DE2143806A1 - Elektrolytisches Bad zur elektroly tischen Abscheidung von blanken bis glan zenden Zinn Blei Legierungsschichten - Google Patents

Elektrolytisches Bad zur elektroly tischen Abscheidung von blanken bis glan zenden Zinn Blei Legierungsschichten

Info

Publication number
DE2143806A1
DE2143806A1 DE19712143806 DE2143806A DE2143806A1 DE 2143806 A1 DE2143806 A1 DE 2143806A1 DE 19712143806 DE19712143806 DE 19712143806 DE 2143806 A DE2143806 A DE 2143806A DE 2143806 A1 DE2143806 A1 DE 2143806A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
bis
methylene
tin
lead
diphenylmethane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19712143806
Other languages
English (en)
Other versions
DE2143806B2 (de
DE2143806C3 (de
Inventor
Friedrich Korpiun Joachim Dr Ing 7340 Geislingen P Sedlacek
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dr Ing Max Schloetter GmbH and Co KG
Original Assignee
Dr Ing Max Schloetter GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dr Ing Max Schloetter GmbH and Co KG filed Critical Dr Ing Max Schloetter GmbH and Co KG
Publication of DE2143806A1 publication Critical patent/DE2143806A1/de
Publication of DE2143806B2 publication Critical patent/DE2143806B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2143806C3 publication Critical patent/DE2143806C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/60Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of tin

