DE2136532C3 - Vakuumverdampfungsanlage zum Verdampfen von Metallen - Google Patents
Vakuumverdampfungsanlage zum Verdampfen von MetallenInfo
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Description
25
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vakuumverdampfungsanlage zum Verdampfen von Metallen mit Hilfe
des elektrischen Lichtbogens zur Herstellung von Überzügen oder zum Verdampfen von Gettermetallen,
mit einer aus dem zu verdampfenden Metall hergestellten Kathode, die an einem Kühlbett mit Stromzuleitung
befestigt ist, mit einer Zündelektrode, die auf der Verdampfungsfläche der Kathode einen Kathodenfleck
des elektrischen Lichtbogens erzeugt und einer Einrichtung zur Festhaltung des Kathodenflecks auf der
Verdampfungsfläche der Kathode.
Bei der aus der US-PS 29 72 695 bekannten Vakuumverdampfungsanlage dieser Art erfolgt die
Festhaltung des Kathodenflecks auf der Verdampfungsfläche der Kathode mittels eines Magneten, dessen
Kraftlinien ü einer bestimmten Richtung in bezug auf die Verdampfungsfläche der Kathode verlaufen. Die
Anode und die Kathode der Anlage sind ans dem zu verdampfenden Metall hergestellt, und die Anode
befindet sich in unmittelbarer Nähe der Kathode. Bei einer solchen Vakuumverdampfungsanlage ist der
Ausnutzungsgrad des verdampften Metalles gering, da die größte Intensität des Metalldampfstromes bekanntlich
entlang einer Normalen zur Verdampfungsfläche gerichtet ist Wenn aber das zu überziehende Erzeugnis so
wie bei dieser Anlage in tiner zur Verdampfungsfläche der Kathode parallelen Richtung angeordnet ist liegt es
in Richtung geringer Intensität des Metalldampfstromes und ein großer Teil des Metalldampfstromes wird an
den Wänden des Dampfzuleitungsrohres festgehalten, durch das der Metalldampf zum Erzeugnis gelangt
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vakuumvcrdampfungsanlage zum Verdampfen vom
Metallen mit Hilfe des elektrischen Lichtbogens zur Herstellung von Überzügen oder zum Verdampfen vom
Gettermetallen anzugeben, die den Ausnutzungsgrad für das zu verdampfende Metall zu erhöhen, die
Leistungsfähigkeit des Aufdampfvorganges ohne Vergrößerung der Abmessungen der Anlage zu verbessern
und den Energieverbrauch pro aufgedampfte Metallmenge herabzusetzen gestattet
Dies wird bei einer Vakuumverdampfungsanlage der eingangs erwähnten Art erfindungsgemäß dadurch
erreicht, daß die Anode eine Hülle darstellt und die Verdampfungsfläche der Kathode dem durch die Hülle
begrenzten Raum zugewandt ist, die Einrichtung zum Festhalten des Kathodenflecks des elektrischen Lichtbogens
auf der Verdampfungsfläche der Kathode als Schirm ausgeführt ist, der die Verdampfungsfläche der
Kathode umgrenzt und wenigstens einen Teil ihrer nicht zu verdampfenden Fläche abschirmt und der Schirm
einen Obergang des Kathodenflecks auf die nicht zu verdampfende Fläche der Kathode verhindert
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet
Wenn beispielsweise die ganze nicht zu verdampfende Kathodenfläche mit einem Schirm oder mehreren
hintereinander angeordneten Schirmen überdeckt wird, kann das Brennen des Lichtbogens am Kühlbett und an
der Stromzuleitung während des Betriebs der Vakuumverdampfungsanlage bei hohen Drücken (10-1 bis 10~3
Torr) sicher vermieden werden. Dabei ist die Zahl der Schirme zweckentsprechend so zu wählen, daß die
Spannung für das Lichtbogenbrenr :n zwischen der nicht zu verdampfenden Kathodenfläche und der Anode
über die Schinne größer als die Spannung der Speisequelle ist Dies verhindert ein Lichtbogenbrennen
an der nicht zu verdampfenden KathodenoberP.äche sowie an den der Kathode anliegenden Kühlbett- und
Stromzuleitungsflächen bei Verdampfung von schwer schmelzenden Metallen, wie Wolfram, Molybdän, Niob
usw.
Die besonderen Vorteile der erfindungsgemäßen Vakuumverdampfungsanigen bestehen in folgendem:
Erhöhung des Ausnutzungsgrades von verdampftem Metall bis auf 80 bis 90%;
Benutzung eines gleich aufgebauten Kühlbettes für alle zu verdampfenden Metalle;
eine große Reserve an zu verdampfendem Metall (von 100 g bis 100 kg und mehr).
Zum Unterschied von Anlagen, in denen die Metallverdampfung aus einem Tiegel erfolgt, ergabt die
erfindungsgemäß aufgebaute Anlage eine Lebensdauer bis 10* Stunden mit Auswechselung des zu verdampfenden
Metalls.
Zum Unterschied zu den Anlagen, in denen die Metallverdampfung mit Elektronenstrahlen erfolgt ist
bei der nach der Erfindung gebauten Anlage der Beginn der Metallverdampfung von 1 · 10-'Tor.· an möglich.
Der Aufbau der Anlage läßt die Anordnung des zu verdampfenden Metalls im Raum in jeder beliebigen
Lage in bezug auf die zu überziehenden Erzeugnisse zu.
Die nach der Erfindung ausgeführte Anlage kann als Sorptions-Hochvakuumpumpe mit hoher Leistungsfähigkeit
(über 1 000 0001/sec bei 1 · IO-5 Torr für aktive
Gase) benutzt werden, wobei der Anlaßdruck 1 · 10-' betrafen kann.
Die Anlage wird durch einen Lufteinbruch in die Vakuumkammer nicht geschädigt, da dar. Verdampfungsmetall
eine niedrige Temperatur aufweist und nicht oxidieren kann.
Der einfache Aufbau der Anlage gewährleistet eine hohe Zuverlässigkeit beim Betrieb.
Die Erfindung wird nun anhand von Ausführungsbeispielen unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher
erläutert
F i g. 1 eine erfindungsgemäße Vakuumverdampfungsanlage zur Herstellung von Überzügen im
Vakuum, bei der die Anode als hohle sphärische Hülle ausgebildet ist,
Fig.2 eine flache scheibenförmige Kathode aus zu
verdampfendem Metall nach einer langen Verdampfungszeit,
F i g. 3 eine Variante der in F i g. 1 gezeigten Vakuumverdampfungsanlage mit einer flachen ringförmigen
Kathode,
Fig.4 eine Variante der Vakuumverdampfungsanlage
nach F i g. 1 zum Auftragen von Überzügen auf biegsamem Metallband im Vakuum,
F i g. 6 eine Variante der in F i g. 1 gezeigten Vakuumverdampfungsanlage mit einer rohrförmigen
Kathode,
Fig.7 eine Variante der in Fig. 1 gezeigten Vakuumverdampfungsanlage mit einer zylindrischen
Kathode,
Fig.8 eine Variante der in Fig. 1 gezeigten Vakuumverdampfungsanlage, bei der die zu überziehenden
Erzeugnisse als Anode dienen,
F i g. 9 eine Vakuumverdampfungsanlage zum Verdampfen von Gettermetall, die als Lichtbogen-Sorptions-Hochvakuumpumpe
dient.
Die in F i g. 1 gezeigte Anlage zur Aufdampfung von Überzügen mittels eines Lichtbogens im Vakuummetall
ist wie folgt aufgebaut.
Die Vakuumkammer I besteht aus einem Gehäuse 2 und einem Deckel 3, die miteinander mit Bolzen 4
verbunden und mit Gummidichtung 5 abgedichtet sind. Die Vakuumkammer 1 wird mit Hilfe eines mit dem
Deckel 3 mittels nicht gezeigter Bolzen verbundenen und mit einer Gummidichtung 7 abgedichteten Vakuumpumpensystems
6 bis zum erforderlichen Arbeitsdruck evakuiert.
Das .Vakuumpumpensystem ϋ enthält einen Vakuumverschluß,
eine öldiffusionspumpe und eine Vorvakuumpumpe, die in F i g. 1 nicht gezeigt ist.
Im Inneren der Vakuumkammer 1 ist auf einem Kühlbett 8 eine Kathode 9 montiert, die aus dem zu
verdampfenden Metall hergestellt ist.
Die Kathode 9 hat die Form einer flachen Scheibe, bei der eine Stirnfläche als Verdampfungsfläche 10 dient
und die zylindrische Seitenfläche 11 sowie die zweite Stirnfläche 12 zur nicht zu verdampfenden Fläche der
Kathode gehö -en.
Die flache scheibenförmige Ausführung der Kathode 9 ist beim Aufdampfen von Überzügen auf Erzeugnisse
13 vorteilhaft, die an einer nicht gezeigten Vorrichtung so befestigt werden, daß die zu überziehenden Flächen
der Erzeugnisse 13 tangential zur Oberfläche einer gedachten Sphäre 14 liegen, die zur Scheibe koaxial und
zur in bezug auf die Verdampfungsfläche der Kathode 9 als tangential angeordnet vorgestellt wird. In diesem
Fall erhält man die gleichmäßigsten Überzüge, besonders wenn der Kathodenradius um ein Mehrfaches
kleiner als der Radius der gedachten Sphäre 14 ist
Dies ist durch die aus dem Kosinusgesetz folgende Intensitätsverteilung des von einer kleinen flachen
Quelle verdampften Metallstromes bedingt Im vorliegenden Falle dient als solche Quelle der vom
elektrischen Lichtbogen gebildete Kathodenfleck, der sich auf der Verdampfungsfläche 10 der Kathode 9
unregelmäßig bewegt
Für einige, besonders für leichtschmelzende Metalle gibt das Kosinusgesetz der Intensitätsverteilung eines
verdampften Metalls im Raum, der durch den Raumwinkel von 90° begrenzt ist und den Scheitel im
Kathodenfleck des elektrischen Lichtbogens hat
Kühlbett 8 angelötet Das Anlöten der aus dem zu verdampfenden Metall herg....eilten Kathode 8 ist
vorteilhaft bei ihrer Befestigung am Kühlbett 8 in dem Falle, wenn spröde Metalle oder Metalle mit geringer
Festigkeit wie Blei, Zink, Chrom u. a. verdampft werden müssen.
