DE2012431B2 - Vorrichtung zum Ablenken eines Elektronenstrahlenbündels - Google Patents

Vorrichtung zum Ablenken eines Elektronenstrahlenbündels

Info

Publication number
DE2012431B2
DE2012431B2 DE2012431A DE2012431A DE2012431B2 DE 2012431 B2 DE2012431 B2 DE 2012431B2 DE 2012431 A DE2012431 A DE 2012431A DE 2012431 A DE2012431 A DE 2012431A DE 2012431 B2 DE2012431 B2 DE 2012431B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
electron beam
deflection
coils
coil
insulating material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE2012431A
Other languages
English (en)
Other versions
DE2012431A1 (de
Inventor
Masayuki Tachikawa Tokio Sato (Japan)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Nihon Denshi KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nihon Denshi KK filed Critical Nihon Denshi KK
Publication of DE2012431A1 publication Critical patent/DE2012431A1/de
Publication of DE2012431B2 publication Critical patent/DE2012431B2/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/09Diaphragms; Shields associated with electron or ion-optical arrangements; Compensation of disturbing fields

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)
  • Details Of Television Scanning (AREA)

Description

16 elektrisch zu verbinden. An dem oberen und unteren Ende der zylindrischen Teile 15 bzw. 16 sitzen elektrisch leitende Platten 18 und 19, wobei die elektrisch leitende Platte 19 geerdet ist.
Der Spulenträger 12 besitzt an seinem oberen und unteren_Ende je ein Innengewinde. Die zylindrischen Teile 1«. und 16 besitzen entsprechende Außengewinde, so daß durch Einsciirauben der zylindrischen Teile la und 16 in den Spulenträger 12 das Schutzteil 13 eingespannt werden kann. Auf Grund dieser Anordnung wird auch der Zusammenbau und das Auseinandernehmen der Vorrichtung wesentlich leichter.
Bei dieser Anordnung tritt der Elektronenstrahl in das Schutzteil 13 über die öffnung 18 β in der Platte
18 ein, und er tritt über die Öffnung 19 a in der Platte
19 wieder aus. Während seines Durchlaufes durch
das Teil 13 unterliegt der Elektronenstrahl dem von den Ablenkspulen 10 und 11 erzeugten Magnetfluß. Er wird dementsprechend proportional zu der Intensität der an den Spulen liegenden Strömen abgelenkt. Streuelektronen, welche auf die Vakuumschicht 14 treffen, werden über das zylindrische Tei! 16 und die Platte 19 entladen, so daß eine Aufladung an dem Spulenträger 12 und dem Schutzteil 13 vermieden wird. Auch wenn hochfrequente Magnetflüsse mittels
ίο hochfrequenten Strömen an den Ablenkspulen erzeugt werden, treten keine Wirbelströme in dem Spulenträger und dem Schutzteil auf. In der dünnen Vakuumschicht tritt ebenfalls kein oder nur ein geringer Wirbelstromeffekt auf. Dementsprechend wirken die Hochfrequenzmagnetströme auf den Elektronenstrahl mit nur geringem oder mit keinem Hochfrequenzverlust ein.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

1 2
Aufeabe der Erfindung i:1. es, eine Vorrichtung zu
Patentansprüche- schaffet, welche eine Ablenkung mit hoher Ge
schwindigkeit zuläßt. Dabei soll kein oder nur ein ge-
;. Vorrichtung zum Ablenken eines Elektro- ringer Hochfrequenzverlust auftreten. Die Ablennenstrahlenbündels, bei der wenigstens eine Ab- 5 kung soll durch elektrische Aufladungen nicht beeinlenkspule zur Erzeugung eines Magnetflusses flußt werden.
rechtwinklig zur Elektronenstrahlachse vorgese- Diese Aufgabe wird dadurch gelost, daß gemäß
hen ist und zwischen dem Elektronenstrahl!- der Erfindung an der Innenfläche des Isohermutebündel und der Ablenkspule ein Isoliermaterial rials eine elektrisch leitende, geerdete Schicht vorangeordnet ist, dadurch gekennzeich- io gesehen ist.
η et, daß an der Innenfläche des !soliermaterials Die Zeichnungen dienen der weiteren Erläuterung
eine elektrisch leitende, geerdete Schicht vorgese- der Erfindung. Es zeigt hen ist. F i g. 1 eine Schnittansicht einer ersten Ausfuh-
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- rungsform der Vorrichtung,
kennzeichnet, daß die elektrisch leitende Schicht 15 F i g. 2 eine für die praktische Anwendung geeigeine unter Vakuum aufgebrachte Goldschicht ist. nete zweite Ausführungsform der Vorrichtung.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- In Fig.2 sind außen angeordnete Ablenkspukennzeichnet, daß das Isoliermaterial aus Quarz- len 1,2 zur Erzielung eines magnetischen Flusses im glas besteht. rechten Winkel zu der Elektronenstrahlachse A-A
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch ge- 20 vorgesehen. Zwischen den Spulen und der Wegkennzeichnet, daß das Isoliermaterial aus Plastik strecke für das Elektronenstrahlenbündel3 ist ein zybesteht. lindrisches Schutzteil 4 vorgesehen, welches ein Auftreffen von Streuelektronen auf die Spulen verhindert. Das Schutzteil 4 besteht aus Isoliermaterial,
25 z.B. aus Quarzglas. Auf die Innenfläche dieses
Schutzteiles ist eine elektrisch leitende Membranes aufgeklebt, welche elektrisch mit den elektrisch leitenden Platten 6 und 7 verbunden ist. Die Platten 6 und 7 sitzen an dem oberen und unteren Stirnende
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Ab- 30 des zylindrischen Teiles 4, wobei die Platte 7 geerdet lenken eines Elektronenstrahlenbündels, bei der wc- ist.
nigstens eine Ablenkspule zur Erzeugung eines Ma- Der Elektronenstrahl tritt in das zylindrische
gnetflusses rechtwinklig zur Elektronenstrahlachse Schutzteil 4 über eine öffnung 6 a in der Platte 6 ein vorgesehen ist und zwischen dem Elektronenstrah- und tritt über eine Öffnung 7 α in der Platte 7 wieder lcnbündel und der Ablenkspule ein Isoliermaterial 35 aus. Während des Durchlaufes durch das Teil 4 wird angeordnet ist. der Strahl von dem von den Ablenkspulen 1 und 2
Elektronenmikroskope oder ähnliche Einrichtun- erzeugten Magnetfluß abgelenkt. Da die die Spulen gen besitzen eine oder mehrere Ablenkspulen zum durchfließenden Ströme synchronisiert sind, wird der Steuern des Elektronenstrahles, wobei der von der Elektronenstrahl von der ersten und zweiten Ablenkspule erzeugte Magnetfluß jeweils im 1 echten Winkel 40 spule abgelenkt. Das Ablenken des Elektronenstrahzu der Achse des Elcktronenstrahles verläuft, worauf les wird durchgeführt, indem verschiedene Spannundie Ablenkung des Elektronenstrahles beruht. Wenn gen an die Spulen gelegt werden, nun der die Spule durchfließende Strom schwankt, Streuelektronen, die auf die Membrane 5 treffen
wird der Elektronenstrahl entsprechend der Intensi- und dort eine Aufladung hervorrufen würden, wertät des Stromflusses abgelenkt. 45 den gemäß dieser Anordnung über die Membrane
Zwischen der Spule und der Durchlaufstrecke des und die Platte 7 abgeleitet. Wenn an den Spulen ein Elektronenstrahles ist ein Schutzteil vorgesehen, wel- Hochfrequenzstrom angelegt wird, treten in dem Isoches verhindern soll, daß Streuelektronen auf die liermaterial keine Wirbelströme auf. In der elektrisch Spule treffen. Bei bekannten Vorrichtungen besteht leitenden Membrane 7 treten keine oder nur geringe dieses Schutzteil aus Isolationsmaterial oder aus 50 Wirbelströme auf. Auf diese Weise wird ein Hochfreeinem leitenden Material. Wenn ein Isolationsmate- quenzverlust wirksam beseitigt, rial verwendet wird, dann wird es beim Auftreffen Fig.2 zeigt eine Abwandlung der Ausführungs-
der Streuelektronen elektrisch aufgeladen, was wie- form gemäß F i g. 1. Es sind zwei Ablenkspulen 10 derum zu einer unerwünschten Ablenkung des Elek- und 11 zum Ablenken des Elektronenstrahls in der tronenstrahles führt. 55 .γ- und y-Richtung vorgesehen. Die Spulen sind mit
Wenn auf der anderen Seite ein leitendes Material einem zylindrischen Spulenträger 12 ausgerüstet, der als Schiitzteil verwendet und geerdet wird, dann wird aus Isoliermaterial, z, B. aus Plastik, besteht. Innerzwar dieser elektrische Aufladungseffekt vermieden. halb des Spulenträgers 12 sitzt ein zylindrisches Wenn jedoch der Elektronenstrahl mit hoher Ge- Schutzteil 13 aus Quarzglas, dessen Innenfläche mit schwindigkeit abgelenkt wird, z. B. bei einer Fernseh- 60 einer 1000 A dicken Goldvakuumschicht 14 verschen ablenkung, dann liegt an der Ablenkspule eine Hoch- ist. Das Schutzteil 13 wird von zylindrischen Teilen frequenzspannung (15,75 kHz), so daß also die Ab- 15 und 16 gehalten, die aus Messing oder einem anlenkspule einen hochfrequenten magnetischen Fluß deren geeigneten nicht magnetischen Material bcsleerzeugt. Auf Grund des Hochfrequenzvcrlustes wird hen und die an dem oberen bzw. unteren Stirnende in dem leitenden Material ein Wirbelstrom erzeugt. 65 des Teiles 13 vorgesehen sind. Zwischen dem Schutz-Dcr hochfrequente magnetische Fluß, welcher im teil 13 und den zylindrischen Teilen 15 und 16 befinrechten Winkel zu der Elektronenstrahlachse vcrlau- den sich Schichten aus Silberfolie 17, um die Goldvafen sollte, erleidet dementsprechend eine Abnahme. kuumschicht 14 und die zylindrischen Teile 15 bzw.
DE2012431A 1969-03-17 1970-03-16 Vorrichtung zum Ablenken eines Elektronenstrahlenbündels Pending DE2012431B2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2019369 1969-03-17

