DE2218344C3 - Raster für die Reproduktionstechnik - Google Patents

Raster für die Reproduktionstechnik

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DE2218344C3
DE2218344C3 DE19722218344 DE2218344A DE2218344C3 DE 2218344 C3 DE2218344 C3 DE 2218344C3 DE 19722218344 DE19722218344 DE 19722218344 DE 2218344 A DE2218344 A DE 2218344A DE 2218344 C3 DE2218344 C3 DE 2218344C3
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DE19722218344
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Hubert; Hieber Helmut; 8000 München Sauermann
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Raster-Union EFHA KOHINOOR GmbH & Co, Präzisionsraster und Teilungen - KG, 8190 Wolfratshausen
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Description

Für die autotypische Bildzerlegung bedient man sich heute in der Reproduktionstechnik vorwiegend zweier verschiedener Raster, des sogenannten Distanzrasters und des Kontaktrasters.
Der Distanzraster besteht aus einem opaken oder schwach durchscheinenden Liniennetz, das auf einer oder beiden Innenseiten zweier optisch transparent miteinander verbundener Kristallglasplatten vorgesehen ist. Sein wesentlicher Nachteil besteht darin, daß die ihm eigene Wiedergabecharakteristik weder für die Herstellung von Rasternegativen noch von Rasterpositiven als voll befriedigend bezeichnet werden kann. Ferner ist bei der Aufnahme mit den bisher bekannten Distanzraster) nur ein einziger optimaler Rasterabstand gegeben, wodurch es nicht möglich ist, eine gezielte Gradationsveränderung herbeizuführen.
Darüber hinaus wird die Reproduktion der Vorlagendetails durch das Gitternetz und die dahinter auftretende Lichtbeugung ungünstig beeinflußt. Allein durch das Gitternetz wird beispielsweise 75% des. von der Vorlage einfallenden Lichts absorbiert, so daß nur 25% je Rasterelement an der Wiedergabe der Vorlage teilnehmen.
Der Kontaktraster besteht aus einem flexiblen, transparenten Kunststoffträger, auf dessen Oberfläche eine lichtempfindliche Schicht aufgetragen ist, die mit den Rasterelementen belichtet und entwickelt wurde. Bei der Benutzung eines solchen Rasters ergeben sich folgende Nachteile. Die Rasteroberfläche kann leicht beschädigt und verschmutzt werden. Die Wiedergabecharakteristik der Gradation eines Kontaktrasters ist weitgehend starr und kann nur in sehr engen Grenzen beeinflußt werden. Außerdem weisen Kontaktraster in sich gewisse Dichteschwankungen auf, die sich bei der praktischen Arbeit bei glatten Tonwerten in Form von Unruhe und Wolkigkeit sowie unterschiedlicher Punktqualität bemerkbar machen. Außerdem treten bei Anwendung von Kontaktrastern vielfach Kontaktschwierigkeiten auf, die sich beispielsweise in Form von Newtonschen Ringen zeigen. Staubpartikelchen, die bei der Kopie zwischen Kontaktraster und Filmmaterial eingeschlossen sind, erscheinen als helle Punkte mit dunklem Hof und beeinträchtigen die Bildwiedergabe ebenfalls.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Nachteile der bisherigen Raster zu beseitigea
Erfindungsgemäß wird ein Raster für die Reproduktionstechnik vorgeschlagen, dessen Rasterelemente halbtonartig verlaufend vignettiert auf eine fotografische, lichtempfindliche Schicht, die auf einen transparenten Träger aufgebracht sind, aufbelichtet und entwickelt worden sind, der dadurch gekennzeichnet ist, daß zur Verwendung des Rasters als Distanzraster die ίο Rasterelemente auf eine transparente Scheibe aufgebracht sind
Eine Weiterausgestaltung der Erfindung besteht darin, daß die Rasterelemente auf einen Film aufgebracht sind der mit der transparenten Scheibe fest verbunden ist
Schließlich wird noch erfindungsgemäß vorgeschlagen, daß die Rasterelemente in den vorgenannten beiden Fällen durch eine zweite transparente Scheibe bedeckt sind
