DE2143806B2 - Bad zur galvanischen abscheidung blanker bis glaenzender blei-zinn-legierungsschichten - Google Patents
Bad zur galvanischen abscheidung blanker bis glaenzender blei-zinn-legierungsschichtenInfo
- Publication number
- DE2143806B2 DE2143806B2 DE19712143806 DE2143806A DE2143806B2 DE 2143806 B2 DE2143806 B2 DE 2143806B2 DE 19712143806 DE19712143806 DE 19712143806 DE 2143806 A DE2143806 A DE 2143806A DE 2143806 B2 DE2143806 B2 DE 2143806B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- tin
- lead
- bis
- layers
- bath
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/60—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of tin
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
R5 -NR1-CH2-NR2- R6
und oder wenigstens eine Verbindung der allgemeinen Formel (B)
NR1R11 - R. -CH2- R6 -NR2R,
worin R1 und R2 ein H-Atom, einen Alkylrest mit
! bis 4 C-Atomen, einen Alkenyl- oder Alkinylrest mit bis zu 4 C-Atomen, R3 und R4 ein H-Atom
oder einen Alkylrest mit 1 bis 3 C-Atomen, R5 und Ru als Substitnenten am Benzolkern ein H-Atom,
einen Alkylrest mit 1 bis 3 C-Atomen oder ein Halogenatom bedeuten, enthält.
2. Had nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß es als Verbindungen der Formeln (A) und/oder (B)
4,4 -Diaminodiphenylmethan 4,4'-Bis-(N-methylamino)-diphenylmethan
4,4'-Bis-(N-dimethylamino)-diphenylmethan 4,4'-Bis-(N-äthylamino)-diphenylmethan
4,4'-Bis-(N-diäthylamino)-diphenylmethan 4,4'-Bis-(N-n-propylamino)-diphenylmethan
4.4'-Bis-(N-propargylamino)-diphenylmethan 4,4'-Bis-(N-n-butylamino)-diphenylmethan
4,4'-Diamino-3,3'-dimethyl-diphenylmethan Methylen-bis-anilin
Methylen-bis-(N-äthyianilin) Methylen-bis-( N-methylanilin)
Methylen-bis-(N-n-propylanilin) Methylen-bis-(N-propargylanilin) MethyIen-bis-( N-allylanilin)
Methylen-bis-xylidin
Methylen-bis-(N-äthyl-p-toluidin) Methylen-bis-(N-methyl-p-toluidin)
und/oder
Mcthylen-bis-p-teluidin
enthält.
3. Bad nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es die Verbindungen der Formeln
(A) und/oder (B) in Mengen von 0,05 bis g/l, vorzugsweise von 0,1 bis 2,0 g/l enthält.
4. Had nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß es ;.s zusätzliche Glanzbildner
Zimtaldehyd
Thiophenaklehyd
Furfurol
Fui'furvlidenaceton
Thiophenaklehyd
Furfurol
Fui'furvlidenaceton
2.3-Dihydro benzaldehyd
und/oder
2-Mcthyl-2.3-dihydrobenzaldchyd
5. Bad nach Anspruch 4. dadurch gekennzeichnet, daß es die Zusätze in Mengen von 0,02 bis
4.0 g/l enthält.
Bäder für die galvanische Abscheidung von Zinn-Blei-Legierungsschichten
sind bekannt. Die üblichen Elektrolyte hierfür enthalten Blei und zweiwertiges
ίο Zinn in Form von Fluoroboraten, freie Fluoroboraten.
freie Fluoroborsaure, Borsäure und organische Zusätze zur Glättung des abgeschiedenen Metalls. Die
bisher bekannten organischen Zusätze geben nur matte, im günstigsten Fall seidrnmatte '.inn-Blei-Legierungsschichten.
Insbesondere in der Elektronikindustrie besteht nun das Bedürfnis, auch diese Legierungsschichten mit
blankem bis glänzendem Aussehen herzustellen.