Es wurde festgestellt, daß die Stabilität des brennenden Lichtbogens von der Temperatur der Verdampfungsfläche
10 der Kathode 9 abhängt, und zwar daß je
ίο niedriger diese Temperatur ist, desto stabiler der
Lichtbogen brennt Bei einer niedrigen Temperatur der Verdampfungsfläche 10 verringert sich außerdem die
Anzahl von großen Spritzern und Metallteilchen im Metalldampfstrom, der s'ch auf den Erzeugnissen 13
is absetzt.
Beim Lichtbogenbrennen lösen sich ungefähr 30% Energie der Bogenentladung von der Kathode aus, die
von der Kathode 9 über das Kühlbett 8 abgeführt werden muß.
:o Zur Verringerung des Wärmedurchgangswiderstandes
zwischen der Kathode und dem Kühlbett wird die Kathode deswegen mit ihrer ganzen an das Kühlbett
anliegenden Fläche an das letztere angelötet.
Nach längerer Arbeit der Anlage nach F i g. I wird die Verdampfungsfläche der Kathode 9 zu einer Aushöhlung mit den Wänden IS und dem Boden 16 (Fig.2) verformt.
Nach längerer Arbeit der Anlage nach F i g. I wird die Verdampfungsfläche der Kathode 9 zu einer Aushöhlung mit den Wänden IS und dem Boden 16 (Fig.2) verformt.
Unter Berücksichtigung der Bedingung eines stabil brennenden Lichtbogens kann die Dicke der Kathode 9
nicht größer als ihr Durchmesser sein, da nach einer längeren Verdampfung der Kathode die Wände 15
(Fig.2) den von dem Kathodenfleck zur Anode gerichteten Metallplasmastrom abschirmen, wobei die
Stabilität des Lichtbogenbrennens herabgesetzt wird.
Mit Berücksichtigung der geforderten hohen Leistungsfähigkeit der Aufdampfung muß die Dicke der
Kathode 9 so gewählt werden, daß keine wesentliche Erhöhung der Temperatur an der Verdampfungsfläche
10 der Kathode über die Temperatur des Kühlbettes erfolgt. Infolgedessen wird unterschiedliche Kathodendicke für verschiedene Metalle und verschiedene Werte
des Lichtbogenstromes gewählt und zwar, je größer die Wärmeleitfähigkeit des zu verdampfenden Metalls oder
je kleiner der Lichtbogenstrom ist, desto größer kann die Kathodendicke sein.
Unter Berücksichtigung dieser Forderungen kann empfohlen werden, die Kathodendicke von 20 bis 50%
des Kathodendurchmessers je nach der Art des zu verdampfenden Metalls und der erforderlichen Leistungsfähigkeit
des Aufdampfvorganges zu wählen.
Das Kühlbett 8 dient zur Abführung der von der Kathode 9 übertragenen Wärme sowie zur gleichmäßigen
Verteilung des Lichtbogenstromes über die Verdampfungsfläche der Kathode 9.
Deswegen muß das Kühlbett 8 gute Wärme- und elektsiche Leitfähigkeit besitzen. In der Anlage nach
F i g. 1 ist das Kühlbett 8 aus Kupfer hergestellt Das
Kühlbett weist einen Hohlraum 17 auf, in dem durch nicht gezeigte Offnungen in der Stromzuleitung 18
zugeführtes Wasser umläuft Das Kühlbett 8 ist auf der Stromzuleitung 18 befestigt Das Wasser wird der
Stromzuleitung 18 durch in der Zeichnung nicht gezeigte Gummirohre zugeführt die auf Nippel 19
aufgesetzt sind
Die Stromzuleitung 18 mitsamt der Kathode 9 und dem Kühlbett 8 sind mit Hilfe eines keramischen
Isolators 20 am Deckel der Vakuumkammer befestigt Der Isolator 20 dient zur elektrischen Isolierung der
Stromzuleitung 18 vom Deckel 3 d#r Vakuumkammer
sowie als Vakuumdichtung.
Beim Betrieb der Anlage muß der Obergang des Kathodenflecks des elektrischen Lichtbogens von der
Verdampfungsfläche der Kathode 9 auf die nicht zu s verdampfende Fläche verhindert werden, zu der die
zylindrische Seitenflache 11, die untere Kathodenstirnfläclie
Vi sowie die Oberflächen des an der Kathode anliegenden Kühlbettes 8 und der Stromzuleitung 18
gehören.
Dazu ist in der erfindungsgemäß aufgebauten Anlage ein Schirm 21 eingebaut, der die zylindrische Seitenfläche
der Kathode 9 und die Oberfläche des Kühlbettes 8
abdeckt Der Schirm 21 stellt einen Hohlzylinder dar, dessen Innenfläche konzentrisch zur zylindrischen !5
Kathodenoberfläche und zum Kühlbett liegt und mit Spiel 22 von 2 bis 3 mm angeordnet ist Der Schirm 21 ist
auf dem Deckel 3 der Vakuumkammer 1 befestigt und von diesem Deckel mittels eines Isolators 23 elektrisch
isoliert
Wenn der Kathodenfleck des elektrischen Lichtbogens beim Betrieb der Anlage in den Spielraum
zwischen dem Schirm 21 und der nicht zu verdampfenden Fläche gelangt, so erlischt er. Ist der Lichtbogenstrom
in diesem Zeitpunkt so stark, daß die Verdampfungsfläche 10 der Kathode noch einen oder mehrere
Kathodenflecke aufweist so teilen sie sich augenblicklich zur Erhaltung einer Gesamtzahl von Kathodenflekken,
die dem jeweiligen Lichtbogenstrom entspricht
Der Schirm 21 ist so befestigt, daß sein oberer Rand
24 auf dem Niveau der Verdampfungsfläche 10 der Kathode 9 liegt
Liegt der Rand 24 des Schirmes 21 höher als die Verdampfungsfläche der Kathode 9, so bildet das
verdampfte Metall auf dem Schirm beim Betrieb der Anlage einen Niederschlag, wobei das Spiel 22 zwischen
der nicht zu verdampfenden Fläche und dem Schirm 21 letztlich kleiner wird und der Kathodenfleck auf den
Schirm 21 überspringen kann. Liegt der Rand 24 des Schirmes 21 niedriger als die Verdampfungsfläche 10
der Kathode, so wird ein von dem Schirm 21 nicht abgedeckter Teil der zylindrischen Seitenfläche 11 der
Kathode zur Verdampfungsfläche, von der die Metalldampfung erfolgt wobei das Spiel 22 gleichfalls
verringert wird. *5
Auf Grund konstruktiver Überlegungen beträgt die gewählte Schirmdkke 2 bis 2 mm. Als Werkstoff für den
Schirm dient weichmagnetischer Stahl, da festgestellt wurde, daß bei einem Schirm aus nichtmagnetischem
Werkstoff die Stabilität des Lichtbogenbrennens so schlechter wird.
Die Verdampfungsfläche 10 der Kathode ist der
Anode 25 zugewandt, die eine hohle sphärische Hülle 26
darstellt Die letztere ist an einer Metallstange 27 befestigt die mit Hilfe eines Isolators 28 vom Deckel der
Vakuumkammer elektrisch isoliert ist Ober die Stange 27 wird gleichzeitig elektrischer Strom der Anode 25
zugeführt
Die Übertragung des elektrischen Stromes im Raum zwischen der Kathode und der Anode bewirkt beim
Betrieb der Anlage das Metallplasma, das im Kathodenfleck
der Bogenentladung entsteht Es wurde festgestellt daß die Stabütät des Lichtbogenbrennens am
größten ist wenn an der Stromübertragung die ganze MetaDplasmaströmung beteiligt ist
Dies wird bei der vorliegenden Erfindung dadurch erreicht, daß die hohle sphärische HuDe 26, zu der die
Verdampfungsfläche der Kathode 9 gerichtet ist vollständig diese Verdampfungsfläche der Kathode 9
umfaßt
Es wurde ferner festgestellt, daß die Form und die Abmessungen der Hülle keinen Einfluß auf die Stabilität
des Lichtbogens sowie auf die Spannung an der Kathode und an der Anode ausüben.
Bei einer Erprobung von sphärischen Hüllen mit den Halbmessern von 100,200,500 und 1000 mm blieben die
äußeren Kenngrößen des Lichtbogens, wie Kathoden- und Anodenspannung sowie der minimale Stromwert
für stabiles Lichtbogenbrennen, unverändert. (Als minimaler Strom für ein stabiles Lichtbogcnbrennen ist
ein Stromwert genommen worden, bei dem die mittlere Dauer des Lichtbogenbrennens auf der Verdampfungsfläche
der Kathode ohne Erlöschen fünf Minuten beträgt).
Die Form der die Verdampfungsfläche der Kathode umfassenden Hülle ist auch mit Berücksichtigung des
notwendigen Schutzes der Innenfläche der Vakuumkammer 1 vor Verunreinigung durch verdampftes
Metall gewählt worden.
Die Zündelektrode 29 ist am Anker 30 eines Elektromagneten über einen Isolator 31 befestigt. Der
Anker 30 befindet sich im Inneren eines aus einem nichtmagnetischen Werkstoff hergestellten Rohres 32,
an dessen Außenseite die Spule 33 des Elektromagneten angeordnet ist Im Innenraum des Rohres 32 befindet
sich eine RückfUhrfeder 34,
Die Zündelektrode ist mittels eines biegsamen Leiters mit einer Stange 36 verbunden, die vom Deckel 3 mit
Hilfe eines Isolators 37 elektrisch isoliert ist In den die Zündelektrode 29 und die Anode 25 verbindenden
Stromkreis 38 ist ein Widerstand 39 eingeschaltet.
