DE2162883B2 - Edelmetall enthaltende metallisierungsmasse - Google Patents
Edelmetall enthaltende metallisierungsmasseInfo
- Publication number
- DE2162883B2 DE2162883B2 DE19712162883 DE2162883A DE2162883B2 DE 2162883 B2 DE2162883 B2 DE 2162883B2 DE 19712162883 DE19712162883 DE 19712162883 DE 2162883 A DE2162883 A DE 2162883A DE 2162883 B2 DE2162883 B2 DE 2162883B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- weight
- until
- glass
- precious metal
- inorganic binder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/09—Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
- H05K1/092—Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
- C03C3/07—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing lead
- C03C3/072—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight containing lead containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/102—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing lead
- C03C3/108—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing lead containing boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C4/00—Compositions for glass with special properties
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/14—Conductive material dispersed in non-conductive inorganic material
- H01B1/16—Conductive material dispersed in non-conductive inorganic material the conductive material comprising metals or alloys
Description
30 | bis | 50Gew.-% | PbO |
30 | bis | 40Gew.-% | SiO2 |
2 | bis | 20Gew.-% | CaO |
2 | bis | 8 Gew.-% | Al2O3 |
2 | bis | 8 Gew.-% | B2O3 |
0,5 | bis | 5 Gew.-% | TiO? |
0,5 | bis | 5 Gew.-% | ZrO2 |
zusammensetzt. |
25
Die Erfindung betrifft eine Metallisierungsmasse, die sich zum Aufbrennen auf ein dielektrisches Substrat
unter Bildung von Filmen mit hoher Haftfestigkeit eignet und die einen größeren Anteil an feinzerteiltem
Edelmetall und einen geringeren Anteil an feinzerteiltem, ein Glas enthaltendem, anorganischem Bindemittel
enthält.
Derartige Massen werden auf ein dielektrisches Substrat aufgebracht und in der elektronischen Industrie
zur Herstellung von Filmen verwendet.
Die moderne elektronische Schalttechnik legt Nachdruck
auf eine gedrungene Bauweise von Einzelbaugruppen, für die Metallisierungsmassen einen wichtigen
Zusatz darstellen. Kleine Baugruppen von elektronischen Teilen werden auf einer keramischen Platte oder
einem Substrat befestigt und mittels Elektroden- oder Leiterlinien, die suf das keramische Substrat aufgedruckt
und aufgebrannt werden, untereinander verbunden. Derartige gedruckte Leiter sollten mechanisch fest
und beständig gegen Wärmeschock und atmosphärische Verunreinigungen sein. Von besonderer Bedeutung sind
Edelmetall enthaltende Metallisierungsmassen und daraus hergestellte Elektroden. Ein wesentlicher Vorteil,
der von den Edelmetall-Metallisierungsmassen gegenüber gewöhnlichen Nichtedelmetall-Massen beigesteuert
wird, ist die Einbrennbarkeit in Luft bei hohen Temperaturen, ohne daß eine Oxidation auftritt,
wodurch gute elektrische Leitfähigkeit und zugleich eine Oberfläche beibehalten werden, die durch geschmolzene
Lot- oder Hartlötlegierungen benetzt werden kann.
Metallisierungsmassen enthalten normalerweise außer Edelmetallen ein anorganisches Bindemittel. Das
anorganische Bindemittel übt hauptsächlich die Funktion aus, daß es das teilchenförmige Edelmetall
verbindet und auch bewirkt, daß das Metall an dem keramischen Substrat haftet. Das Bindemittel ist
üblicherweise ein gepulvertes Glas, und die Eigenart des Glases hat ausgeprägte Auswirkungen auf die Gesamteigenschaften
der gebrannten Metallisierungsmasse.
