DE1972930U - Elektrodenanordnung bei der herstellung von hochreinen stoffen, insbesondere halbleiterstoffen, durch anomale glimmentladung. - Google Patents
Elektrodenanordnung bei der herstellung von hochreinen stoffen, insbesondere halbleiterstoffen, durch anomale glimmentladung.Info
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Description
Elektrodenanordnung bei der Herstellung von hochreinen Stoffen, insbesondere Halbleiterstoffen, durch anomale Glimmentladung
Die Herstellung von hochreinen Stoffen bereitet große Schwierigkeiten.
Äußerste Reinheit wird vor allem bei Halbleiterstoffen gefordert, da diese Stoffe durch geringste Mengen von Verunreinigungen
ihre elektrischen Eigenschaften weitgehend verändern und die gewünschten definierten elektrischen Eigenschaften dureh definiert
eingebrachte Verunreinigungen erzeugt werden. Bei diesen Stoffen mit Halbleitereigenschaften handelt es sieh insbesondere
um Elemente der IV. Gruppe und um Verbindungen zwischen Elementen
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OB/Bm 21.8.1967
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der III. und V. bzw. der II„ und VI. Gruppe des Periodischen
Systems der Elenente. Sie finden beispielsweise Verwendung für Richtleiter, Transistoren, Fotodioden usw. ·
Eine allgemein übliche Darstellungsraethode für hochreine Stoffe besteht beispielsweise darin, eine flüchtige Verbindung des
su gewinnenden Stoffes im Gemisch mit einem geeigneten flüchtigen
Reduktionsmittel in einer unter solchen Entladungsbedingungen betriebenen anomalen Glimmentladung so zur Reaktion zu bringen,
daß sich die Verbindung zersetzt.und der zu gewinnende Stoff sich aus den Schmelzfluß als kompakter kristalliner Körper an
den nach Maßgabe des Kristallwachstums auseinanderzuziehenden Elektroden abscheidet» Bei der'Darstellung von reinstem Silizium
geht man beispielsweise von einem Gemisch eines Siliziumhalogenids
oder einer Siliziumhalogen-Wass-erstoff-Verbindung wie Silico- ··
chloroform mit Wasserstoff oder einem Silan aus. Dabei werden
mit besonderem Vorteil Elektroden aus dem Material des darzustellenden Stoffes in entsprechender Reinheit verwendet?
da dadurch die Möglichkeit einer Verunreinigung des sich abscheidenden Halbleiterkörpers -durch das Slektrodenmaterial
weitgehend ausgeschaltet wird. Allerdings ergibt sich hierbei der Nachteil, daß bisher für die elektrische und mechanische
'Verbindung der Elektroden mit den Stromzuführungen besondere Materialien notwendig sind. Hierfür wird normalerweise eine
Kombination von Metall und Kohle verwendet. Durch diese Stoffe ist die Möglichkeit für-eine Verunreinigung der darzustellenden
hochreinen Halbleiterkörper gegeben; sie enthalten oft geringe Mengen an Fremdstoffen, die sich beim Erhitzen.in
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Wasserstoffatmosphäre oder im Reaktionsgasgemiseh verflüchtigen
und sich mit dem Reaktionsgas vermischen. Dadurch werden sie in den wachsenden Halbleiterkristall miteingebaut. Beispielsweise
wurden Phosphor und Arsen in den abgeschiedenen Halbleiterkörpern nachgewiesen. Diese Stoffe wirken in Elementen der
IY. Gruppe des Periodischen Systems, z.B. Silizium oder Germanium, als Donatoren und müssen daher auf jeden Pail ferngehalten
werden.