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

DR. ING. E. HOFFMANN · DIPL. ING. W. EITLE · DR. RER. NAT. K. HOFFMANN
PATKNTANWlLTB «% 1 / O Q Π ά
D-8000 MÖNCHEN 81 · ARABELLASTRASSE 4 · TELEFON (0811) 911087
Dr.-Ing. Max Schiotter
734 Geislingen (Steige)
Elektrolytisches Bad zur elektrolytischen Abscheidung von blanken bis glänzenden Zinn-Blei-Legierungsschichten
Elektrolyte für die galvanische Abscheidung von Zinn-Blei-Legierungsschichten sind bekannt. Die üblichen Elektrolyte hierfür enthalten Blei und zweiwertiges Zinn in Form von Fluoroboraten, freie Fluoroboraten, freie Fluoroborsäure, Borsäure und organische Zusätze zur Glättung des abgeschiedenen Metalls. Die bisher bekannten organischen Zusätze geben nur matte, im günstigsten Falle seidenmatte Zinn-Blei-Legierungsschichten.
Insbesondere in der Elektronikindustrie besteht nun das Bedürfnis, auch diese Legierungsschichten mit ^blankem bis glänzendem Aussehen herzustellen.
209852/1087
-2-
Diese Aufgabe wird durch das erfindungs-gemäße Bad gelöst.
Gegenstand dieser Erfindung ist daher ein elektrolytisches Bad zur galvanischen Abscheidung blanker bis glänzender Blei-Zinn-Legierungsschichten, bestehend aus einer wässerigen Lösung von fluoroborsauren Salzen des Bleis und des zweiwertigen Zinns, freier Fluorobörsäure, Borsäure, Netzmittel und Formaldehyd, das durch einen Gehalt an wenigstens einer Verbindung der allgemeinen Formel (A)
-NR1 -CH0-NR0-
und/oder wenigstens einer Verbindung der allgemeinen Formel (B)
- NR2Ii4
gekennzeichnet ist, worin R1 und R0 einH-Atom, einen Alkylrest mit 1 bis 4 C-Atomen, einen Alkenyl- oder Alkinylrest mit bis zu 4 C-Atomen, R^ und R^ ein Η-Atom oder einen Alkylrest mit 1 bis 3 C-Atomen, R- und Rg als Substituenten am Benzolkern ein Η-Atom, einen Alkylrest mit 1 bis 3 C-Atomen oder ein Halogenatom bedeuten.
Beispiele für die erfindungsgemäß vorgesehenen Verbindungen der Formeln (A) und (B) sind folgende Verbindungen:
4,4' -Diaminodiphenylmethan
4,4'-Bis-(N-methylamino)-diphenylmethan 4,4'-Bis-(N-dimethylamino)-diphenylmethan 4,4'-Bis-(N-äthylamino)-diphenylmethan 4,4'-Bis-(N-diäthylamino)-diphenylmethan 4,4'-Bis-(N-n-propylamino)-dipheny!methan 4,4'-Bis-(N-propargylamino)-diphenylmethan 4,4'-Bis-(N-n-butylamino)-dipheny!methan 4,4 ' - Di sai ir?.o -3 s Ji f - dime thy 1 - di pheny lme than
209052/1087
2U3806
Methylen-bis-anilin
Methylen-bis-(N-methylanilin) Methylen-bis-(N-äthylanilin) Methylen-bis-(N-n-propylanilin) Methylen-bis-(N-propargylanilin) Methylen-bis-(N-alIyIanilin) Methylen-bis-Xylidin
■ Methylen-bis-(N-äthyl-p-toluidin) Methylen-bis-(N-methyl-p-toluidin) und/oder Methylen-bis-p-toluidin
Diese Substanzen zeigen ihre glanzbildende Wirkung je nach Art des Substituenten R bei Konsentrationen von 0,05 bis 5 g/l Elektrolyt. Bevorzugte Gehalte zur Erzielung der optimalen Wirkung liegen im Bereich zwischen 0,1 und 2,0 g/l.
Die unter Verwendung des erfindungsgemäßen Bades abgeschiedenen Zinn-Blei-Legierungsschichten lassen sich vorzüglich löten und behalten diese Eigenschaft über eine längere Lagerzeit bei.. Werden größere Flächen, die mit einem auf diese Weise hergestellten Metallüberzug bedeckt sind, so hoch erhitzt, daß die Legierung schmilzt, so benetzt.die Schmelze gleichmäßig die gesamte Metalloberfläche. Elektro3ytisch glänzend abgeschiedene Überzüge, die nur aus reinem Zinn bestehen und einen ähnlichen oder noch besseren Glanzgrad aufweisen wie die erfindungsgemäß herstellbaren Zinn-Blei-Schichten zeigen beim Aufschmelzen in den meisten Fällen die Erscheinung, daß das flüssige Zinn zu einigen Tropfen zusammenläuft. Diese Erscheinung ist nicht erwünscht. Schon in dieser Hinsicht haben blank bis glänzend abgeschiedene Zinn-Blei-Schichten einen Vorteil gegenüber glänzend abgeschiedenen Zinn-Schichten.
