DE2160008B2

DE2160008B2 - Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Musters in einer auf einem Träger aufgedampften Metallschicht und dessen Verwendung

Info

Publication number: DE2160008B2
Application number: DE2160008A
Authority: DE
Inventors: Klaus Dr. 7015 Korntal Brill; Christian 7000 Stuttgart Glassmann
Original assignee: Robert Bosch GmbH
Current assignee: Robert Bosch GmbH
Priority date: 1971-12-03
Filing date: 1971-12-03
Publication date: 1973-11-15
Also published as: FR2162030A1; FR2162030B1; ATA991772A; JPS4864469A; JPS5614744B2; DE2160008A1; US3936545A; CH589724A5; DE2160008C3; AT326969B; GB1418644A; DD103931A5

Description

Es sind Dünnschichtanwendungen bekannt, bei welchen auf der bedampften Fläche geometrische Strukturen, Schriftzüge oder Zeichen freigehalten oder wieder freigelegt werden. Die bisher verwendeten Verfahren zum Herstellen derartiger Muster sind einerseits das Aufdampfen durch eine mechanische Blende, welche die freizuhaltende Fläche abdeckt, andererseits das nachträgliche Abdecken der Teile der Schicht, die stehenbleiben sollen, und Absätzen der zu entfernenden Schichtteile, und schließlich die Verhinderung der Kondensation der aufzudampfenden Schicht an den freizuhaltenden Stellen durch Aufbringen einer dünnen ölschicht vor der Bedampfung. Das erste Verfahren, nämlich das Aufdampfen durch eine mechanische Blende, ist für viele Anvvendungsfälle, insbesondere zum Aufdampfen komplizierterer Muster auf Bandmaterial, ungeeignet, da die mechanischen Blenden mit Verbindungsstegen versehen werden müssen, welche auf dem fertigen Erzeugnis unerwünschte Aussparungen der Schicht bewirken. Das zweite Verfahren mit nachträglichem Abdecken der Teile der Schicht, die stehenbleiben sollen und Abätzen der zu entfernenden Schichtteile, eignet sich im wesentlichen auch nur für Plattenmaterial, beispielweise zum Herstellen gedruckter Schaltungen. Es sind eine Reihe von Verfahrensschritten notwendig, welche aus wirtschaftlichen Gründen das Anwendungsgebiet stark beschränken. Das dritte zuvor geschilderte bekannte Verfahren, bei dem voi dem Bedampfen eine Ölschicht auf den Träger aufgebracht wird, eignet sich nicht für alle Aufdampfschichten. Soll z. B. eine Aluminiumschicht aufgedampft werden, so müßte wegen der guten Kondensationsfähigkeit von Aluminium eine sehr starke Ölschicht zur Verhinderung der Kondensation auf der Träger aufgebracht werden, wodurch zwangläufie unscharfe Konturen entstehen.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eil Verfahren zur Herstellung von Mustern in einer au einem Träger aufgedampften Metallschicht zu fin den, welches wirtschaftlich ist, d. h., welches nur we nige Arbeitsgänge erfordert, und welches die Herstel lung beständiger Muster mit scharfen Konturen er laubt. Insbesondere soll ein Verfahren entwickel

verden, welches sich für die kontinuierliche Belampfung von Bandmaterial eignet. Das Verfahren ioll so ausgestaltet sein, daß es sich für die Herstelung beliebiger Konturen, wie z. B. Linienraster, Zei- :hen, Firmennamen, isolierender Trennlinien in gedruckten Schaltungen od. ä. eignet.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß vor oder nach dem Aufdampfen der Metallschicht ein Stoff entsprechend dem zu erzeugenden Muster aufgedampft wird, der mit der Metallschicht unter Veränderung der optischen oder elektrischen Eigenschaften eine Verbindung bildet, die am Reaktionsort auf dem Träger verbleibt. Die Reaktion kann dabei durch verschiedene Mechanismen, die auch zusammen wirken können, ausgelöst werden. So können durch den Auftrag des die Reaktion auslösenden Stoffes auf die Unterlage die Wachstumsbedingungen der Aufdanofschicht örtlich geändert werden. Eine geänderte Schichtstruktur hat aber auch anderes Reaktionsverhalten zur Folge. Je nach der Stellung der kombinierten Partner ir. der elektrochemischen Spannungsreihe kann durch Reaktionsstrombildung der Prozeß erheblich beschleunigt werden. Schließlich kann ein Schichtumsatz auch durch eine chemische Reaktion zwischen den Partnern unmittelbar oder über Zwischenstufen ausgelöst werden.

