DE19833245A1 - Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung - Google Patents
Halbleiter-LichtemissionseinrichtungInfo
- Publication number
- DE19833245A1 DE19833245A1 DE19833245A DE19833245A DE19833245A1 DE 19833245 A1 DE19833245 A1 DE 19833245A1 DE 19833245 A DE19833245 A DE 19833245A DE 19833245 A DE19833245 A DE 19833245A DE 19833245 A1 DE19833245 A1 DE 19833245A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- heat
- resistant
- semiconductor
- light emitting
- semiconductor light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000007787 solid Substances 0.000 title 1
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 62
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 67
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 37
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 37
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 7
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 claims description 6
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 abstract description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003779 heat-resistant material Substances 0.000 abstract description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 abstract 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 abstract 1
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 13
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 9
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 7
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 6
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 5
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 238000002310 reflectometry Methods 0.000 description 4
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 3
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 3
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 2
- 229910021478 group 5 element Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010678 Paulownia tomentosa Nutrition 0.000 description 1
- 240000002834 Paulownia tomentosa Species 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 239000008393 encapsulating agent Substances 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001721 transfer moulding Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 1
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/62—Arrangements for conducting electric current to or from the semiconductor body, e.g. lead-frames, wire-bonds or solder balls
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/52—Encapsulations
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
- H01L2224/451—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
- H01L2224/45138—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
- H01L2224/45144—Gold (Au) as principal constituent
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48257—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a die pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/4911—Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain
- H01L2224/49113—Disposition the connectors being bonded to at least one common bonding area, e.g. daisy chain the connectors connecting different bonding areas on the semiconductor or solid-state body to a common bonding area outside the body, e.g. converging wires
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L24/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/16—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
- H01L25/167—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits comprising optoelectronic devices, e.g. LED, photodiodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01014—Silicon [Si]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01068—Erbium [Er]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01078—Platinum [Pt]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1203—Rectifying Diode
- H01L2924/12035—Zener diode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1203—Rectifying Diode
- H01L2924/12036—PN diode
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/11—Device type
- H01L2924/12—Passive devices, e.g. 2 terminal devices
- H01L2924/1204—Optical Diode
- H01L2924/12041—LED
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Led Device Packages (AREA)
- Led Devices (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
- Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Halbleiter-Lichtemissionseinrich
tung nach Art einer Leuchte, bei der ein Licht emittierendes
Halbleiterplättchen in einem Harz vergossen ist, und bezieht
sich insbesondere auf eine Halbleiter-Lichtemissionseinrich
tung, bei der das Eindringen von Wachs während des Lötens und
von Wasser nach dem Löten zwischen ein Harz-Plastik-Gehäuse
und einen Leiter unterbunden sind.
Herkömmlich wird eine Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung
derart hergestellt, daß ein Licht emittierendes Halbleiter
plättchen 3 (nachstehend in Kurzform als LED-Chip bezeichnet)
mit einer Halbleiter-Schichtstruktur an ein oberes Ende einer
ersten, aus Aluminium oder dergleichen hergestellten Leitung
1 gebondet wird, eine erste Elektrode mit der ersten Leitung
1 verbunden wird, eine zweite Elektrode durch einen Golddraht
4 oder dergleichen mit einer zweiten Leitung 2 verbunden
wird, und eine derartige Anordnung in ein aus einem für das
Licht von dem LED-Chip 3 durchlässigen Harz hergestelltes Ge
häuse 6 eingeschlossen wird, wie in Fig. 9 gezeigt. Dieses
Harzgehäuse oder -paket 6 wird üblicherweise durch Gießen er
zeugt, bei dem eine Anordnung in Harz, das einen kuppel- oder
haubenförmigen Behälter füllt, getaucht wird und das Gehäuse
in eine Form gegossen wird, deren obere Seite kuppelförmig
ist, so daß das Licht gebündelt werden kann. Aus diesem Grund
wird die gesamte Oberfläche des Gehäuses 6 glatt hergestellt
derart, daß weder ein zurückgeschnittenes/hervorragendes Pro
fil auf dessen Oberfläche noch ein Einschluß von Verunreini
gungen in demselben vorhanden sind.
Ein Harzgehäuse einer Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung
dieser Art wurde bisher größtenteils mittels Epoxydharz in
seinem, wobei ein wärmebeständiger Füller oder dergleichen
nicht in das Gehäuse gemischt werden kann, da es erforderlich
ist, daß Licht leicht durch das Gehäuse hindurchtreten kann,
wie vorstehend beschrieben wurde. Daher ist die Wärmebestän
digkeit des Gehäuses gering, es kann höchstens einer Tempera
tur von etwa 100 bis 140°C widerstehen. Infolgedessen beein
trächtigt bei dem Löten einer Lichtemissionseinrichtung Wär
me, die eine Leitung erreicht, Abschnitte in dem unteren Be
reich des Gehäuses 6, welche mit den Leitungen 1, 2 in Berüh
rung stehen, insbesondere nahe einer Lötstelle, wie in Fig. 9
gezeigt, so daß Spalte oder Lücken 9 zwischen den Leitungen
1, 2 und dem Gehäuse 6 ausgebildet werden. Es ergeben sich
Probleme dahingehend, daß während des Lötens Flußmittel oder
dergleichen über die Spalte 9 in das Innere eindringen, so
daß infolgedessen die Leitungen 1, 2 einer Korrosion ausge
setzt sind und auch der LED-Chip 3 und dergleichen korrodie
ren. Außerdem werden solche Spalte 9 zwischen den Leitungen
1, 2 und dem Gehäuse 6, die während des Lötens aufgetreten
sind, nach dem Löten nicht in ihren früheren Zustand wieder
hergestellt, so daß bei der späteren Verwendung der Einrich
tung Wasser eindringen kann, welches die Leitungen 1, 2, den
LED-Chip 3 und dergleichen korrodiert, so daß sich ein Pro
blem verringerter Zuverlässigkeit ergibt.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Halblei
ter-Lichtemissionseinrichtung der eingangs genannten Art zu
schaffen, bei der ein Licht emittierendes Halbleiterplättchen
in einem Harzgehäuse eingeschlossen ist und ein Zustand engen
Kontakts zwischen dem Gehäuse und einer Leitung verbessert
ist, so daß eine Korrosion der Leitung und des LED-Chips ver
hindert und dadurch die Zuverlässigkeit verbessert wird.
Darüber hinaus soll die Erfindung eine Halbleiter-Lichtemis
sionseinrichtung bereitstellen mit einer Struktur, bei der
ein einschließendes Material zum Schützen des LED-Chips als
eine Alternative zu einer Traverse auf einem Leiter-Halterah
men und zum Ausbilden eines tassenförmigen Abschnitts (eines
konkaven Abschnitts mit gekrümmtem Oberflächenverlauf) zum
Bündeln des Lichts von einem LED-Chipabschnitt verwendet
wird, so daß ein Schritt des Schneidens einer Traverse auf
dem Leiter-Halterahmen und ein Schritt des Ausbildens eines
tassenförmigen Abschnitts in einem mit dem Leiter-Halterahmen
gekoppelten Zustand eliminiert werden können.
Ferner soll die Erfindung eine Halbleiter-Lichtemissionsein
richtung bereitstellen mit einer Struktur, bei der auch dann,
wenn ein Gehäuse durch Gießen erzeugt wird, keine Blasen
durch die Verwendung des einschließenden Materials zum Schüt
zen des LED-Chips und dergleichen auftreten.
Die vorstehende Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die in Pa
tentanspruch 1 angegebenen Merkmale gelöst.
Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand
der beigefügten Unteransprüche.