Zur Sicherstellung, daß keine unerwünschten Verunreinigungen im abzuscheidenden Stoff eingebaut werden, schlägt die Neuerung
bei der Herstellung τοη hochreinen Stoffen, insbesondere Halbleiterstoffen
wie Silizium oder Germanium, durch Reaktion einer flüchtigen Terbindung des herzustellenden Halbleitermaterials
mit Wasserstoff oder einer wasserstoffspendenden Terbindung, beispielsweise einem Hydrid, in einer anomalen Glimmentladung,
wobei die Elektroden aus dem herzustellenden Halbleitermaterial entsprechender Reinheit bestehen, eine Elektrodenanordnung vor,
die dadurch gekennzeichnet ist, daß mindestens die Absoheidungselektrode
gasdicht derart in Glas eingeschmolzen ist, daß ihre elektrische und mechanische Verbindung mit der Stromzuführung
vom Reaktionsraum abgetrennt ist, und daß der Wärmeausdehnungskoeffizient des verwendeten Einschmelzglases demjenigen des
Elektrodenmaterials etwa entspricht.
?A 9/493/378 - 4' - ' " . '
ι,,
Bei der Verwendung von Gleichstrom, wobei die Abscheidung
Neuerung an der Kathode erfolgt, ist gemäß der Sxfxusfomg mindestens
die Kathode in Glas eingeschmolzen; es ist jedoch zweckmäßig· auch die Anode in Glas einzuschmelzen« Ist die Abscheidung
des hochreinen Halbleitorkörpers an beiden Elektroden er- .,
wünscht, wird Wechselstrom verwendet» Hierbei empfiehlt es sich, beide Elektroden in Glas.einzuschmelzen«
.Die elektrische und mechanische Verbindung der Elektroden mit.
den Stromzuführungen kann beispielsweise durch Kohle erfolgen, ebenso auch durch ein Lot? beispielsweise eine Lotlegierung
oder ein Lotgemisch, vorzugsweise ein Weichlot wie eutektische Zinn-3iei-Legierungo Hierbei ist es vorteilhaft, wenn die
Wärmeausdehnung des Lotes der des Elektrodenmaterial und so-
es
mit auch der des verwendeten EinschmelzgRas/etwa entspricht,
damit bei der Erhitzung der Elektroden keine Beschädigung oder Zerstörung der Elektrodeneinschmelzung oder auch der Lotverbindung
eintritt» Besonders vorteilhaft ist es, wenn der Abstand der Einschmelzstelle von den Elektrodenenden so einge- .·
stellt wird, daß eine Erwärmung der Sinschmelzstelle weitgehend ausgeschlossen ist« Damit wird auch an der Verbindung
der Elektrode mit der Stromzuführung eine Erwärmung vermiedene
Als Stromzuführung kann hier beispielsweise ein Kupferdraht, verwendet werden« ·■ '■ ' .
neuerungs
Eine andere Ausführung der xs^&mtangEgemäßen Elektrodenanordnung
besteht darin, daß das die Verbindung der Elektroden
' so mit den Stromzuführungen bewirkende.:] Material/ausgebildet ist,
■ ■ * ■' — 5 -
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daß es zugleich auch als Halterung der Elektroden dienen kann.
Dies wird ZoB„ bei einer· Ausbildung als Zange erreichte
Pur die Erzeugung von Einkristallen, deren Darstellung große
Schwierigkeiten bereitet, wird als Abscheidungselektrode ein Einkristallkeim des darzustellenden Halbleitermaterials ver-
NeuBiEung
wendet, der gemäß der gx&mdcaazg gasdicht in Glas eingeschmolzen ioto Das Einkristallwachstum Wird hierbei nicht durch Auf-· wachsen von Verunreinigungen gestört«'Zweckmäßig ist es, eine Einkristall-Abscheidungselektrodo zu verwenden, die 'nach -den
wendet, der gemäß der gx&mdcaazg gasdicht in Glas eingeschmolzen ioto Das Einkristallwachstum Wird hierbei nicht durch Auf-· wachsen von Verunreinigungen gestört«'Zweckmäßig ist es, eine Einkristall-Abscheidungselektrodo zu verwenden, die 'nach -den
neuerungs ·. Verfahren der anomalen Glimmentladung mit der· scK&xfSOhmg&g'emäßen
Elektrodenanordnung hergestellt ist» · ■ ■■'...