Die US-PS 34 40 182 beschreibt zum Aufbrennen aui keramische Substrate geeignete Metallisierungsmassen
aus 60 bis 96 Gew.-% pulverförmigem Edelmetall, 5 bis 40 Gew.-% eines anorganischen, ein Glas enthaltenden
Bindemittels in einem inerten flüssigen Träger. Ein speziell als Bindemittelkomponente genanntes Glaspulver
enthält über 63% CdO sowie 73% Na2O, 16,9%
B2O3 und 12,7% SiO2; ZrO2 wird in keiner der
angeführten Glasrezepturen verwendet Hervorstechendes Merkmal dieser bekannten Metallisierungsmassen ist ihr Vanadiumoxidgehalt, der für die
geforderten Eigenschaften, wie Lötbarkeit, Leitfähigkeit und/oder Haftung, sorgt.
Es besteht jedoch immer noch ein beträchtlicher Bedarf an Metallisierungsmassen, die für Anwendungen
herangezogen werden können, bei denen es auf eine hohe Leistung ankommt. Spezieller gesagt, hat die
elektronische Industrie einen beständigen Bedarf an Metallisierungsmassen, welche dichte, gebrannte Filme
ergeben und gute Lötbarkeit, gute Beständigkeit gegen Lötlauge, gute Anfangshaftung und gute Haftung nach
thermischer Alterung aufweisen.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine verbesserte Metallisierungsmasse des genannten Typs zur Verfugung
zu stellen, die eine gute Kombination aller obenerwähnten, wünschenswerten Eigenschaften aufweist
und insbesondere Filme mit sehr hohem Haftvermögen liefert.
Gegenstand der Erfindung ist eine Metalliserungsmasse,
die sich zum Aufbrennen auf ein dielektrisches Substrat unter Bildung von Filmen mit hoher Haftfestigkeit
eignet und die einen größeren Anteil an feinzerteiltem Edelmetall und einen geringeren Anteil
an feinzerteiltem, ein Glas enthaltendem, anorganischem Bindemittel enthält und die gekennzeichnet ist
durch einen Gehalt in Gewichtsprozent von 60 bis 98% Edelmetall und 2 bis 40% anorganischem Bindemittel,
das ein Glas enthält, das sich aus:
30 | bis | 50 Gew.-% | PbO |
30 | bis | 40Gew.-% | SiO2 |
2 | bis | 20Gew.-% | CaO |
2 | bis | 8 Gew.-% | AI2O3 |
2 | bis | 8 Gew.-% | B2O3 |
0,5 | bis | 5 Gew.-% | TiO2 |
0,5 | bis | 5 Gew.-% | ZrO2 |
zusammensetzt.
Der Ausdruck »Edelmetall« bezieht sich im vorliegenden Rahmen auf einzelne Edelmetalle, Mischungen
aus zwei oder mehreren Edelmetallen, Legierungen aus zwei oder mehreren Edelmetallen sowie Kombinationen
daraus. Platin, Palladium, Silber, Gold, Rhodium, Iridium, Ruthenium und Osmium sind die erfindungsgemäß
verwendeten Edelmetalle.
Das im anorganischen Bindemittel der Erfindungsgemäßen Metallisierungsmasse vorhandene Glas enthält
vorzugsweise 2 bis 15 Gew.-% CaO und weist insbesondere folgende Zusammensetzung auf:
Gewichts | bis | 50 | |
prozent | bis | 36 | |
PbO | 40 | bis | 15 |
SiO2 | 32 | bis | 6 |
CaO | 5 | bis | 6 |
Al2O3 | 3 | bis | 4 |
B2O3 | 3 | bis | 4 |
TiO2 | 0,5 | ||
ZrO2 | 0,5 |
Die erfindungsgemäße Kombination von Metalloxiden in den vorgenannten kritischen Mengenverhältnissen
ist notwendig, um anorganische Bindemittel herzustellen, die in Metallisierungsmassen mit hohem
Haftvermögen nützlich sind, welche gebrannte Metallisierungen mit den zuvor beschriebenen, wünschenswerten
Eigenschaften ergeben. Es sei darauf hingewiesen, daß das anorganische Bindemittel außer dem oben
beschriebenen Glas glasbenetzende Mittel, wie Wismutoxid, enthalten kann.