Gemäß einem Gesichtspunkt der Erfindung ist somit eine Halb
leiter-Lichtemissionseinrichtung gekennzeichnet durch: eine
erste Leitung; ein Licht emittierendes Halbleiterplättchen,
das auf einen Die-Anschlußabschnitt der ersten Leitung gebon
det ist; eine zweite Leitung, die elektrisch mit einer Elek
trode des Licht emittierenden Halbleiterplättchens verbunden
ist; ein Harzgehäuse, das das Licht emittierende Halbleiter
plättchen und ein oberes Ende der zweiten Leitung einschließt
und Licht von dem Licht emittierenden Halbleiterplättchen
durchläßt; und ein wärmeresistentes Einschlußmaterial, wel
ches wenigstens einen Teil der ersten und der zweiten Leitung
einschließt.
Das wärmeresistente Einschlußmaterial bedeutet hier ein Mate
rial, das eine Wärmebeständigkeit hat, die höher ist als die
jenige des Harzgehäuses, und das an einer Leitung anhaftet
und dadurch die Leitung auf geeignete Art und Weise umschlie
ßen bzw. einschließen kann; es können beispielsweise PPS
(Polyphenylensulfid), ein ein Flüssigkristall ausbildendes
Polymer, ein wärmeresistentes Material, das ein warmaushär
tendes Harz enthält, und dergleichen als wärmeresistentes
Einschlußmaterial verwendet werden.
Mit einer solchen Struktur hat auch dann, wenn die Möglich
keit besteht, daß ein unterseitiger Abschnitt bzw. Bodenab
schnitt des Harzgehäuses, mit dem Leitungen, deren Temperatu
ren während des Lötkontakts ansteigen, in Berührung stehen,
einer Trennung unterworfen ist, ein Teil, der von einem aus
einem wärmeresistenten Harz oder dergleichen bestehenden Ein
schlußmaterial umschlossen ist, keine Möglichkeit der Abtren
nung, wodurch verhindert werden kann, daß Verunreinigungen,
Wasser und dergleichen in das Innere der Einrichtung eindrin
gen.
Wenn das Licht emittierende Halbleiterplättchen durch eine
geschichtete Struktur eines auf Galliumnitrid basierenden zu
sammengesetzten Halbleiters bzw. Verbundhalbleiters ausgebil
det ist, ergibt sich eine Wirkung dahingehend, daß verhindert
wird, daß insbesondere ein Schutzelement wie beispielsweise
eine Zener-Diode oder dergleichen, bei dem eine hohe Wahr
scheinlichkeit besteht, daß es an der unteren Seite einer
Leitung bereitgestellt ist, korrodiert. Galliumnitrid-basier
te zusammengesetzte Halbleitereinrichtung bedeutet einen
Halbleiterverbund zwischen Ga aus den Gruppe III-Elementen
und N aus der Gruppe V oder einen Halbleiterverbund, bei dem
ein Teil des Galliums aus den Gruppe III-Elementen durch ein
Element der anderen Gruppe III-Elemente wie beispielsweise
Al, In und dergleichen ersetzt ist und/oder ein Teil des N
aus den Gruppe V-Elementen durch ein Element aus den anderen
Gruppe V-Elementen wie beispielsweise P, As oder dergleichen
ersetzt ist.
Wenn das wärmeresistente Einschlußmaterial zwischen der er
sten und der zweiten Leitung auf kontinuierliche Art und Wei
se entlang einer beide Leitungen querenden Richtung bereitge
stellt ist und das wärmeresistente Einschlußmaterial als eine
Alternative zu einer Traverse, die beide Leitungen bei der
Zusammenfügung koppelt, dient, ergibt sich, daß sich das
(Ab-)Schneiden der Traverse von einem Leiter-Halterahmen nach
der Herstellung des Gehäuses erübrigt.
Das wärmeresistente Einschlußmaterial ist bevorzugt derart
geformt, daß es um eine geringe Länge kürzer ist als ein äu
ßerer Durchmesser des Harzgehäuses, da nicht nur Luft leicht
entweichen kann, wenn die Gehäuseherstellung durch Gießen er
folgt, sondern auch die Anordnung durch eine feste bzw. wi
derstandsfähige Beschichtung des Gehäuseharzes geschützt
werden kann.
Wenn das wärmeresistente Einschlußmaterial eine Form mit ei
nem schrägen Verlauf hat derart, daß es auf der Seite des
Licht emittierenden Chips dünn, auf der Unterseite des Harz
gehäuses aber dick ist, oder wenn von Ende zu Ende entlang
einer axialen Richtung der ersten und der zweiten Leitung ei
ne Nut auf der äußeren Oberfläche der Form des wärmeresisten
ten Einschlußmaterials ausgebildet ist, können nur schwer
Blasen in dem Gehäuse auftreten, da die Blasen durch das wär
meresistente Einschlußmaterial nicht am Entweichen gehindert
werden und dadurch leicht entfleuchen können, wenn das Gehäu
se durch Gießen gegossen wird.
Wenn ein Teil des wärmeresistenten Einschlußmaterials eine
krumm verlaufende Fläche bildet, die einen Die-Anschlußab
schnitt der ersten Leitung umgibt, braucht ein tassenförmiger
Abschnitt (ein konkaver Abschnitt mit einem gekrümmten Ober
flächenverlauf) nicht in einem mit einem Leiter-Halterahmen
gekoppelten Zustand ausgebildet zu werden, so daß daher ein
komplexer Schritt der Erzeugung eines konkaven Abschnitts mit
einem gekrümmten Oberflächenverlauf in dem Leiter-Halterahmen
nicht erforderlich ist, welches zu einer Verringerung der An
zahl von Arbeitstagen in großem Ausmaß führt. Wenn das wärme
resistente Einschlußmaterial weißfarbig ausgebildet ist, wird
der Anteil des von der vorderen Oberfläche abgestrahlten
Lichts aufgrund einer Reflexion an der unteren Oberfläche
vorteilhaft erhöht.
Wenn ein zurückgeschnittener/hervorragender Profilabschnitt
auf der äußeren Fläche der Struktur des wärmeresistenten Ein
schlußmaterials entlang den axialen Richtungen der ersten und
der zweiten Leitung ausgebildet und das Harzgehäuse derart
bereitgestellt ist, daß es das zurückgeschnittene/hervorra
gende Profil auf der äußeren Oberfläche kopiert, während es,
beispielsweise, eine Ausnehmung füllt, wird der Zustand des
engen Kontakts des wärmeresistenten Einschlußmaterials und
des Gehäuses miteinander vorteilhaft verbessert.
Wenn das wärmeresistente Einschlußmaterial nahezu über der
gesamten unteren Fläche des Harzgehäuses bereitgestellt ist,
wird der Nutzwirkungsgrad des Lichts weiter erhöht.
Die Erfindung wird nachstehend anhand bevorzugter Ausfüh
rungsbeispiele unter Bezugnahme auf die beigefügte Zeichnung
näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 einen Teilquerschnitt zum Veranschaulichen eines er
sten Ausführungsbeispiels einer Halbleiter-Lichtemissionsein
richtung;
Fig. 2 eine Seitenansicht zum Veranschaulichen eines zweiten
Ausführungsbeispiels der Halbleiter-Lichtemissionseinrich
tung;
Fig. 3 eine Ansicht zum Veranschaulichen eines dritten Aus
führungsbeispiels der Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung;
Fig. 4 eine Ansicht zum Veranschaulichen eines vierten Aus
führungsbeispiels der Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung;
Fig. 5(a) und 5(b) Anrichten zum Veranschaulichen eines fünf
ten Ausführungsbeispiels der Halbleiter-Lichtemissionsein
richtung;
Fig. 6 eine Ansicht zum Veranschaulichen eines sechsten Aus
führungsbeispiels der Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung;
Fig. 7 ein Querschnitt zum Veranschaulichen eines Beispiels
des LED-Chips gemäß Fig. 1;
Fig. 8(a) und 8(b) Ansichten zum Veranschaulichen des Falles,
in dem eine Anordnung auf einem Leiter-Halterahmen durch Gie
ßen vergossen wird.