Um zu verhindern, daß Bor aus dem Einschmelzglas In die sich abscheidenden
Halbleiterkörper als Verunreinigung miteingebaut wird, empfiehlt es sich, die Halbleiterelektroden nach dem ·.·■
Einschmelzen in Glas mit Flußsäure.zu behandeln, bevor sie in die Apparatur eingesetzt werden»· Dadurch wird das beim ·
Einschmelzen aus dem Glas abgedampfte und an der Elektrode niedergeschlagene Boroxyd von der Elektrode entfernt.
Heuerung
Die Elektrodenanordnung gemäß der $Ed&äH&mg: wird an Hand eines
in der Figur dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert,
Das vorzugsweise ■ aus Quarzglas bestehende Reaktionsgefäß .1
int durch Schliffe mit den übrigen Teilen der Apparatur verbunden»
2 Stellt die aus dem darzustellendem Stoff, 'z.B. Halb-
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leitermaterial;, entsprechender Reinheit bestehende" Abscheidungselektrode
dar, bei denPim Beispiel verwendeten Gleichstrom .die .
Kathode, an der die Abscheidung stattfindet» Bei der Darstellung
eines Halbleitereinkristalls wird-die' Kathode durch einen Ein- .-kristallkeim
des darzustellenden Halbleitermaterials gebildet„
Die zweckmäßig als Stab ausgebildete Anode 3 besteht ebenso' ' ■
v/ie die Kathode aus dem darzustellenden Halbleitermaterial entsprechender Reinheit„ An der Stelle 4 ist die Kathode gemäß
der Erfindung in einen Glaskörper 5 eingeschmolzen» Vor- ·. ' zugsweise wird ein rohrförrniger Glaskörper verwendet, der in .
einen ZylinderschÜ-ff mündete Die elektrische und mechanische
Verbindung β der Kathode mit der Stromzuführung wird beispielsweise
durch Kohle oder durch ein Lot gebildet, dessen Wärmeaus-
Neuerung v
dehnung gemäß der S^xÄsliraipcx^Ekmäiiig der'des Kathodenmaterials
und damit der des Sinschmelzglases etwa entspricht Im Rohr 7 '
wird das Reaktionsgemisch zugeführt= Im Gefäß 8 werden ölige
Nebenprodukte abgeschieden, 9 stellt eine Schleuse für die Reaktionsabgase dar, die durch das Rohr 10 die Apparatur.ver-:-
lassen, 11a und 11b sind die Stromzuführungen -zu den'Elektroden
und 12 stellt die Gleichstromquelle dar. Die Anodenzuführung ist zweckmäßig zur genauen. Justierung der Anode mittels
eines Kugelschliffs 'dreh- und schwenkbar gehaltert; ebenso ist es vorteilhaft j wenn die Kathodenzuführung beweglich angeordnet
isto Die Kathode kann entsprechend dem Wachstum des sich ab- ■
scheidenden Halble'iterkörpers, beispielsweise'Halbleitereinkristalls,
aus dem'Reaktionsgefäß herausgeführt werden, so daß
der Abstand zwischen der Kathoden- und der Anodenspitze immer gleich gehalten werden kann» In der Figur ist nur die Kathode
PA 9/493/378 · ■ - 7
neuerungs
neuerungs
in Glas eingeschmolzen« Es kann vorteilhaft sein, auch die Anode in Glas einzuschmelzen» Bei der Darstellung von ZoB0 reinsten Siliziumhalbleiterkörpern besteht '
bei der -Verwendung von Gleichstrom die Kathode vorzugsweise aus reinstem Silizium, zweckmäßig auch die Anode» Im Zu- leitungsrohr
7 wird das Reaktionsgemisch, beispielsweise-ein
Siliziumchlorwasseystoff/Wasserstoffgemisch, zugeführt„■ · ■
Der lineare Wärmeausdehnungskoeffizient de3 als Kathoden- und ■
—7 ·
Anodenmaterials verwendeten Siliziums beträgt 37» 10. j der.·