Sämtliche Edelmetall- und anorganische Bindemittel-Bestandteile sollten im allgemeinen in feinzerteilter
oder pulveriger Form vorliegen, d.h. in Form von Pulvern, die durch ein Schablonensieb mit einer lichten
Maschenweite von 0,044 mm hindurchgehen, wobei die Pulverteilchen nicht größer als etwa 40 Mikron sind. Im
allgemeinen beträgt die mittlere Teilchengröße des Metalls 0,1 bis 5 Mikron, während ein mittlerer
Teilchvingrößenbereich von 1 bis 15 Mikron für das anorganische Bindemittel bevorzugt wird.
Das Verhältnis von anorganischem Bindemittel zu Metall wirkt sich auf die Leitfähigkeit, die Haftung und
die Oberflächeneigenschaften der schließlich erhaltenen Metallfilme aus. Mit Erhöhung des Mengenanteils des
Bindemittels erhöht sich auch die Haftung; die Leitfähigkeit und Oberflächenbenetzbarkeit nehmen
jedoch in den Filmen ab. Zwischen der Leitfähigkeit, der Haftung und den Oberflächeneigenschaften muß der
richtige Ausgleich eingehalten werden. Mindestens 2% anorganisches Bindemittel sind notwendig, um für eine
angemessene Haftung der Metallisierungsmasse an dem Substrat zu sorgen. Auf der anderen Seite führt die
Verwendung von mehr als 40 Gew.-% an anorganischem Bindemittel zu Filmen, die Lötmittel nicht leicht
annehmen.
Die erfindungsgemäße Metallisierungsmasse wird im allgemeinen, obgleich nicht notwendigerweise, in einem
inerten, flüssigen Träger unter Bildung eines Anstrichstoffes oder einer Paste für die Auftragung auf das
dielektrische Substrat dispergiert. Das Verhältnis von Metallisierungsmittel zu Träger kann je nach der Art
und Weise, in der der Anstrichstoff oder die Paste aufgetragen werden sollen und der Art des verwendeten
Trägers beträchtlich variieren Im allgemeinen werden 1 bis 20 Gew.-Teile Metallisierungsmasse (Metalle,
anorganisches Bindemittel usw.) je Gew.-Teil Träger zur Herstellung eines Anstrichstoffes oder einer Paste der
gewünschten Konsistenz verwendet. Vorzugsweise werden 3 bis 10 Teile Metallisierungsmasse je Teil
Träger verwendet.
Als Träger kann jede beliebige Flüssigkeit, die vorzugsweise inert ist, dienen. Wasser oder irgendeine
von verschiedenen, organischen Flüssigkeiten können mit oder ohne Verdickungs- und/oder Stabilisierungsmitteln und/oder anderen gewöhnlichen Zusatzstoffen
als Träger verwendet werden. Beispiele für organische Flüssigkeiten, die verwendet werden können, sind die
höheren Alkohole, wie Decanol, Ester der niederen Alkohole, z. B. die Acetate und Propionate, die Perpene,
wie Kiefernöl und α- und /?-Terpineol, und Lösungen
von Harzen, wie den Polymethacrylat von niederen Alkoholen, oder Lösungen von Äthylcellulose in
Lösungsmitteln, wie Kiefernöl. Die Träger der US-PS 35 36 508 können ebenfalls Verwendung finden. Der
Träger kann flüchtige Flüssigkeiten enthalten oder aus solchen zusammengesetzt sein, um ein schnelles
Abbinden nach dem Auftragen zu fördern; oder er kann Wachse, thermoplastische Harze oder ähnliche Stoffe
enthalten, die thermofluid sind, so daß die Masse bei erhöhter Temperatur auf ein verhältnismäßig kaltes,
keramisches Substrat aufgetragen werden kann, worauf sich die Masse unmittelbar verfestigt
Die Metallisierungsmasse wird in herkömmlicher Art und Weise hergestellt, indem das Edelmetall und die
anorganischen Bindemittelfeststoffe in den angegebenen Mengenverhältnissen vermischt werden. Zusätzlich
kann 1 Teil eines inerten, flüssigen Trägers für je 1 bis 20 Teile der obenerwähnten Feststoffe zugemischt werden.