Diese Aufgabe wird durch das erfindungsgemäße
Diese Aufgabe wird durch das erfindungsgemäße
Bad gelöst. Gegenstand der Erfindung ist daher ein fluoroborsaure Salze von Blei und zweiwertigem Zinn.
freie Fluoroborsaure, Borsäure, Netzmittel und Formaldehyd enthaltendes Bad zur galvanischen Abscheidung
blanker bis glänzender Blei-Zinn-Legierungs-
schichten, das dadurch gekennzeichnet ist, daß es
wenigstens eine Verbindung der allgemeinen Formel (A) "
R,
NR1-CH2-NR2-- R6
und/oder wenigstens eine Verbindung der allgemeinen Formel (B)
NR1R3- R5 —
- R6
-NR2R,
worin R1 und R2 ein H-Atom. einen Alkylrest mit
1 bis 4 C-Atomen, einen Alkenyl- oder Alkinylrest mit bis zu 4 C-Atomen, R3 und R1 ein H-Atom oder einen
Alkylrest mit 1 bis 3 C-Atomen, R5 und R6 als Substituenten
am Benzolkern ein H-Atom. einen Alkylrest mit 1 bis 3 C-Atomen oder ein Halogenatom
bedeuten, enthält.
Es hat sich weiterhin als zweckmäßig erwiesen, ein Bad zu verwenden, das außerdem ah. Glanzbildner bei
der Abscheidung glänzender Reinzinnschichten aus Glanzzinnbädern übliche Zusätze enthält.
Es hat sich weiterhin als zweckmäßig erwiesen, die Konzentration der Blei- und Zinnionen im Elektrolyt
so zu bemessen, daß Blei-Zinn-Legierungsschichten mit einem Bleigehalt von 2 bis 80%. vorzugsweise
2 bis 50% abgeschieden werden.
Aus der britischen Patentschrift 1 089 479 ist zwar bereits der Zusatz von Aminodiphenylmeiuan zu Zinnbädern
bekannt, doch können bei dem aus dieser Druckschrift bekannten Verfahren lediglich dünne
Zinnauflagen hergestellt werden, bei denen hohe Stromdichten und sehr kurze Expositionszeiten üblich
sind. Glänzende Überzüge können aber bei den in der britischen Patentschrift 1 039 479 angegebenen Badzusammensetzungen
bei keinen Arbeitsbedingungen erzielt werden.
Beispiele für die erfindungsgemäß vorgesehenen Verbindungen der Formeln (A) und (B) sind folgende
Verbindungen:
4,4'-Diaminodiphenylmethan
4,4'-ßis-(N-methylamino)-diphenylmcthan
4.4'-Bis-(N-dimelhylamino)-diphcnylmethan
4.4 ■-Uis-tN-älhylaininoj-diphenylmethaii
4 4-Bi-,-! N-diät hy !amino (-diphenyl methan
4.4-H,s-(N-n-prop\lamino)-dipiiLn>
I methan
4.4 -Bi v-l N-propargylaniinoKlipheny!methan
4.4 -Bis-(N-n-butylamino)-diphen>!methan
4.4M)iamino-3.3'-dimethy!-diphen\lmethan
M.- hy lcn-his-anilin
Nk i ii\ len-bis-( N-methylaniliii)
NKi'n (cn-bis-i N-äthylanilin)
Meih>len-bis-(N-n-propylanilin)
Mcthvlcn-bis-fN-propargylanilm)
M. ihylen-bis-(N-allylanilin)
\ktii\len-bis-Xylidin
\k-thslen-his-(N-äthyl-p-toluidin)
\k:h\len-bis-(N-methyl-p-toluidin)
\k'.h>lcn-v :s-p-toluidin.
15
Die, Substanzen zeigen ihre glanzbildende Wirkung
bei Konzentrationen von 0.05 bis 5 g I. Bevorzugte GcIk1Iu- zur Erzielung der optimalen Wirkung liegen
ini H'.-ivich /wischen 0,1 und _.O 2.1.