des Einschmelzglases soll in.den Grenzen 37-10=10 liegen=
Beispielsweise kommen besonders die Typen 8212 mit einem
-7 ' linearen Ausdehnungskoeffizienten von 41.10 , und 5891 mit'
-7': einem linearen Ausdehnungskoeffizienten von 39dO in Frage»
Diese beiden Typen stellt die Fa0 Schott., Mainz her» Ähnlich
geeignet ist "Pyrex" von Dow. Coning mit einem linearen Aus- ,
dehnungskoeffizienten,von 32010 β / '
1 Figur
Schutz '
Schutz '
5 xBaxfaexKfcansprüchä
- 8 —
Claims (1)
- RA,i95 023*28.8. 67" ■PA-9/493/378- . ' .· -■ . - 8 -.Schutz' ' .. £ a & κ η ' £ a η s ρ r ü c h e ...Elektrodenanordnung bei der Herstellung von hochreinenStoffen,- insbesondere Halbleiterstoffen wie Silizium
. oder'Germanium, durch Reaktion einer flüchtigen Verbindung ; des darzustellenden. Halbleitermaterial mit Wasserstoff
oder einer wasserstoff spendenden Verbindung, beispielsweise .einem Hydrid,, in einer anomalen Glimmentladung,, .wobei die "' ,• ]--'■■--Elektroden aus dem darzustellenden Halbleitermaterial ent- ' ■ sprechender Reinheit bestehen, dadurch gekennzeichnet,, daß. mindestens die Abscheidungselektrode gasdicht derart..in
Glas eingeschmolzen ist, daß die' elektrische und mechanische.-Verbindung dieser Elektrode mit der Stromzuführung vom; . ·■ Reaktionsraum abgetrennt ist, und daß der Wärmeausdehnungskoeffizient des verwendeten Glases demjenigen des Sloktro- '. denmaterials etwa entspricht» _ · ' '■■■ ' . ·. \ ■ ; -2ο Elektrodenanordnung, nach' 'Anspruch 1, dadurch ■ gekennzeichnet,daß die' Einschmelzstelle so weit von den Elektro.denonden
·" entfernt ist,- daß höchstens eine geringe Erwärmung -der Einschmelastelle auftritto .. . . ·. ' ■' . -3ο Elektrodenanordnung nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die elektrische und mechanische Verbindung
der Elektroden mit den.Stromzuführungen durch Kohle erfolgt„'PA 9/493/378 ' - 9 - ■ '4ο Elektrodenanordnung nach' Anspruch 1 und 29 dadurch ge-' kennzeichnet, daß die elektrische und mechanische Verbindung der- Elektroden mit den Stromzuführungen durch ein Lot, beispielsweise ein Lotgemisch oder eine Lotlegierung;, vorzugsweise ein Weichlot;, erfolgt« '■ -ο Elektrodenanordnung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 - 4-, dadurch gekennzeichnet .,.daß die Wärme aus dehnung des die Verbindung bewirkenden Lotes der des'Elektroden-" materials etwa entspricht» . ■■" ·
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DES41776U DE1972930U (de) | 1962-06-28 | 1962-06-28 | Elektrodenanordnung bei der herstellung von hochreinen stoffen, insbesondere halbleiterstoffen, durch anomale glimmentladung. |
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DE1972930U true DE1972930U (de) | 1967-11-23 |
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Family Applications (1)
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DES41776U Expired DE1972930U (de) | 1962-06-28 | 1962-06-28 | Elektrodenanordnung bei der herstellung von hochreinen stoffen, insbesondere halbleiterstoffen, durch anomale glimmentladung. |
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1962
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