DE2057473C2 - Lichtempfindliches Gemisch - Google Patents

Lichtempfindliches Gemisch

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DE2057473C2 DE19702057473 DE2057473A DE2057473C2 DE 2057473 C2 DE2057473 C2 DE 2057473C2 DE 19702057473 DE19702057473 DE 19702057473 DE 2057473 A DE2057473 A DE 2057473A DE 2057473 C2 DE2057473 C2 DE 2057473C2
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Maximilian Karl 6202 Wiesbaden-Biebrich Reichel
Hans Dr. 6202 Wiesbaden-Schierstein Ruckert
Hartmut Dr. 6200 Wiesbaden Steppan
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Hoechst AG
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/12—Production of screen printing forms or similar printing forms, e.g. stencils

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