Dk unter Verwendungdeserfin lungsgemäßen Bades
abgf--!i:edenen Zinn-Blei-Legierungsschichten lassen
sich \.'ivüi!lich löten und behalten diese Eigenschaften
über eine längere Lagerzeit bei. Werden größere Fläch..·!!, die mit einem auf diese Weise hergestellten
Metallüberzug bedeckt sind, so hoch erhitzt, daß die
Legierung schmilzt, so benetzt Jie Schmelze gleichmäßig Jie gesamte Metalloberfläche. Elektrolytisch
glänzend abgeschiedene Überzüge, die nur aus reinem Zinn bestehen und einen ähnlichen oder noch besseren
Glanzurad aufweisen wie die erfindungsgemäß herstellbaren
Zinn-Blei-Schichten zeigen beim Aufschmelzen in den meisten Fällen die Erscheinung, daß das
flüssige Zinn zu einigen Tropfen zusammenläuft. Diese Erscheinung ist nicht erwünscht. Schon in dieser
Hinsicht haben blank bis glänzend abgeschiedene Zinn-Blei-Schichten einen Vorteil gegenüber glänzend
abgeschiedenen Zinn-Schichten.
Der Glanzgrad der unter Verwendung des erfindungsgemäßen Bades abgeschiedenen Zinn-Blei-Legierungsschichten
läßt sich noch weiter steigern, wenn man bekannte Glanz-Bildner für Zinn-Bäder zusetzt,
wie sie z. B. in der deutschen Auslegeschrift I 242 427 beschrieben werden.
Geeignete Verbindungen sind somit:
Zimtaldehyd
Thiophenaldehyd
Furfurol
Furfurylidenaceton
2 Acetyl-Furan
2,3 Dihydrobenzaldehyd
und/oder
Z-Mcthyl^J-diliydrobcnzaldchyd.
Je nach Substanz liegt der Wirkungsbereich dieser zusätzlich im Bad vorgesehenen Substanzen bei Konzentrationen
zwischen 0.02 und 4.0 g I. Bevorzugt werden Konzentrationen \on 0.05 bis 2 g'l. um die
beste W irkung zu erreichen.
Dies'.
< ilanzzusat/ für die Abscheidung \on
!einem /i.ni ^eeigncien und bekannten Substanzen
•jenen bei ihrer alleinigen Verwendung als Ztisatz zu
/inii-i'.lei-l.icktnilNien den abgeschiedenen Zinn-Blei-1
ciMcrui^ssL-liichten auch einen gewissen trüben Glanz.
.'•ι .!hiiilin^s die Wirkuiu· der Substanzen A Lind Ii
nicht übertrifft und in vielen Fällen nicht einmal erreicht. Da der gemeinsame Zusatz der Substanzen
A und B und der bekannten Glanzbildner für die Abscheidung reiner Glanzzinnschichten zu hoch
glänzenden Blei-Zinn-Schichten führt, liegt hier eine Potenzierung der Einzelwirkungen dieser Zusätze vor.
Es ist nämlich keineswegs zu erwarten gewesen, daß zwei Substanzen, die jede für sich nur zu Zinn-Blei-Schichten
mit trüb blankem Glanz führen, in gemeinsamer Wirkung hochglänzende Schichten ergeben.
Als Netzmittel weiden für das erfindungsgemäße Bad in erster Linie Netzmittel auf der Basis von
Äthylenoxid-Additionsprodukten verwendet. Bevorzugt eignen sich hierfür solche Verbindungen, in denen
mindestens 6 Äthylenoxid-Gruppen mit langkettigen FeUalkoholen, langkettigen Fettsäuren, langkettigen
Fettaminen oder langkettigen Alk> !phenolen kondensiert
werden. Langkettig bedeutet hier, daß diese Verbindungen Ketten mit mindestens 6 Kohlenstoff-Atomen
enthalten. Brauchbar sind Verbindungen mit 10 bis 30 Äthylenoxid-Gruppen, doch werden Verbindungen
mit 10 bis 18 Äthylenoxid-Gruppen bevorzugt, da sie duktilere Niederschläge liefern. Nonylphenol
mit 15 Mol Äthylenoxid. Fettalkohol. Fettamine oder Fettsäuren mit 10 bis 16 C-Atomen
kondensiert mit 10 bis 18 Mo! Äthylenoxid umgesetzt
geben für den vorliegenden Zweck gut brauchbare Netzmittel. Auch zusätzlich sulfatierte Produkte dieser
Art sind gut brauchbar.