Dann wird die Metallisierungsmasse auf ein dielektrisches, keramisches Substrat aufgebracht und unter
Bildung eines leitfähigen Filmes gebrannt
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele veranschaulicht In den Beispielen und auch sonst in der
Beschreibung sind alle Teile, Prozentzahlen und Mengenverhältnisse der Stoffe oder Bestandteile aufs
Gewicht bezogen.
B e i s ρ i e 1 e 1 bis 3
Verschiedene Glasmassen, die in der Tabelle Il aufgeführt sind, wurden in Frittenform hergestellt,
indem die entsprechenden Gemenge aufgeschmolzen wurden und die homogene Schmelze in Wasser
gegossen wurde. Die gefritteten Produkte wurden dann zu feinen Pulvern, deren Teilchengröße von 0,1 bis 10
Mikron reichte, gemahlen. Dann wurden Metallisierungsmassen hergestellt, indem 87% feinzerteilte
Edelmetalle (66% Gold, 18% Platin und 3% Palladium) und 13% anorganisches Bindemittel (6% Bi/^ und 7%
Glas aus der Tabelle II) vermischt wurden. Binäre Gold-Platin- und Gold-Palladium-Legierungen würden
für die Zwecke der vorliegenden Erfindung zu im wesentlichen gleichwertigen Ergebnissen führen. Die
Metallisierungsmassen wurden dann in einem flüssigen Träger, der aus 10% Äthylcellulose und 90% ]3-Terpineol
bestand, bei einem Verhältnis von etwa 4 :1 dispergiert. Diese Massen wurden dann durch ein mit
einer lichten Maschenweite von 0,074 mm Mustersieb, das 16 öffnungen mit den Abmessungen
0,25 cm χ 0,25 cm aufwies, auf keramische Substrate (2,5 cm χ 2,5 cm) siebgedruckt. Die Drucke wurden
getrocknet und in einem Gurtförderofen bei Spitzentemperaturen im Bereich von 850 bis 950°C gebrannt.
Die gebrannten Stückchen wurden in einem aus 62 Gew.-Teilen Sn, 36 Gew.-Teilen Pb und 2 Gew.-Teilen
Ag bestehenden Lötmittel tauchgelötet. Verzinnte Kupferdrähte wurden auf die gedruckten Metallisierungsmassen,
die in der Form von 0,25 cm χ 0,25 cm großen Polstern vorlagen, tauchgelötet.
Die Haftung wurde durch Ziehen an den gelöteten Zuführungen mittels eines Prüfgerätes gemessen.
Beschleunigte Alterungsversuche wurden ausgeführt, indem das gelötete Stückchen mit Zuführungsanschlüssen
vor der Bestimmung der Bindefestigkeit 100 Stunden lang bei 1250C gehalten wurde. Die Beständigkeit
gegen Lötlauge wurde unter Anwendung der folgenden Prüfung abgeschätzt: Eine gebrannte Probe,
die eine 0,055 cm breite Leitung enthielt, behandelte man mit Flußmittel und lötete sie im Tauchverfahren 10
Sekunden lang in einem aus 60 Gew.-Teilen Sn, 36 Gew.-Teilen Pb und 2 Gew.-Teilen Ag bestehenden
Lötmittel, ließ das Lötmittel sich 2 bis 3 Sekunden lang ausgleichen und schreckte in Trichloräthylen ab. Dieser
Zyklus wurde so lange wiederholt, bis die 0,055 cm breite Leitung durchgelaugt war, oder bis 25 Zyklen
durchlaufen worden waren. Dann wurde die Prüfung
beendet. Solche binären und ternären Gold-Platin-Palladium-Massen,
die 15 Zyklen durchlaufen und Haftungswerte von 13 bis 18 kg zeigen, sind im allgemeinen
für die meisten Anwendungszwecke durchaus annehmbar. Nützliche Ergebnisse erzielt mim erfindungsgemäß
ebenso gut mit den anderen Edelmetallen, einschließlich Gold, Silber und Gold-Silber-Legierungen.