Dieser Widerstand 39 ist zur Strombegrenzung im Stromkreis der Zündelektrode im Augenblick der
Zündung notwendig. Ein Fehlen des Widerstandes 39 führte zur schnellen Abnutzung der Zündelektrode 39,
da die Stromgröße im Stromkreis der Zündelektrode bei der Zündung gleich dem einem Kurzschluß der
Lichtbogen-Speisequelle 40 entsprechenden Stromwert wird.
Der Wert des Widerstandes 39 wird so gewählt, daß der im Kreis 38 der Zündelektrode 39 bei einem
Berühren der Verdampfungsfläche 10 der Kathode 9 fließende Strom ungefähr 20 bis 25% vom Minimalstrom
für stabiles Lichtbogenbrennen beträgt.
In diesem Falle wird die Wahrscheinlichkeit einer Anschweißung der Zündelektrode 29 an die Verdampfungsfläche
10 an der Kathode 9 stark reduziert und es erfolgt eine sichere Lichtbogenzündung.
Die Speisequelle 40 für den Lichtbogen enthält einen Dmphasen-Abwärtstransformator 41, einen Dreiphasen-Zweiweggleichrichter
und einen Regelwiderstand 43. Der Anschluß der Speisequelle 40 an das Wechselstromnetz erfolgt mittels des Schalters 44. Die
Anwendung eines Lichtbogengleichrichters ist nur unter der Bedingung möglich, daß der Minimalwert der
Spannung am Ausgang des Gleichrichters immer größer als die Spannung an den Elektroden der Anlage
während ihres Betriebes ist
Dies ist dadurch zu erklären, daß der im Vakuum brennende Lichtbogen erlischt wenn der Strom im
Lichtbogenstromkreis für eine längere Zeit als 10~7 see
verschwindet
Die Plus-Klemme 45 der Speisequelle 40 ist mittels eines Leiters 46 mit der Stange 27 der Anode 25
verbunden, und die Minus-Klemme 47 hat über die Spule des Elektromagneten und über die Leiter 48 und
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49 mit dem Stromzuführungsleiter 18 der Kathode 9 Verbindung, /wischen den Klemmen 45 und 47 liegt ein
Kondensator 50.
Der Betrieb der in F i g. 1 gezeigten Anlage läuft in folgender Reihenfolge ab.
Nachdem in der Vakuumkammer 1 mit Hilfe des Vakuumpumper,iy$tems 6 der Arbeitsdruck unter
1 · ΙΟ-3 Torr (vorzugsweise 1 · 10~s bis 1 · 10-eTorr)
erreicht ist, wird der Schalter 44 geschlossen, der die
Speisequelle 40 mit dem Wechselstromnetz verbindet. An den Ausgangsklemmen 45 und 47 der Speisequelle
40 erscheint eine Spannung von 40 bis 70 V. Im Stromkreis Klemme 45, Leiter 38, Widerstand 39,
Stange 36, biegsamer Leiter 35, Zündelektrode 29, Kathode 9, Kühlbett 8, Stromzuleitung 18, Leiter 49,
Wicklung 33 des Elektromagneten, Leiter 48. Klemme 47 beginnt elektrischer Strom zu fließen, dessen Stärke
vom Wert des Widerstandes 39 abhängt
des Elektromagneten angezogen und hebt die Zündelektrode von der Verdampfungsfläche 10 der Kathode 9
ab.
Auf der Verdampfungsfläche 10 der Kathode 9 entsteht der Kathodenfleck eines elektrischen Lichtbogens,
der anfangs unter dem Ende der Zündelektrode 29 liegt und nach dem Abzug der Zündelektrode 29 seine
unregelmäßige Bewegung auf der ganzen Verdampfungsfläche 10 der Kathode 9 beginnt Im Stromkreis
Klemme 45, Leiter 46, Stange 27, Hülle 26, Kathode 9,
Kühlbett 8, Stromzuleitung 18, Leiter 49, Wicklung 33 des Elektromagneten, Leiter 48, Klemme 47 beginnt
elektrischer Strom zu fließen.
Der Stromfluß im Raum zwischen der die Anode 26 bildenden Hülle und der Kathode 9 erfolgt über das
Metallplasma, das im Raum der Hülle vom Kathodenneck
des elektrischen Lichtbogens erzeugt wird. Die Stärke dieses Stromes wird durch den Widerstandswert
des Regelwiderstandes 43 in der Speisequelle 40 bestimmt und wird mit Berücksichtigung eines stabilen
Lichtbogenbrennens (untere Grenze) und der erforderlichen dem Lichtbogenstrom proportionalen Verdampfungsgeschwindigkeit
gtvrählt
Das von der Verdampfungsfläche 10 der Kathode 9 durch den Kathodenfleck des elektrischen Lichtbogens
verdampfte Metall setzt sich auf den zum Oberziehen bestimmten Erzeugnissen 13 und an der Innenfläche der
Hülle 26 ab.
Gelangt einer der Kathodenflecke in den Spielraum 22 zwischen der nicht zu verdampfenden Fläche 11 der
Kathode 9 und der Innenfläche des Schirmes 21, so erlischt er, und die auf der Verdampfungsfläche 10 der
Kathode 9 verbliebenen anderen Flecke teilen sich infolge einer Spannungserhöhung an der Anode 25 und
der Kathode 9 wegen eines kleineren Spannungsabfalls am Regelwiderstand 43. Wenn der Lichtbogen aus
irgendeinem Grunde erlischt, so verschwindet der Strom im Stromkreis der Spule 33 des Elektromagneten,
und der Anker 30 wird mitsamt der Zündelektrode 29 durch die Feder 34 nach unten gedrückt, bis die
Zündelektrode die Fläche 10 der Kathode 9 berührt Die Erregung der Bogenentladung erfolgt automatisch in
derselben Reihenfolge wie beim anfänglichen Ingangsetzen der Anlage.
Beim Betrieb der Anlage entstehen an der Kathode und an der Anode Hochspannungsimpulse. Das hängt
damit zusammen, daß die ElementarzeDe des Kathodenflecks
ungefähr während der Zeit von 10~7 see erlischt,
und die Speisequelle 40 sowie der Stromkreis des Lichtbogens eine hinreichende Induktivität aufweisen.
Diese Impuls» können die Speisequelle 40 des Lichtbogens beschädigen. Um das zu verhindern,
werden die Ausgangsklemmen 45 und 47 der Speisequelle 40 mit einem Kondensator 50 überbrückt, dessen
gespeicherte Energie bei für die Speisequelle 40 zulässiger Spannung der Energie des elektromagnetischen
Feldes der Speisequelle und de» Lichtbogen-
Nach der Aufdampfung eines Oberzuges mit genügender Dicke auf den Erzeugnissen 13 wird der
Lichtbogen mit dem Schalter 44 abgeschaltet
In F i g. 3 ist eine andere Variante der Anlage zum
In F i g. 3 ist eine andere Variante der Anlage zum
is Aufdampfen von Oberzügen im Vakuum dargestellt
Die Anlage dient zum Verdampfen von Metallen mit hoher Dampfspannung (Blei, Kadmium, Zink hl) pv>f
flachen Werkstücken. Ein gleichmäßiger Oberzug bildet
sich auf einer flachen Oberfläche, weil die aus einem zu verdampfenden Metal! hsr**ss!süis Ksthode 51 dsr
Anlage als flacher Ring geformt ist und die zu überziehenden Erzeugnisse 52 parallel zur ringförmigen
Verdampfungsfläche 53 der Kathode 51 angeordnet werden. Mit ihrer ringförmigen Fläche 54 ist die
Kathode 51 an das Kühlbett 55 angelötet Mit Berücksichtigung eines stabilen Lichtbogenbrennens
muß die Dicke der Kathode 51 aus oben erwähnten Gründen kleiner als die Ringbreite in radialer Richtung
sein.
Das Kühlbett 55 ist als ein Ganzes mit der Stromzuleitung 56 aus Kupfer hergestellt Die Kühlung
der aus dem zu verdampfenden Metall erzeugten Kathode erfolgt mit Hilfe des Kühlkörpers 57, der am
unteren Ende der Stromzuleitung 56 befestigt ist Zur Verminderung des Wärmedurchgangswkiersiandes
zwischen dem Kühlbett 55 und dem Kühlkörper 57 ist die Stromzuleitung 56 als massives Stück ohne innere
Hohlräume ausgeführt Die Anwendung eines Kühlkörpers zur Wärmeableitung von der Kathode vereinfacht
den Aufbau und erhöht die Betriebszulässigkeit der Anlage, weil die Notwendigkeit eines Wasserkühlungssystems
entfällt.
Auf die Seitenfläche 5? des kupfernen Kühlbettes ist ein aus weichmagnetischem Metall hergestellter Ring 59
aufgepreßt, der als Schirm dient Das Spiel 22 zwischen der Innenfläche des Schirmes 59 und der zylindrischen
Seitenfläche 11 der Kathode 51 aus dem verdampfenden
Metall beträgt 1 bis 3 mm.
Die zylindrische Oberfläche 60 der Kathode 51, die
Die zylindrische Oberfläche 60 der Kathode 51, die
so aus dem zu verdampfenden Metall hergestellt ist, wird
mit einem Schirm 61 aus weichmagnetischem Metall abgedeckt, der auf dem Kühlbett 55 mit einem Spiel 62
von 1 bis 3 mm montiert ist
mit der Kathode elektrisch verbunden. Diese konstruktive
Lösung vereinfacht den Aufbau der Anlage, ist aber nur für die Verdampfung von Metallen mit hoher
Dampfspannung geeignet
Die Anode 63 der Anlage stellt eine zylindrische Hülle 64 dar, die gleichachsig mit der Kathode angeordnet ist Die Seitenfläche der zylindrischen Hülle weist mehrere Offnungen 65 auf, die zur inneren Anordnung von Aufnehmern von Meßgeräten 66 zur Bestimmung von Kenngrößen des Aufdampfvorganges dienen. Ist die
Die Anode 63 der Anlage stellt eine zylindrische Hülle 64 dar, die gleichachsig mit der Kathode angeordnet ist Die Seitenfläche der zylindrischen Hülle weist mehrere Offnungen 65 auf, die zur inneren Anordnung von Aufnehmern von Meßgeräten 66 zur Bestimmung von Kenngrößen des Aufdampfvorganges dienen. Ist die
Gesamtfläche der Offnungen in der Hülle größer als die
übrige Fläche dieser Hülle und liegen die öffnungen im maximalen Metallplasmastrom, so führt das zur
Herabsetzung der Stabilität des Lichtbogenbrennens,
die durch Vergrößerung des Lichtbogenstromes ausgeglichen
werden muß. Unter solciien Bedingungen brennt
der Lichtbogen längere Zeit bei größeren Stromwerten als bei Aniagen mit ganzflächiger Hülle.
