DE7214257U

DE7214257U - Raster für die Reproduktions-Fotografie

Info

Publication number: DE7214257U
Application number: DE7214257U
Authority: DE
Original assignee: HIEBER G EFHA RASTER WERK
Current assignee: HIEBER G EFHA RASTER WERK
Publication date: 1972-07-20

Description

Für die autotypische Bildzerlegung bedient man sich heute in der Reproduktionstechnik überwiegend zweier verschiedener Raster, des sogenannten Distanzrasters oder des Kontaktrasters. Der Distanzraster besteht aus einem opaken oder lasierenden Liniennetz, das auf einer Innenseite zweier optisch verkitteter Kristallglasplatten vorgesehen ist. Dieser wird ausschließlich in der Aufnahmetechnik eingesetzt. Der Kontaktraster besteht aus einem fotografischen Film, auf dem durch Belichtung und Entwicklung verlaufende, meist gegeneinander versetzte Dichtemaxima und Dichteminima angeordnet sind. Er wird sowohl in der Aufnahme- als auch in der Kopiertechnik eingesetzt.

Ein wesentlicher Nachteil des Distanzrasters besteht darin, daß die ihm eigene Wiedergabe-Charakteristik weder für die Herstellung von Rasternegativen noch von

Rasterpositiven als voll befriedigend bezeichnet werden kann. Ferner ist bei der Aufnahme jeweils nur ein einziger optimaler Rasterabstand gegeben, wodurch es nicht möglich ist, eine gezielte Gradationsveränderung herbeizuführen.

Die Kontaktraster besitzen durch den Aufbau ihrer Einzelelemente zwar eine Wiedergabe-Charakteristik, die den Sollwerten für die Herstellung von Rasterpositiven oder Rasternegativen weitgehend entspricht, aber ihre Charakteristik ist weitgehend starr und kann nur in sehr engen Grenzen beeinflußt werden. Außerdem unterliegen die Kontaktraster in sich gewissen Dichteschwankungen, die sich bei der praktischen Arbeit bei glatten Tonwerten in Form von Unruhe und Wolkigkeit sowie unterschiedlicher Punktqualität bemerkbar machen. Auch sind alle bisherigen Kontaktraster gegen äußere Einflüsse nicht widerstandsfähig.

Aufgabe der Erfindung ist es, die Nachteile der erwähnten Raster zu beseitigen und einen Raster zu schaffen, durch den die Sollwerte für die Herstellung von Rasternegativen oder Rasterpositiven optimal erzielt werden.

Es wird daher ein Raster für die Reproduktions-Fotografie, bei den die Bildzerlegung durch vignettierte Rasterelemente erzeugt ist, in Vorschlag gebracht, der erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet ist, daß die Rasterelemente auf eine fotografische Trägerschicht aufbelichtet, entwickelt und auf oder zwischen zwei transparenten Scheiben optisch eingekittet sind.

In Abänderung können die Rasterelemente erfindungsgemäß auf eine lichtempfindliche Schicht aufbelichtet und entwickelt sein, wobei diese vorher auf eine Kunststoff- oder Kristallglasplatte nach Art fotografischer Platten aufgetragen worden ist.

Auch können die Rasterelemente durch ein fotochemisches Auswaschverfahren ggf. mit anschließender Einfärbung hergestellt sein.

Schließlich wird noch erfindungsgemäß vorgeschlagen, daß die Rasterelemente auf fotografischem Stripping-Material hergestellt sind und die die Struktur tragende Emulsion abgezogen und auf transparente Platten übertragen ist.

Durch den erfindungsgemäßen Raster wird die für die Herstellung von Rasternegativen oder Rasterpositiven optimale Gradation automatisch erreicht. Im Gegensatz zum herkömmlichen Distanzraster kann der Rasterabstand unabhängig von Rasterfeinheit und Abbildungsmaßstab in weiten Grenzen zur Gradationsbeeinflussung verändert werden. Ebenso kann die Blendeneinstellung in freier Wahl so vorgenommen werden, daß das bestmögliche Auflösungsvermögen des verwendeten

Objektives erzielt wird. In der Regel geht damit eine ganz erhebliche Verkürzung der Belichtungszeiten einher. Auch für Vorbelichtungen kann die für die angemessene Belichtungszeit günstigste Blendeneinstellung gewählt werden, ohne dadurch die Punktqualität zu beeinträchtigen.

In der Zeichnung ist die Erfindung beispielsweise und schematisch im Schnitt und im stark vergrößertem Maßstabe wiedergegeben, und zwar zeigen: Fig. 1 einen bekannten Distanzraster und Fig. 2 den erfindungsgemäßen Raster.

Gemäß Fig. 1 weisen die Kristallglasplatten 1 auf ihren Innenflächen die Rasterlinien 4 auf. Diese erscheinen auf der oberen Glasplatte 1 zeichnerisch nicht, weil der Schnitt zwischen zwei opaken Rasterlinien liegt. Die Rasterlinien der oberen Glasplatte
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sich nämlich mit denen der unteren Platte und bilden das Rasternetz 2. Die Kristallglasplatten werden durch eine optische Verkittung 3 miteinander vereinigt. Wie ersichtlich, wechseln sich transparente Rasterfenster 5 mit opaken Linien 4 in gleichen Abständen beiderseitig ab.

Gemäß Fig. 2 ist die fotografisch hergestellte Rasterträgerschicht 6 beiderseitig mittels optischen Verkittungen 7 mit den Kristallglasplatten 1 verbunden. Mit 8 ist das

Dichtemaximum und mit 9 das Dichteminimum je eines Rasterelementes bezeichnet, die im Aufbau dem bekannten Kontaktraster gleichen.

Claims

1. Raster für die Reproduktions-Fotografie, bei dem die Bildzerlegung durch vignettierte Rasterelemente erzeugt ist, dadurch gekennzeichnet, daß die Rasterelemente auf eine fotografische Trägerschicht aufbelichtet, entwickelt und auf oder zwischen zwei transparenten Scheiben optisch eingekittet sind.

2. Raster gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Rasterelemente auf eine lichtempfindliche Schicht aufbelichtet und entwickelt sind, wobei diese vorher auf eine Kunststoff- oder Kristallglasplatte nach Art fotografischer Platten aufgetragen worden ist.

3. Raster gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Rasterelemente durch ein fotochemisches Auswaschverfahren ggf. mit anschließender Einfärbung hergestellt sind.

4. Raster gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Rasterelemente auf fotografischem Stripping-Material hergestellt sind und die die Struktur tragende Emulsion abgezogen und auf transparente Platten übertragen ist.