Bevorzugte Bäder gemäß der Erfindung haben folgende Zusammensetzung:
10g 1 bis 50 g/l Sn2 · und Pb2-in Form der
Fluoroborate.
50 g/l bis 400 g/l freie Fiuoroborsäure (50%) 10 g/l bis 40 g/l Boisäure
5 g I bis 20 g'l eines Kondensationsproduktes von Nonylphenol mit 14 Mol Äthylenoxid.
5 g I bis 20 g'l eines Kondensationsproduktes von Nonylphenol mit 14 Mol Äthylenoxid.
5 g/l bis 30 g/l Formaldehydlösung (38%) 0.1 g/I bis 2,0 g/l der Verbindung A und/oder B
und
0.05 g/l bis 0,50 g'l einer ungesättigten Carbon;. 1-verbindung.
z. B. von Benzalaceton.
Die anwendbare Stromdichte hängt vom Metallgehalt des Bads ab und liegt zwischen I A/dm- und
IO A/dm'-. Besonders gute Ergebnisse werden mit Bädern der folgenden Zusammensetzung erhalten:
50
12 | ε/1 | bis | 15 g/l | Sn2- und Pb2* als Fluoroborat. |
200 | g/l | bis | 260 g/l | freie Fluorborsäure (50%) |
10 | g/l | bis | 12g/l | Borsäure |
11 | g/l | bis | 13 g'l | Netzmittel |
10 | 2 1 | bis | 15g I | Formaldehydlösung (38%) |
(I. | 62: | Ibis | 0.8 e/1 | der Verbindung A und/oder 13 |
0. | I It. | I bis | 0.4 a/l | der Carbonylverbindung. |
Die Stromdichte, die mit einem solchen Bad erzielt werden kann, liegt zwischen 1.5 A/dm- und 2,0 A/dm2.
Die bei Verwendung der erfindungsgen.äßen Bäder eingesetzten Anoden sind vorzugsweise aus Zinn-Bleilcgicrungen
zusammengesetzt, deren Zusammensetzung der gewünschten Zinn-Bleiabscheidung entspricht.
Somit wird, wenn eine Abscheidung von 60%
Zinn und 40% Blei hergestellt werden soll, eine Anode mit dem gleichen Zinn- und Blcigehalt verwendet. Die
Stärke der Abscheidungen kann zwischen etwa 2 μ und etwa 20 \s. liegen.
Die Erfindung soll im folgenden an Hund der Beispiele
näher erläutert werden. Hierbei beziehen sich die Beispiele I bis 7 auf ein galvanisches Bad gemäß
der vorliegenden Erfindung, welches außer den üblichen Bestandteilen lediglich Verbindungen der Gruppe
A und B enthält.
Die Beispiele 8 und 21 beschreiben galvanische Bäder, welche darüber hinaus noch bekannte Glanzbilder
der obenerwähnten Art enthalten.
Das für die Beispiele 1 bis 7 verwendete »Grundbad A« gestattet bei einer kathodisehen Stromdichte
von 2 A/dm- und einer Elektrolyt-Temperatur von 20 bis 25 C die Abscheidung von Zinn-Blei-Legierungsschichten
mit einem Zinn-Gehalt von 60 bis 65 u u.
Man hat es in der Hand, durch entsprechende Einstellung der Konzentration der Blei- und Zinn-Ionen
im Elektrolyten den Zinn-Gehalt der abgeschiedenen Legierungsschichten in weiten. Umfange zu verändern.
Es kommt dabei auf das Verhältnis Blei zu Zinn im Elektrolyten an. Wird die Zinn-Konzentration im
Verhältnis zur Bleikonzentration erhöht, dann werden Niederschläge mit höherem Zinn-Gehalt erhalten und
umgekehrt. Es zeigt sich, daß die Erscheinungsform der Niederschläge in den nachfolgenden Beispielen
1 bis 7 sich kaum verändert, wenn der Zinn-Gehalt der abgeschiedenen Legieruiigsschichten sich zwischen
etwa 40 und 80°,, bewegt. Eine Legierung mit ca. 60%
Zinn wird bevorzugt angestrebt, da sie der Zusammensetzung des Löt-Zinns entspricht.
»Grundbad A« für die folgenden Beispiele enthält:
9.2 g;l Sn'-· als Fluoroborat
4.3 g/l Pb-" als Fluoroborat
230 g/l freie Fluoroborsäure (50°,,)
10 g/l Borsäure
12 g, 1 Alkylaryläther mit i.M. 14 C2H1O-GrUp-
10 g/l Borsäure
12 g, 1 Alkylaryläther mit i.M. 14 C2H1O-GrUp-
pen im Molekül ah Netzmittel
10 g/l Formaldehydlösung (38",,)
10 g/l Formaldehydlösung (38",,)
Die Dauer der Elektrolyse war in allen Fällen 15 Minuten.
Zu »Grundbad A« werden zugesetzt:
0,5 g/l 4.4'-Diaminodiphenylmethan.
0,5 g/l 4.4'-Diaminodiphenylmethan.
Unter den obengenannten Bedingungen werden gleichmäßig blanke, einen verschleierten Glanz zeigende
Zinn-Blei-Schichten erhalten.
Zusatz von 0.3 g/l 4,4'-Bis-(N-monoäthy1amino)-diphcnylmethan
gibt blanke Sn-Pb-Schichten, die etwas stärkeren Schleier zeigen als die Resultate nach
Beispiel 1.
Zusatz von 0.1 g/l 4.4'-Bis-(N-diäthylamino)-diphenylmethan geben gleichartige Ergebnisse wie
Beispiel 2.
Zusatz von 0,? g/l Melhylen-bis-anilin geben blanke,
etwas verschleierte Schichten etwa der Güte von Beispiel 1.
Zusatz von 0,2 g/l Methylcn-bis-tN-mcthyl-anilin)
gibt gleiche Resultate wie Beispiel 4 und wie Beispiel 1.
Auch mit Zusatz von Vlethylen-bis-( N-ät! toluidin) werden gleichmäßige blanke, leicht \ers,
erte Zinn-Blei-Schichten abgeschieden.
Werden pro Liter Bad 1.0 g Metin len-hi
propargylanilin) zugesetzt, dann entgehen N
ίο schlage, deren Cilan/ nur noch wenig verschleiß
Für die nachstehenden Beispiele 8 bis 21 wii Variation ein etwas abgewandelter Grundelektr«
verwendet.
Ic Jf-
Grundelektrolyt B:
11.2 g 1 Sn-" als Fluoroborat
5.2 a 1 Pb- als Fluoroborat
300 g 1 freie Fluoro' irsäure (50",,) 10 » 1 Borsäure
12 g,I Alk\laryläiher mit i.M. 12 C2H1O-GiL:,-
12 g,I Alk\laryläiher mit i.M. 12 C2H1O-GiL:,-
pen im Molekül als Netzmittel 15g,l I ormaldelndlösung (38/,,)
Beispiel 8
Zum GiundelcktroKten B werden zugesetzt:
Zum GiundelcktroKten B werden zugesetzt:
0,12 g/l Methylen-bis-arilin
0Ό7 g/l Zimtaldehyd
0Ό7 g/l Zimtaldehyd
Bei einer Badtemperatur von 20 bis 22 C und einer Stromdichte von 2 bis 3 A erhält man einen klar
glänzenden Zinn-Blei-Niederschlag. Das Ergebnis bleibt bei verschiedenen Expositionszeiten das gleiche.
Für technische Zwecke kommen unter den genannten Expositionszeiten solche von 10 bis 20 Minuten zur
Anwendung.
