 DE 2224843B2
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides

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Description

worin Y den
Isobutyl-, Neopentyl-, Cydohexylmethyl-, 2-Bromäthyl-, 2-Chloräthyl-, 23-Dibrompropyl-,2^-TrichIoräthyl-, 2,2,2-Trifluoräthyl, 2£33-Tetrafluorpropyl-1 -, 1 -Chlorpropyl-2-, 13-Difluor-propyl-2-, l,l,l,33-Hexafluorpropyl-(2)-rest
oder einen Alkoxyäthylrest mit 1 bis 4 C-Atomen in der Alkoxygruppe bedeutet
2. Lichtempfindliche Masse, enthaltend etwa 0,1 bis 10 Gewichtsteile eines alkalilöslichen Hydroxyarylaldehydharzes und/oder eines Styrolmaleinsäureanhydridmischpolymerisats je Gewichtsteil eines Sulfonsäureester nach Anspruch 1.
35
40
Als lichtempfindliche Materialien für die Herstellung von positiv wirkenden Flachdruckplatten sind bereits zahlreiche Zusammensetzungen verwendet worden. Beispielsweise beschreibt die US-PS 30 46 121 Arylester und heterozyklische Ester von Diazonaphthochinonsulfonsäuren, die unter dem Einfluß von Licht ausbleichen, was zu ungetönten Druckplatten führt. Die US-PS 27 67 092 beschreibt als lichtempfindliche Verbindung den Naphthochinone 1,2)-diazid-(2)-5-sulfosäurecyclohexylester. In der US-PS 30 46 120 werden lichtempfindliche Schichten, die wasserunlösliche harzartige Ester von Sulfonsäuren von o-Naphthochinodiaziden enthalten, als zur Herstellung von Flachdruckplatten geeignet bezeichnet, und in der US-PS 21 30 047 sind lichtempfindliche Fster von Naphthochinondiazidsulfonsäuren mit Benzolderivaten, die mindestens zwei Hydroxylgruppen besitzen, als für die Herstellung von Schichten auf Druckplatten geeignet beschrieben.
Im allgemeinen sind die lichtempfindlichen Naphthochinondiazidverbindungen in Wasser, schwachen Alkalien und schwachen Säuren unlöslich, dagegen in bestimmten organischen Lösungsmitteln löslich. Wenn daher eine mit einer lichtempfindlichen Substanz beschichtete Unterlage durch ein transparentes Bild belichtet wird, zersetzt sich der belichtete Anteil auf der Flachdruckplatte, und das Naphthochinondiazid wird in eine Indencarbonsäure umgewandelt, die in schwach alkalischen Lösungen löslich ist. Wenn man anschließend die Oberfläche der Platte mit einer schwach alkalischen Lösung wäscht, verbleiben nur die unbelichteten Bildbezirke für den Druck des Bildes.
Vorsensfljilisierte Flachdruckplatten, d. h. Platten, die bereits beschichtet sind, werden normalerweise vernackt und über längere Zeiträume gelagert Während der Lagerung können die Platten hohen Feuchtigkeiten und/oder hoher Temperatur ausgesetzt sein. Unter solchen Bedingungen kann eine Hydrolyse der Ester zu der Naphthochinondiaädsulfonsäure und dem entsprechenden Alkohol erfolgen. Die Gegenwart der Sulfonsäore macht den Oberzug in verdünnten alkalischen Lösungen löslich, so daß die Fähigkeit des Überzuges, der alkalischen Entwicklerlösung in den unbelichteten Bezirken zu widerstehen, beeinträchtigt wird. Es ereeben sich schwache und unscharfe Bildabdrucke. BeSdsweise beschreibt die FR-PS 9 04 255 den 2 Diazo-naphthoI-(t)-5-suifonsäureäthy!ester als lichtempfindliche Substanz, bei dem die Entwicklung der belichteten Schicht mittels Wasser erfolgt In der US-PS 3046121 wird jedoch angegeben, daß solche Ester keine brauchbaren Druckplatten liefern.
Demgegenüber haben sich die im Anspruch definierten Diazoverbindungen als geeignet zur Verwendung bei der Herstellung von Flachdruckplatten erwiesen.
Die Ester nach der Erfindung können durch Kondensation von Naphthochinon-l,2-diazid-(2)-5-sulfonsäure deren Salzen oder deren Säurechlorid mit einem entsprechenden Alkohol nach an sich bekannten Methoden hergestellt werden.
Die Ester nach der Erfindung können als Beschichtung auf geeigneten Unterlagen zur Bildung von Flachdruckplatten aufgebracht werden. Bei Einwirkung von aktinischem Licht tritt Zersetzung ein, und der Überzug kann mittels alkalischer Entwicklerlösungen entfernt werden, wobei klare, scharfe und genaue Bildbezirke verbleiben. Die lichtempfindlichen Schichten werden nicht hydrolysiert und verlieren auch bei längerer Lagerung nicht ihre Widerstandsfähigkeit gegen Alkali. Sie sind daher geeignet zur Herstellung vorsensibilisierter Flachdruckplatten.
Bringt man den lichtempfindlichen Ester zusammen mit einem alkalilöslichen Hydroxyarylaldehydharz und/ oder einem Styrolmaleinsäureanhydridmischpolymerisat auf eine geeignete Unterlage (Aluminiumblech) auf, so lassen sich Flachdruckplatten mit längerer Druckfähigkeit und verbesserter Haftung, herstellen. Der Harzbestandteil kann in einer Menge bis zu etwa dem Zehnfachen der Gewichtsmenge des lichtempfindlichen Esters benutzt werden. Zweckmäßig wird der Harzbestandteil in einer Menge von mindestens etwa 0,1 Gewichtsteil je Esterteil und vorzugsweise in einer Menge von etwa 0,5 bis 5 Gewichtsteile Harz je Gewichtsteil Ester benützt.
Die Beschichtungslösungen des lichtempfindlichen Esters und des alkalilöslichen Harzes sollen mindestens etwa 1 Gewichtsteil Ester-Harz-Gemisch auf Gewichtsteile organisches Lösungsmittel, zweckmäßig etwa 2 bis 20 Gewichtsteile und vorzugsweise etwa 4 bis 10 Gewichtsteile Ester-Harz-Gemisch auf 100 Gewichtsteile organisches Lösungsmittel enthalten.
Es ist zweckmäßig, eine kleine Menge eines Indikators (Farbstoff) zuzufügen, um den Bildbereich auf der entwickelten Platte anzuzeigen. Dadurch läßt sich leicht der Bildbereich von den bildfreien Stellen unmittelbar nach Belichtung der Platte unterscheiden.
Gemäß der Erfindung wurden verschiedene lichtempfindliche Beschichtungsmassen hergestellt und auf einer
Aluminiummetallunterlage aufgebracht, durch ein transparentes Bildpositiv belichtet und entwickelt
Beispiel
Herstellung von Naphtoochinon-l,2-diazid-{2)-5-sulfonsäure-cyclohexyunethylesterder Formel
Man löste 16 g Cyclohexylraethanol und 27 g Naphthochinon-l^-diazid-{2)-5-sulfonylchlorid in
200 ml Dioxan. Diese Lösung wurde mit 30 ml Pyridin versetzt und dann bei Zimmertemperatur 3 Stunden gerührt Darauf wurde die Lösung in zwei Liter Wasser gegossen. Beim Stehen bildete sich ein öl, das allmählich kristallisierte. Die Lösung wurde dann filtriert und mit Wasser gewaschen. Das erhaltene Produkt besaß einen Schmelzpunkt und Analysenwerte, die in der nachfolgenden Zusammenstellung aufgeführt sind. Nach dem gleichen Verfahren, doch unter Verwendung entsprechender anderer AlkoholeYOH wurden noch andere Naphthochinon-l,2-diazid-{2)-5-sulfonsäureester hergestellt Für einige derselben sind der Substituent Y1 Schmelzpunkt F und Analysen in der nachfolgenden Zusammenstellung aufgeführt
F, ^C Elementaranalyse H 8,23
812
S 9,42
9,77
Cl Br
C 3,55
3,41
9,14
9,03
10,46
10,21
CH1O 112—114 ber. 59,98
gef. 59,63
4,60
4,49
8,74
8,96
10,01
10,32
CH2CH(CHj)2 142—143 ber. 54,88
gef. 53,72
5,06
4,88
6,01
5,92
6,87
6,49
CH2C(CH3J3 124,5—126 ber. 56,23
gef. 55,81
2,16
2,08
7.34
7.55
8,40
8,41
34,28
34,47
CH2CHBrCH2Br 127,5—128,5 ber. 33,49
gef. 33,07
1,84
1,72
7,84
8.03
8,97
9,19
27,87
27,63
CH2CCl3 131-132 ber. 37,76
gef. 37,42
2,53
2,49
22,37
22.28
CH2CH2Br 135—137 ber. 40,34
gef. 40,06
Die Beständigkeit der lichtempfindlichen Ester der Erfindung gegen Hydrolyse wurde nachgewiesen, indem eine Aluminiumplatte mit einer Lösung von 2,5 Gewichtsteilen des jeweiligen lichtempfindlichen Esters, 2,5-Gewichtsteilen eines alkalilöslichen Phenolformaldehydharzes und 0,15 Gewichtsteilen eines blauen Farbstoffes in 50 Gewichtsteilen eines Gemisches von Methylcelluloseacetat und Methyläthylheton (1:1) beschichtet wurde. Dann wurde die vorsensibilisierte Metallplatte 3 Tage lang in einem auf 6O0C gehaltenen Luftumwälzofen gelagert, um den Einfluß einer etwa möglichen Hydrolyse auf den lichtempfindlichen Ester so zu beschleunigen. Wenn der lichtempfindliche Ester instabil war und einer Hydrolyse unter Bildung der Sulfonsäure und des entsprechenden Alkohols unterlag, dann schlug die blaue Farbe des in die Schicht eingebrachten Farbstoffes in eine graue Farbe um. Die beschichtete Platte wurde 3 Minuten unter einer Kohlenbogenlampe durch ein Diapositiv belichtet und dann mit einer 5%igen Natriummetasilikatlösung entwickelt Die nachfolgende Zusammenstellung zeigt die Beständigkeit der lichtempfindlichen Ester der Erfindung gegen Hydrolyse im Vergleich zu dem lichtempfindlichen N aphthochinon-1,2-diazid-(2)-5-sulfonsäureäthylester gemäß Beispiel 7 der FR-PS 9 04 255 und Naphthochinon-1,2-diazid-(2)-5-sulfonsäurecyclohexylester nach der US-PS 27 67 092.
- CH2CH,
(bekannt)
(bekannt)
— CH2CH(CHj)2
Farbumschlag bei 60 C
Farbe schlägt in weniger als einem Tag um
Farbe schlägt in weniger als einem Tag um
Schwache Farbänderung in zwei Tagen Schwache Farbänderung in zwei Tagen Stabilität
schlecht
schlecht
gut
gut
Fortsetzung
Farbumschlag bei 600C Stabilitäl
— CH2QCH3J3
-CH5CH2OCH3
-CH2CH2OCH2CH3
— CH2CH2O(CH2)3CH3
— CH2CH2Br
— CH2CH2Cl
-CH2CHBrCH2Br
-CH2CCl3
— CH2CF3
— CH2CF2CHF2
-CH(CF3),
— CH(CH3)(CH2Cl)
Spur von Farländerung in drei Tagen
Spur Änderung in 1 Tag Spur Änderung in 1 Tag Spur Änderung in 1 Tag Spur Farbänderung in 1 Tag Spur Farbänderuag in 3 Tagen Spur Farbänderung in 3 Tagen Sßur Farbänderung in 3 Tagen Spur Farbänderung in 3 Tagen Spur Farbänderung in 3 Tagen Spur Farbänderung in 3 Tagen Spur Farbänderung in 3 Tagen ausgezeichnet
gut
gut
gut
ausgezeichnet ausgezeichnet ausgezeichnet ausgezeichnet ausgezeichnet ausgezeichnet ausgezeichnet ausgezeichnet