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE2012431A1 DE2012431A1 (de) 1970-09-24
DE2012431B2 true DE2012431B2 (de) 1974-02-21

Family

ID=12020326

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE2012431A Pending DE2012431B2 (de) 1969-03-17 1970-03-16 Vorrichtung zum Ablenken eines Elektronenstrahlenbündels

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3634684A (de)
DE (1) DE2012431B2 (de)
FR (1) FR2034981A1 (de)
GB (1) GB1308971A (de)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3787696A (en) * 1972-03-15 1974-01-22 Etec Corp Scanning electron microscope electron-optical column construction
FR2520553A1 (fr) * 1982-01-22 1983-07-29 Cameca Appareil d'optique electronique comportant des elements en graphite pyrolytique
FR2597259A1 (fr) * 1986-04-15 1987-10-16 Thomson Csf Dispositif a faisceau electronique pour projeter l'image d'un objet sur un echantillon
JP3117950B2 (ja) * 1998-05-21 2000-12-18 セイコーインスツルメンツ株式会社 荷電粒子装置
US7863563B2 (en) * 2007-03-08 2011-01-04 International Business Machines Corporation Carbon tube for electron beam application
EP3333877A1 (de) * 2016-12-07 2018-06-13 JEOL Ltd. Einsatzrohr und elektronenmikroskop
EP3338857B1 (de) * 2016-12-21 2021-08-11 RaySearch Laboratories AB System und verfahren zur bestimmung eines behandlungsplans für die aktive ionenstrahlbehandlung
EP3591685A1 (de) 2018-07-06 2020-01-08 FEI Company Elektronenmikroskop mit verbesserter abbildungsauflösung

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB516620A (en) * 1938-06-02 1940-01-08 Francois Joseph Gerard Van Den Improvements in cathode ray tubes
US2213176A (en) * 1939-06-06 1940-08-27 Rca Corp Television transmitting tube
US2959705A (en) * 1952-09-18 1960-11-08 American Optical Corp Shielded tube and method of making the same

Also Published As

Publication number Publication date
GB1308971A (en) 1973-03-07
FR2034981A1 (de) 1970-12-18
US3634684A (en) 1972-01-11
DE2012431A1 (de) 1970-09-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0208894B1 (de) Flugzeit-Massenspektrometer mit einem Ionenreflektor
DE882769C (de) Verfahren und Einrichtung zur Trennung geladener Teilchen von verschiedenem e/m-Verhaeltnis
DE2646798C2 (de) Vorrichtung zur elektrischen Aufladung von flüssigen oder festen Teilchen in einem Gas-, insbesondere Luftstrom und Aufbringung der geladenen Teilchen auf Oberflächen
DE2929549A1 (de) Feldemissions-elektronenkanone
DE2801916A1 (de) Fernsehbildroehre
DE2628422C3 (de) Verfahren zur Massenspektroskopie
DE2012431B2 (de) Vorrichtung zum Ablenken eines Elektronenstrahlenbündels
DE2445603B2 (de) Ionenquelle
DE2719725C2 (de) Einrichtung zur Elektronenstrahlerwärmung von Materialien
DE1521363B2 (de) Vorrichtung zur Überwachung der Aufdampfung in einer Vakuumanlage
EP0150389B1 (de) Vorrichtung zum Messen des Innendrucks eines betriebsmässig eingebauten Vakuumschalters
DE1953659C3 (de) Ionenquelle für die Zerstäubung mit langsamen Ionen
DE2438234C3 (de) Elektrodenbaugruppe für Mehrstrahlerzeugersysteme und Verfahren zum Betrieb dieser Baugruppe
DE2434830B2 (de) Elektronenstrahlanlage zur thermischen Bearbeitung von Metallwerkstttcken
DE1515200B2 (de) Vorrichtung zur Materialbearbeitung mittels eines Ladungsträgerstrahls
DE1918877B2 (de) Farbbildwiedergaberoehre
DE2949851C2 (de) Vorrichtung zum Magnetisieren einer Konvergenzeinrichtung für Inline-Farbbildröhren
DE1598069C (de) Flugzeit Massenspektrometer
AT229367B (de) Verfahren und Einrichtung zur Herstellung eines passiven Schaltungselementes
DE904447C (de) Elektronen- bzw. Ionenstrahlroehre mit bandfoermigem Strahlbuendel
DE2642463C2 (de) Einrichtung zum elektrischen Bremsen eines Stromes von elektrisch geladenen Teilchen
DE3025550A1 (de) Einrichtung zur messung des auf eine messflaeche im vakuum einfallenden ionenstromes
DE827682C (de) Beschleunigungseinrichtung fuer Elektronen
DE909123C (de) Kathodenstrahloszillograph
DE1040137B (de) Elektronenentladungsvorrichtung