209852/1087
-4- 2U3806
Der Glanzgrad der unter Verwendung des erfindungsgemäßen Bades abgeschiedenen Zinn-Blei-Legierungsschichten läßt sich noch weiter steigern, wenn man bekannte Glanz.^Bildner für Zinn-Bäder zusetzt, wie sie z.B. in der DAS 1 242 427 beschrieben werden.
Geeignete Verbindungen sind somit z.B.:
Zimtaldehyd
Thiophenaldehyd
Furfurol
Furfurylidenaceton
2 Acetyl-Furan
2.5 Dihydrobenzaldehyd und/oder
2-Methyl-2 O-dihydrobenzaldehyd
Je nach Substanz liegt der Wirkungsbereich dieser zusätzlich im Bad vorgesehenen Substanzen bei Konzentrationen zwischen 0,02 und 4,0 g/l. Bevorzugt werden Konzentrationen von 0,05 bis 2 g/l, um die beste Wirkung zu erreichen.
Diese als Glanzzusatz für die Abscheidung von reinem Zinn geeigneten und bekannten Substanzen geben bei ihrer alleinigen Verwendung als Zusatz zu Zinn-Blei-Elektrolyten W den abgeschiedenen Zinn-Blei-Legierungsschichten auch einen gewissen trütren Glanz, der allerdings die Wirkung der Substanzen A und B nicht übertrifft und in vielen Fällen nicht einmal erreicht. Da der gemeinsame Zusatz der Substanzen A und B und der bekannten Glanzbildner für die Abscheidung reiner Glanzζinnschichten zu hoch glänzenden Blei-Zinn-Schichten führt, liegt hier eine Potenzierung der Einzelwirkungen dieser Zusätze vor. Es ist nämlich keineswegs zu erwarten gewesen, daß zwei Substanzen, die Jede für sich nur zu Zinn-Blei-Schichten mit trüb blankem Glanz führen, in gemeinsamer Wirkung hochglänzende Schichten ergeben.
209852/1087 «r
AIs Netzmittel werden für das erfindungsgemäße elektrolytische Bad in erster Linie Netzmittel auf der Basis von Äthylenoxid-Additionsprodukten verwendet. Bevorzugt eignen sieh hierfür solche Verbindungen, in denen mindestens 6 Äthylenoxid-Gruppen mit langkettigen Fettalkoholen, langkettigen Fettsäuren, langkettigen Fettaminen oder langkettigen Alkylphenolen kondensiert werden. Langkettig bedeutet hier, daß diese Verbindungen Ketten mit mindestens 6 Kohlenstoff-Atomen enthalten. Brauchbar sind Verbindungen mit 10 bis JO Äthylenoxid-Gruppen, doch werden Verbindungen mit 10-18 Äthylenoxid-Gruppen bevorzugt, da sie duktilere Niederschläge liefern. Nonylphenol mit 15 Mol Äthylenoxid, Fettalkohol, Fettamine oder Fettsäuren mit 10 bis 16 C-Atomen kondensiert mit 10-18 Mol Äthylenoxid umgesetzt geben für den vorliegenden Zweck gut brauchbare Netzmittel. Auch zusätzlich sulfatierte Produkte dieser Art sind gut brauchbar.
Bevorzugte Bäder gemäß der Erfindung haben folgende Zusammensetzung ;
10 g/l bis 50 g/l Sn2+ und Pb2+ in Form der Fluoroborate, 50 g/l bis 400 g/l freie Fluoroborsäure (50 %) 10 g/l bis 4o g/l Borsäure
5 g/l bis 20 g/l eines Netzmittels, vorzugsweise eines Alkylaryläthers wie dem Kondensationsprodukt von Nonylphenol mit Xk Mol Äthylenoxid,
5 g/l bis JO g/l Formaldehydlösung 08 %) 0,1 g/l bis 2*0 g/l der Verbindung A und/oder B und 0,05 g/l bis 0*50 g/l einer ungesättigten Carbonylverbindung, z,B« vonBenzalaceton.
Die Stromdichte, welche erzielbar ist, hängt vom Metall-
2 /2 gehalt des Bads ab und liegt zwischen 1 A/dm und 10 A/dm Besonders gute Ergebnisse werden mit Bädern der folgenden
- 6 -209852/1087
2U3806
Zusammensetzung erhalten:
12 g/l bis 15 g/l Sn2+ und Pb2+ als Fluoroborat,
200 g/l bis 2βθ g/l freie Pluorborsäure (50 %)
10 g/l bis 12 g/l Borsäure
11 g/l bis 13 g/l Netzmittel
10 g/l bis 15 g/l Formaldehydlösung (38 #) 0,6 g/l bis 0,8 g/l der Verbindung A und/oder B 0,1 g/l bis 0,4 g/l der Carbonylverbindung.
Die Stromdichte, die mit einem solchen Bad erzielt werden
2 2
kann, liegt zwischen 1,5 A/dm und 2,0 A/dm .