Beispiel 9
Zum Grundelektrolyten B werden zugesetzt:
Zum Grundelektrolyten B werden zugesetzt:
1,0 g/l Methylen-bis-anilin
0,08"g/l Thiophenaldehyd
0,08"g/l Thiophenaldehyd
Beispiel 10
Zusatz zu Grundelektrolyt B:
0.1 g/l 4.4'-DiaiTiinodiphenylmcthan 0.04 g 1 2-Methyl-2.3-Dihydrobenzaldehyd
Unter den obengenannten Arbeitsbedingungen entstehen bei Beispiel 9 und 10 klar glänzende Sn-Pb-Schichten.
Grundelcklrolyt C
8,0 g/l Sn-" als Fluoroborat 3.8 g/l Pb- als Fluoroborat
250 g I freie Fluoroborsäure (50"„) IC g.'l Borsäure
12 g/l Alkylaryläther mit i.M. 16 C2H1O-
12 g/l Alkylaryläther mit i.M. 16 C2H1O-
Gnippen im Molekül als Netzmittel
12 g/l Formaldehydlöi.ung (38 "J
Zusatz zu Grundelektrolyt C:
0,1 g/l Melhylen-bis-anilin
0,04 bis 0,06 g/l 2,3-Dihydrobenzaldehyd
0,1 g/l Melhylen-bis-anilin
0,04 bis 0,06 g/l 2,3-Dihydrobenzaldehyd
Zusatz zu Grundelektrolyt C:
0,7 g/l Methylen-bis-(N-methylanilin) 0.16 r/1 Furfurylidenaceton.
0,7 g/l Methylen-bis-(N-methylanilin) 0.16 r/1 Furfurylidenaceton.
ίο
Unter den obengenannten Bedingungen entstehen bei Beispiel 11 und 12 klar glänzende Sn-Pb-Schichten.
Folgende Beispiele wurden unter Verwendung des Grundelektrolyten D
9.2 g/l Sn2+ als Fluoroborat
4.3 g/l Pb2+ als Fluoroborat
260 g/l freie Fluoroborsäure (50%) 10 g/l Borsäure
12 g/l Alkylaryläther mit i.M. 16 C2H4O-Gruppen
im Molekül
ausgeführt. Die Arbeitstemperatur lag in allen Fällen zwischen 20 und 240C.
Beispiel 13
Zusatz zu Grundelektrolyt D:
Zusatz zu Grundelektrolyt D:
20 g/l Formaldehydlösung (38 %) 0,3 g/l 4,4'-Diäthylamino-diphenylmethan
0,09 g/l Furfurol
Mit Stromdichten von 2 bis 3 A/dm2 werden gut glänzende Sn-Pb-Schichten abgeschieden.
Zusatz zu Grundelektrolyt D: »5
20 g/l Formaldehydlösung (38%) 0,5 g/l 4,4'-Bis-(N-n-propy!amiüo)-diphenyl-
methan
0,27 g/l 2-Acetyl-Furan
0,27 g/l 2-Acetyl-Furan
Mit Stromdichten von 3 bis 4 A/dm2 werden gut glänzende Sn-Pb-Schichten erhalten.
Zusatz zu Grundelektrolyt D:
30 g/l Formaldehydlösung (38 %) 0,4 g/l Methylen-bis-(N-äthyl-p-toluidin) 0,27 g/l 2-Acetyl-Furan.
30 g/l Formaldehydlösung (38 %) 0,4 g/l Methylen-bis-(N-äthyl-p-toluidin) 0,27 g/l 2-Acetyl-Furan.
Mit Stromdichten von 2,5 bis 3,5 A/dm2 werden gut glänzende Sn-Pb-Schichten abgeschieden.
Beispiel 16
Zusatz zu Grundelektrolyt D:
Zusatz zu Grundelektrolyt D:
15 g/l Formaldehydlösung (38%)
0,7 g/l 4,4'-Bis-(N-diäthylamino)diphenylmethan
0,3 g/l Benzalaceton
35
40 Beispiel 17 Zusatz zu Grundelektrolyt D:
12 g/l Formaldehydlösung 0,7 g/l Methylen-bis-(N-allylanilin)
0,4 g/l Benzalaceton.