Die zu Oberziehenden elektrisch leitenden Erzeugnisse
52 sind gegenüber der Kathode an eüicr nicht
gezeigten Vorrichtung angeordnet und mit der Hülle M mittels eines Leiters 67 elektrisch verbunden.
Da die Erzeugnisse zum Teil die Rolle der Anode erfüllen, erfolgt dabei keine Verschlechterung des
Lichtbogenbrennens. Die HOlIe 64 ist am Deckel der
Vakuumkammer ebenso befestigt wie in der Anlage nach F ig. 1.
Die Speisequelle 68 zur Speisung des Lichtbogens enthält einen Abwärtstransformator 69 mit abfallender
äußerer Strom-Spannungs-Kennlinie, die durch große magnetische Streuung bedingt ist, sowie einen Gleichrichter
42. Die Regelung des Lichtbogenstromes erfolgt bei dieser Speisequelle durch Änderung der elektromittels
der Kontakte 76 des Zeitrelais 75 nach ehr Bogenzündung zwischen der Kathode 51 und der Anode
63 vermieden.
ähnlich wie die in F i g. 1 dargestellte Variante.
In Fig.4 ist eine modifizierte Anlage mit hoher
Leistung zur Auftragung von Überzügen auf bewegte bandartige Werkstoffe gezeigt Zur Erhaltung lines
gleichmäßigen Überzuges hat die aus zu verdampfendem Metall hergestellte Kathode 77 dieser Anlage die
Form eines flachen Rechtecks. Die Kathode 77 ist am Kühlbett 78 mit Bolzen 79 befestigt Im Kühlbett 78 ist
ein Hohlraum zur Aufnahme von Wasser vorgesehen. Zur Abdichtung des Kühlbettes 78 und der Kathode 77,
υ die aus dem zur Verdampfung bestimmten Metall hergestellt ist dient eine Gummidichtung, die in einer
Nut am äußeren Umfang der Kathode 77 liegt Wird eine hohe Intensität des Aufdampfvorganges gefordert
so muß der Lichtbogenstrom vergrößert werden, wobei
maonpticrhpil K_nnrAijna Λςτ Primär- tirwf Apt .^»IninHär- 20 Selbstverständlich di£ WänHSEbfÜhrün** ΥΟΠ ÖJ£T
wicklung des Transformators 69.
Die WicLaing 33 des Elektromagneten ist mit Hüte
der Leiter 70 und 71 an die Klemmen 45 und 47 der Speisequelle 68 angeschlossen. In den die Klemme 47
und die Stromzuleitung 56 verbindenden Stromkreis 1Γ2
ist die Wicklung 73 eines Stromrelais eingeschaltet, dessen Kontakte 74 im Stromkreis 71 liegen. Parallel zur
Spule 33 des Elektromagneten liegt ein Zeitrelais 75, dessen Kontakte 76 in den die Zündelektrode 29 und die
Anode 63 verbindenden Stromkreis 38 eingeschaltet sind.
Die Anlage nach Fig.3 funktioniert wie fohjt
Nachdem in der Vakuumkammer 1 mit Hilfe des Vakuumpumpensystems 6 der Arbeitsdruck erreicht ist,
schließt man den Schalter 44. Durch die Wicklung 33 des Elektromagneten fließt ein Gleichstrom, wobei der
Anker 30 des Elektromagneten angezogen wird, bis die Zündelektrode 29 die Verdampferfläche 53 der
Kathode 51 berührt Nach einer Zeitspanne von 03 bis 0,5 see nach dem Berühren der Verdampfungsfläche !53
der Kathode 51 durch die Zündelektrode 29 spricht das
Zeitrelais 75 an und schließt seine Kontakte 76 im Stromkreis 38 der Zündelektrode 29. Im Stromkreis
Klemme 45, Kontakte 76, Leiter 38, Widerstand 39, Stange 36, biegsamer Leiter 35, Zündelektrode 29,
Kathode 51, Kühlbett 55, Stromzuleitung 56, Leiter 72,
Stromrelais 73, Klemme 47 beginnt Strom zu fließen und ruft das Ansprechen des Stromrelais 73 und seiner
Kontakte 74 im Stromkreis 71 hervor.
Die Spule 33 wird stromlos und die Feder 34 zieht die Zündelektrode 29 von der Verdampfungsflache der
Kathode 51 in 03 bis 0,5 see nach dem Ansprechen der
Kontakte 74 des Stromrelais 73 ab. Die Kontakte 76 diss
Zeitrelais 75 werden geöffnet Die Anordnung der Kontakte 76 des Zeitrelais 75 im Stromkreis der
Zündelektrode 29 vermindet die Gefahr eines Amschweißens der Zündelektrode 29 an die Kathode 51, da
der Stromkreis Zündelektrode 29 — Kathode Sl frühzeitig geschlossen wird und der Strom bein
Schließen der Kontakte 76 des Zeitrelais 75 Lm Stromkreis der Zündelektrode mit Verzögerung zu
fließen beginnt Es wurde gefunden, daß der Lichtbogen bei einem hohen Arbeitsdrücken-1 bis 10-3Torr) in der
Vakuumkammer 1 während des Betriebs der Anlage zwischen der Kathode 51 und dem Ende der
Zündelektrode 29 brennt und dies die Abschmelzung der Zündelektrode zur Folge hat Dies wird durch
Stromabschaltung im Stromkreis der Zündelektrode 39 denoberfläche verbessert werden muß. Infolgedessen ist
die Kathode am Umfang ihres Kontaktes mit dem Kühlbett abgedichtet, und zwischen dem übrigen Teil
der Kathode und dem Kühlbett befindet sich ein in der Kathode oder im Kühlbett ausgeführter Hohlraum, in
dem Kühlflüssigkeit umläuft Bei derartiger Ausführung erfolgt die Wärmeabführung unmittelbar von der
Kathode ohne dazwischenliegende Körper (Kühlbett). Die Abdichtung der Kathode kann auch durch Anlöten
Schirm das Kühlbett am Umfang ihrer gegenseitigen Berührung erfolgen. Die ganze nicht zu verdampfende
Fläche ist mit einem Metallschirm 82 verdeckt Der Schirm weist einen Ausschnitt auf, durch den die
hineingeschoben wird. Beim Betrieb der Anlage im Bereich hoher Drücke (10-2 bis 10~4 Torr) können die
beim Erlöschen des Lichtbogens entstehenden Hochspannungsimpulse einen Überschlag der Gasstrecke
zwischen dem Kühlbett und der Anode herbeiführen.
Wenn der Schirm die ganze nicht zu verdampfende Oberfläche der Kathode 77 und die an die letztere
anliegende Fläche des Kühlbettes 78 überdeckt sind die Bedingungen für einen Überschlag der Gasstrecke an
der Verdampfungsfläche 85 der Kathode bedeutend
besser als für einen Überschlag zur nicht zu verdampfenden Fläche. Deswegen brennt der Lichtbogen
vorwiegend an der Verdampfungsfläche 85 der Kathode. Das Metallband 86 ist auf Trommeln 86a gewickelt
die in der mit Pfeilen angegebenen Richtung gedreht
so werden können (die Antriebsvorrichtung für die Trommeln ist nicht eingezeichnet). Als Anode werden in
der Anlage die Innenwände der Vakuumkammer und die Oberfläche 87 des Metallbandes benutzt das mit der
Vakuumkammer über den Leiter 88 elektrisch verbunden ist Ist der Anschluß der Plus-Klemme der ■
Speisequelle 89 zur Speisung des Lichtbogens an die Vakuumkammer 1 zulässig, so können die Innenwände
der Vakuumkammer als Anode dienen. In diesem Falle wird der Aufbau der Anlage einfacher, da die Hülle und
konstruktive Elemente zur Befestigung der Hülle im Innenraum der Vakuumkammer entfallen.
Die Speisequelle 89 zur Speisung des Lichtbogens besteht aus einer Sammlerbatterie 90 und einem
Regelwiderstand 43. Die Spannungszuführung erfolgt
mit Hilfe eines Schalters 91. Die Zündelektrode ist über einen Isolator 31 an einem drehbaren Aufhänger 92
befestigt Die Spule 33 ist mit einer Diode 93 überbrückt Dies trägt zur Erweiterung des Arbeitebereichs für den
Lichtbogenstrom bei, da der überflüssige Strom durch
die Diode 93 fließt, die in Stromflußrichtung eine logarithmische Kennlinie aufweist, z. B, bei einer
Lichtbogenstromsteigerung auf das 1Ofache erhöht sich
die Spannung an der Diode und folglich die Stärke des s durch die Spule 33 fließenden Stromes auf das
Zweifache.
Die Anlage funktioniert ähnlich wie die nach F i g. 1. In Fig.6 ist eine modifizierte Anlage zur Austragung
von Metallüberzügen im Vakuum dargestellt S;ie ist zur Auftragung von gleichmäßigen Überzügen aus Metallen
mit hoher Dampfspannung (Niob, Molybdän, Tantal) auf die äußere Fläche eines Rohres 94 oder anderer
zylindrischer Körper bestimmt
Die aus zu verdampfendem Metall hergestellte is Kathode 95 stellt ein Rchr dar, dessen Oberfläche eine
Konizität von 2 bis 3° aufweist
Die innere zylindrische Fläche 97 dient als Kathodenverdampfungsfläche.