Je nach Art und Ausbildung der verwendeten, die Reaktion bewirkenden Stoffe und der verwendeten Vorrichtung kann es günstig sein, wenn der die Reaktion bewirkende Stoff im Vakuum vor oder nach dem Aufdampfen der Metallschicht aufgebracht wird. Zweckmäßigerweise wird der die Reaktion bewirkende Stoff in einem vom Prozeß der metallischen Bedampfung getrennten Bedampfungspiozeß auf den Träger aufgetragen. Als Reaktionsmittel zum Umwandeln einer Aluminiumschicht eignet sich ganz besonders Wismut, mit Vorteil ist jedoch auch die Verwendung von Natrium als Reaktionsmittel möglich.

Wenn die optischen Eigenschaften der umgewandelten Schichtteile in Reflexion benutzt werden sollen, so ist es günstig, wenn auf den Träger zunächst eine Farbschicht aufgebracht wird und wenn die Dicke und die Stoffe der Schicht so gewählt werden, daß die Farbschicht durch das Muster durchscheint. Hierdurch erreicht man auf besonders einfache Weise eine optisch rbtastbare Musterung mit scharfen Konturen. Die Ausbildung der umgewandelten Schicht derart, daß die Farbschicht durch sie durchscheint, ist ohne weiteres möglich, weil dünne Musterschichten in dem hier interessierenden Schichldickenbereich bis mehrere 100 nm durchsichtig sind. In diesem Zusammenhang ist es hinsichtlich der Fertigung zweckmäßig, wenn die Farbschicht auf dem Träger durch Auflackieren einer Pigmentschicht gebildet wird. Auf die Farbschicht wird in der Regel mit Vorteil zunächst der die Reaktion bewirkende Stoff und hierauf erst die Metallschicht im Vakuum unmittelbar nacheinander aufgedampft.

Verfahrensmäßig ist es günstig, wenn das Aufdampfen das die Reaktion bewirkenden Stoffes durch ein feinmaschiges Sieb erfolgt, in welchem bestimmte Bereiche ähnlich wie bei dem bekannten Siebdruckverfahren abgedeckt sind. Beim vorliegenden Verfahren entsteht das Muster jedoch nicht in dem abgedeckten Bereich, sondern dort, wo der aufgedampfte, die chemische Reaktion bewirkende Stoff das Sieb durchdringt. Der Abstand der Siebebene von der Substratebene muß beim Aufdampfen des die Reaktion bewirkenden Stoffes so groß gewählt werden, daß keine Abbildung der Siebstege erfolgt, sondern daß infolge der Schattenbildung am Sieb die Substratebene hinter den nicht abgedeckten Teilen des Siebes mit dem Stoff belegt wird.

Zur Durchführung des Bandbedampfungs-Verfahrens hat sich eine Vorrichtung gut bewährt mit einer ersten, mit Durchbrüchen versehenen Walze zum

ίο Aufdampfen des Reaktionsmittels und mit einer zweiten Walze, welche mit gleicher Umfangsgeschwindigkeit wie die erste Walze umläuft und den Träger mit dem aufgedampften Reaktionsmittel an einer Blende vorbeiführt, durch welche die metallisehe Aufdampfschicht aufgebracht wird. Dabei ist es zweckmäßig, wenn beide Walzen mit den zugehörigen Bedampfungseinrichtungen in einem einzigen Vakuumgefäß angeordnet sind. Die Durchbrüche in der ersten Walze können ohne störende Stege in Form eines Musters angeordr, -ι sein.

Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen des Verfahrens sowie zweckmäßige Anwendungen sind an Hand der Figuren und deren spezieller Beschreibung näher erläutert. Es zeigt

F i g. 1 eine schematische Darstellung einer Versuchsanordnung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens,

F i g. 2 a und 2 b je einen Schnitt durch eine mit Mustern versehene Auf dampf schicht vor und nach der Ausbildung der Reaktionsschicht,

F i g. 3 ein Stück eines mit einem Rastermuster versehenen Registrier-Metallpapiers,

F i g. 4 ein mit einem Muster versehenes Metallpapier für einen Impulskondensator,

F i g. 5 eine erste Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens und

F i g. 6 eine zweite Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens.

In F i g. 1 ist mit 10 ein Träger bezeichnet, welcher von einer Blende 11 mit Öffnungen bzw. Durchbrüchen 12 abgedeckt ist. Die Blende ist schwenkbar an einer Haltevorrichtung 13 befestigt.

Auf der dem Trägei 10 gegenüberliegenden Seite der Blende 11 sind ein erster Verdampfer 14 und ein zweiter Verdampfer 15 angeordnet. Die Öffnungen 12 in der Blende 11 liegen an den Stellen, an welchen die Aufdampfschicht später nicht sichtbar sein soll.

Zur Herstellung von Mustern wird zunächst aus dem Verdampfer 14 durch die Öffnungen 12 der Stoff auf den Träger aufgedampft, welcher später die örtliche Reaktion der aufgedampften Schicht bewirkt. Als solche wurden bei den durchgeführten Versuchen Wismut und Natrium verwendet. Die Blende 11 wird danach entfernt, in der schematischen Dar ellung gemäß F i g. 1 durch eine einfache seitliche Drehvorrichtung. Nun wird die gesamte, den beiden Verdampfern zugekehrte Trägeroberfläehe mit dem eigentlichen Schichtinctail aus dem zweiter Verdampfer 15 bedampft. Als Schichtmetall ist in den ersten durchgeführten Versuchen Aluminiuir verwendet worden. Bei weiteren Versuchen wurder als Schichtmetalle auch Zink und Kupfer aufge dampft. Als Träger dienten Platten aus Glas, Gra phit, Acrylglas, Kunststoff (insbesondere PVC) unc Beryllium-Oxidkeramik. Hierbei ergibt sich der ii F i g. 2 a dargestelle Schichtaufbau. Auf dem Träge 10 befindet sich der die Reaktion bewirkende Stof

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16 und darauf eine Metallschicht 17. Der Stoff 16 an Luft gemessen, einen elektrischen Widerstand von

besteht in diesem Falle aus Wismut, die Metall- weit mehr als 100 Mega-Ohm.

schicht aus Aluminium. Ein anderes vorteilhaftes Anwendungsbeispiel des

Versuche haben gezeigt, daß mit annähernd gleich erfindungsgemäßen Verfahrens liegt in der Erzeugutem Erfolg auch eine Umkehrung der Reihenfolge 5 gung einer Referenzspur auf einem Aluminiummöglich ist, daß also zuerst das Schichtmetall und Lochstreifenpapier, dessen Referenzspur optisch abdanach erst der die Reaktion bewirkende Stoff aufge- getastet wird. Die Referenzspur wird dort von Quadampft werden kann. Bei Verwendung von Alumi- draten von 1,2 mm Kantenlänge im Rasterabstand nium als Schichtmetrll darf in diesem Fall die evaku- 2,54 mm gebildet. Als Träger wird schwarz lackiertes ierte Versuchsanordnung zwischen den beiden Pro- io Papier verwendet, dessen Dicke 40μιη beträgt, wähzessen nicht belüftet werden, weil sich sonst auf der rend die Lackschicht eine Dicke von 1 |im hat. Ein Aluminiumoberfläche eine Luftoxidschicht ausbildet, Ausschnitt aus einem derartigen Papierstreifen ist in die eine stark reaktionshemmende Wirkung besitzt. F i g. 3 dargestellt.