Zusatz zu Grundelektrolyt A:
0,4 g/l Methylen-bis-anilin 0,3 g/l Benzalaceton
Beispiel 19 Zusatz zu Grundelektrolyt A:
0,3 g/l 4,4'-Diamino-diphenylmethan 0,4 g/l Benzalaceton
Zusatz zu Grundelektrolyt A:
0,2 g/l Methylen-bis-(N-n-propylanilin) 0,3 g/l Benzalaceton
Beispiel 21 Zusatz zu Grundelektrolyt A:
0,1 g/l Methylen-bis-(N-propargylanilin) 0,4 g/l Benzalaceton
Zusatz zu Grundelektrolyt A: 0,7 g/l Methylen-bis-(n-Äthylanilin) 0,2 g/l Benzalaceton
Mit dem Beispiel 16 bis 22 erhält man bei 20 bis 240C mit Stromdichten von 1,5 bis 3,0 A/dm2 klar
glänzende Sn-Pb-Schichten.
Auch die nach den Beispielen 8 bis 21 hergestellten Zinn-Blei-Legierungsschichten haben gegenüber nach
bekannten Verfahren glänzend abgeschiedenen Reinzinnschichten den Vorteil, daß sie auf größeren Flächen
aufgeschmolzen, die Flächen gleichmäßig benetzer und nicht zu Tropfen zusammenlaufen.
3C9522//
Claims (1)
1. Fluoroborsaure Salze von Blei und zweiwertigem
Zinn, freie Fluoroborsaure, Borsäure, Netzmittel und Formaldehyd enthaltendes Bad zur
galvanischen Abscheidung blanker bis glänzender Blei-Zinn-Legierungsschichten, dadurch gekennzeichnet,
daß es wenigstens eine Verbindung der allgemeinen Formel (A)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15465871A | 1971-06-18 | 1971-06-18 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2143806A1 DE2143806A1 (de) | 1972-12-21 |
DE2143806B2 true DE2143806B2 (de) | 1973-05-30 |
DE2143806C3 DE2143806C3 (de) | 1974-01-03 |
Family
ID=22552215
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2143806A Expired DE2143806C3 (de) | 1971-06-18 | 1971-09-01 | Bad zur galvanischen Abscheidung blanker bis glänzender Blei-Zinn-Legierungsschichten |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3730853A (de) |
DE (1) | DE2143806C3 (de) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4000047A (en) * | 1972-11-17 | 1976-12-28 | Lea-Ronal, Inc. | Electrodeposition of tin, lead and tin-lead alloys |
US3850765A (en) * | 1973-05-21 | 1974-11-26 | Oxy Metal Finishing Corp | Bright solder plating |
GB1469547A (en) * | 1973-06-28 | 1977-04-06 | Minnesota Mining & Mfg | Tin/lead electr-plating baths |
JPS5183841A (ja) * | 1975-01-21 | 1976-07-22 | Toho Beslon Co | Handametsukyokotakuzai |
US4347107A (en) * | 1981-04-02 | 1982-08-31 | Hooker Chemicals & Plastics Corp. | Electroplating tin and tin alloys and baths therefor |
SE8204505L (sv) * | 1981-09-08 | 1983-03-09 | Occidental Chem Co | Elektropletering for avsettning av tenn-blylegeringar pa olika underlag |
US4871429A (en) * | 1981-09-11 | 1989-10-03 | Learonal, Inc | Limiting tin sludge formation in tin or tin/lead electroplating solutions |
US5094726B1 (en) * | 1981-09-11 | 1993-12-21 | I. Nobel Fred | Limiting tin sludge formation in tin or tin/lead electroplating solutions |
US5066367B1 (en) * | 1981-09-11 | 1993-12-21 | I. Nobel Fred | Limiting tin sludge formation in tin or tin/lead electroplating solutions |
US4701244A (en) * | 1983-12-22 | 1987-10-20 | Learonal, Inc. | Bath and process for electroplating tin, lead and tin/alloys |
US4717460A (en) * | 1983-12-22 | 1988-01-05 | Learonal, Inc. | Tin lead electroplating solutions |
US5174887A (en) * | 1987-12-10 | 1992-12-29 | Learonal, Inc. | High speed electroplating of tinplate |