Fig. 9 eine Ansicht zum Veranschaulichen eines Beispiels ei
ner auf herkömmliche Art und Weise ausgeführten Trennung zwi
schen Leitungen und einem Gehäuse durch Wärme von einem her
kömmlichen Halbleiter-Lichtemissionseinrichtungschip.
Eine Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung gemäß Fig. 1 hat
einen Aufbau, bei dem ein oberes Ende einer ersten Leitung 1
mit einer Leuchtdiode bzw. LED 3 verbondet ist, eine von
Elektroden elektrisch mit der ersten Leitung 1 verbunden ist,
die andere der Elektroden durch einen Golddraht 4 elektrisch
mit der anderen Leitung 2 verbunden ist, und die Anordnung
von einem Harzgehäuse 6, das für Licht von einem LED-Chip
durchlässig ist, umschlossen wird. Außerdem sind wenigstens
Teile der ersten und der zweiten Leitung 1, 2 jeweils von ei
nem wärmeresistenten Einschluß- oder Hüllmaterial 7 entlang
vorbestimmter Längen beider Leitungen an der Unterseite des
Gehäuses 6, die der Lichtemissionsfläche (welche Fläche sich
auf der Bondseite des LED-Chips 3 des Gehäuses 6 befindet und
die Form einer Kuppel hat) umschlossen. In dem Beispiel gemäß
Fig. 1 ist ein Schutzelement zum Schutz des LED-Chips 3, wie
beispielsweise ein Zener-Dioden-Chip 5, zwischen der ersten
und der zweiten Leitung 1, 2 eingefügt und mit einer zu der
des LED-Chips 3 umgekehrten Polarität verschaltet.
Die erste und die zweite Leitung 1, 2 sind aus einer etwa 0,4
bis 0,5 mm dicken und aus Eisen oder Kupfer durch Stanzen
hergestellten Platte hergestellt, und das obere Ende der er
sten Leitung 1 wird einem Preßvorgang mit einem konusförmigen
Formeisen unterzogen, um dadurch eine tassenförmige Ausneh
mung 11 auszubilden. Die Ausnehmung 11 wird durch Pressen er
zeugt, so daß daher das obere Ende von einer Form ist derart,
daß der Randabschnitt zylinderförmig erweitert ist, während
der untere Abschnitt der Ausnehmung 11 eine flache Oberflä
che, wie sie die ursprüngliche Platte aufwies, beibehält, so
daß der gesamte Abschnitt das Profil eines nach oben offenen
Vierecks bzw. Rechtecks hat. In den Herstellungsstufen werden
die unteren Enden der ersten und der zweiten Leitung 1, 2 mit
einem Leiter-Halterahmen über dessen Rahmenabschnitt gekop
pelt.
Das wärmeresistente Einschlußmaterial 7 besteht aus bei
spielsweise PPS, und die erste und die zweite Leitung 1, 2
werden in einem mit dem Leiter-Halterahmen gekoppelten Zu
stand in beispielsweise eine Spritzgußform mit einer ge
wünschten äußeren Form des wärmeresistenten Einschlußmateri
als 7 eingesetzt, so daß Teile der jeweiligen Leitungen 1, 2,
die später an der Unterseite des Harzgehäuses 6 anzuordnen
sind, in der Form plaziert werden; dann wird PPS aus warmaus
härtendem Harz in die Form eingespritzt, um die Elemente des
wärmeresistenten Einschlußmaterials 7 herzustellen. Die
Strukturen des wärmeresistenten Einschlußmaterials 7 können
in Übereinstimmung mit der Form der Gußform frei in beliebi
gen Formen gegossen werden, und, wie in Fig. 1 gezeigt, die
Leitungen 1, 2 werden getrennt mit einem Querschnitt in Form
eines Kreises, einer Ellipse, eines Rechtecks oder derglei
chen ausgebildet.
Der LED-Chip 3 wird als blaues (ultraviolett bis gelb abdec
kendes) Licht emittierendes Halbleiterplättchen mit einem
Querschnitt, wie er in einem Beispiel gemäß Fig. 7 gezeigt
ist, hergestellt. D.h., das Licht mit einer blauen Farbe
emittierende Halbleiterplättchen wird derart hergestellt, daß
auf einem aus Saphir (Al2O3-Einkristall) hergestellten Sub
strat 31 beispielsweise die folgenden Schichten aufeinander
folgend mit den jeweiligen Dicken gestapelt sind: eine Nied
rigtemperatur-Pufferschicht 32, hergestellt aus GaN, mit ei
ner Dicke in der Größenordnung von 0,01 bis 0,2 µm, eine
n-Hüllschicht 33 mit einer Dicke in der Größenordnung von etwa
1 bis 5 µm, eine aktive Schicht 34 mit einer Dicke in der
Größenordnung von 0,05 bis 0,3 µm und bestehend aus einem auf
InGaN basierenden zusammengesetzten Halbleiter bzw. Verbund-
Halbleiter (wobei das Verhältnis zwischen In und Ga auf ver
schiedenartige Weise festgelegt sein kann; dies gilt für die
restliche Beschreibung), und eine p-Hüllschicht 35 mit einer
Dicke in der Größenordnung von 0,2 bis 1 µm und bestehend aus
einem auf AlGaN basierenden zusammengesetzten Halbleiter bzw.
Verbund-Halbleiter 35a (wobei das Verhältnis zwischen Al und
Ga auf verschiedenartige Weise festgelegt sein kann; dies
gilt für die restliche Beschreibung) und einer GaN-Schicht
35b, und eine p-seitige Elektrode 38 ist mit einer Stromdif
fusionsschicht 37, die zwischen der Elektrode 38 und der
Halbleiterschichtstruktur angeordnet ist, ausgebildet. Außer
dem sind Teile der auf diese Art und Weise gestapelten Halb
leiterschichten 33 bis 35 entfernt, um die n-Schicht 33 frei
zulegen, und ist eine n-seitige Elektrode 39 auf der
n-Schicht 33 bereitgestellt.
Der Zener-Dioden-Chip 5 ist üblicherweise aus einem Silizium-
Halbleiter hergestellt; dieses Element nutzt eine Erscheinung
dahingehend, daß dann, wenn eine große Sperrspannung an einen
pn-Übergang in einem Halbleiter mit einer hohen Verunreini
gungskonzentration angelegt wird, Elektronen durch einen Tun
neleffekt über den pn-Übergang fließen. Die Spannung (Zener-
Spannung), bei der ein Sperrstrom zu fließen beginnt, wird
durch die Verunreinigungskonzentration des pn-Übergangs fest
gelegt. Daher wird dann, wenn die Zener-Spannung auf einen
Wert höher als die Arbeitsspannung des LED-Chips 3 festgelegt
ist und die erste und die zweite Leitung durch den LED-Chip 3
und den Zener-Dioden-Chip 5, die mit einander entgegengesetz
ten Richtungen parallel angeordnet sind, verbunden sind, der
Betrieb des LED-Chips 3 nicht behindert.
