DE2016574A1 - Verfahren zum Herstellen von n-dotiertem Halbleitermaterial beim Zonenschmelzen in Schutzgasatmosphäre - Google Patents

Verfahren zum Herstellen von n-dotiertem Halbleitermaterial beim Zonenschmelzen in Schutzgasatmosphäre

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    • C30B13/08Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the molten zone
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    • C30B13/12Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting adding crystallising materials or reactants forming it in situ to the molten zone with addition of doping materials in the gaseous or vapour state
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