Durch den erfindungsgemäßen Raster wird die für die Herstellung von Rasternegativen und Rasterpositiven optimale Gradation automatisch erreicht. Im Gegensatz zum herkömmlichen Distanzraster kann der Rasterabstand unabhängig von Rasterfeinheit und Abbildungsmaßstab in weiten Grenzen zur Gradationsbeeinflussung verändert werden. Ebenso kann die Blendeneinstellung in freier Wahl so vorgenommen werden, daß das bestmögliche Auflösungsvermögen des verwendeten Reproduktionsobjektivs ausgenützt wird.
Damit geht eine ganz erhebliche Verkürzung der Belichtungszeiten einher. Auch bei Hilfsbelichtungen kann im Gegensatz zum traditionellen Distanzraster die für die ermittelte Belichtungszeit günstigste Blendeneinstellung gewählt werden, ohne dadurch die Punktqualitat zu beeinträchtigen.
Was die fotografische Schicht der Rasterelemente anbelangt, so kann diese auf eine Kunststoffolie oder Kunststoffplatte ebenso wie auf eine Kristallglasplatte nach Art fotografischer Platten aufgetragen sein. Auch können die Rasterelemente durch ein fotomechanisches Auswaschverfahren, gegebenenfalls mit anschließender Einfiirbung, hergestellt werden. Schließlich können die Rasterelemente auf fotografischem Strippingmaterial hergestellt sein, wobei die strukturtragende Emulsion abgezogen und auf transparente Platten übertragen wird.
In der Zeichnung ist die Erfindung beispielsweise und schematisch im Schnitt und in stark vergrößertem Maßstab wiedergegeben, und zwar zeigt F i g. 1 einen bekannten Distanzraster, und F i g. 2 den erfindungsgemäßen Raster. Gemäß F i g. 1 weisen die Kristallglasplatten 1 auf ihren Innenflächen die Rasterlinien 4 auf. Diese erscheinen auf der oberen Glasplatte 1 zeichnerisch nicht, weil der Schnitt zwischen zwei opaken Rasterlinien liegt Die Rasterlinien der oberen Glasplatte kreuzen sich nämlich mit denen der unteren Platte und bilden das Rasternetz 2. Die Kristallglasplatten werden durch eine optische Verkittung 3 miteinander vereinigt. Wie ersichtlich, wechseln sich transparente Rasterfenster 5 mit opaken Linien 4 in gleichen Abständen beiderseitig ab.
Gemäß F i g. 2 ist die fotografisch hergestellte Rasterträgerschicht 6 beiderseitig mittels optischen Verkittungen 7 mit den Kristallglasplatten 1 verbunden. Mit 8 ist das Dichtemaximum und mit 9 das Dichleminimum je eines Rasterelemcnts bezeichnet die im Aufbau dem bekannten Kontaktraster gleichen.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Raster für die Reproduktionsrechnik, dessen Rasterelemente halbtonartig verlaufend vignettiert auf eine fotografische, lichtempfindliche Schicht, die auf einen transparenten Träger aufgebracht ist. aufbelichtet und entwickelt worden sind, dadurrh gekennzeichnet, daß zur Verwendung des Rasters als Distanzraster die Rasterelemente auf eine transparente Scheibe aufgebracht sind.
2. Raster nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Rasterelemente auf einen Film aufgebracht sind, der mit der transparenten Scheibe fest verbunden isL
3. Raster nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet daß die Rastereleirente durch eine zweite transparente Scheibe bedeckt sind
DE19722218344 1972-04-15 1972-04-15 Raster für die Reproduktionstechnik Expired DE2218344C3 (de)

Priority Applications (3)

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DE19722218344 DE2218344C3 (de) 1972-04-15 Raster für die Reproduktionstechnik
IT2291673A IT983806B (it) 1972-04-15 1973-04-12 Retino a distanza per la tecnica fotomeccanica
JP4148373A JPS551578B2 (de) 1972-04-15 1973-04-13

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DE19722218344 DE2218344C3 (de) 1972-04-15 Raster für die Reproduktionstechnik

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DE2218344A1 DE2218344A1 (de) 1973-10-25
DE2218344B2 DE2218344B2 (de) 1975-03-13
DE2218344C3 true DE2218344C3 (de) 1976-08-19

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