Die bei Verwendung der erfindungsgemäßen Bäder eingesetzten Anoden sind vorzugsweise aus Zinn-Bleilegierungen zusammengesetzt, deren Zusammensetzung der gewünschten Zinn-Bleiabscheidung entspricht. Somit wird, wenn eine Abscheidung von 6o % Zinn und 4o % Blei hergestellt werden soll, eine Anode mit dem gleichen Zinn- und Bleigehalt verwendet. Die Stärke der Abscheidungen kann zwischen etwa 2/U und etwa 20/U liegen.
α Die Erfindung soll im folgenden anhand der Beispiele näher erläutert werden. Hierbei beziehen sich die Beispiele 1 bis 7 auf ein elektrolytisches Bad gemäß der vorliegenden Erfindung, welches außer den üblichen Bestandteilen lediglich Verbindungen der Gruppe A und B enthält.
Die Beispiele 8 bis 21 beschreiben elektrolytische Bäder, welche darüber hinaus noch bekannte Glanzbilder der oben erwähnten Art enthalten.
- 7-
209857/1087
2U3806 - 7 -
Das für die Beispiele 1 bis 7 verwendete "Grundbad A" gestattet bei einer kathodischen Stromdichte von 2 A/dm und einer Elektrolyt-Temperatur von 20 bis 25°C die Abscheidung von Zinn-Blei-Legierungsschichten mit einem Zinn-Gehalt von 60 bis 65 Man hat es in der Hand, durch entsprechende Einstellung der Konzentration der Blei- und Zinn-Ionen im Elektrolyten den Zinn-Gehalt der abgeschiedenen Legierungsschichten in vieltem Umfange zu verändern. Es kommt dabei auf das Verhältnis Blei zu Zinn im Elektrolyten an. Wird die Zinn-Konzentration im Verhältnis zur Bleikonzentration erhöht, dann werden Niederschläge mit höherem Zinn-
209857/1087
Gehalt erhalten -und umgekehrt. Diese Regeln entsprechen der Theorie und der Praxis der elektrolytischen Abscheidung von Legierungen.Es zeigt sich, daß 'die Erscheinungsform der Niederschläge in den nachfolgenden Beispielen 1 bis 7 sich kaum verändert', wenn der Zinn-Gehalt der abgeschiedenen Legierungsschichten sich zwischen etwa 4O und 8o $ bewegt. Eine Legierung mit ca. 6O % Zinn wird bevorzugt angestrebt, da sie der Zusammensetzung des Löt-Zinns entspricht.
"Grundbad A" für die folgenden Beispiele enthält:
9,2 g/l Sn als Fluoroborat
4,2 g/l Pb2+ als Fluoroborat
2j5O g/l freie Fluoroborsäure (50 %) 10 g/l Borsäure
12 g/l Alkylaryläther mit i.M. 14- CyfyO-Gruppen
im Molekül als Netzmittel
10 g/l Form al dehjrdl ösung 08 %)
Die Dauer der Elektrolyse war in allen Fällen 15 Minuten.
Beispiel ..1
Zu "Grundbad A" werden zugesetzt:
0,5 g/l 4,4' Diaminodiphenylmethan.
Unter den oben genannten Bedingungen werden gleichmäßig blanke, einen verschleierten Glanz zeigende Zinn-Blei-Schichten erhalten.
Beispiel 2
Zusatz von 0,5 g/l 4,4'-Bis-(N-monoäthylamino)-diphenylmethan gibt blanke Sn-Pb-Schichten, die etwas stärkeren Schleier zeigen als die Resultate nach Beispiel 1.
.9. 209852/1087
_9_ 2U3806
Beispiel 3
Zusatz von 0,1 g/l 4,4'-Bis-(N-diäthylamino)-diphenylmethan geben gleichartige Ergebnisse wie Beispiel 2.
Beispiel 4
Zusatz von 0,2 g/l Methylan-bis-anilin geben blanke, etwas verschleierte Schichten etwa der Güte von Beispiel 1 ,
Beispiel 5
Zusatz von 0,2 g/l Methylen-bis-(N-methyl-anilin) gibt gleiche Resultate wie Beispiel 4 und wie Beispiel 1.
Beispiel 6
Auch mit Zusatz von Methylen-bis-CN-äthyl-p-toluidin) werden gleichmäßige blanke, leicht verschleierte Zinn-Blei-Schichten abgeschieden.
Beispiel J
Werden pro Liter Bad 1,0 g Methylen~bis-(N-propargylanilin) zugesetzt, dann entstehen Niederschläge, deren Glanz nur noch wenig verschleiert ist.
Für die nachstehenden Beispiele 8 bis 21 wird zur Variation ein etwas abgewandelter Grundelektrolyt B verwendet.
Grundelektrolyt B:
Oj.
11*2 g/l Sn als Pluoroborat
2+
5,2 g/l Pb als Fluoroborat
300 g/l freie Fluoroborsäure (50 %) 10 g/l Borsäure