DE3856429T2 (de) * | 1987-12-10 | 2001-03-08 | Learonal Inc | Zinn, Blei- oder Zinn-Blei-Legierungselektrolyten für Elektroplattieren bei hoher Geschwindigkeit |
US9243339B2 (en) | 2012-05-25 | 2016-01-26 | Trevor Pearson | Additives for producing copper electrodeposits having low oxygen content |
US11053600B2 (en) | 2018-03-20 | 2021-07-06 | Mitsubishi Materials Corporation | Tin or tin alloy plating solution and bump forming method |
US20230063860A1 (en) * | 2021-08-24 | 2023-03-02 | ACS ENTERPRISES, LLC d/b/a AMERICAN CHEMICAL | Copper treatment additive |
-
1971
- 1971-06-18 US US00154658A patent/US3730853A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-09-01 DE DE2143806A patent/DE2143806C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2143806A1 (de) | 1972-12-21 |
DE2143806C3 (de) | 1974-01-03 |
US3730853A (en) | 1973-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2143806C3 (de) | Bad zur galvanischen Abscheidung blanker bis glänzender Blei-Zinn-Legierungsschichten | |
DE962129C (de) | Saures Elektrolytbad zur Herstellung elektrolytischer Kupferueberzuege | |
DE2355581C3 (de) | Galvanisches Glanzgoldbad mit hoher Abscheidungsgeschwindigkeit | |
DE2039831C3 (de) | Saures Bad zur galvanischen Abscheidung glänzender Kupferüberzüge | |
DE2746938A1 (de) | Saures galvanisches kupferbad | |
DE2256845A1 (de) | Verfahren und zusammensetzung zur galvanischen abscheidung einer zinn/bleilegierung | |
DE1242427B (de) | Galvanisches Zinnbad zum Abscheiden blanker bis glaenzender UEberzuege | |
DE2056954C2 (de) | Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung eines Zinnüberzugs und Verfahren hierzu | |
DE1496917A1 (de) | Elektrolytbaeder sowie Verfahren fuer die Herstellung galvanischer UEberzuege | |
DE3024932C2 (de) | ||
DE1017000B (de) | Bad und Verfahren fuer die elektrolytische Abscheidung von Kupferueberzuegen | |
CH429356A (de) | Selbstregulierendes saures galvanisches Metallbad | |
DE3122390A1 (de) | "waessriges galvanisches bad und verfahren zur abscheidung einer eine chromauflage vortaeuschenden kobalt-zink-legierung" | |
DE2249037A1 (de) | Verfahren zum plattieren von kupfer auf aluminium | |
DE2445537A1 (de) | Bad zur galvanischen abscheidung von gold | |
DE1935821C (de) | ||
DE1193334B (de) | Waessriges alkylisches Zinkcyanidbad zum galvanischen Abscheiden von hellglaenzenden Zinkueberzuegen | |
DE1146322B (de) | Saure galvanische Metallbaeder | |
DE3232735C2 (de) | Verwendung einer als Glanzbildnerzusatz zu Nickelbädern bekannten Verbindung als Korrosionsschutzadditiv | |
DE2333096C3 (de) | Galvanisch aufgebrachter mehrschichtiger Metallüberzug und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE924490C (de) | Verfahren zur galvanischen Abscheidung glatter glaenzender Kupferniederschlaege aus cyanidischen Baedern | |
DE2948999C2 (de) | Wässriges, saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Gold und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Hartgold unter seiner Verwendung | |
DE2450527C2 (de) | Wäßriges, saures Bad zur galvanischen Abscheidung von halbglänzenden Nickelüberzügen | |
AT252681B (de) | Galvanische Bäder zur elektrolytischen Abscheidung blanker bis glänzender Zinnschichten | |
DE1521025B2 (de) | Galvanisches cyanidisches glanzsilberbad |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |