DE19962451C1 - Verfahren für die Herstellung von opakem Quarzglas und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Si0¶2¶-Granulat - Google Patents

Verfahren für die Herstellung von opakem Quarzglas und für die Durchführung des Verfahrens geeignetes Si0¶2¶-Granulat

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US09/484,113 US6380110B1 (en) 1999-12-22 2000-01-14 Process for making opaque quartz, for carrying out the process suitable SiO2 granulate, and component of opaque quartz glass
EP00993506A EP1240114B1 (de) 1999-12-22 2000-12-14 VERFAHREN FÜR DIE HERSTELLUNG VON OPAKEM QUARZGLAS, FÜR DIE DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS GEEIGNETES SiO2-GRANULAT UND BAUTEIL AUS OPAKEM QUARZGLAS
KR1020027008182A KR100716485B1 (ko) 1999-12-22 2000-12-14 불투명 석영유리의 제조 방법, 이 방법을 실행하기에적합한 sio2 과립재료 및 불투명 석영유리로 이루어진물품
JP2001546594A JP4681189B2 (ja) 1999-12-22 2000-12-14 不透明石英ガラスの製造方法、該方法に適したSiO2粒子および不透明石英ガラス物品
CNB008177104A CN1200896C (zh) 1999-12-22 2000-12-14 石英玻璃的制造方法及所用的颗粒和由其构成的部件
CA002395501A CA2395501A1 (en) 1999-12-22 2000-12-14 Method for the production of opaque quartz glass, sio2 granulate suitable for use in performing the method and a component made of opaque quartzglass
DE50011832T DE50011832D1 (de) 1999-12-22 2000-12-14 VERFAHREN FÜR DIE HERSTELLUNG VON OPAKEM QUARZGLAS, FÜR DIE DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS GEEIGNETES SiO2-GRANULAT UND BAUTEIL AUS OPAKEM QUARZGLAS
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10243953A1 (de) * 2002-09-21 2004-04-08 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren für die Herstellung eines Bauteils aus opakem Quarzglas
DE102004038602B3 (de) * 2004-08-07 2005-12-29 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Elektrogeschmolzenes, synthetisches Quarzglas, insbesondere für den Einsatz in der Lampen- und in der Halbleiterfertigung und Verfahren zur Herstellung desselben
EP3000790A1 (de) 2014-09-29 2016-03-30 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren für die Herstellung von synthetischem Quarzglas aus SiO2-Granulat und geeignetes SiO2-Granulat dafür