12 g/l Alkylaryläther mit i.M. 12 CgH^O-Gruppen im
Molekül als Netzmittel
15 gA Formaldehydlösung (38 %)
-10-209852/1087
71,43806'
Beispiel 8
Zum Grundeleketrolyten B werden zugesetzt:
0,12 g/l Methylen-bis-anilin 0,07 g/1 Zimtaldehyd
Bei einer Badtemperatur von 20 bis 22°C und einer Stromdichte von 2 bis 3 A erhält man einen klar glänzenden Zinn-Blei-Niederschlag. Das Ergebnis bleibt bei verschiedenen Expositionszeiten das gleiche. Für technische Zwecke kommen unter den genannten Expositionszeiten solche von 10 bis 20 Minuten zur Anwendung.
Beispiel 9
Zum Grundeleketrolyten B werden zugesetzt:
1,0 g/l Methylen-bis-anilin 0,08 g/l Thiophenaldehyd
Beispiel 10
Zusatz zu Grundelektrolyt B:
0,1 g/l 4,4'-Diaminodiphenylmethan
0,04 g/l 2-Methyl-2,3-Dihydrobenzaldehyd Unter den oben genannten Arbeitsbedingungen entstehen bei Beispiel 9 und 10 klar glänzende Sn-Pb-Schichten.
Grundelektrolyt C
8,0 g/l Sn2+ als Pluoroborat
3,8 g/l Pb als Fluoroborat
250 g/l freie Fluoroborsäure (50 %)
10 g/l Borsäure
12 g/l Alkyl-Aryläther mit i.M. 16 cy^O-Grüppen im
Molekül als Netzmittel
12 g/l Formaldehydlösung (38 %)
- 11-
209852/1087
2U3806
Beispiel 11
Zusatz zu Grundelektrolyt C:
0,1 g/l Methylen-bis-anilin
0,04 - 0,06 g/l 2,2-Dihydrobenzaldehyd
Beispiel 12
Zusatz zu Grundelektrolyt C :
0,7 g/1 Methylen-bis-(N-methylanilin) 0,16 g/l Furfurylidenaceton.
Unter den oben genannten Bedingungen entstehen bei Beispiel 11 und 12 klar glänzende Sn-Pb-Schichten.
Folgende Beispiele wurden unter Verwendung des Grundelektrolyten D
9.2 g/l Sn als Fluoroborat
4.3 g/l Pb2+ als Fluoroborat
260 g/l freie. Fluoroborsäure (50 %) 10 g/l Borsäure
12 g/l Alkyl-Aryläther mit i.M. 16 CgH^O-Gruppen im Molekül
ausgeführt. Die Arbeitstemperatur lag in allen Fällen zwischen 20 und 24°C.
Beispiel 1j5
Zusatz zu Grundelektrolyt D:
20 g/l Formaldehydlösung (38 %) 0,5 g/l 4,4'-Diäthylamino-diphenylmethan 0,09 g/l Furfurol
Mit Stromdichten von 2-3 A/dm werden gut glänzende Sn-Pb-Schichten abgeschieden.
209857M087
2U3806/
Beispiel 14
Zusatz zu Grundelektrolyt D: ;
20 g/l Formaldehydlösung (38 %) 0,5 g/l 4,4 '-Bis-(N-n-propylamino)-diphenylmethan 0,27 g/l 2-Acetyl-Furan
Mit Stromdichten von 3 bis 4 A/dm werden gut glänzende Sn-Pb-Schichten erhalten.
Beispiel I5
Zusatz zu Grundelektrolyt D:
30 g/l Formaldehydlösung (38 #) 0,4 g/l Methylen-bis-CN-äthyl-p-toluidin) 0,27 g/l 2-Acetyl-Furan
Mit Stromdichten von 2,5 bis 3,5 A/dm werden gut glänzende Sn-Pb-Schichten abgeschieden.
Beispiel 16
Zusatz zu Grundelektrolyt D:
' 15 g/l Formaldehydlösung (38 #) 0,7 g/l 4,4'-Bis(N-diäthylamino)diphenylmethan 0,3 g/l Benzalaceton
Beispiel I7
Zusatz zu Grundelektrolyt D:
12 g/l Formaldehydlösung 0,7 g/l Methylen-bis-(N-allylanilin) 0,4 g/l Benzalaceton
Beispiel 18
Zusatz zu Grundelektrolyt A:
0,4 g/l Methylen-bis-anilin 0,3 g/l Benzalaceton
- 13 T 985?η
2H3806 - ι? -
Beispiel 19
Zusatz zu Grundelektrolyt A:
0,3 g/l 4,4f-Diamino-diphenylmethan 0,4 g/l Benzalaceton
Beispiel 20
Zusatz zu Grundelektrolyt A:
0,2 g/l Methylen-bis(N-n-propylanilin) 0,3 g/l Benzalaceton
Beispiel 21
Zusatz zu Grundelektrolyt A:
0,1 g/l Methylen-bis-(N-propargylanilin) 0,4 g/l Benzalaceton
Beispiel 22
Zusatz zu Grundelektrolyt A:
0,7 g/l Methylen-bis(n-Äthylanilin) 0,2 g/l Benzalaceton
Mit dem Beispiel 16 bis 22 erhält man bei 20 bis 24°C
mit Stromdichten von 1,5 bis 3,0 A/dm klar glänzende Sn-PbrSchichten.
Auch die nach den Beispielen 8 bis 21 hergestellten Zinn-Blei-Legierungsschichten haben gegenüber nach bekannten Verfahren glänzend abgeschiedenen Reinzinnschichten den Vorteil, daß sie auf größeren Flächen aufgeschmolzen, die Flächen gleichmäßig benetzen und nicht zu Tropfen zusammenlaufen.
- 14 -
2098 5 7/1087