Claims (1)

Patentansprüche:
1. Naphthochinondiazidsulfonsäureester der Formel
IO
20
SO2-O-Y
DE19722224843 1971-05-28 1972-05-20 Naphthochinondiazldsulfonsäureester und diese enthaltende lichtempfindliche Massen Expired DE2224843C3 (de)

Applications Claiming Priority (6)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US00148238A US3823130A (en) 1971-05-28 1971-05-28 Light sensitive esters of naphthoquinone-1,2-diazide-(2)-5-sulfonicacids with cyclohexylmethanol or secondary or tertiary alkanols of up to six carbon atoms
US14823871 1971-05-28
US16413171A 1971-07-19 1971-07-19
US16413171 1971-07-19
US16955171A 1971-08-05 1971-08-05
US16955171 1971-08-05

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2224843A1 DE2224843A1 (de) 1972-12-14
DE2224843B2 true DE2224843B2 (de) 1976-07-29
DE2224843C3 DE2224843C3 (de) 1977-03-17

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Publication number Publication date
NL7207131A (de) 1972-11-30
CA977338A (en) 1975-11-04
SE394811B (sv) 1977-07-11
FR2139981A1 (de) 1973-01-12
JPS552615B2 (de) 1980-01-21
GB1398641A (en) 1975-06-25
CH566574A5 (de) 1975-09-15
BE783962A (fr) 1972-11-27
FR2139981B1 (de) 1973-07-13
DE2224843A1 (de) 1972-12-14
JPS5724341B1 (de) 1982-05-24
JPS5494024A (en) 1979-07-25
NL171264C (nl) 1983-03-01
IT958100B (it) 1973-10-20

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