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10019693B4 (de) * 2000-04-20 2006-01-19 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Herstellung eines Bauteils aus opakem, synthetischen Quarzglas, nach dem Verfahren hergestelltes Quarzglasrohr, sowie Verwendung desselben
DE10020955A1 (de) * 2000-04-28 2001-11-22 Fraunhofer Ges Forschung Formkörper und Verfahren zur Herstellung
DE10055362C1 (de) * 2000-11-08 2002-01-24 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung eines SiO¶2¶-Rohlings und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE10055357C1 (de) * 2000-11-08 2002-08-14 Heraeus Quarzglas Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines SiO¶2¶-Rohlings
DE10159959A1 (de) * 2001-12-06 2003-06-26 Heraeus Quarzglas Quarzglasrohling für ein optisches Bauteil und Verwendung desselben
EP1580170B1 (en) * 2002-11-29 2019-01-16 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Method for producing synthetic quartz glass and synthetic quartz glass article
US7637126B2 (en) * 2003-12-08 2009-12-29 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method for the production of laser-active quartz glass and use thereof
DE102004052312A1 (de) * 2004-08-23 2006-03-02 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Beschichtetes Bauteil aus Quarzglas sowie Verfahren zur Herstellung des Bauteils
DE102004051846B4 (de) * 2004-08-23 2009-11-05 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Bauteil mit einer Reflektorschicht sowie Verfahren für seine Herstellung
US7563512B2 (en) * 2004-08-23 2009-07-21 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Component with a reflector layer and method for producing the same
DE102006018711B4 (de) * 2006-04-20 2008-09-25 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Werkstoff, insbesondere für ein optisches Bauteil zum Einsatz in der Mikrolithographie und Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus dem Werkstoff
WO2008069194A1 (ja) * 2006-12-05 2008-06-12 Shin-Etsu Quartz Products Co., Ltd. 合成不透明石英ガラス及びその製造方法
DE102007017004A1 (de) * 2007-02-27 2008-08-28 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Optisches Bauteil aus synthetischem Quarzglas mit erhöhter Strahlenbeständigkeit, sowie Verfahren zur Herstellung des Bauteils
JP5171098B2 (ja) * 2007-04-24 2013-03-27 岩崎電気株式会社 石英ガラス製品の製造方法、それに用いるシリカ顆粒とその生成方法
DE102009005446A1 (de) * 2009-01-21 2010-07-22 Schott Ag Granulat, Verfahren zu dessen Herstellung sowie dessen Verwendung
KR101246157B1 (ko) * 2010-12-09 2013-03-20 한국세라믹기술원 엔지니어드 스톤의 제조방법
TWI652240B (zh) * 2014-02-17 2019-03-01 日商東曹股份有限公司 不透明石英玻璃及其製造方法
JP6558137B2 (ja) * 2015-08-07 2019-08-14 東ソー株式会社 不透明シリカガラス製造用の高強度成形体
CN108698895A (zh) * 2015-12-18 2018-10-23 贺利氏石英玻璃有限两合公司 在悬挂式烧结坩埚中制备石英玻璃体
CN109153593A (zh) 2015-12-18 2019-01-04 贺利氏石英玻璃有限两合公司 合成石英玻璃粉粒的制备
CN108698894A (zh) * 2015-12-18 2018-10-23 贺利氏石英玻璃有限两合公司 在多腔式烘箱中制备石英玻璃体
TWI733723B (zh) 2015-12-18 2021-07-21 德商何瑞斯廓格拉斯公司 不透明石英玻璃體的製備
CN108698883A (zh) * 2015-12-18 2018-10-23 贺利氏石英玻璃有限两合公司 石英玻璃制备中的二氧化硅的喷雾造粒
WO2017103131A1 (de) 2015-12-18 2017-06-22 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verringern des erdalkalimetallgehalts von siliziumdioxidgranulat durch behandlung von kohlenstoffdotiertem siliziumdioxidgranulat bei hoher temperatur
TW201731781A (zh) * 2015-12-18 2017-09-16 何瑞斯廓格拉斯公司 於豎立式燒結坩堝中製備石英玻璃體
KR20180095619A (ko) 2015-12-18 2018-08-27 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 실리카 유리 제조 동안 규소 함량의 증가
JP2019506349A (ja) * 2015-12-18 2019-03-07 ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー 吊り下げ式金属シート坩堝内での石英ガラス体の調製
KR20180094087A (ko) 2015-12-18 2018-08-22 헤래우스 크바르츠글라스 게엠베하 & 컴파니 케이지 실리카 과립으로부터 실리카 유리 제품의 제조
WO2017103153A1 (de) 2015-12-18 2017-06-22 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Glasfasern und vorformen aus quarzglas mit geringem oh-, cl- und al-gehalt
EP3390303B1 (de) 2015-12-18 2024-02-07 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Herstellung von quarzglaskörpern mit taupunktkontrolle im schmelzofen
JP6940235B2 (ja) 2015-12-18 2021-09-22 ヘレウス クワルツグラス ゲーエムベーハー ウント コンパニー カーゲー 高融点金属の溶融坩堝内での石英ガラス体の調製
EP3185057A1 (de) * 2015-12-22 2017-06-28 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Faseroptische streueinrichtung und herstellungsverfahren dafür
EP3248950B1 (de) * 2016-05-24 2020-08-05 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren zur herstellung eines poren enthaltenden, opaken quarzglases
JP6878829B2 (ja) * 2016-10-26 2021-06-02 東ソー株式会社 シリカ粉末及び高流動性シリカ造粒粉末並びにその製造方法
EP3476815B1 (en) 2017-10-27 2023-11-29 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Production of a porous product including post-adapting a pore structure

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4440104A1 (de) * 1993-11-12 1995-05-18 Heraeus Quarzglas Formkörper aus Quarzglas und Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus Quarzglas
DE4424044A1 (de) * 1994-07-11 1996-01-18 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung von Kieselsäuregranulat und Verwendung des so hergestellten Granulats
EP0816297A1 (en) * 1996-07-04 1998-01-07 Tosoh Corporation Opaque quartz glass and process for production thereof

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1567440B1 (de) 1965-04-29 1971-02-25 Degussa Kugelfoermiges kieselsaeuregranulat
DE2557932A1 (de) * 1975-12-22 1977-06-30 Dynamit Nobel Ag Verfahren zur herstellung von koernigem quarzglas
JPH02219814A (ja) * 1989-02-21 1990-09-03 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物
JPH0326717A (ja) * 1989-06-26 1991-02-05 Sumitomo Bakelite Co Ltd エポキシ樹脂組成物
JPH07138015A (ja) * 1993-06-15 1995-05-30 Catalysts & Chem Ind Co Ltd シリカ微小球状粒子およびその製造方法
JP3368547B2 (ja) * 1994-04-28 2003-01-20 信越石英株式会社 不透明石英ガラスおよびその製造方法
EP0725037B2 (de) * 1995-02-04 2012-04-25 Evonik Degussa GmbH Granulate auf Basis von pyrogen hergestelltem Siliciumdioxid, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
JPH0912325A (ja) * 1995-06-29 1997-01-14 Nitto Chem Ind Co Ltd 高純度不透明石英ガラス及びその製造方法並びにその用途
JP3471514B2 (ja) * 1996-02-01 2003-12-02 水澤化学工業株式会社 半導体封止用樹脂組成物及びそれに用いる吸湿性充填剤
JP3647959B2 (ja) * 1996-02-01 2005-05-18 水澤化学工業株式会社 非晶質シリカ系定形粒子の製造方法
GB2316414B (en) * 1996-07-31 2000-10-11 Tosoh Corp Abrasive shaped article, abrasive disc and polishing method
DE19729505A1 (de) * 1997-07-10 1999-01-14 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung von Si0¶2¶-Granulat
FR2766170B1 (fr) * 1997-07-17 1999-09-24 Alsthom Cge Alcatel Procede ameliore de fabrication d'une poudre de silice

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4440104A1 (de) * 1993-11-12 1995-05-18 Heraeus Quarzglas Formkörper aus Quarzglas und Verfahren zur Herstellung eines Formkörpers aus Quarzglas
DE4424044A1 (de) * 1994-07-11 1996-01-18 Heraeus Quarzglas Verfahren zur Herstellung von Kieselsäuregranulat und Verwendung des so hergestellten Granulats
EP0816297A1 (en) * 1996-07-04 1998-01-07 Tosoh Corporation Opaque quartz glass and process for production thereof

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10243953A1 (de) * 2002-09-21 2004-04-08 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren für die Herstellung eines Bauteils aus opakem Quarzglas
DE10243953B4 (de) * 2002-09-21 2005-11-17 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Verfahren für die Herstellung eines Bauteils aus opakem Quarzglas
DE102004038602B3 (de) * 2004-08-07 2005-12-29 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Elektrogeschmolzenes, synthetisches Quarzglas, insbesondere für den Einsatz in der Lampen- und in der Halbleiterfertigung und Verfahren zur Herstellung desselben
EP3000790A1 (de) 2014-09-29 2016-03-30 Heraeus Quarzglas GmbH & Co. KG Verfahren für die Herstellung von synthetischem Quarzglas aus SiO2-Granulat und geeignetes SiO2-Granulat dafür
US10029938B2 (en) 2014-09-29 2018-07-24 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Method for producing synthetic quartz glass of SiO2 granulate and SiO2 granulate suited therefor

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