Die Ergebnisse der oben beschriebenen Prüfungen sind in der Tabelle HI für die Beispiele 1 bis 3, bei denen
die Gläser A bis C verwendet werden (siehe Tabelle II),
zusammengestellt.
PbO | 45,3 | 40 | 35 |
S1O2 | 34,4 | 35 | 35 |
AI2O3 | 4,9 | 5 | 5 |
B2O3 | 4,0 | 5 | 5 |
CaO | 9,7 | 10 | 10 |
T1O2 | 1,0 | 2,5 | 5 |
ZrO2 | 0,7 | 2,5 | 5 |
Bei- Glas Lötbarkeit
spiel
spiel
Beständigkeit gegen Lötlauge
Haftung (kg)
Gebrannt bei 85O0C Zu Anfang gealtert
Gebrannt bei 900°C
Zu Anfang gealtert
Zu Anfang gealtert
Gebrannt bei 950° C
Zu Anfang gealtert
Zu Anfang gealtert
1 | A | ausgezeichnet | >25 | Zyklen | 34 |
2 | B | gut | >25 | Zyklen | 30 |
3 | C | gut | >25 | Zyklen | 25 |
32
31
25
Eine Metallisierungsmasse, die 80% feinzerteilte Edelmetalle (29% Palladium und 51% Silber) und 20%
anorganisches Bindemittel (9% Bi2O3 und 11% an Glas
A) enthielt, wurde in einem flüssigen Träger bei einem Gewichtsverhältnis von etwa 4 :1 dispergiert. Spezieller
gesagt, wurden die Bestandteile in den folgenden Gewichtsprozenten bereitgestellt: 22,22% Palladium.
40,44% Silber, 8,88% Glas, 7,42% Wismutoxid und der Rest oder 20,98% inerter Träger. Es wurden die
Arbeitsweisen des Beispiels 1 befolgt, nur daß die gedruckten Metallisierungen in Form von
0,13 χ 0,13 cm großen Polstern vorlagen und daß die Brenntemperatur 8500C betrug. Die Anfangshaftung
war 9,9 kg, und nach 48 Stunden bei 1500C war die Alterungshaftung 4,0 kg. Die Lötbarkeit und die
Beständigkeit gegen Lötlauge in 9 Zyklen wurde als gut angesehen. Vor der vorliegenden Erfindung wäre eine
Anfangshaftung von über 8,8 kg recht gut gewesen; die Alterungshaftung jedoch würde oft auf 2,2 kg oder
weniger abfallen.
Im Gegensatz hierzu wurde eine zum bekannten Stand der Technik gehörende Metallisierungsmasse
hergestellt und in genau derselben Art und Weise, wie oben beschrieben, geprüft. Die Metallisierungsmasse
enthielt 86% feinzerteiltes Edelmetall (30% Palladium und 56% Silber) und 14% feinzerteiltes, anorganisches
Bindemittel (10% Bi2O3 und 4% eines Glases, das aus
27,2% ZnO, 25,4% B2O3, 23,5% SiO2, 6,4% AI2O), 4,0%
ZrO2, 1,0% BaO, 4,0% CaO und 8,5% Na2O bestand).
Das Verhältnis von Feststoffen zu Flüssigkeit betrug etwa 7 : 3. Die Anfangshaftung war 6,4 kg, während die
Alterungshaftung auf 1,5 kg abfiel. Die Lötbarkeit wurde als gut angesehen, und die Beständigkeit gegen
Lötlauge betrug 4 Zyklen.
Claims (1)
- Patentanspruch:Metallisierungsmasse, die sich zum Aufbrennen auf ein dielektrisches Substrat unter Bildung von Filmen mit hoher Haftfestigkeit eignet und die einen größeren Anteil an feinzerteiltem Edelmetall und einen geringeren Anteil an feinzerteiltem, ein Glas enthaltendem, anorganischem Bindemittel enthält, gekennzeichnet durch einen Gehalt in Gewichtsprozent von 60 bis 98% Edelmetall und 2 bis 40% anorganischem Bindemittel, das ein Glas enthält, das sich aus:
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US9931870A | 1970-12-17 | 1970-12-17 | |
US9931870 | 1970-12-17 | ||
US14679971A | 1971-05-25 | 1971-05-25 | |
US14679971 | 1971-05-25 | ||
US18638371A | 1971-10-05 | 1971-10-05 | |
US18638371 | 1971-10-05 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2162883A1 DE2162883A1 (de) | 1972-07-13 |
DE2162883B2 true DE2162883B2 (de) | 1977-05-26 |
DE2162883C3 DE2162883C3 (de) | 1978-01-19 |
Family
ID=
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IT944042B (it) | 1973-04-20 |
GB1340438A (en) | 1973-12-12 |
FR2118696A5 (de) | 1972-07-28 |
NL7117362A (de) | 1972-06-20 |
BE776792A (fr) | 1972-06-16 |
DE2162883A1 (de) | 1972-07-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4172919A (en) | Copper conductor compositions containing copper oxide and Bi2 O3 | |
DE2523009C3 (de) | Zur Bildung stark haftender Leitermuster auf Aluminiumoxidunterlagen geeignete Silbermasse | |
DE2617226C2 (de) | Paste und Verfahren zur Bildung eines elektrischen Dickfilmleiters | |
DE602004006951T2 (de) | Leitfähige paste | |
DE2746320C2 (de) | Kupfer-Glas-Stoffzusammensetzung und ihre Verwendung | |
DE2810427C3 (de) | Silbermassen für aufgedruckte Leitermuster | |
DE1646904B2 (de) | Metallisierungsmasse | |
DE19916618A1 (de) | Bleifreies Lötmittel und gelöteter Gegenstand | |
DE2333318C3 (de) | Metallisierungsmasse | |
DE3621667A1 (de) | Mit einer mehrzahl von dickfilmen beschichtetes substrat, verfahren zu seiner herstellung und dieses enthaltende vorrichtung | |
DE3636335A1 (de) | Metallisierungspaste | |
DE60212439T2 (de) | Silberleiterzusammensetzung für Solarzellelektroden | |
DE602005001305T2 (de) | Dickschichtwiderstandspaste und ein Dickschichtwiderstand | |
DE2650465A1 (de) | Anschluss fuer elektrische bauelemente, insbesondere fuer elektrische widerstaende und verfahren zur herstellung desselben | |
US3854957A (en) | Metallizations comprising nickel oxide | |
DE2550275C2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Barrieren für Lötzinn auf Leiterzügen | |
DE602004005252T2 (de) | Zusammensetzungen für Anschlusselektroden von keramischen Vielschichtkondensatoren | |
DE2551036B2 (de) | Borid-stoffzusammensetzung und ihre verwendung | |
DE1646606C3 (de) | Masse zum Metallisieren von keramischen Werkstücken | |
DE2305728A1 (de) | Vanadiumoxid und borsilicid enthaltende massen, die sich an der luft brennen lassen, sowie daraus hergestellte vorrichtungen | |
DE19639906C2 (de) | Isolierpaste | |
DE2162883C3 (de) | Edelmetall enthaltende Metallisierungsmasse | |
DE2461641B2 (de) | Edelmetallpulver auf silber-palladium-basis fuer die herstellung von leitermustern | |
DE2162883B2 (de) | Edelmetall enthaltende metallisierungsmasse | |
DE3446919A1 (de) | Dickfilm-schaltung und zusammensetzung zu deren herstellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) |