DE19715479A1 - Neues Polyimid-Copolymer und Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents
Neues Polyimid-Copolymer und Verfahren zu seiner HerstellungInfo
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- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/1039—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors comprising halogen-containing substituents
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Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues Polyimid-Copolymer
und ein Verfahren zu seiner Herstellung, und
insbesondere ein neues Polyimid-Copolymer, das sogar in
flüchtigen organischen Lösungsmitteln löslich ist, und ein
Verfahren zu seiner Herstellung.
Polyimidharze, die durch Reaktion eines aromatischen
Tetracarbonsäuredianhydrids mit einem aromatischen Diamin
erhalten werden, zeigen eine ausgezeichnete physikalische
Festigkeit, elektrische Isolierung, etc., sowie eine
hervorragende Hitzefestigkeit und sind damit zur
Verwendung als Grundmaterialien, wie z. B. Substrate für
biegsame gedruckte Leiterplatten, Photoresistfilme, etc.,
geeignet.
Die im Handel erhältlichen herkömmlichen Polyimidharze
sind jedoch in den meisten flüchtigen organischen
Lösungsmitteln unlöslich und sind nur bei hohen
Temperaturen in hochsiedenden aprotisch-polaren
Lösungsmitteln, wie N-Methyl-2-pyrrolidon,
Dimethylformamid, etc., löslich. Daher müssen die
herkömmlichen Polyimidharze bei hohen Temperaturen
verarbeitet werden.
Andererseits wird bei Prozessen auf dem Gebiet
elektronischer Materialien nun die Verarbeitung bei
niedrigen Temperaturen, und Lösungsmittel, die unter
diesen Umständen geeignet sind, usw. verlangt, und die
Notwendigkeit, herkömmliche Polyimidharze bei hohen
Temperaturen zu verarbeiten, stellt ein Problem dar.
Ein Ziel der vorliegenden Erfindung ist daher die
Bereitstellung eines neuen Polyimid-Copolymers, das in
flüchtigen organischen Lösungsmitteln mit relativ
niedrigem Siedepunkt löslich ist und somit eine
Niedrigtemperaturverarbeitung auf dem Gebiet
elektronischer Materialien ermöglicht.
Das erfindungsgemäße Ziel kann mit einem neuen Polyimid-Copolymer
mit zwei Arten von Grundeinheiten mit den
folgenden Formeln erreicht werden:
bzw.
worin n und m jeweils eine positive ganze Zahl sind.
Das vorliegende Polyimid-Copolymer kann durch Reaktion der
folgenden drei Arten von Ausgangsverbindungen (A), (B) und
(C) in einem Molverhältnis von 2 : 1 : 1 erhalten werden:
- (A) 2,2-Bis(4-aminophenyl)hexafluorpropan:
- (B) 4,4′-(Hexafluorisopropyliden)phthalsäure dianhydrid:
- (C) 3,3′,4,4′-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid:
Die Reaktion zwischen diesen Ausgangsverbindungen kann bei
einer Reaktionstemperatur von etwa 0 bis etwa 60°C in
Gegenwart eines Aminkatalysators, wie Pyridin,
Triethylamin, etc., und unter Verwendung eines
Lösungsmittels, wie Formamid, N-Methylformamid, N,N-Dimethylformamid, N-Methyl-2-pyrrolidon, m-Cresol, etc.,
ausgeführt werden. Es scheint, daß im Verlauf der
Reaktion sich eine Polyaminsäure bildet und somit ist die
Verwendung eines Lösungsmittels, das mit Wasser ein
Azeotrop bildet, wie Toluol, etc., in der letzteren
Reaktionshälfte vorteilhaft, um die dehydratisierende
Cyclisierungsreaktion der Polyaminsäure zu beschleunigen
und anschließend das durch Dehydratisierung gebildete
Wasser aus dem Reaktionssystem zu entfernen. Wenn die
Reaktionsmischung in ein inkompatibles Lösungsmittel, wie
Methanol etc., eingegossen wird, können weiße Copolymere
erhalten werden.
Das Molekulargewichtgewichtsmittel der resultierenden
Copolymere wurde durch Gelpermeationschromatografie
bestimmt. Man fand, daß sowohl n als auch m jeweils eine
ganze Zahl von 8 oder mehr, im allgemeinen etwa 8 bis etwa
500, annehmen. Daher können Copolymere als Mischungen mit
verschiedenen n- und m-Werten erhalten werden.
Die Einführung von Polyfluorgruppen in das
Copolymerskelett schwächt die intramolekularen Kräfte
zwischen den einzelnen Molekülen und ermöglicht die
Darstellung eines Polyimid-Copolymers, das selbst in einem
flüchtigen Lösungsmittel löslich ist. Daher ermöglicht das
erfindungsgemäße Polyimid-Copolymer die Verarbeitung bei
niedriger Temperatur, wie sie für elektronische
Materialien eingesetzt wird, während Charakteristiken, wie
z. B. die ausgezeichnete Hitzebeständigkeit etc., erhalten
bleiben.
Die vorliegende Erfindung wird nachstehend unter Bezug auf
ein Beispiel erläutert.
3,34 g (10 mmol) 2,2-Bis(4-aminophenyl)hexafluorpropan,
2,22 g (5 mmol) 4,4′-(Hexafluorisopropyliden)phthalsäure
dianhydrid, 1,62 g (5 mmol) 3,3′,4,4′-Benzophenontetra
carbonsäuredianhydrid und 32 ml m-Cresol wurden in einen
Dreihalskolben mit einem Volumen von 100 ml gegeben, mit
einem Rührer versehen und bei Raumtemperatur 30 Minuten
gerührt. Dann wurden 0,5 ml Pyridin zugegeben und das
Rühren weitere 3 Stunden fortgesetzt, wobei die Temperatur
auf 50°C erhöht wurde. Dann wurden 12 ml Toluol zugegeben
und die Reaktion 3 Stunden fortgesetzt, während das
gebildete Wasser mit Toluol azeotrop ausdestilliert wurde.
Die Reaktionsmischung wurde in 300 ml Methanol gegossen
und der resultierende Niederschlag durch Filtration
gewonnen und getrocknet, wodurch 6,86 g weiße Copolymere
mit den folgenden Charakteristiken erhalten wurden:
Mw: 324.000 (n + m betrugen 238 im Fall von n = m)
Infrarot-Absorptionsspektrum (cm-1): 3070 (C₆H₅),
1780, 1725 (CON)
1680 (COC₆H₅)
1630, 1520 (C₆H₅)
1260, 1210, 1180 (CF₃)
¹H-NMR: 7,6 bis 8,5 (m)
Löslichkeit: Löslich in N-Methyl-2-pyrrolidon, Dimethylformamid, Dimethylacetamid, Chloroform, Methylendichlorid, Trichlorethylen, Tetrahydrofuran, Aceton, Methylethylketon, Methylisobutylketon und Ethylacetat. Unlöslich in Methanol und Toluol.
Mw: 324.000 (n + m betrugen 238 im Fall von n = m)
Infrarot-Absorptionsspektrum (cm-1): 3070 (C₆H₅),
1780, 1725 (CON)
1680 (COC₆H₅)
1630, 1520 (C₆H₅)
1260, 1210, 1180 (CF₃)
¹H-NMR: 7,6 bis 8,5 (m)
Löslichkeit: Löslich in N-Methyl-2-pyrrolidon, Dimethylformamid, Dimethylacetamid, Chloroform, Methylendichlorid, Trichlorethylen, Tetrahydrofuran, Aceton, Methylethylketon, Methylisobutylketon und Ethylacetat. Unlöslich in Methanol und Toluol.
Claims (3)
1. Polyimid-Copolymer mit zwei Arten von Grundeinheiten
mit den folgenden Formeln:
worin n und m jeweils positive ganze Zahlen sind.
2. Verfahren zur Herstellung eines Polyimid-Copolymers,
umfassend die Umsetzung von (A) 2,2-Bis(4-aminophenyl)hexafluorpropan,
(B) 4,4′-(Hexafluor
isopropyliden)phthalsäuredianhydrid und (C)
3,3′,4,4′-Benzophenontetracarbonsäuredianhydrid.
3. Verfahren gemäß Anspruch 2, wobei die Komponenten
(A), (B) und (C) in einem Molverhältnis von 2 : 1 : 1
verwendet werden.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP16861896A JPH09328547A (ja) | 1996-06-07 | 1996-06-07 | 新規ポリイミド共重合体およびその製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19715479A1 true DE19715479A1 (de) | 1997-12-11 |
Family
ID=15871405
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1997115479 Withdrawn DE19715479A1 (de) | 1996-06-07 | 1997-04-14 | Neues Polyimid-Copolymer und Verfahren zu seiner Herstellung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09328547A (de) |
DE (1) | DE19715479A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0957126A1 (de) * | 1998-05-14 | 1999-11-17 | Nippon Mektron, Limited | Lichtempfindliche zusammensetzung |
-
1996
- 1996-06-07 JP JP16861896A patent/JPH09328547A/ja active Pending
-
1997
- 1997-04-14 DE DE1997115479 patent/DE19715479A1/de not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0957126A1 (de) * | 1998-05-14 | 1999-11-17 | Nippon Mektron, Limited | Lichtempfindliche zusammensetzung |
US6232039B1 (en) | 1998-05-14 | 2001-05-15 | Nippon Mektron Limited | Photosensitive composition |
US6365324B1 (en) | 1998-05-14 | 2002-04-02 | Nippon Mektron, Limited | Photosensitive composition |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH09328547A (ja) | 1997-12-22 |
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8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |