DE2012431B2 - Vorrichtung zum Ablenken eines Elektronenstrahlenbündels - Google Patents
Vorrichtung zum Ablenken eines ElektronenstrahlenbündelsInfo
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Description
16 elektrisch zu verbinden. An dem oberen und unteren
Ende der zylindrischen Teile 15 bzw. 16 sitzen elektrisch leitende Platten 18 und 19, wobei die elektrisch
leitende Platte 19 geerdet ist.
Der Spulenträger 12 besitzt an seinem oberen und unteren_Ende je ein Innengewinde. Die zylindrischen
Teile 1«. und 16 besitzen entsprechende Außengewinde, so daß durch Einsciirauben der zylindrischen
Teile la und 16 in den Spulenträger 12 das Schutzteil 13 eingespannt werden kann. Auf Grund dieser
Anordnung wird auch der Zusammenbau und das Auseinandernehmen der Vorrichtung wesentlich
leichter.
Bei dieser Anordnung tritt der Elektronenstrahl in das Schutzteil 13 über die öffnung 18 β in der Platte
18 ein, und er tritt über die Öffnung 19 a in der Platte
19 wieder aus. Während seines Durchlaufes durch
das Teil 13 unterliegt der Elektronenstrahl dem von den Ablenkspulen 10 und 11 erzeugten Magnetfluß.
Er wird dementsprechend proportional zu der Intensität der an den Spulen liegenden Strömen abgelenkt.
Streuelektronen, welche auf die Vakuumschicht 14 treffen, werden über das zylindrische Tei! 16 und die
Platte 19 entladen, so daß eine Aufladung an dem Spulenträger 12 und dem Schutzteil 13 vermieden
wird. Auch wenn hochfrequente Magnetflüsse mittels
ίο hochfrequenten Strömen an den Ablenkspulen erzeugt
werden, treten keine Wirbelströme in dem Spulenträger und dem Schutzteil auf. In der dünnen Vakuumschicht
tritt ebenfalls kein oder nur ein geringer Wirbelstromeffekt auf. Dementsprechend wirken die
Hochfrequenzmagnetströme auf den Elektronenstrahl mit nur geringem oder mit keinem Hochfrequenzverlust
ein.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (1)
1 2
Aufeabe der Erfindung i:1. es, eine Vorrichtung zu
Patentansprüche- schaffet, welche eine Ablenkung mit hoher Ge
schwindigkeit zuläßt. Dabei soll kein oder nur ein ge-
;. Vorrichtung zum Ablenken eines Elektro- ringer Hochfrequenzverlust auftreten. Die Ablennenstrahlenbündels,
bei der wenigstens eine Ab- 5 kung soll durch elektrische Aufladungen nicht beeinlenkspule
zur Erzeugung eines Magnetflusses flußt werden.
rechtwinklig zur Elektronenstrahlachse vorgese- Diese Aufgabe wird dadurch gelost, daß gemäß
hen ist und zwischen dem Elektronenstrahl!- der Erfindung an der Innenfläche des Isohermutebündel
und der Ablenkspule ein Isoliermaterial rials eine elektrisch leitende, geerdete Schicht vorangeordnet
ist, dadurch gekennzeich- io gesehen ist.
η et, daß an der Innenfläche des !soliermaterials Die Zeichnungen dienen der weiteren Erläuterung
eine elektrisch leitende, geerdete Schicht vorgese- der Erfindung. Es zeigt
hen ist. F i g. 1 eine Schnittansicht einer ersten Ausfuh-
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- rungsform der Vorrichtung,
kennzeichnet, daß die elektrisch leitende Schicht 15 F i g. 2 eine für die praktische Anwendung geeigeine
unter Vakuum aufgebrachte Goldschicht ist. nete zweite Ausführungsform der Vorrichtung.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- In Fig.2 sind außen angeordnete Ablenkspukennzeichnet,
daß das Isoliermaterial aus Quarz- len 1,2 zur Erzielung eines magnetischen Flusses im
glas besteht. rechten Winkel zu der Elektronenstrahlachse A-A
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- 20 vorgesehen. Zwischen den Spulen und der Wegkennzeichnet,
daß das Isoliermaterial aus Plastik strecke für das Elektronenstrahlenbündel3 ist ein zybesteht.
lindrisches Schutzteil 4 vorgesehen, welches ein Auftreffen von Streuelektronen auf die Spulen verhindert.
Das Schutzteil 4 besteht aus Isoliermaterial,
25 z.B. aus Quarzglas. Auf die Innenfläche dieses
Schutzteiles ist eine elektrisch leitende Membranes
aufgeklebt, welche elektrisch mit den elektrisch leitenden Platten 6 und 7 verbunden ist. Die Platten 6
und 7 sitzen an dem oberen und unteren Stirnende
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Ab- 30 des zylindrischen Teiles 4, wobei die Platte 7 geerdet
lenken eines Elektronenstrahlenbündels, bei der wc- ist.
nigstens eine Ablenkspule zur Erzeugung eines Ma- Der Elektronenstrahl tritt in das zylindrische
gnetflusses rechtwinklig zur Elektronenstrahlachse Schutzteil 4 über eine öffnung 6 a in der Platte 6 ein
vorgesehen ist und zwischen dem Elektronenstrah- und tritt über eine Öffnung 7 α in der Platte 7 wieder
lcnbündel und der Ablenkspule ein Isoliermaterial 35 aus. Während des Durchlaufes durch das Teil 4 wird
angeordnet ist. der Strahl von dem von den Ablenkspulen 1 und 2
Elektronenmikroskope oder ähnliche Einrichtun- erzeugten Magnetfluß abgelenkt. Da die die Spulen
gen besitzen eine oder mehrere Ablenkspulen zum durchfließenden Ströme synchronisiert sind, wird der
Steuern des Elektronenstrahles, wobei der von der Elektronenstrahl von der ersten und zweiten Ablenkspule
erzeugte Magnetfluß jeweils im 1 echten Winkel 40 spule abgelenkt. Das Ablenken des Elektronenstrahzu
der Achse des Elcktronenstrahles verläuft, worauf les wird durchgeführt, indem verschiedene Spannundie
Ablenkung des Elektronenstrahles beruht. Wenn gen an die Spulen gelegt werden,
nun der die Spule durchfließende Strom schwankt, Streuelektronen, die auf die Membrane 5 treffen
wird der Elektronenstrahl entsprechend der Intensi- und dort eine Aufladung hervorrufen würden, wertät
des Stromflusses abgelenkt. 45 den gemäß dieser Anordnung über die Membrane
Zwischen der Spule und der Durchlaufstrecke des und die Platte 7 abgeleitet. Wenn an den Spulen ein
Elektronenstrahles ist ein Schutzteil vorgesehen, wel- Hochfrequenzstrom angelegt wird, treten in dem Isoches
verhindern soll, daß Streuelektronen auf die liermaterial keine Wirbelströme auf. In der elektrisch
Spule treffen. Bei bekannten Vorrichtungen besteht leitenden Membrane 7 treten keine oder nur geringe
dieses Schutzteil aus Isolationsmaterial oder aus 50 Wirbelströme auf. Auf diese Weise wird ein Hochfreeinem
leitenden Material. Wenn ein Isolationsmate- quenzverlust wirksam beseitigt,
rial verwendet wird, dann wird es beim Auftreffen Fig.2 zeigt eine Abwandlung der Ausführungs-
der Streuelektronen elektrisch aufgeladen, was wie- form gemäß F i g. 1. Es sind zwei Ablenkspulen 10
derum zu einer unerwünschten Ablenkung des Elek- und 11 zum Ablenken des Elektronenstrahls in der
tronenstrahles führt. 55 .γ- und y-Richtung vorgesehen. Die Spulen sind mit
Wenn auf der anderen Seite ein leitendes Material einem zylindrischen Spulenträger 12 ausgerüstet, der
als Schiitzteil verwendet und geerdet wird, dann wird aus Isoliermaterial, z, B. aus Plastik, besteht. Innerzwar
dieser elektrische Aufladungseffekt vermieden. halb des Spulenträgers 12 sitzt ein zylindrisches
Wenn jedoch der Elektronenstrahl mit hoher Ge- Schutzteil 13 aus Quarzglas, dessen Innenfläche mit
schwindigkeit abgelenkt wird, z. B. bei einer Fernseh- 60 einer 1000 A dicken Goldvakuumschicht 14 verschen
ablenkung, dann liegt an der Ablenkspule eine Hoch- ist. Das Schutzteil 13 wird von zylindrischen Teilen
frequenzspannung (15,75 kHz), so daß also die Ab- 15 und 16 gehalten, die aus Messing oder einem anlenkspule
einen hochfrequenten magnetischen Fluß deren geeigneten nicht magnetischen Material bcsleerzeugt.
Auf Grund des Hochfrequenzvcrlustes wird hen und die an dem oberen bzw. unteren Stirnende
in dem leitenden Material ein Wirbelstrom erzeugt. 65 des Teiles 13 vorgesehen sind. Zwischen dem Schutz-Dcr
hochfrequente magnetische Fluß, welcher im teil 13 und den zylindrischen Teilen 15 und 16 befinrechten
Winkel zu der Elektronenstrahlachse vcrlau- den sich Schichten aus Silberfolie 17, um die Goldvafen
sollte, erleidet dementsprechend eine Abnahme. kuumschicht 14 und die zylindrischen Teile 15 bzw.
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