Der LED-Chip 3 und der Zener-Dioden-Chip 5 sind jeweils an
die Ausnehmung 11 und einen Die-Anschlußabschnitt 12 der er
sten Leitung, die mit dem wärmeresistenten Einschlußmaterial
7 versehen ist, unter Verwendung eines Klebstoffs wie bei
spielsweise Silberpaste oder dergleichen gebondet. Die
n-seitige und die p-seitige Elektrode 39, 38 (vgl. Fig. 7) sind
jeweils durch Golddrähte 4 mit der ersten und der zweiten
Leitung 1, 2 verbunden, und eine negative Elektrode (d. h.
eine mit der n-Schicht verbundene Elektrode) des Zener-Di
oden-Chips 5 ist durch einen Golddraht 4 mit der zweiten Lei
tung 2 verbunden, so daß die elektrischen Anschlüsse zwischen
den Elektroden und den Leitungen vollständig sind. In einem
Herstellungsprozeß wird der LED-Chip 3 einer Die-Kontaktie
rung und einer Draht-Kontaktierung mit einem eine vertikale
Position einnehmenden Leiter-Halterahmen unterzogen, und dann
wird der Zener-Dioden-Chip 5 einer Die-Kontaktierung und ei
ner Draht-Kontaktierung mit einem eine horizontale Position
einnehmenden Leiter-Halterahmen unterzogen. Eine positive
Elektrode (d. h. eine mit einer p-Schicht verbundene Elektro
de) des Zener-Dioden-Chips 5 ist mittels einem leitenden
Klebstoff elektrisch direkt mit der ersten Leitung 1 verbun
den. In einem weiteren Herstellungsprozeß wird das Gehäuse 6
unter Verwendung transparenten oder milchig-weißen Epoxyd-
Harzes, welches für von dem LED-Chip 3 emittiertes Licht
durchlässig ist, gegossen und dadurch eine Halbleiter-Licht
emissionseinrichtung gemäß der Erfindung, die in Fig. 1 ge
zeigt ist, erhalten.
Das Gehäuse 6 wird in eine kuppelförmige Form gegossen, um
auf der Lichtemissionsseite eine konvexe Linse auszubilden,
wodurch eine Licht emittierende Einrichtung nach Art einer
Leuchte oder Lampe erhalten wird.
In Übereinstimmung mit der erfindungsgemäßen Halbleiter-
Lichtemissionseinrichtung sind wenigstens Teile der ersten
und der zweiten Leitung 1, 2 bzw. stärker bevorzugt die Ba
sisabschnitte der ersten und der zweiten Leitung 1, 2, die
sich an der Unterseite des Harzgehäuses 6 befinden, von dem
wärmeresistenten Material 7 umschlossen. Wenn daher eine
Licht emittierende Einrichtung auf ein gedrucktes Substrat
oder dergleichen gelötet wird, oder wenn eine Leitung mit ei
nem Lotüberzug versehen wird, besteht auch dann, wenn die
Temperatur der Leitung durch die Wärme erhöht wird, keine Ge
fahr, daß die Leitung und das wärmeresistente Einschlußmate
rial durch Wärme voneinander getrennt werden. Infolgedessen
besteht keine Möglichkeit, daß die Leitung, der LED-Chip, der
Schutzchip und dergleichen korrodieren oder durch Eindringen
eines Flußmittels in einem Zwischenraum der Einrichtung kurz
geschlossen werden, wenn ein Lötvorgang durchgeführt wird,
und danach Wasser in die Einrichtung als Produkt eindringt,
wodurch die Zuverlässigkeit stark verbessert wird.
Eine Zener-Diode ist in der Einrichtung parallel zu dem
LED-Chip vorgesehen, mit einer Polarität der Zener-Diode, die zu
derjenigen des LED-Chips umgekehrt bzw. entgegengesetzt ist,
so daß dadurch mit Anlegen einer Rückwärts- bzw. Sperrspan
nung, oder Anlegen einer Stoßspannung, obwohl in der Vor
wärts- bzw. Durchlaßrichtung oder dergleichen, die Zener-Di
ode als Nebenschluß wirkt, um den LED-Chip zu schützen. Aus
diesem Grund ist die Wirkung dieser Art in dem Fall eines
blauen LED-Chips, bei dem ein auf Galliumnitrid basierender
Verbund-Halbleiter verwendet wird, der gegenüber dem Anlegen
einer Sperrspannung oder einer hohen Spannung in der Durch
laßrichtung schwach ist, groß.
Fig. 2 ist eine Ansicht zum Veranschaulichen eines zweiten
Ausführungsbeispiels der Halbleiter-Lichtemissionseinrich
tung. In diesem Beispiel ist eine Struktur aus wärmeresisten
tem Einschlußmaterial 7 mit einer Länge, die etwas kürzer als
der äußere Durchmesser eines Harzgehäuses 6 ist, so an der
Unterseite des Gehäuses 6 ausgebildet, daß eine erste Leitung
1 und eine zweite Leitung 2 durch die Struktur aus wärmeresi
stentem Einschlußmaterial 7 gekoppelt sind. Das wärmeresi
stente Einschlußmaterial 7 ist in der Form eines rechteckför
migen Parallelepipeds (in Wirklichkeit mit dem Querschnitt
eines Polygons) ausgebildet, dessen Dicke (d. h. eine Dicke,
die die Leitungen 1, 2 beinhaltet) in einer Richtung von der
Vorderseite hin zu der Rückseite des Blatts, auf das Fig. 2
gezeichnet ist, so festgelegt ist, daß sich ein Wert von etwa
0,2 mm in Tiefenrichtung bis zu jeder Oberfläche der ersten
und zweiten Leitung 1, 2 ergibt. Die Struktur des wärmeresi
stenten Einschlußmaterials 7 wird ebenfalls durch Spritzgie
ßen oder dergleichen auf eine zu der vorstehenden Beschrei
bung ähnliche Art und Weise und noch immer unter der Bedin
gung der Verwendung eines Leiter-Halterahmens gegossen. Wenn
die beiden Leitungen 1, 2 durch ein derartiges wärmeresisten
tes Einschlußmaterial 7 mit einer Dicke, die nahezu gleich
der des Leiter-Halterahmens ist, gekoppelt sind, kann das
wärmeresistente Einschlußmaterial 7 als Alternative zu einer
Traverse, die herkömmlich an den Leitungen 1, 2 an Positionen
in Richtung deren oberer Enden und beabstandet zu einem Rah
men 8 des Leiter-Halterahmens zum Verhindern des Auftretens
einer Schwankung des Abstands zwischen den oberen Enden der
einzelnen Leitungen oder eines Leckens von Gießharz bei dem
Gießen eines Harzgehäuses angebracht wird, dienen. Infolge
dessen können zusätzliche Vorgänge wie beispielsweise das Ab
schneiden der Traverse und dergleichen nach der Vervollstän
digung des Gehäuses 6 eliminiert werden.
In diesem Beispiel ist die Struktur des wärmeresistenten Ein
schlußmaterials 7 um eine geringe Länge kürzer ausgebildet
als der äußere Durchmesser des Gehäuses 6, so daß dadurch ei
ne Entlüftung vorteilhaft bei dem Ausformen des Gehäuses 6
durch Gießen durchgeführt werden kann. In dem Fall des
Spritzpreßverfahrens jedoch kann das Ausformen auf eine Art
und Weise ausgeführt werden derart, daß der äußere Durchmes
ser des Gehäuses 6 und die Länge des Rahmens gleich sind.