Claims (8)

Patentansprüche
1. Elektrolytisches Bad zur galvanischen Abscheidung blanker bis glänzender Blei-Zinn-Legierungsschichten, bestehend aus einer wässrigen Lösung von fluoroborsauren Salzen des Bleis und des zweiwertigen Zinns, freier Pluoroborsäure, Borsäure, Netzmitteln und Formaldehyd, g e k e η η zeichnet durch einen Gehalt an wenigstens einer Verbindung der allgemeinen Formel (A)
und/oder wenigstens einer Verbindung der allgemeinen Formel (B)
worin R1 und R ein H-Atom, einen Alkylrest mit 1 bis 4 C-Atomen, einen Alkenyl- oder Alkinylrest mit bis zu 4 C-Atomen, R^. und Rh ein H-Atom oder einen Alkylrest mit 1 bis 3 C-Atomen, R_ und R^ als Substituenten am Benzolkern ein Η-Atom, einen Alkylrest mit 1 bis j3 C-Atomen oder ein Halogenatem bedeuten.
2. Elektrolytisches Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß es außerdem als Glanzbildner bei der Abscheidung glänzender Reinzinnschichten aus Glanzzinnbädern übliche Zusätze enthält.
-15-209852/1087
-•15 -
2U3806.
3. Elektrolytisches Bad nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet , daß es als Verbindungen der Formeln A und/oder B
4,4'-Diaminodiphenylmethan
4,V-Bis-(N-methylamino)-diphenylmethan 4,4 '-Bis- (N-dimetliylamino)-diphenylmethan 4,4'-Bis-(N-äthylamino)-diphenylmethan 4,4'-Bis-(N-diäthylamino)-diphenylmethan
4,4f-Bis-(N-n~propylamino)-diphenylmethan '
4,4'-Bis-(N-propargylamino)-diphenylmethan 4,4'-Bis-(N-n-butylamino)-diphenylmethan 4,4'-Diamino-3,3'-dimethyl-diphenylmethan Methylen-bis-anilin
Methylen-bis-(N-methylanilin)
Methylen-bis-(N-äthylanilin)
Methylen-bis-(N-n-propylanilin)
Methylen-bis-(N-propargylanilin) Methylen-bis-(N-allylanilin)
Methylen-bis-xylidin
Methylen-bis-(N-äthyl-p-toluidin) Methylen-bis-(N-methyl-p-toluidin) und/oder Methylen-bis-p-toluidin
enthält.
4. Elektrolytisches Bad nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet' , daß es die Verbindungen der Formeln A und/oder B in Mengen von 0,05 bis g/l * vorzugsweise von 0,1 bis 2,0 g/l enthält.
-16-209852M087
2H3806
- Io -
5· Elektrolytisches Bad nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet , daß es als zusätzliche glanzbildende Zusätze
Zimtaldehyd
Thiophenaldehyd
Furfurol
Furfurylidenaceton
2 Aeetyl-Furan
2.3 Dihydrobenzaldehyd und/oder 2-Methyl-2.^-dihydrobenzaldehyd
enthält.
6. Elektrolytisches Bad nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet , daß es die Zusätze in Mengen von 0,02 bis 4,0 g/1 enthält.
7. Elektrolytisches Bad nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet , daß die Konzentration der Blei- und Zinn-Ionen im Elektrolyten so bemessen wird, daß Blei-Zinn-Legierungsschichten mit einem Blei-Gehalt von 2 bis 80 % abgeschieden werden.
8. Elektrolytisches Bad nach Anspruch J9 dadurch gekennzeichnet , daß die Konzentration der. Blei- und Zinn-Ionen im Elektrolyten so bemessen wird, daß Blei-Zinn-Legierungsschichten mit einem Blei-Gehalt von 2 bis 50 % abgeschieden werden.
209852/1087
DE2143806A 1971-06-18 1971-09-01 Bad zur galvanischen Abscheidung blanker bis glänzender Blei-Zinn-Legierungsschichten Expired DE2143806C3 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US15465871A 1971-06-18 1971-06-18

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2143806A1 true DE2143806A1 (de) 1972-12-21
DE2143806B2 DE2143806B2 (de) 1973-05-30
DE2143806C3 DE2143806C3 (de) 1974-01-03

Family

ID=22552215

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2143806A Expired DE2143806C3 (de) 1971-06-18 1971-09-01 Bad zur galvanischen Abscheidung blanker bis glänzender Blei-Zinn-Legierungsschichten

Country Status (2)

Country Link
US (1) US3730853A (de)
DE (1) DE2143806C3 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2503192A1 (fr) * 1981-04-02 1982-10-08 Hooker Chemicals Plastics Corp Bain de revetement electrolytique pour le depot d'etain ou d'alliages d'etain renfermant notamment une amine aromatique et un acide sulfonique aromatique

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4000047A (en) * 1972-11-17 1976-12-28 Lea-Ronal, Inc. Electrodeposition of tin, lead and tin-lead alloys
US3850765A (en) * 1973-05-21 1974-11-26 Oxy Metal Finishing Corp Bright solder plating
GB1469547A (en) * 1973-06-28 1977-04-06 Minnesota Mining & Mfg Tin/lead electr-plating baths
JPS5183841A (ja) * 1975-01-21 1976-07-22 Toho Beslon Co Handametsukyokotakuzai
SE8204505L (sv) * 1981-09-08 1983-03-09 Occidental Chem Co Elektropletering for avsettning av tenn-blylegeringar pa olika underlag
US5066367B1 (en) * 1981-09-11 1993-12-21 I. Nobel Fred Limiting tin sludge formation in tin or tin/lead electroplating solutions
US5094726B1 (en) * 1981-09-11 1993-12-21 I. Nobel Fred Limiting tin sludge formation in tin or tin/lead electroplating solutions
US4871429A (en) * 1981-09-11 1989-10-03 Learonal, Inc Limiting tin sludge formation in tin or tin/lead electroplating solutions
US4701244A (en) * 1983-12-22 1987-10-20 Learonal, Inc. Bath and process for electroplating tin, lead and tin/alloys
US4717460A (en) * 1983-12-22 1988-01-05 Learonal, Inc. Tin lead electroplating solutions
EP0652306B1 (de) * 1987-12-10 2000-09-27 LeaRonal, Inc. Zinn, Blei- oder Zinn-Blei-Legierungselektrolyten für Elektroplattieren bei hoher Geschwindigkeit
US5174887A (en) * 1987-12-10 1992-12-29 Learonal, Inc. High speed electroplating of tinplate
US9243339B2 (en) * 2012-05-25 2016-01-26 Trevor Pearson Additives for producing copper electrodeposits having low oxygen content
CN111788337A (zh) 2018-03-20 2020-10-16 三菱综合材料株式会社 锡或锡合金电镀液、凸点的形成方法及电路基板的制造方法
US20230063860A1 (en) * 2021-08-24 2023-03-02 ACS ENTERPRISES, LLC d/b/a AMERICAN CHEMICAL Copper treatment additive

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2503192A1 (fr) * 1981-04-02 1982-10-08 Hooker Chemicals Plastics Corp Bain de revetement electrolytique pour le depot d'etain ou d'alliages d'etain renfermant notamment une amine aromatique et un acide sulfonique aromatique

Also Published As

Publication number Publication date
US3730853A (en) 1973-05-01
DE2143806B2 (de) 1973-05-30
DE2143806C3 (de) 1974-01-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2143806A1 (de) Elektrolytisches Bad zur elektroly tischen Abscheidung von blanken bis glan zenden Zinn Blei Legierungsschichten
DE1242427B (de) Galvanisches Zinnbad zum Abscheiden blanker bis glaenzender UEberzuege
DE2256845A1 (de) Verfahren und zusammensetzung zur galvanischen abscheidung einer zinn/bleilegierung
DE2122263A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines primären Glanzers fur saure galvanische Verzinnungsbader
DE2056954C2 (de) Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung eines Zinnüberzugs und Verfahren hierzu
DE832982C (de) Elektrolyt und Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupfer
DE1496917A1 (de) Elektrolytbaeder sowie Verfahren fuer die Herstellung galvanischer UEberzuege
DE3447813A1 (de) Waessriges saures bad sowie ein verfahren zur galvanischen abscheidung von zink oder zinklegierungen
DE1017000B (de) Bad und Verfahren fuer die elektrolytische Abscheidung von Kupferueberzuegen
DE1960047A1 (de) Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung einer Goldlegierung und waessriges Abscheidungsbad zur Ausfuehrung des Verfahrens
CH429356A (de) Selbstregulierendes saures galvanisches Metallbad
DE2249037A1 (de) Verfahren zum plattieren von kupfer auf aluminium
DE2247840B2 (de) Galvanisches chrombad
DE880214C (de) Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Zink aus Zinksulfatloesungen und Anode hierfuer
DE804278C (de) Elektrolyt zum galvanischen Erzeugen von UEberzuegen aus Nickel und Nickellegierungen auf Metall und Nichtleitern
DE2948999C2 (de) Wässriges, saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Hartgold unter seiner Verwendung
DE1956144A1 (de) Verfahren und Bad zum galvanischen Verzinnen
DE4013349A1 (de) 1-(2-sulfoaethyl)pyridiniumbetain, verfahren zu dessen herstellung sowie saure nickelbaeder enthaltend diese verbindung
AT252681B (de) Galvanische Bäder zur elektrolytischen Abscheidung blanker bis glänzender Zinnschichten
DE924490C (de) Verfahren zur galvanischen Abscheidung glatter glaenzender Kupferniederschlaege aus cyanidischen Baedern
DE2014122A1 (de) Verfahren zum Herstellen elektrolytischer Rutheniumüberzüge und wässrige Elektrolysebäder zur Durchführung dieses Verfahrens
DE2333096B2 (de) Galvanisch aufgebrachter mehrschichtiger Metallüberzug und Verfahren zu seiner Herstellung
DE815882C (de) Verfahren zur Erzeugung von Niederschlaegen auf Metallflaechen durch Elektrolyse
DE1086508B (de) Saures galvanisches Kupferbad
DE2256025C2 (de) Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Zinn/Blei-Legierungsniederschlägen

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
8339 Ceased/non-payment of the annual fee