Unmittelbar nach der Entnahme des beschichteten Das Verfahren eignet sich weiterhin besonders gut Trägers aus der auf einen Druck unter 10-⁴Torr 15 zur Herstellung isolierender Stege in Metallpapierevakuierten Bedampfungsanlage oder nach einer be- kondensatoren. Ein Beispiel hierfür bilden Impulsstimmten, von der Stoffart und Stoffmenge abhängi- kondensatoren für hohe Spannungen. Bei diesen gen Reaktionszeit hat die Schicht das in F i g. 2 b Kondensatoren muß dafür gesorgt werden, daß die dargestellte Aussehen. bei Selbstheilvorgängen umgesetzte Energie begrenzt

Bei der Kombination von Wismut als die Reaktion *° bleibt. F i g. 4 zeigt eine Ausführung eines derartigen

auslösendem Stoff und Aluminium als Schichtmetall bemusterten Metallpapiers für Impulskondensatoren,

ist die Reaktion nach etwa 20 see nach Belüften der Der Metallbelag 41 wird dabei durch isolierende

Anlage abgeschlossen. ^Ste?^{e 42} kammähnlich in viele Teilkapazitäten aufge-

Aus F i g. 2 b ist ersichtlich, daß an den nicht mit teilt. Durch diese Unterteilung wird bei einem

dem Reaktionsmittel belegten Stellen die Metall- *5 Durchschlag die Energiezufuhr über den leitenden

schicht 17 unverändert bleibt, während sich an den Restquerschnitt am Kammrücken herabgesetzt und

mit dem Reaktionsmittel 16 belegten Stellen eine un- die Zerstörung des Dielektrikums verhindert,

sichtbare durchscheinende Schicht 18 ausbildet. Die Fig. 5 zeigt eine Vorrichtung zur effindiüig^gemü-

an diesen Stellen gebildeten Reaktionsprodukte der ßen Beschichtung eines bandförmigen Materials.

Schichtreaktion haben einen hohen elektrischen 3° Das zu bedampfende, bereits mit einer Lack-Pig-

Widerstand und sind in der aufgedampften Stärke mentschicht versehene Papierband 20 läuft in einer

durchsichtig. 'ⁿ einem Vakuumgefäß angeordneten Bedampfungs-

Auf einer nicht metallischen Unterlage entsteht so anlage zunächst über eine Walze 21. die auf ihrem ein Muster, welches neben den unterschiedlichen Umfang quadratische öffnungen 22 im Rasterabelektrischen Eigenschaften im Vergleich zur Metall- 35 stand besitzt.