Fig. 3 ist eine Ansicht zum Veranschaulichen eines dritten
Ausführungsbeispiel der Halbleiter-Lichtemissionseinrich
tung. In dem Fall, in dem ein Gehäuse 6 durch Gießen ausge
formt wird, bleiben, da eine aus einem LED-Chip und einem
nicht gezeigten Schutzelement und dergleichen auf einem Lei
ter-Halterahmen aufgebaute Anordnung 20, wie sie in Fig. 8(a)
gezeigt ist, mit der Oberseite nach unten in einen mit Harz
22 gefüllten Behälter 21 eingelegt wird, wie in Fig. 8(b) ge
zeigt, und das Harz ausgehärtet wird, Blasen 23, die erzeugt
werden, wenn die Anordnung 20 in das Harz 22 eingelegt wird,
in dem Harz 22 erhalten, da der Weg nach außen durch die
Struktur aus wärmeresistentem Einschlußmaterial 7 versperrt
ist. Die Blasen 23 verschlechtern das Aussehen und wirken
sich nachteilig auf die Homogenität der Lichtemission aus, so
daß eine geeigneter Zustand, in dem die Blasen entweichen
können, erforderlich ist. Um dieses Problem zu lösen, werden
die obere Seite (die zum LED-Chip hin gerichtete Seite) des
wärmeresistenten Einschlußmaterials 7 in der Breitenrichtung
verengt und die untere Seite desselben in der Breitenrichtung
verbreitert, so daß eine Schräge entlang der Seite ausgebil
det wird, wodurch die Blasen, die das wärmeresistente Ein
schlußmaterial 7 erreichen, leicht weiter nach oben (Ober
seite nach unten beim Gießen) entweichen können. Diese Schrä
ge ist nur erforderlich, um die Blasen 23 in dem Behälter 21
nach oben entweichen zu lassen, so daß deren Oberfläche im
Querschnitt nicht nur gerade, sondern auch konvex oder konkav
gekrümmt sein darf.
Ein in Fig. 4 gezeigtes Beispiel ist ein Beispiel, bei dem
die Erzeugung von Blasen bei dem Gießen verhindert wird, und
während keine Schräge an dem wärmeresistenten Einschlußmate
rial 7 vorgesehen ist, sind konkave Abschnitte 7b ausgebil
det, so daß dadurch ein wirksamer Bereich der vertikalen
Oberfläche zum Einfangen der Blasen so weit als möglich ver
ringert wird und gleichzeitig unterstützt wird, daß die Bla
sen entweichen. D. h., falls viele solcher konkaver Abschnit
te ausgebildet sind, bewegt sich Harz entlang der konkaven
Abschnitte 7b, wodurch Blasen mit Hilfe der konkaven Ab
schnitte 7b entweichen können, wenn die Anordnung zum Gießen
in das Harz getaucht wird.
Fig. 5(a) und 5(b) sind Ansichten zum Veranschaulichen eines
fünften Ausführungsbeispiels der Halbleiter-Lichtemissions
einrichtung. Dieses Beispiel zeigt den Fall, in dem eine ge
krümmte Oberfläche 71, die einen Die-Anschlußabschnitt, an
dem ein LED-Chip 3 einer Die-Kontaktierung unterzogen wird,
umgibt, aus wärmeresistentem Einschlußmaterial 7 erzeugt ist,
wie dies in einer perspektivischen Ansicht gemäß Fig. 5(a)
und in einem veranschaulichenden Querschnitt gemäß Fig. 5(b)
gezeigt ist. D. h., da das wärmeresistente Einschlußmaterial
7 wie vorstehend beschrieben durch Gießen wie beispielsweise
Spritzgießen erzeugt wird, ist nur erforderlich, daß eine ge
krümmte Oberfläche in einer für das Gießen verwendeten Guß
form ausgebildet wird, damit die gekrümmte Oberfläche 71 nach
Art einer Tasse als ein Körper bzw. einstückig mit dem wärme
resistenten Einschlußmaterial 7 erzeugt wird. Das Bonden des
LED-Chips 3 und dergleichen nach dem Gießen des wärmeresi
stenten Einschlußmaterials 7 in der Form der gekrümmten Ober
fläche 71 und die nachfolgenden Herstellungsschritte sind
dieselben wie diejenigen in dem in Fig. 1 gezeigten Beispiel.
Infolgedessen kann ein großer Nutzen erhalten werden, da kei
ne Notwendigkeit besteht, eine Traverse von den Leitungen 1,
2 loszuschneiden und eine Ausnehmung mit einer gekrümmten
Oberfläche der oberen Enden der Leitung 1 zu erzeugen, und
kann insbesondere ein komplexer Schritt des Erzeugens einer
Ausnehmung an dem oberen Ende der Leitung 1 in einem mit dem
Leiter-Halterahmen gekoppelten Zustand weggelassen werden. In
diesem Fall kann dann, wenn keine Anbringung des wärmeresi
stenten Einschlußmaterials 7 an den oberen Enden der Leitun
gen 1, 2 sicherzustellen bzw. erforderlich ist, der LED-Chip
3 für den elektrischen Anschluß direkt auf eines der beiden
oberen Enden gebondet werden, wenn eine der Elektroden des
LED-Chips 3 so ausgestaltet ist, daß sie an dessen Rückseite
herausgeführt wird. Es wird bevorzugt, daß ein weißer Füller
in das wärmeresistente Einschlußmaterial 7 gemischt wird, um
eine weiße Färbung zu erhalten, wodurch das Lichtreflexions
vermögen auf der gekrümmten Oberfläche 71 erhöht werden kann.
Wenn beispielsweise angenommen wird, daß das Reflexionsvermö
gen auf einer weißen Farbe 1,0 ist, zeigt Silber ein Refle
xionsvermögen in der Größenordnung von 0,6 bis 0,7, so daß
daher das Reflexionsvermögen durch Weißmachen des wärmeresi
stenten Einschlußmaterials 7 stark verbessert wird. Außerdem
werden, weil die erste und die zweite Leitung 1, 2 im Ver
gleich zu dem herkömmlichen Fall an Positionen näher an den
oberen Enden fest gehalten werden, die beiden oberen Enden
auch während einer Ultraschall-Reinigung, wenn ein Drahtkon
taktiervorgang ausgeführt wird, fest fixiert, wodurch der Ar
beitswirkungsgrad bei der Die-Kontaktierung und der Draht-
Kontaktierung in hohem Maße verbessert werden.
Ein in Fig. 6 gezeigtes Beispiel ist ein Beispiel, bei dem
ein zurückgeschnittener/hervorragender Abschnitt 7a auf der
Oberfläche von Strukturen aus wärmeresistentem Einschlußmate
rial 7 ausgebildet ist; mit der Erzeugung eines solchen zu
rückgeschnittenen/hervorragenden Abschnitts 7a auf der Ober
fläche wird das Zusammenhaften mit einem umgebenden Gehäuse 6
stark verbessert und dadurch nicht nur das Eindringen von
Flußmittel bei der Ausführung eines Lötvorgangs, sondern auch
von Wasser und dergleichen über einen Übergang zwischen dem
Gehäuse 6 und dem wärmeresistenten Einschlußmaterial 7 ver
hindert.
Während in den vorstehenden Beispielen PPS als wärmeresisten
tes Einschlußmaterial verwendet wird, ist klar, daß das wär
meresistente Einschlußmaterial nicht auf PPS beschränkt ist,
sondern wärmeresistente warmaushärtende Harze wie beispiels
weise ein Flüssigkristall bildendes Polymer, ein durch Mi
schen mit wärmeresistentem Füller in Bezug auf die Wärmeresi
stenz verbessertes Epoxydharz und dergleichen verwendet wer
den können. Das Erfordernis der Wärmeresistenz besteht nur,
um einer bei dem Löten auftretenden Temperatur zu widerste
hen, so daß daher eine Wärmeresistenz gegenüber 220°C oder
höher bevorzugt wird. Wenn warmaushärtendes Harz verwendet
wird, kann zu diesem Zweck anstelle des Spritzgießens auch
ein Vergießen unter Verwendung einer Gußform wie vorstehend
beschrieben durchgeführt werden. Auch kann nahezu der gesamte
Bodenbereich des Gehäuses 6, dessen Querschnitt rundförmig
ist, aus dem wärmeresistenten Einschlußmaterial 7 hergestellt
werden. In diesem Fall wird dann, wenn der Boden bzw. die Un
terseite eine Farbe mit hohem Reflexionsvermögen hat, wie
beispielsweise die Farbe Weiß, auf die Unterseite gerichtetes
Licht an dem Boden reflektiert und dann nach oben zurückge
lenkt, welches zu einer wirksamen Nutzung des emittierten
Lichts führt.