Bn gleichmäßiger Oberzug ergibt sich, weil die aus zu verdampfendem Metall hei gestellte
Kathode 33 die zu überziehende Oberfläche des Rohres
umfaßt Bei irrender Bewegung des Kathodenflecks auf der Verdampfungsfläche 97 der Kathode erhält man
einen gleichmäßigen Oberzug, wenn die Geschwindigkeit
der Rohrverschiebung viel kleiner als die 2s Bewegungsgeschwindigkeit des Kathodenflecks ist (der
Kathodenfleck bewegt sich mit einer Geschwindigkeit von. mehreren Hundert Zentimetern pro Sekunde). Als
Kühlbett für die aus zu verdampfendem Metall hergestellte Kathode 95 dient das Gehäuse 98 der »
Vakuumkammer. Die Innenfläche des Gehäuses der Vakuumkammer weist dieselbe Konizität auf, wie die
Oberfläche der aus zu verdampfendem Metall hergestellten Kathode 95. Der Wärmekontakt der Kathode
und des Gehäuses 98 wird durch einen axialen Druck auf die Kathode 95 erreicht, wobei die letztere im Gehäuse
98 festgekeilt wird. Die Außenfläche des Gehäuses 98 ist als Kuhlkörper 99 ausgeführt, um die Wärmeableitung
von der Kathode zu verbessern. Die Stirndeckel 100 und 101 der Vakuumkammer sind vom Gehäuse 98 mit Hilfe
von Isolatoren 102 elektrisch isoliert. Die Abdichtung der Kammer erfolgt mit Gummidichtungen 103, die in
entsprechenden Nuten der Deckel 100, 101 und des Gehäuses 98 der Vakuumkammer liegen. Die Deckel
werden an das Gehäuse der Vakuumkammer mit Bolzen 104 angedrückt Damit die Bolzen die Isolation der
Deckel und des Gehäuses der Vakuumkammer nicht aufheben, sind sie durch Hülsen 105 aus einem
dielektrischen Stoff gesteckt Die Deckel der Vakuumkammer sind mit zylindrischen Gehäusen 106 einteilig so
gefertigt, in denen das Rohr 94 angeordnet wird. Die
Verschiebung des Rohres längs der Kammerachse erfolgt mit Hilfe einer Vorrichtung, die in F i g. 6 nicht
gezeigt ist
Die Außenfläche 107 des zu überziehenden Rohres 94
und die Innenfläche 108 der Deckel 100 und 101 der Vakuumkammer dienen als Anode der Anlage. Zur
Eingrenzung der Verdampfungsflache 97 der Kathode verwendet man sechs ringförmige Schirme 109, die in
den Nuten des Isolators 102 angeordnet sind. Die m Schirme 109 sind von den Elektroden der Anlage und
voneinander isoliert und überdecken die ganze nicht zu verdampfende Fläche 110.
Die Anzahl der Schirme wird so gewählt, daß die
Spannung der Lichtbogenzündung zwischen der nicht es zu verdampfenden Fläche 110 und der Anode über die
Schirme größer als die Spannung der Lichtbogen-Speisequelle lit ist Bei ungünstigen Bedingungen (κ. B.
beim hohen Druck in der Vakuumkammer oder bei Verunreinigung der Schirme) kann in diesem Falle bei
Oberspannungen ein Hochspannungsüberschlag der Gasstrecke zwischen der Anode und der Kathode fiber
Schinne entstehen. Aber beim Obergang vom Hochspannungsstad'
der Entladung zum Niederspannungs-Iichtbogenstadhim
kann die Entladung in erwähnter Richtung nicht weiter dauern, da für ihre
weitere Erhaltung die Spannung der Sptisequelle nicht
ausreicht. Die Bogenentladung kann in der betreffenden
Anlage nur zwischen der Verdampfungsfläche 97 der Kathode und der Anode erfolgen.
Die zur Speisung des Lichtbogens bestimmte Speisequelle 111 enthält einen Asynchronmeter 112 und
einen Schweißgenerator 113 mit abfallender Strom-SpaDmmgs-Kennlmie.
Da die Gleichspannung der Speisequelle 111 eine geringere Pulsation als die Spannung der Gleichrichter aufweist, ist der minimale
Strom für ein stabiles Lichtbogenbrennen in dieser Anlage geringer als bei Anlagen nach F i g. 1 und 3.
Im Stromkreis 72, der die Klemme 47 nnt den:
Gehäuse 98 verbindet, liegt ein Stromrelais 73. Die Wicklung 33 des Elektromagneten wird von einem
Gleichrichter 114 gespeist, mit dem ein Zeitrelais 115 und die Kontakte 74 des Stromrelais 73 in Reihe Gegen.
Die Kontakte 116 des Zeitrelais 115, die mit einer Zeitverzögerung von 03 bis 0,5 see nach der Enwchaltung
der Wicklung des Relais 115 geschlossen werden,
liegen im Stromkreis der Zündelektrode 117 in Reihe
mit einem Widerstand 39.
Die Klemme 45 der Speisequelle 111 zur Speisung des
Lichtbogens ist mittels eines Leiters 118 mit dem zylindrischen Gehäuse 106 verbunden, das über einen
Leiter 119 mit dem oberen Deckel 100 Verbindung hat
Das zur Aufstaubung bestimmte Erzeugnis 94 ist mit Hilfe eines Leiters 120 mit dem Gehäuse 106 verbunden.
Die Anordnung der Kontakte 74 in einem Wechselstromkreis gestattet es, ihren Verschleiß herabzusetzen.
Die Arbeitsweise der Anlage weist im Prinzip keine Unterschiede von der Funktion der vorstehend
beschriebenen Anlagen auf.
In Fig.7 ist eine Anlage zur Auftragung von
Überzügen an der Innenflache 121 eines Rohres 122
dargestellt Das Rohr 122 wird in der Vakuumkammer 123 angeordnet, die aus einem Gehäuse 124 und einem
Deckel 125 besteht In das Innere des Rohres wird eine zylindrische aus zu verdampfendem Metall hergestellte
Kathode 126 eingeführt Die zylindrische Flache 127 der «is einem zu verdampfenden Metall gefertigten
Kathode dient als Verdampfungsfläche. Während des Aufdampfvorganges wird das Rohr 122 verschoben. Ist
die eswdigkeit der Rohrverschiebung viel kleiner als die Wanderungsgeschwindigkeit des Kathodenflecks,
so erhalt man an der Innenfläche des Rohres eitlen gleichmäßigen Oberzug. Die aus einem zu
verdampfenden Metall hergestellte Kathode 126 weist im Zentrum eine sich verjüngende Öffnung (Konizhit 2
bis 3") auf, in die der kegelförmige Teil des Kühlbettes
12S eingesetzt ist Das Kühlbett 128 und die Stromzuleitung 129 sind ab ein ganzer Bauteil
ausgeführt Die Stromzuleitung ist durch eine Öffnung im Deckel 125 der Vakuumkammer 123 hindurchgeführt
und wird mit Hilfe von dielektrischen Hülsen 130,131
sowie mittels einer Gummidichtung 132 und eines Flansches 133 befestigt und abgedichtet Auf den in der
Atmosphäre liegenden Teil der Stromzuleitung 129 ist ein Kühlkörper 134 zur Wärmeableitung von der aus
einem zu verdampfenden Metall hergestellten Kathode
!|26 !aufgesetzt Im Inneren der Stromzuleitung 12Sl und
des Kühlbett« 128 ist ein geschlossener Hohlraum 135
vorgesehen, der zum Teil mit einer leichtsiedenden Flüssigkeit 1316 gefüllt ist Die Wärmeübertragung von
der aus einem zu verdampfenden Metall hergestellten Kathode 126 erfolgt durch Dämpfe einer siedenden
Flüssigkeit, die in den Oberteil des Hohlraumes 135 steigen, kondensiert werden und ihre Warme am
Kühlkörper 134 abgeben. Die kondensierte Flüssigkeit fließt in den unteren TeQ des Hohlraumes 135. Die ganze
nicht zu verdampfende Fläche der Kathode 126 ist mit vier Schirmen 137 aus einem weichmagnetischen Metall
mit einer dielektrischen Hülse 131 verdeckt Die Schirme 137 sind an Isolatoren 138 und 139 befestigt
Der Isolator 139 wird am Kühlbett 128 mittels eines Bolzens 140 montiert Das Rohr 122 ist mit einem
biegsamen Leiter 141 mit der Vakuumkammer 123 elektrisch verbunden und dient zusammen mid der
letzteren als Anode der Anlage.
In dieser Variante der Anlage ist der Widerstand 39 in
das Innere der Vakuumkammer 123 eingebaut, wobei der Isolator zur elektrischen Herausführung der
Zündelektrode 117 entfallen kann. Außerdem liegt in dem den Minuspol der Speisequelle 143 mit der
Stromzuleitung 129 verbindenden Stromkreis 142 eine Hochfrequenzdrossel 144.
Die Einfügung der Drossel in den Lichtbogenstromkreis
142 ermöglicht eine Verminderung des Spannungsabfalls am Regelwiderstand 43 und damit die
Wühl einer niedrigeren Spannung des Gleichstromnetzes,
von dem die Speisequelle 143 für den Lichtbogen gespeist wird.
Dier wird dadurch möglich, daß beim Erlöschen der
Elementarzelle des Kathodenflecks vom Lichtbogen, das in der Zeit von 10~5 bis 10-' see vor sich geht, an der
Drossel 144 Oberspannungen entstehen, die dem Strom durch die Elementarzelle des vom Lichtbogen gebildeten
Kathodenflecks proportional sind, wobei dieser Strom für verschiedene Metalle im Bereich von 0,08 A
für Quecksilber bis Ofi A für Titan liegt
Die entstandene Oberspannung ebenso wie die Spannungserhöhung an der Kathode wegen eines
geringeren Spannungsabfalls am Regelwiderstand 43 trägt zur Bildung einer neuen Elementarzeil«: des
Kathodenflecks durch Teilung anderer Elementarzellen bei.
Da das Erlöschen der Elementarzelle des vom Lichtbogen gebildeten Kathodenflecks in der Zeit von
I0-* bis 10"7 · see erfolgt muß die Drossel imstande
sein, in dieser Zeit die Spannung zu erhöhen und sie an die Kathode zu übertragen. Deshalb wird empfohlen,
die Drossel 144 eisenlos (ohne magnetischen Kern) auszuführen, wobei die Herstellung einer Drossel für die
erforderliche Arbeitsfrequenz im Bereich 0,1 bis 10 MHz möglich wird.
Der Betrieb der Anlage weist im Prinzip keine Unterschiede von der Arbeitsweise der vorstehend
beschriebenen Anlagen auf.
In F i g. 8 ist noch eine Variante der Anlage gezeigt, in
der als Anode die Oberflächen der zu überziehenden
Erzeugnisse 13 dienen, die mit Hilfe einer nicht gezeigten Vorrichtung an der Fläche einer gedachten
Sphäre 14 angeordnet werden. Die Vakuumkammer dieser Anlage enthält eine dielektrische aus Glas
gefertigte Haube 146 und einen Metalldeckel 1. Die Abdichtung des Deckels 3 und der Haube 146 erfolgt
mittels einer Gummidichtung S. Die zur Aufdampfung bestimmten Erzeugnisse 13 werden miteinander über
einen Leiter 147 und mit der Stromeinführung 27 im Deckel 3 der Vakuumkammer mittels eines Leiters 148
verbunden. Die Stromeinführung 27 ist über einen Leiter 46 mit der Plus-Klemme 45 der Speisequelle 89
s für den Lichtbogen verbunden. Je größer ist die der
Verdampfungsfläche 10 der Kathode 9 zugewandte Oberfläche der zu überziehenden Erzeugnisse, desto
stabiler brennt der Lichtbogen. Das Erzeugnis muß in der maximalen Plasmaströmung im Raumwinkel von
to etwa 90° angeordnet werden, dessen Scheitelpunkt im
Zentrum der Verdampfungsfläche 10 der Kathode 9 liegt Die aus einem zu verdampfenden Metall
hergestellte Kathode 9 wird am Kühlbett 8 mit Hilfe von Befestigungselementen (Stiften, Bolzen, Nieten) mon-
is tiert Dabei wird die für den Abbau der verbrauchten
Kathode aus zu verdampfendem Metall erforderlichen Zeit ζ. B. im Vergleich mit einer Ausführung rai» an das
Kühlbett angelöteter Kathode verkürzt Damit der metallische überzug keine Verunreinigung durch den
Werkstoff der Befestigungselemente aufweist und damit der Kathodenfleck nicht an Befestigungselementen
festgehalten wird, können diese Befestigungselemente zweckmäßigerweise aus demselben zu verdampfenden
Metall hergestellt werden. Zur Gewährleistung eines sicheren Wärmekontaktes und einer zulässigen elektrischen
Verbindung sollen die Befestigungselemente dabei so angeordnet werden, daß sie die aus einem zu
verdampfenden Metall hergestellte Kathode auf ihrer ganzen Fläche an das anliegende Kühlbett andrücken.
Es ist auch zweckmäßig, die Befestigungselemente mit der Verdampfungsfläche der Kathode bündig anzuordnen.
In diesem Falle werden die Spielräume zwischen den Befestigungselementen und der Kathode beim
anfänglichen Einschalten der Anlage zugestäubt und nachher werden die Kathode und die Befestigungselemente
gleichmäßig als einteiliger Bauteil verdampft Sind die Befestigungselemente nicht bündig mit der
Arbeitsfläche der Kathode eingebaut so bilden sich an den Stellen der Befestigungselemente nach einiger Zeit
4> durch Kathodenzerstäubung Offnungen. In diese öffnungen
gelangt der Kathodenfleck und erlischt wobei sich ein unstabiles Lichtbogenbrennen ergibt Bei einer
größeren Anzahl von öffnungen in der Verdampfungsfläche der Kathode kann die verminderte Stabilität des
Die Eingrenzung der Verdampfungsfläche 10 der Kathode erfolgt mit Hilfe eines aus feuerfestem
Isolationsmaterial mit niedriger Dampfspannung (Alundum,
Quarz usw.) hergestellten Schirme.·: 150, der mit
50. einem Spiel von 1 bis 3 mm von der nicht zu
verdanpfenden Fläche der Kathode befestigt ist Der keramische Schirm überdeckt die ganze Kathodenfläche,
die nicht verdampft wird. Die Anwendung des keramischen Schirmes schließt ein Lichtbogenbrennen
an der nicht zu verdampfenden Kathodenfläche vollkommen aus.
Die Anlage funktioniert ähnlich der in Fig.4
angefahrten Variante.
F i g. 9 zeigt eine Anlage, die als Sorptions-Hochvakuumpumpe verwendet wird. Die aus zu verdampfendem Metall (z. B. Titan) bestehende Kathode 9 ist als flache Scheibe ausgeführt und am Kühlbett 8 mittels der Stifte 149 ebenfalls aus zur Verdampfung bestimmtem Metall befestigt Die Kathode wird mit Wasser gekühlt das durch ein Rohr 151 fließt Das Rohr 151 ist durch eine zylindrische Wand des Gehäuses 152 eingelassen, das als Anode der Anlage dient, und ist vom Gehäuse 152 mittels eines Isolators 153 elektrisch isoliert Der Schirm
F i g. 9 zeigt eine Anlage, die als Sorptions-Hochvakuumpumpe verwendet wird. Die aus zu verdampfendem Metall (z. B. Titan) bestehende Kathode 9 ist als flache Scheibe ausgeführt und am Kühlbett 8 mittels der Stifte 149 ebenfalls aus zur Verdampfung bestimmtem Metall befestigt Die Kathode wird mit Wasser gekühlt das durch ein Rohr 151 fließt Das Rohr 151 ist durch eine zylindrische Wand des Gehäuses 152 eingelassen, das als Anode der Anlage dient, und ist vom Gehäuse 152 mittels eines Isolators 153 elektrisch isoliert Der Schirm
21 ist Ober Isolatoren 23 am Kühlbett 8 befestigt Die
Verdampfung des aktiven Metalls (Titan) erfolgt auf die Innenfläche des Gehäuses 152, wo das Okkludieren von
aktiven Gasen (Stickstoff, Sauerstoff, Wasserstoff, Kohlenstoffoxyd und -dioxyd usw) durch Sorpliion vor
sich geht Edelgase (Argon, Neon, Helium) werden durch verdampftes Metal) nicht entfernt Zum Evakuieren
dieser Gase dient eine Diffusionspumpe i55. Die Leistung der Diffusionspumpe für Edelgase beträgt I bis
2% der Leistungsfähigkeit der Sorptionspumpe für Stickstoff. Das Gehäuse 152 ist mit seinem Eingangsflansch
mit dem zu evakuierenden Raum 154 verbunden. Die Lichtbogenzündung erfolgt in der Pumpe mit einer
Zündelektrode 117, die durch einen Ausschnitt 83 im Schirm 21 hindurchgeht Die Sorptions-Hochvakuumpumpe
zeichnet sich durch hohe Evakinierungsgeschwindigkeit
sowohl bei hohen Drücken von 1 · 10~3 bis 1 · 10-5 Torr als auch bei niedrigen Druckwerten
(unter 1 · 10~5 Torr) aus. Der minimale Strom für ein
Stabiles Lichtbogenbrennen beträgt bei Benutzung von üblichen technischem Titan ungefähr 120A. Die
Speisequelle liefert eine Spannung von 30 V. Bei
ununterbrochenem Betrieb der Pumpe beträgt der Titanverbrauch 14 g/Stunde. Dieser Tstanverbrauch
reicht zum Evakuieren von Stickstoff mit einer Geschwindigkeit von 40 bis 50 Tausend 1/sec bei einem
Druck von 2 · 10-5 Torr cus. (Der beim Evakuieren
ίο erreichbare Grenzdruck liegt unter 1 · 10~7 Torr). Im
Spektrum der Restgase fehlen schwere Kohlenwasserstoffe. Die Hauptkomponente im Gasspektrum ist
Wasserstoff. Es wurde festgestellt, daß im Plasma der Bogenentladung ein Zerfall der KohlenwasserstoffmolekCle
in ihre Bestandteile (Wasserstoff und Kohlenstoff) erfolgt, die von der Pumpe aktiv evakuiert werden.
Die Anlage funktioniert ähnlich wie die vorstehend beschriebenen Anlagen.
Hierzu 8 Blatt Zeichnungen
Claims (30)
1. Vakuumverdampfungsanlage zum Verdampfen von Metallen mit Hilfe des elektrischen Lichtbogens
zur Herstellung von Überzügen oder zum Verdamp- s
fen von Gettermetallen, mit einer aus dem zu verdampfenden Metall hergestellten Kathode, die an
einem Kühlbett mit Stromzuleitung befestigt ist, mit einer Zündelektrode, die auf der Verdampfungsfläche
der Kathode einen Kathodenfleck des elektrisehen Lichtbogens erzeugt, und einer Einrichtung
zur Festhaltung des Kathodenflecks auf der Verdampfungsfläche der Kathode, dadurch gekennzeichnet,
daß die Anode eine Hülle (26; 64; 1,2; 108; 23; 13; 152) darstellt und die '5
Verdampferfläche (10; 53; 85; 97; 127) der Kathode (9; 51; 77; 95; 126) dem durch die Hülle
begrenzten Raum zugewandt ist, die Einrichtung zum Festhalten des Kathodenflecks des elektrischen
Lichtbogens auf der Verdampfungsfläche der Kathode als Schirm (21; 59; 61; 82; 109; 137; 150)
ausgeführt ist, der die Verdampfungsfiäche der
Kathode umgrenzt und wenigstens einen Teil ihrer nicht zu verdampfenden Fläche (11; 60; 110)
abschirmt und der Schirm einen Übergang des Kathodenflecks auf die nicht zu verdampfende
Fläche der Kathode verhindert
2. Vakuumverdampfungsanlage nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Hülle (64) öffnungen
(65) für verschiedene technologische Zwecke M aufweist
3. Vakuum tsrdampfungsanlage nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die Hülle von der Wandung der Vakuumkammer (152) gebildet ist
4. Vakuumverdampfungäanlare nach einem der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode (9) eine flache Form hat
5. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch
eine als Ring ausgeführte Kathode (51).
6. Vakuumverdampfungsanlage nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode
(126) einen Zylinder darstellt, dessen zylindrische Seitenfläche als Verdampfungsfläche (127) dient
7. Vakuumverdampfungsanlage nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Kathode (95)
als Rohr ausgeführt ist, dessen Innenfläche als Verdampfungsfläche (97) dient
8. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeich- M
net, daß die Kathode (9) an das Kühlbett (8) angelötet ist
9. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die
Befestigungselemente (149) zur Montage der Katho- 5S
de (9) am Kühlbett (8) aus Kathodenwerkstoff gefertigt sind.
10. Vakuumverdampfungsanlagc nach Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet, daß die Befestigungselemente (149) mit der Verdampfungsfläche (10) der ω
Kathode (9) bündig angeordnet sind.
11. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Wärmeabfluß von der Kathode (126)
zum Kühlbett (128) durch eine kegelförmige Fläche erfolgt
12. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß die Kathode (77) am Umfang ihres Kontaktes mit dem Kühlbett (78) abgedichtet ist und
zwischen dem übrigen Teil des Kühlbettes (78) und der Kathode (77) ein Hohlraum vorgesehen ist, in
dem eine Kühlflüssigkeit umläuft
13. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß der Rand (24) des Schirmes (21) auf dem Niveau der Verdampfungsfläche (10) der Kathode
(9) angeordnet ist
14. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet
daß der Schirm (59) aus einem elektrisch leitenden Werkstoff hergestellt ist
15. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß der Schirm (59; 61) aus einem weichmagnetischen Werkstoff hergestellt ist
16. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß der Schirm (59; 61) mit der Kathode (51) elektrisch verbunden ist
17. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß der
Schirm (21) von der Kathode (9) und der Anode (25) elektrisch isoliert ist
18. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß der Schirm (82) die ganze nicht zu verdampfende Fläche der Kathode (77) überdeckt
19. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet
daß die nicht zu verdampfende Fläche (110) der Kathode (95) durch voneinander isolierte Schirme
(109) überdeckt ist, die in bezug auf diese nicht zu verdampfende Fläche (110) hintereinander angeordnet
sind
20. Vakuumverdampfungsanlage nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Zahl der
Schirme (109) entsprechend der ;>dingung gewählt ist, daß die für das Lichtbogenbrennen zwischen der
nicht zu verdampfenden Fläche der Kathode und der Anode (107, 108) über die Schirme erforderliche
Spannung größer als die Spannung der Speisequelle (111) für den Lichtbogen ist
21. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 13 oder 17 bis 20, dadurch
gekennzeichnet, daß der Schirm (150) aus einem dielektrischen Werkstoff hergestellt ist
22. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet
daß der Schirm (82) an der Seite der Verdampfungsfläche der Kathode (77) einen Ausschnitt
(83) aufweist, durch den die Zündelektrode (84) einführbar ist
23. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet
daß die Zündelektrode (29) von der Anode elektrisch isoliert ist
24. Vakuumverdampfungsanlage nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß im Stromkreis der
Zündelektrode (29) ein Widerstand (39) liegt
25. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß die Wicklung (33) eines Elektromagneten, von der die Zündelektrode (29) gesteuert wird, in
den Lichtbogenstromkreis eingeschaltet ist
26. Vakuumverdampfungsanlage nach Anspruch .
25, dadurch gekennzeichnet, daß die Wicklung (33)
des Elektromagneten überbrückt ist
27. Vakuumverdampfungsanlage nach Anspruch
26, dadurch gekennzeichnet, daß für die Überbrükkung
eine Halbleiterdiode (93) verwendet ist.
28. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß im Lichtbogenstromkreis eine Hochfrequenzdrossel (144) liegt
29. Vakuinnverdampfungsanlage nach einem der
vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Ausgangsklemmen (45 und 47) der
Speisequelle für den Lichtbogen mit einem Kondensator (50) überbrückt sind.
30. Vakuumverdampfungsanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß die Stromzuleitung (95) zum Kühlbett (98) gleichzeitig zur Wärmeabführung vom Kühlbett (98)
zu einem Kühlkörper (99) dient, der am in der Atmosphäre liegenden Teil der Stromzuleitung (9S)
befestigt ist
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---|---|---|---|
US16375771A | 1971-07-19 | 1971-07-19 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2136532A1 DE2136532A1 (de) | 1973-02-08 |
DE2136532B2 DE2136532B2 (de) | 1978-07-20 |
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---|---|---|---|
DE2136532A Expired DE2136532C3 (de) | 1971-07-19 | 1971-07-21 | Vakuumverdampfungsanlage zum Verdampfen von Metallen |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3793179A (de) |
DE (1) | DE2136532C3 (de) |
FR (1) | FR2147880B1 (de) |
GB (1) | GB1322670A (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4441117C1 (de) * | 1994-11-18 | 1995-10-26 | Plasma Applikation Mbh Ges | Verfahren zur Beschichtung von Substraten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Families Citing this family (81)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5927215B2 (ja) | 1978-12-27 | 1984-07-04 | 日産自動車株式会社 | 表面活性化処理を施した機能材料とその製造方法 |
SU1040631A1 (ru) * | 1980-06-25 | 1983-09-07 | Предприятие П/Я В-8851 | Вакуумно-дуговое устройство |
US4596719A (en) * | 1981-02-24 | 1986-06-24 | Wedtech Corp. | Multilayer coating method and apparatus |
US4537794A (en) * | 1981-02-24 | 1985-08-27 | Wedtech Corp. | Method of coating ceramics |
US4351855A (en) * | 1981-02-24 | 1982-09-28 | Eduard Pinkhasov | Noncrucible method of and apparatus for the vapor deposition of material upon a substrate using voltaic arc in vacuum |
US4609564C2 (en) * | 1981-02-24 | 2001-10-09 | Masco Vt Inc | Method of and apparatus for the coating of a substrate with material electrically transformed into a vapor phase |
US4512867A (en) * | 1981-11-24 | 1985-04-23 | Andreev Anatoly A | Method and apparatus for controlling plasma generation in vapor deposition |
AT376460B (de) * | 1982-09-17 | 1984-11-26 | Kljuchko Gennady V | Plasmalichtbogeneinrichtung zum auftragen von ueberzuegen |
US4448799A (en) * | 1983-04-21 | 1984-05-15 | Multi-Arc Vacuum Systems Inc. | Arc-initiating trigger apparatus and method for electric arc vapor deposition coating systems |
GB2140040B (en) * | 1983-05-09 | 1986-09-17 | Vac Tec Syst | Evaporation arc stabilization |
US4559121A (en) * | 1983-09-12 | 1985-12-17 | Vac-Tec Systems, Inc. | Method and apparatus for evaporation arc stabilization for permeable targets |
US4622452A (en) * | 1983-07-21 | 1986-11-11 | Multi-Arc Vacuum Systems, Inc. | Electric arc vapor deposition electrode apparatus |
US4559125A (en) * | 1983-09-12 | 1985-12-17 | Vac-Tec Systems, Inc. | Apparatus for evaporation arc stabilization during the initial clean-up of an arc target |
US4448659A (en) * | 1983-09-12 | 1984-05-15 | Vac-Tec Systems, Inc. | Method and apparatus for evaporation arc stabilization including initial target cleaning |
GB2150947A (en) * | 1983-12-07 | 1985-07-10 | Vac Tec Syst | Evaporation arc stabilization for non-permeable targets utilizing permeable stop ring |
US4600489A (en) * | 1984-01-19 | 1986-07-15 | Vac-Tec Systems, Inc. | Method and apparatus for evaporation arc stabilization for non-permeable targets utilizing permeable stop ring |
US5096558A (en) * | 1984-04-12 | 1992-03-17 | Plasco Dr. Ehrich Plasma - Coating Gmbh | Method and apparatus for evaporating material in vacuum |
IL74360A (en) * | 1984-05-25 | 1989-01-31 | Wedtech Corp | Method of coating ceramics and quartz crucibles with material electrically transformed into a vapor phase |
SU1414878A1 (ru) * | 1984-12-20 | 1988-08-07 | Предприятие П/Я А-1628 | Способ ионно-плазменного напылени и устройство дл его осуществлени |
US4839245A (en) * | 1985-09-30 | 1989-06-13 | Union Carbide Corporation | Zirconium nitride coated article and method for making same |
US4895765A (en) * | 1985-09-30 | 1990-01-23 | Union Carbide Corporation | Titanium nitride and zirconium nitride coating compositions, coated articles and methods of manufacture |
US4929322A (en) * | 1985-09-30 | 1990-05-29 | Union Carbide Corporation | Apparatus and process for arc vapor depositing a coating in an evacuated chamber |
US4620913A (en) * | 1985-11-15 | 1986-11-04 | Multi-Arc Vacuum Systems, Inc. | Electric arc vapor deposition method and apparatus |
CH671238A5 (de) * | 1986-11-06 | 1989-08-15 | Vni Instrument Inst | |
DE8703520U1 (de) * | 1987-02-03 | 1987-10-01 | Balzers Hochvakuum GmbH, 65205 Wiesbaden | Von einem Begrenzungsring mit elektrisch leitender Oberfläche umgebene Kathode für eine Lichtbogenentladung |
US5215640A (en) * | 1987-02-03 | 1993-06-01 | Balzers Ag | Method and arrangement for stabilizing an arc between an anode and a cathode particularly for vacuum coating devices |
FR2612204A1 (fr) * | 1987-03-12 | 1988-09-16 | Vac Tec Syst | Procede et appareil pour le depot par un plasma d'arc electrique sous vide de revetements decoratifs et de revetements resistant a l'usure |
EP0298157B1 (de) * | 1987-06-29 | 1992-09-02 | Hauzer Holding B.V. | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Aushöhlungen von Gegenständen |
US4943325A (en) * | 1988-10-19 | 1990-07-24 | Black & Veatch, Engineers-Architects | Reflector assembly |
JP2718731B2 (ja) * | 1988-12-21 | 1998-02-25 | 株式会社神戸製鋼所 | 真空アーク蒸着装置及び真空アーク蒸着方法 |
US4936960A (en) * | 1989-01-03 | 1990-06-26 | Advanced Energy Industries, Inc. | Method and apparatus for recovery from low impedance condition during cathodic arc processes |
US5238546A (en) * | 1990-03-01 | 1993-08-24 | Balzers Aktiengesellschaft | Method and apparatus for vaporizing materials by plasma arc discharge |
DE4006456C1 (en) * | 1990-03-01 | 1991-05-29 | Balzers Ag, Balzers, Li | Appts. for vaporising material in vacuum - has electron beam gun or laser guided by electromagnet to form cloud or pre-melted spot on the target surface |
US5037522B1 (en) * | 1990-07-24 | 1996-07-02 | Vergason Technology Inc | Electric arc vapor deposition device |
US5858456A (en) * | 1991-02-06 | 1999-01-12 | Applied Vacuum Technologies 1 Ab | Method for metal coating discrete objects by vapor deposition |
CA2065581C (en) | 1991-04-22 | 2002-03-12 | Andal Corp. | Plasma enhancement apparatus and method for physical vapor deposition |
WO1992019789A1 (en) * | 1991-04-29 | 1992-11-12 | Nauchno-Proizvodstvennoe Predpriyatie 'novatekh' | Electric arc evaporator of metals |
DE4125365C1 (de) * | 1991-07-31 | 1992-05-21 | Multi-Arc Oberflaechentechnik Gmbh, 5060 Bergisch Gladbach, De | |
IT1253065B (it) * | 1991-12-13 | 1995-07-10 | Unicoat Srl | Vaporizzatore ad arco voltaico |
DE9207046U1 (de) * | 1992-05-25 | 1992-07-23 | VTD-Vakuumtechnik Dresden GmbH, O-8017 Dresden | Zündeinrichtung für einen Vakuumbogenentladungsverdampfer |
US5282944A (en) * | 1992-07-30 | 1994-02-01 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Ion source based on the cathodic arc |
US5380421A (en) * | 1992-11-04 | 1995-01-10 | Gorokhovsky; Vladimir I. | Vacuum-arc plasma source |
EP0677595B1 (de) * | 1992-12-30 | 1998-04-01 | Scientific-Industrial Enterprise NOVATECH | Anlage zum vakuum-plasma-behandlen von werkstücken |
US5744017A (en) * | 1993-12-17 | 1998-04-28 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Vacuum arc deposition apparatus |
US5480527A (en) * | 1994-04-25 | 1996-01-02 | Vapor Technologies, Inc. | Rectangular vacuum-arc plasma source |
JP3287163B2 (ja) * | 1995-01-23 | 2002-05-27 | 日新電機株式会社 | アーク式蒸発源 |
US5518597A (en) * | 1995-03-28 | 1996-05-21 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Cathodic arc coating apparatus and method |
WO1996031899A1 (en) | 1995-04-07 | 1996-10-10 | Advanced Energy Industries, Inc. | Adjustable energy quantum thin film plasma processing system |
CH689558A5 (de) | 1995-07-11 | 1999-06-15 | Erich Bergmann | Bedampfungsanlage und Verdampfereinheit. |
US5656091A (en) * | 1995-11-02 | 1997-08-12 | Vacuum Plating Technology Corporation | Electric arc vapor deposition apparatus and method |
WO1997038149A1 (en) * | 1996-04-08 | 1997-10-16 | Ronald Christy | Cathodic arc cathode |
DE19652633A1 (de) * | 1996-09-13 | 1998-03-19 | Euromat Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Innenbeschichten metallischer Bauteile |
DE19654336C2 (de) * | 1996-12-24 | 2002-12-12 | Bekaert Cmtm Gmbh | Oberflächenbehandlung von metallischen Bändern mittels magnetisch bewegten Lichtbogen |
US6009829A (en) * | 1997-08-30 | 2000-01-04 | United Technologies Corporation | Apparatus for driving the arc in a cathodic arc coater |
US6036828A (en) * | 1997-08-30 | 2000-03-14 | United Technologies Corporation | Apparatus for steering the arc in a cathodic arc coater |
US5972185A (en) * | 1997-08-30 | 1999-10-26 | United Technologies Corporation | Cathodic arc vapor deposition apparatus (annular cathode) |
US5932078A (en) * | 1997-08-30 | 1999-08-03 | United Technologies Corporation | Cathodic arc vapor deposition apparatus |
DE19853943B4 (de) | 1997-11-26 | 2006-04-20 | Vapor Technologies, Inc. (Delaware Corporation), Longmont | Katode zur Zerstäubung oder Bogenaufdampfung sowie Vorrichtung zur Beschichtung oder Ionenimplantation mit einer solchen Katode |
US6103074A (en) * | 1998-02-14 | 2000-08-15 | Phygen, Inc. | Cathode arc vapor deposition method and apparatus |
US5976636A (en) * | 1998-03-19 | 1999-11-02 | Industrial Technology Research Institute | Magnetic apparatus for arc ion plating |
DE59903546D1 (de) * | 1998-04-29 | 2003-01-09 | Unaxis Trading Ag Truebbach | Werkzeug oder maschinenbauteil und verfahren zu dessen herstellung sowie vakuumbehandlungsanlage |
US6929727B2 (en) * | 1999-04-12 | 2005-08-16 | G & H Technologies, Llc | Rectangular cathodic arc source and method of steering an arc spot |
CA2268659C (en) * | 1999-04-12 | 2008-12-30 | Vladimir I. Gorokhovsky | Rectangular cathodic arc source and method of steering an arc spot |
US5997705A (en) * | 1999-04-14 | 1999-12-07 | Vapor Technologies, Inc. | Rectangular filtered arc plasma source |
CA2305938C (en) * | 2000-04-10 | 2007-07-03 | Vladimir I. Gorokhovsky | Filtered cathodic arc deposition method and apparatus |
US7300559B2 (en) * | 2000-04-10 | 2007-11-27 | G & H Technologies Llc | Filtered cathodic arc deposition method and apparatus |
US6402901B1 (en) * | 2001-03-16 | 2002-06-11 | 4 Wave, Inc. | System and method for performing sputter deposition using a spherical geometry |
US6436254B1 (en) * | 2001-04-03 | 2002-08-20 | General Electric Company | Cathode mounting system for cathodic arc cathodes |
US6936145B2 (en) * | 2002-02-28 | 2005-08-30 | Ionedge Corporation | Coating method and apparatus |
DE10224991A1 (de) * | 2002-06-05 | 2004-01-08 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Einrichtung zur Reduzierung der Zündspannung von Plasmen |
US6770178B2 (en) * | 2002-08-09 | 2004-08-03 | United Technologies Corporation | Cathodic arc disposable sting shielding |
US20050176251A1 (en) * | 2004-02-05 | 2005-08-11 | Duong Chau H. | Polishing pad with releasable slick particles |
US9997338B2 (en) * | 2005-03-24 | 2018-06-12 | Oerlikon Surface Solutions Ag, Pfäffikon | Method for operating a pulsed arc source |
US7498587B2 (en) * | 2006-05-01 | 2009-03-03 | Vapor Technologies, Inc. | Bi-directional filtered arc plasma source |
US20090065045A1 (en) * | 2007-09-10 | 2009-03-12 | Zenith Solar Ltd. | Solar electricity generation system |
US9893223B2 (en) | 2010-11-16 | 2018-02-13 | Suncore Photovoltaics, Inc. | Solar electricity generation system |
US9153422B2 (en) | 2011-08-02 | 2015-10-06 | Envaerospace, Inc. | Arc PVD plasma source and method of deposition of nanoimplanted coatings |
US10304665B2 (en) | 2011-09-07 | 2019-05-28 | Nano-Product Engineering, LLC | Reactors for plasma-assisted processes and associated methods |
WO2016022078A1 (en) * | 2014-08-04 | 2016-02-11 | Surinphong Surasak | Filter apparatus for arc ion evaporator used in cathodic arc plasma deposition system |
RU2710809C1 (ru) * | 2019-08-05 | 2020-01-14 | Общество с ограниченной ответственностью "НПП "Уралавиаспецтехнология" | Установка для нанесения ионно-плазменных покрытий |
CN113957389B (zh) * | 2020-07-21 | 2023-08-11 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种具有多孔降噪及均匀化分配金属蒸汽的真空镀膜装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2972695A (en) * | 1957-05-24 | 1961-02-21 | Vickers Electrical Co Ltd | Stabilisation of low pressure d.c. arc discharges |
US3625848A (en) * | 1968-12-26 | 1971-12-07 | Alvin A Snaper | Arc deposition process and apparatus |
DE1953659C3 (de) * | 1969-10-21 | 1979-01-25 | N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven (Niederlande) | Ionenquelle für die Zerstäubung mit langsamen Ionen |
US3661758A (en) * | 1970-06-26 | 1972-05-09 | Hewlett Packard Co | Rf sputtering system with the anode enclosing the target |
-
1971
- 1971-07-19 US US00163757A patent/US3793179A/en not_active Expired - Lifetime
- 1971-07-21 DE DE2136532A patent/DE2136532C3/de not_active Expired
- 1971-07-28 GB GB3537971A patent/GB1322670A/en not_active Expired
- 1971-08-05 FR FR7128763A patent/FR2147880B1/fr not_active Expired
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4441117C1 (de) * | 1994-11-18 | 1995-10-26 | Plasma Applikation Mbh Ges | Verfahren zur Beschichtung von Substraten und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2147880A1 (de) | 1973-03-11 |
US3793179A (en) | 1974-02-19 |
DE2136532B2 (de) | 1978-07-20 |
DE2136532A1 (de) | 1973-02-08 |
FR2147880B1 (de) | 1976-03-26 |
GB1322670A (en) | 1973-07-11 |
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