schicht auch einen guten optischen Kontrast auf- Im Inneren der Walze 21 befindet sich ein Rohrweist, bedingt durch die optischen Eigenschaften der verdampfer 23, dessen öffnungen in der Lochebene Obei fläche. Zur deutlicheren Hervorhebung des Mu- der Walze 21 angeordnet sind. Sollen gleichzeitig sters kann entweder der Träger selbst eingefärbt wer- mehrere Rasterspuren erzeugt weiden, so liegen den oder — wie beim Ausführungsbeispiel — eine 4<> mehrere Lochebenen nebeneinander. Im Inneren des Pigmentschicht 19 auf den Träger 10 auflackiert direkt oder indirekt beheizten Rohrverdampfers 23 verden. Diese schwarze Schicht ist, wie in Fig. 3 wird während der gesamten Bedampfungsdauer ein dargestellt, entsprechend der musterförmigen Auftra- gleichmäßiger Wismut-Dampfdruck aufrechterhalten, gung des die Reaktion bewirkenden Stoffes nach der Der Dampfdruck ist so hoch, daß durch die quadrati-Umwandlung der Aufdampfschicht und des für die 45 sehen öffnungen 22 der Walze 21 eine W .smut-Mas-Einleitung der Reaktion aufgedampften Stoffes deut- senbelegung von 2 jig/cm* erzielt wird. Eine Heizung lieh sichtbar. Die aufgedampfte Aluminiumschicht 17 24 sorgt für die Zufuhr der zusätzlichen Wärme zur und die die Reaktion bewirkende Schicht 16 werden Verhinderung der Kondensation von Wismutatomen an den belegten Stellen unsichtbar und lassen die auf der Walzenoberfläche. Das Papierband 20 läuft Pigmentschicht durchscheinen. 50 dann über eine erste Umlenkwalze 25 auf eine Be-

Auch die elektrischen Eigenschaften der Metal'- dampfungswalze 26 und danach über eine Umlenkschicht 17 und der durchsichtigen Schicht 18 unte;- walze 25'. Durch die öffnung einer Blende 27 wird scheiden sich stark voneinander. Der Widerstand der hier in bekannter Weise die Aluminiumschicht aufgedurchsichtigen Schicht 18 ist so hoch, daß Bahnen tragen. Die Massenbelegung mit Aluminium beträgt aus dieser Schicht die Aufgabe einer elektrischen Iso- 55 lOug/cm². Das bedampfte Papierband 20 wird in der lation von Schichtteilei· gegeneinander übernehmen Anlage aufgewickelt. Nach der Entnahme aus der können. Bedampfungsanlage, teilweise aber auch schon inner-Folgende Anordnung ist im Versuch erprobt und halb der Anlage selbst, beginnt die Reaktion. Bei ungemessen worden: Auf einen Glasträger von 25 mm gehindertem Luftzutritt ist die Schicht an den mit Breite und 75 mm Länge wurden nach dem erfin- 60 Wismut belegten Stellen nach 30 see umgesetzt. In dungsgemäßen Verfahren durch eine Blende mit der aufgewickelten Rolle ver'ängert sich unter Um-0,4 mm breiten Schlitzen 0,4 mm breite, 25 mm lange ständen die Reaktionsdauer geringfügig, und etwa 20 nm dicke Wismutstege aufgedampft. Tm Versuch wurde nachgewiesen, daß bei Einlaß Anschließend wurde die Blende entfernt und die ge- von feuchter Luft oder Wasserdampf die Reaktion samte Trägeroberfläche mit einer 50 nm dicken AIu- 65 schon bei einem niedrigen Wasserdampfpartialdruck tnmnimschicht bedampft. Die durch die Reaktion von etwa 10-<Torr einsetzt. Die Reaktionsgeschwinentstehenden 0,4 mm breiten und 25 mm langen oxi- digkeit steigt mit zunehmendem Wasserdampfpartialdischen Bereiche in der Aluminiumschicht besitzen, druck an; die Reaktionsdauer beträgt z. B. bei 10^-1

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Torr nur noch einige Minuten und sinkt bei Drücken sprechender Raster entsteht, von dem sich die durch über 10 Torr auf wenige Sekunden. Wie andere Ver- die abgedeckten Bezirke 54 gebildeten Schriftzüge suche gezeigt haben, kann der Reaktionsablauf durch oder sonstigen Konturen abheben. Wird der AbEinlaß eines CO₂-Wasscr-Gemisches noch weiter be- stand d vergrößert, so entsteht auf Grund der endlischleutv.gt werden. Die Reaktion setzt spätestens 5 chen Ausdehnung der Bedampfungsquelle 53 sowie dann ein, wenn das Schichtsystem bei Belüftung der infolge von Reflexion und Streuung der Dampfatome Anlage mit atmosphärischer Luft in Berührung eine zunehmende Unscharfe, die schließlich dazu kommt. Diese, insbesondere jedoch der darin enthal- führt, daß der gesamte Bereich 56 mit einer Wismuttene Wasserdampf, ist ein maßgebender Reaktions- schicht — wenn auch etwas schwankender Dicke — partner. ίο belegt ist. Da für das erfindungsgemäße Verfahren

Das Endprodukt der Reaktion ist durchsichtig, so aber ein großer Bereich der zulässigen Wismut-Masdaß der schwarze Untergrund der pigmentierten senbelegung zur Verfügung steht, läßt sich erreichen, Lackschicht sichtbar wird. Der Kontrast ist einwand- daß das Siebmuster praktisch verschwindet, da das frei, und die Ränder sind scharf, womit die Voraus- sich bildende Reaktionsprodukt im gesamten Obersetzungen für eine optische Abtastung erfüllt sind. 15 flächenbereich 56 durchsichtig ist. Die schwächer

Ein sehr rascher Schichtumsatz einer Aluminium- mit dem die Reaktion bewirkenden Stoff belegten

schicht wird auch dann erzielt, wenn statt Wismut Stellen hinter den Siebdrähten treten praktisch nicht

eine dünne Natriumschicht, in einem durchgeführten hervor, da die Reaktior in weiten Grenzen von der

Versuch mit einer Massenbelegung von etwa 30 μg/ Masse des aufgedampften Reaktionsmittels unabhän-

cm², aufgedampft wird. Am fertigen bemusterten ao 31g ist.

Metallpapier ist praktisch kein Unterschied zwischen Das erfindungsgemäße Verfahren besitzt eine

einer Natrium- und Wismutbeschichtung zu erken- praktisch nur durch die Bedampfungsbedingungen

nen. begrenzte Abbildungstreue. Mit diesem Verfahren

F i g. 6 zeigt eine weitere Vorrichtung zur Durch- lassen sich Oxid-Metallstrukturen in Größenberei-

führung des erfindungsgemäßen Verfahrens. Vor as chen herstellen, die anderen Verfahren, wie z. B. der

dem Substrat 51 befindet sich ein feinmaschiges Sieb direkten Oxid auf dampf technik, der reaktiven Be-

52 n.it einer Maschenweite von 40μΐη. Bezirke 54 dampfung und der anodischen Oxidation, nicht zu-

des Siebes 52 sind mit einem Lack abgedeckt. An gänglich sind. Ein besonderer Vorteil des erfindungs-

diesen Stellen soll später die Metallschicht erhalten gemäßen Verfahrens besteht darin, daß es in einem

bleiben. Nach dem Verfahren gemäß der Erfindung 30 einzigen Bedampfungsprozeß mit geringem zeitlichem

wird nun zunächst eine dünne Wismutschicht von und technischem Aufwand durchgeführt werden

2 μ^αη² aus einem Bedampfer 53 durch das Sieb auf kann.

die nicht abgedeckten Bereiche 56 aufgedampft, Die Anwendung des neuen Verfahrens ist jedoch dann wird das Sieb entfernt und die gesamte Fläche keineswegs auf die geschilderten Ausführungsbeimit etwa ^ig/cm² Aluminium bedampft. Nach Ab- 35 spiele beschränkt. Ebenso wie die optischen Eigenschluß der Reaktion sind die durch die Abdeckung schäften des Reaktionsproduktes zur Herstellung von 54 vorgegebenen Zeichen sichtbar. Es ist nun ein be- Mustern in Aufdampfschichten verwendet werden sonderer Kunstgriff, daß das Aussehen des Unter- können, so können auch seine mechanischen, elektrigrundes in den Bereichen 56 durch Änderung des sehen und dielektrischen Eigenschaften für technisch Abstandes d zwischen dem Sieb 52 und der Substrat- 40 wichtige Anwendungen ausgenutzt werden. Angeoberfläche 51 geändert werden kann. Ist dieser Ab- führt sei hier z. B. die Anwendung als mechanische stand sehr klein, z. B. kleiner als 1 mm, so ist die Ab- Schutzschicht oder Korrosionsschutzschicht für Mebildungstreue des Verfahrens so hoch, daß ein den tallspiegel und schließlich die Anwendung als Digeometrischen Abmessungen des Siebes genau ent- elektrikum in Dünnschichtkondensatoren.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims

Patentansprüche:

1. Verfahren zur Herstellung eines Musters in einer Metallschicht, die auf einen Träger aufgedampft ist, dadurch gekennzeichnet, daß vor oder nach dem Aufdampfen der Metallschicht (17) ein Stoff (16) entsprechend dem zu erzeugenden Muster aufgedampft wird, der mit der Metallschicht unter Veränderung der optischen oder elektrischen Eigenschaften eine Verbindung bildet, die am Reaktionsort auf dem Träger (10) verbleibt.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Reaktion unter Luftzufuhr stattfindet.

3. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dac\ rch gekennzeichnet, daß der die Reaktion bewirkende Stoff (16) in. einem vom Prozeß der metallischen Bedampfung getrennten Bedampfungsprozeß auf den Träger (10) aufgetragen wird.

4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als Reaktionsmittel (16) Wismut oder Natrium verwendet wird und daß die Auf dampf schicht (17) aus Aluminium gebildet wird.

5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, daduich gekennzeichnet, daß auf den Träger (10) zunächst eine Ft bschicht aufgebracht wird und daß die Dicke und die Stoffe der Schicht (18) so gewählt w; /den, daß die Farbschicht durch das Muster durchscheint.

6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Farbschicht durch Auflakkieren einer Pigmentschicht (19) auf den Träger (10) gebildet wird.

7. Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß auf die Farbschicht zunächst der die Reaktion bewirkende Stoff (16) und hierauf die Metallschicht (17) im Vakuum unmittelbar nacheinander in einer Anlage aufgedampft werden.

8. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Aufdampfen des die Reaktion bewirkenden Stoffes (16) durch ein feinmaschiges Sieb (52) erfolgt, in welchem bestimmte Bereiche abgedeckt sind.

9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß durch hinreichend groß gewählten Abstand zwischen Siebebene und Substratebene beim Aufdampfen des die Reaktion bewirkenden Stoffes (16) infolge der Schattenbildung eine Abbildung der Siebstege verhindert wird.

10. Nach dem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9 hergestellte Muster, dadurch gekennzeichnet, daß sie als isolierende Stege (18) zwischen leitenden Schichtbereichen (17) in elektrischen Dünnschichtanordnungen auf einem isolierenden Träger verwendet werden.

11. Nach dem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9 hergestellte Muster, dadurch gekennzeichnet, daß sie als isolierende Stege zwischen den Teilkapazitäten eines Impulskondensators verwendet werden.

12. Nach dem Verfahren gemäß einem der An-

Sprüche 1 bis 9 hergestellte Muster, dadurch gekennzeichnet, daß sie zur Erzeugung eines Musters, insbesondere eines Rastermusters auf einem Registriermetallpapier verwendet werden.

13. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 10, gekennzeichnet durch eine erste, mit Durchbrüchen versehene Walze (21) zum Aufdampfen des Reaktionsmittels und durch eine zweite Walze (26), welche mit gleicher Umfangsgeschwindigkeit wie die erste Walze (21) umläuft und den Träger mit dem aufgedampften Reaktionsmittel an einer Blende (27) vorbeiführt, durch welche die metallische Aufdampfschicht aufgebracht wird.

14. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß beide Walzen (21, 26) mit den zugehörigen Bedampfungseinrichtungen in einem Vakuumgefäß angeordnet sind.