In Übereinstimmung mit den vorstehend beschriebenen Ausfüh
rungsbeispielen kann die Wärmeresistenz an einer Verbindungs-
oder Fügestelle zwischen einer Leitung und einem Gehäuse ver
bessert werden, tritt in den Fällen des Lötens und derglei
chen keine Trennung bzw. kein Loslösen voneinander aufgrund
erhöhter Temperaturen auf, und kann darüber hinaus nicht nur
das Eindringen von Flußmittel bei der Ausführung des Lötvor
gangs, sondern auch das Eindringen von Wasser bei der prakti
schen Verwendung vermieden werden. Infolgedessen kann eine
Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung mit hoher Zuverlässig
keit erhalten werden.
Darüber hinaus kann durch die Verwendung eines wärmeresisten
ten Einschlußmaterials als eine Alternative zu einer Traverse
ein Schritt eines Herstellungsprozesses wie beispielsweise
das Abschneiden der Traverse oder dergleichen entfallen.
Durch Vorsehen eines wärmeresistenten Einschlußmaterials, an
dessen äußerer Oberfläche ein zurückgeschnittenes/hervorra
gendes Profil ausgebildet ist, wird das Anhaften des Gehäuses
bzw. die Verbindung mit dem Gehäuse verbessert, wodurch die
Zuverlässigkeit weiter verbessert wird.
Durch die Ausbildung einer einen LED-Chip umgebenden gekrümm
ten Oberfläche unter Verwendung wärmeresistenten Einschlußma
terials kann ein komplexer Schritt des Erzeugens des gekrümm
ten Abschnitts in einem mit einem Leiter-Halterahmen gekop
pelten Zustand eliminiert werden, welches die Kosten verrin
gert. Ferner kann die Auslenkung des oberen Endes einer Lei
tung verhindert und dadurch die Bearbeitbarkeit bei der Die-
Kontaktierung und der Draht-Kontaktierung verbessert werden.
Wie vorstehend beschrieben wurde, wird eine Halbleiter-Licht
emissionseinrichtung erhalten, bei der ein Licht emittieren
des Halbleiterplättchen auf eine erste Leitung gebondet und
eine zweite Leitung elektrisch mit einer Elektrode des Licht
emittierenden Halbleiterplättchens verbunden sind. Ferner
sind das Licht emittierende Halbleiterplättchen und das obere
Ende der zweiten Leitung von Harz, das für Licht von dem
Licht emittierenden Halbleiterplättchen durchlässig ist, um
schlossen. Die erste und die zweite Leitung sind jeweils ent
lang vorbestimmter Längen beider Leitungen an der Unterseite
des Gehäuses, die der Licht emittierenden Fläche gegenüber
liegt, von einem wärmeresistenten Einschlußmaterial umschlos
sen. Infolgedessen wird das Anhaften zwischen dem Harzgehäuse
und den Leitungen verbessert und dadurch verhindert, daß eine
Korrosion der Leitungen und des Licht emittierenden Halblei
terplättchens in dem Gehäuse auftritt, wodurch die Zuverläs
sigkeit verbessert wird.
Claims (10)
1. Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung, gekennzeichnet
durch:
eine erste Leitung (1);
ein Licht emittierendes Halbleiterplättchen (3), das auf einen Die-Anschlußabschnitt der ersten Leitung (1) gebondet ist;
eine zweite Leitung (2), die elektrisch mit einer Elek trode des Licht emittierenden Halbleiterplättchens (3) ver bunden ist;
ein Harzgehäuse (6), das das Licht emittierende Halblei terplättchen (3) und ein oberes Ende der zweiten Leitung (2) einschließt und Licht von dem Licht emittierenden Halbleiter plättchen (3) durchläßt; und
ein wärmeresistentes Einschlußmaterial (7), welches we nigstens einen Teil der ersten (1) und der zweiten (2) Lei tung einschließt.
eine erste Leitung (1);
ein Licht emittierendes Halbleiterplättchen (3), das auf einen Die-Anschlußabschnitt der ersten Leitung (1) gebondet ist;
eine zweite Leitung (2), die elektrisch mit einer Elek trode des Licht emittierenden Halbleiterplättchens (3) ver bunden ist;
ein Harzgehäuse (6), das das Licht emittierende Halblei terplättchen (3) und ein oberes Ende der zweiten Leitung (2) einschließt und Licht von dem Licht emittierenden Halbleiter plättchen (3) durchläßt; und
ein wärmeresistentes Einschlußmaterial (7), welches we nigstens einen Teil der ersten (1) und der zweiten (2) Lei tung einschließt.
2. Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß das Licht emittierende Halblei
terplättchen (3) durch eine geschichtete Struktur (31 bis 37)
eines auf Galliumnitrid basierenden zusammengesetzten Halb
leiters ausgebildet ist.
3. Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß das wärmeresistente Einschlußma
terial (7) zwischen der ersten (1) und der zweiten (2) Lei
tung auf kontinuierliche Art und Weise entlang einer beide
Leitungen querenden Richtung bereitgestellt ist, und das wär
meresistente Einschlußmaterial (7) als eine Alternative zu
einer Traverse, die beide der Leitungen (1, 2) bei der Zusam
menfügung koppelt, dient.
4. Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß das wärmeresistente Einschlußma
terial (7) derart geformt ist, daß es um eine geringe Länge
kürzer ist als ein äußerer Durchmesser des Harzgehäuses (6).
5. Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß das wärmeresistente Einschlußma
terial (7) eine Form mit einem schrägen Verlauf hat derart,
daß es auf der Seite des Licht emittierenden Halbleiterplätt
chens (3) dünn, auf der Unterseite des Harzgehäuses (6) aber
dick ist.
6. Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet, daß von Ende zu Ende entlang einer
axialen Richtung der ersten (1) und der zweiten (2) Leitung
eine Nut auf der äußeren Oberfläche der Form des wärmeresi
stenten Einschlußmaterials (7) ausgebildet ist.
7. Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Teil des wärmeresistenten
Einschlußmaterials (7) eine krumm verlaufende Fläche (71)
bildet, die einen Die-Anschlußabschnitt der ersten Leitung
(1) umgibt.
8. Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung nach Anspruch 7,
dadurch gekennzeichnet, daß das wärmeresistente Einschlußma
terial (7) weißfarbig ausgebildet ist.
9. Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß ein zurückgeschnittener/hervor
ragender Profilabschnitt (7a) auf einer äußeren Fläche einer
Struktur des wärmeresistenten Einschlußmaterials (7) entlang
einer axialen Richtung der ersten (1) und der zweiten (2)
Leitung ausgebildet ist, und das Harzgehäuse (6) derart be
reitgestellt ist, daß es das zurückgeschnittene/hervorragende
Profil (7a) auf einen äußeren Bereich kopiert, während es ei
ne Ausnehmung (11) füllt.
10. Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß das wärmeresistente Einschluß
material (7) nahezu über der gesamten unteren Fläche des
Harzgehäuses (6) bereitgestellt ist.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP204680/1997 | 1997-07-30 | ||
JP20468097 | 1997-07-30 | ||
JP27103997A JPH11103097A (ja) | 1997-07-30 | 1997-10-03 | 半導体発光素子 |
JP271039/1997 | 1997-10-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19833245A1 true DE19833245A1 (de) | 1999-02-04 |
DE19833245B4 DE19833245B4 (de) | 2007-08-02 |
Family
ID=26514589
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19833245A Expired - Fee Related DE19833245B4 (de) | 1997-07-30 | 1998-07-23 | Halbleiterlichtemissionseinrichtung mit blasenfreiem Gehäuse |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6084252A (de) |
JP (1) | JPH11103097A (de) |
KR (1) | KR19990013680A (de) |
DE (1) | DE19833245B4 (de) |
TW (1) | TW412873B (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10242947A1 (de) * | 2002-09-16 | 2004-03-25 | G.L.I. Global Light Industries Gmbh | Verfahren zum Herstellen von LED-Körpern mit Hilfe einer Querschnittverengung |
EP1976032A3 (de) * | 2007-03-30 | 2009-11-25 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Lichtemittierende Diode mit geringem Wärmewiderstand |
WO2014207635A1 (en) * | 2013-06-28 | 2014-12-31 | Koninklijke Philips N.V. | Light emitting diode device |
Families Citing this family (50)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6252252B1 (en) * | 1998-04-16 | 2001-06-26 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Optical semiconductor device and optical semiconductor module equipped with the same |
US7066628B2 (en) | 2001-03-29 | 2006-06-27 | Fiber Optic Designs, Inc. | Jacketed LED assemblies and light strings containing same |
US6274924B1 (en) * | 1998-11-05 | 2001-08-14 | Lumileds Lighting, U.S. Llc | Surface mountable LED package |
US6521916B2 (en) * | 1999-03-15 | 2003-02-18 | Gentex Corporation | Radiation emitter device having an encapsulant with different zones of thermal conductivity |
US6570186B1 (en) * | 2000-05-10 | 2003-05-27 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | Light emitting device using group III nitride compound semiconductor |
US6255129B1 (en) * | 2000-09-07 | 2001-07-03 | Highlink Technology Corporation | Light-emitting diode device and method of manufacturing the same |
US7095101B2 (en) * | 2000-11-15 | 2006-08-22 | Jiahn-Chang Wu | Supporting frame for surface-mount diode package |
CA2430747C (en) * | 2001-01-31 | 2008-05-20 | Gentex Corporation | Radiation emitter devices and method of making the same |
JP2002232014A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-08-16 | Seiwa Electric Mfg Co Ltd | 発光ダイオードランプ |
US6541800B2 (en) | 2001-02-22 | 2003-04-01 | Weldon Technologies, Inc. | High power LED |
TW567714B (en) * | 2001-07-09 | 2003-12-21 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Light-emitting unit and illumination device and image reading device using light-emitting unit |
US6501103B1 (en) * | 2001-10-23 | 2002-12-31 | Lite-On Electronics, Inc. | Light emitting diode assembly with low thermal resistance |
US6888723B2 (en) * | 2001-12-26 | 2005-05-03 | Toyoda Gosei Co., Ltd. | LED lamp apparatus |
TW535307B (en) * | 2002-03-04 | 2003-06-01 | United Epitaxy Co Ltd | Package of light emitting diode with protective diode |
US6762432B2 (en) * | 2002-04-01 | 2004-07-13 | Micrel, Inc. | Electrical field alignment vernier |
EP1572115B1 (de) * | 2002-11-27 | 2015-01-21 | Ampio Pharmaceuticals, Inc. | Behandlung von erkrankungen und zuständen,die durch erhöhte phosphorylierung vermittelt werden |
JP2004319591A (ja) * | 2003-04-11 | 2004-11-11 | Sharp Corp | 半導体発光装置およびその製造方法 |
US6903380B2 (en) | 2003-04-11 | 2005-06-07 | Weldon Technologies, Inc. | High power light emitting diode |
JP4645071B2 (ja) * | 2003-06-20 | 2011-03-09 | 日亜化学工業株式会社 | パッケージ成型体およびそれを用いた半導体装置 |
KR100506735B1 (ko) * | 2003-06-26 | 2005-08-08 | 삼성전기주식회사 | 다색 발광 다이오드 패키지 |
JP2005032950A (ja) * | 2003-07-11 | 2005-02-03 | Toshiba Corp | 光半導体装置及びその製造方法 |
KR20050050292A (ko) * | 2003-11-25 | 2005-05-31 | 삼성전기주식회사 | 열방출부를 구비한 발광소자 램프 |
JP2005251824A (ja) * | 2004-03-02 | 2005-09-15 | Agilent Technol Inc | 発光ダイオード |
JP2005259891A (ja) * | 2004-03-10 | 2005-09-22 | Toyoda Gosei Co Ltd | 発光装置 |
US20050242708A1 (en) * | 2004-04-30 | 2005-11-03 | Keong Chong C | LED device with a vertical leadframe that is configured for surface mounting |
JP4603291B2 (ja) * | 2004-05-21 | 2010-12-22 | オリンパス株式会社 | 内視鏡装置 |
JP2006024645A (ja) * | 2004-07-06 | 2006-01-26 | Rohm Co Ltd | 半導体発光装置 |
TWI260798B (en) * | 2005-05-02 | 2006-08-21 | Ind Tech Res Inst | Highly heat-dissipating light-emitting diode |
KR100616679B1 (ko) * | 2005-05-11 | 2006-08-28 | 삼성전기주식회사 | 측면 발광다이오드 패키지 |
KR100650191B1 (ko) * | 2005-05-31 | 2006-11-27 | 삼성전기주식회사 | 정전기 방전 충격에 대한 보호 기능이 내장된 고휘도 발광다이오드 |
JP2007005748A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Lite-On Technology Corp | 光電子半導体素子 |
JP4945106B2 (ja) * | 2005-09-08 | 2012-06-06 | スタンレー電気株式会社 | 半導体発光装置 |
WO2007058514A1 (en) | 2005-11-21 | 2007-05-24 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting element |
US8044412B2 (en) | 2006-01-20 | 2011-10-25 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd | Package for a light emitting element |
TWI342624B (en) * | 2006-12-08 | 2011-05-21 | Ind Tech Res Inst | Led leadframe |
CN101471418B (zh) * | 2006-12-27 | 2010-10-13 | 财团法人工业技术研究院 | 发光二极管的引线架 |
US9061450B2 (en) | 2007-02-12 | 2015-06-23 | Cree, Inc. | Methods of forming packaged semiconductor light emitting devices having front contacts by compression molding |
US7709853B2 (en) * | 2007-02-12 | 2010-05-04 | Cree, Inc. | Packaged semiconductor light emitting devices having multiple optical elements |
JP4795293B2 (ja) | 2007-03-30 | 2011-10-19 | ローム株式会社 | 半導体発光装置 |
TWM340555U (en) * | 2007-11-23 | 2008-09-11 | Everlight Electronics Co Ltd | Light emmitting diode device |
US20100059783A1 (en) * | 2008-09-08 | 2010-03-11 | Harry Chandra | Light Emitting Chip Package With Metal Leads For Enhanced Heat Dissipation |
JP5233619B2 (ja) * | 2008-12-01 | 2013-07-10 | 日亜化学工業株式会社 | 半導体装置 |
TWI456810B (zh) * | 2009-09-15 | 2014-10-11 | Maintek Comp Suzhou Co Ltd | 發光二極體 |
TW201117428A (en) * | 2009-11-12 | 2011-05-16 | Ind Tech Res Inst | Method of manufacturing light emitting diode packaging |
US20120175671A1 (en) * | 2011-01-07 | 2012-07-12 | Han-Ming Lee | Glued light core for light-emitting diode |
US8710538B2 (en) * | 2011-10-05 | 2014-04-29 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Light-emitting device with a spacer at bottom surface |
DE102013101021B4 (de) * | 2013-02-01 | 2022-03-03 | HELLA GmbH & Co. KGaA | Vorrichtung zur Lichtstreuung für Fahrzeuge mit einem Gewebe in Form einer Gewebekugel oder eines Gewebeknäuels |
CN105340090B (zh) * | 2013-06-28 | 2018-11-09 | 亮锐控股有限公司 | 发光二极管器件 |
JP6472596B2 (ja) | 2014-02-13 | 2019-02-20 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置及びその製造方法 |
JP6508131B2 (ja) * | 2016-05-31 | 2019-05-08 | 日亜化学工業株式会社 | 発光装置 |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2127239A5 (de) * | 1971-03-01 | 1972-10-13 | Radiotechnique Compelec | |
US3760237A (en) * | 1972-06-21 | 1973-09-18 | Gen Electric | Solid state lamp assembly having conical light director |
GB1383548A (en) * | 1972-06-29 | 1974-02-12 | Plessey Co Ltd | Light emitting diode assembly |
US4013915A (en) * | 1975-10-23 | 1977-03-22 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Light emitting device mounting arrangement |
JPH081963B2 (ja) * | 1987-12-09 | 1996-01-10 | ローム株式会社 | 発光ダイオード装置 |
JPH02169619A (ja) * | 1988-12-23 | 1990-06-29 | Toshiba Corp | 封止用エポキシ樹脂組成物及びこれを用いてなる光半導体素子 |
JPH0348253U (de) * | 1989-09-16 | 1991-05-08 | ||
JPH04162576A (ja) * | 1990-10-24 | 1992-06-08 | Sharp Corp | 発光ダイオード |
DE4232637C2 (de) * | 1992-09-29 | 2002-10-31 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Lumineszenzdiode mit Reflektor, der einen abgestimmtem Elastizitätsmodul besitzt |
JPH06216412A (ja) * | 1993-01-20 | 1994-08-05 | Stanley Electric Co Ltd | Ledの製造方法 |
JPH07202265A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-08-04 | Toyoda Gosei Co Ltd | Iii族窒化物半導体の製造方法 |
JPH07283426A (ja) * | 1994-04-12 | 1995-10-27 | Mitsubishi Electric Corp | 光トリガ型半導体装置 |
US5798536A (en) * | 1996-01-25 | 1998-08-25 | Rohm Co., Ltd. | Light-emitting semiconductor device and method for manufacturing the same |
-
1997
- 1997-10-03 JP JP27103997A patent/JPH11103097A/ja active Pending
-
1998
- 1998-07-08 KR KR1019980027419A patent/KR19990013680A/ko not_active Application Discontinuation
- 1998-07-10 US US09/113,302 patent/US6084252A/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-07-23 DE DE19833245A patent/DE19833245B4/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-07-24 TW TW087112116A patent/TW412873B/zh active
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10242947A1 (de) * | 2002-09-16 | 2004-03-25 | G.L.I. Global Light Industries Gmbh | Verfahren zum Herstellen von LED-Körpern mit Hilfe einer Querschnittverengung |
DE10242947B4 (de) * | 2002-09-16 | 2008-12-18 | G.L.I. Global Light Industries Gmbh | Verfahren zum Herstellen von LED-Körpern mit Hilfe einer Querschnittsverengung und Vorrichtung zur Durchführung des Herstellungsverfahrens |
DE10242947B8 (de) * | 2002-09-16 | 2009-06-18 | Odelo Led Gmbh | Verfahren zum Herstellen von LED-Körpern mit Hilfe einer Querschnittsverengung und Vorrichtung zur Durchführung des Herstellungsverfahrens |
EP1976032A3 (de) * | 2007-03-30 | 2009-11-25 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Lichtemittierende Diode mit geringem Wärmewiderstand |
US8278677B2 (en) | 2007-03-30 | 2012-10-02 | Seoul Semiconductor Co., Ltd. | Light emitting diode lamp with low thermal resistance |
WO2014207635A1 (en) * | 2013-06-28 | 2014-12-31 | Koninklijke Philips N.V. | Light emitting diode device |
US10038122B2 (en) | 2013-06-28 | 2018-07-31 | Lumileds Llc | Light emitting diode device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19833245B4 (de) | 2007-08-02 |
KR19990013680A (ko) | 1999-02-25 |
JPH11103097A (ja) | 1999-04-13 |
TW412873B (en) | 2000-11-21 |
US6084252A (en) | 2000-07-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE19833245A1 (de) | Halbleiter-Lichtemissionseinrichtung | |
DE102004034166B4 (de) | Lichtemittierende Vorrichtung | |
DE69838597T2 (de) | Lichtemittierende Halbleitervorrichtung und Herstellungsverfahren | |
DE112015005762B4 (de) | Lichtemittierende Vorrichtung und Verfahren zu deren Herstellung | |
EP2583318B1 (de) | Herstellung eines oberflächenmontierbaren optoelektronischen bauelements | |
DE102008060615B4 (de) | Licht aussendende Diode | |
DE102004033106B4 (de) | System und Verfahren für eine verbesserte thermische LED-Leitfähigkeit | |
EP2345074B1 (de) | Trägerkörper für ein halbleiterbauelement, halbleiterbauelement und verfahren zur herstellung eines trägerkörpers | |
DE102013205894B4 (de) | Formgehäuse und Leuchtbauelement | |
DE19854414A1 (de) | Lichtemittierende Vorrichtung | |
WO2014060355A2 (de) | Verfahren zur herstellung einer vielzahl von optoelektronischen halbleiterbauteilen | |
DE10045149A1 (de) | Licht emittierende Diode und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE10117889A1 (de) | Leiterrahmen und Gehäuse für ein strahlungsemittierendes Bauelement, strahlungsemittierendes Bauelement sowie Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE102005041095A1 (de) | Lichtemissionsvorrichtung und Lichtemissionselement | |
DE102004014207A1 (de) | Optoelektronisches Bauteil mit mehrteiligem Gehäusekörper | |
WO2004017407A1 (de) | Oberflächenmontierbares halbleiterbauelement und verfahren zu dessen herstellung | |
DE102016103059A1 (de) | Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauelements | |
EP2327110B9 (de) | Optoelektronisches bauteil und verfahren zur herstellung eines optoelektronischen bauteils | |
DE102019002210A1 (de) | Halbleiterleistungsmodul zu m schutz vor einem kurzschlussereignis | |
DE102010027313A1 (de) | Trägervorrichtung für einen Halbleiterchip, elektronisches Bauelement mit einer Trägervorrichtung und optoelektronisches Bauelement mit einer Trägervorrichtung | |
WO2016120047A1 (de) | Optoelektronisches halbleiterbauteil, optoelektronische anordnung und verfahren zur herstellung eines optoelektronischen halbleiterbauteils | |
DE102016101526A1 (de) | Herstellung eines Multichip-Bauelements | |
WO2015124608A1 (de) | Herstellung optoelektronischer bauelemente | |
DE10117890A1 (de) | Verfahren zum Herstellen eines strahlungsempfangenden und/oder emittierenden Halbleiterbauelements und strahlungsempfangendes und/oder -emittierendes Halbleiterbauelement | |
DE102010054591B4 (de) | Gehäuse und Verfahren zur Herstellung eines Gehäuses für ein optoelektronisches Bauelement |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
R119 | Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee |