DE1900984A1 - Verfahren zum Entfernen von Schwefeldioxyd aus einem sauerstoffhaltigen Gasgemisch - Google Patents

Verfahren zum Entfernen von Schwefeldioxyd aus einem sauerstoffhaltigen Gasgemisch

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DE1900984A1 DE19691900984 DE1900984A DE1900984A1 DE 1900984 A1 DE1900984 A1 DE 1900984A1 DE 19691900984 DE19691900984 DE 19691900984 DE 1900984 A DE1900984 A DE 1900984A DE 1900984 A1 DE1900984 A1 DE 1900984A1
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Description

  • Verfahren zum Entfernen von Schwefeldioxyd aus einem sauerstoffhaltigen Gasgemisch nach Patent ... (Patentanmeldung P 15 94687.9) Priorität: 12. Januar 1968, Großbritannien Die Erfindung betrifft eine Weiterentwicklung des Verfahrens nach Patent ... (Patentanmeldung P 15 94687.9) bei welchem ein schwefeldioxyd- und sauerstoffhaltiges Gasgemisch bei einer Temperatur über 300°C mit einem Akzeptor in Berührung gebracht wird, der aus einem festen, Xupferoxyd enthaltenden Trägermaterial besteht und gegebenenfalls regeneriert wird.
  • Ein solcher Akzeptor kann für eine absatzweise durchgeführte oder eine kontinuierliche Arbeitsweise eingesetzt werden, und das Gas kann in der verschiedensten Weiße mit dem festen Akzeptor in Berührung gebracht werden. Beispielsweise kann die Gasmischung bei einem absatzweisen Betrieb durch ein festes Bett geleitet werden, welches aus den Akzeptorteilchen besteht, Eine sehr interessante Ausfuhrungsforn dieses Verfahrens besteht darin, daß die Sauerstoff enthaltende Gasmischung durch ein oder mehrere Gaskanäle geleitet wird, welche sich praktisch parallel zueinander erstrecken, wobei die Wände der Gaskanäle derart ausgeführt sind, daß sich der Akzeptor auf, in oder hinter den Kanalwandungen befindet und fur die Gasmischung frei zugänglich ist. Der absatzweise Betrieb läßt sich sehr zweckmäßig in einer Anlage durchführen, welche aus zwei Teilen besteht, welche wechselweise für die Beladung und für die Regenerierung dienen. Die Sauerstoff enthaltende Gasmischung wird dabei durch den ersten Teil der Anlage während der Beladungistufe hindurchgeleitet, bis die Durchbruchskapazität erreicht ist. Als Durchbruchskapazität wird die Anzahl Gewichtseinheiten an Schwereldioxyd definiert, welche von 100 Gewichtseinheiten des Redox-Katalysators aufgenommen worden ist, und zwar zu einem Zeitpunkt, wenn eine vorbestimmte Menge an Schwefeldioxyd am Auslaufende des@ Katalysatorbettes auftritt. Der beladene Akzeptor wird regeneriert, indem man ein heißes reduzierend wirkendes Gas durch den ersten Teil der Anlage hindurchleitet, während der zweite Teil der Anlage, in welchem der Akzeptor vorher regeneriert worden ißt, nunmehr auf die Beladung umgestellt wird. Bei einem kontinuierlichen Betrieb kann auch ein sich fortbewegender Katalysator oder eine litalysatorwirbelschicht verwendet werden.
  • Die Durchbruchskapazität des Akzeptors hängt im groben Ausmaß von der vorherbestimmten Menge an Schwefeldioxyd ab, welche zulässigerweise am Austrittsende des Katalysators in Erscheinung treten kann, sowie von der stündlichen Raumgesohwindigkeit, mit welcher die Gasmischung durch den als Beladungsstufe geschalteten Teil der Anlage hindurchgeht. Im Hinblick auf die sehr großen Mengen an Schwefeldioxyd enthaltenden Gasmischungen, welche oft anfallen, ist es von sehr großem Vorteil, wenn im Verlauf des ganzen Verfahrens eine schr hohe stündliche Raumgeschwindigkeit der Gasmischung und eine hohe Durchbruchskapazität des Akzeptors aufrechterhalten werden kann. Bei einer sehr hohen Raumgeschwindigkeit kann Jedoch der Fall eintreten, daß die vorbestimmte Menge an Schwefeldioxid ar Auslaßende der fur die Beladung eingesetzten Anlage schon kurs nach Inbetriebnahme derselben auftritt. In einem solchen Fall hat der Akzeptor nur eine niedrige Durchbruchskapanitit, und das auf dem Trägermaterial niedergeschlagene Kupfer wird nicht in dem Maß ausgenützt, als wenn der Akzeptor eine hohe Durchbruchskapazität bat. In dem Maß, wie der Beladungszustand des Akzeptors niedriger ist, wird mehr Akzeptor benötigt, um die gleiche Menge an Schwefeldioxyd zu binden. Bei Akzeptoren mit einer niedarin Durchbruchskapazität werden daher sehr große Reaktoren benötigt.
  • Erfindungsgemäß lassen sich diene Nachteile beheben, und es kann insbesondere mit einem relativ klein ausgelegten Reaktor gearbei-; tet werden, und außerdem läßt sich die Regenerierung in einer kürzeren Zeitspanne durchführen.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren zum Entfernen von Schwereldloxyd aus einem sauerstoffhaltigen Gasgemisch, wobei dieses Gemisch bei einer Temperatur Uber 300°C mit einem Akzeptor in Beruhrung gebracht wird, der aus einem festen, Kupferoxyd enthaltenden Träger material besteht und gegebenenfalls regeneriert wird, nach Patent ... (Patentanmeldung P 15 94687.9) ist dadurch gekennzeichnet, daß ein Trägermaterial mit einem Porenvolumen verwendet wird, welches zumindest 10 % von Poren mit einem Durchmesser Aber 200 Å g»-bildet wird. Das Gesamtvolumen an Poren mit einem Durchmesser von mehr als 200 Å wird gemäß der Methode von H.L. Ritter und L.C.
  • Drake bestimmt (Ind. Eng. Chemistry, Analytical Edition 17 (1945), Seiten 782 - 786) Diese Meßmethode beruht auf der Tatsache, daß Quecksilber Je nach dem angewendeten Druck durch Poren unterschiedlicher Größe gedrückt werden kann. Je kleiner die Poren sind, in welche das Quecksilber eingepreßt werden soll, desto größer ist der dafür erforderliche Druck. Beispielsweise kann Quecksilber bei einem Druck von 140 kg/cm2 abs. in Poren von einem Durchmesser von 1066 Å und mehr gepreßt werden während für Poren mit einem Durchmesser von 214 Å und mehr ein Druck von 700 kg/cm2 abs. benötigt wird. Als Grundlage SUr die Bestimmung der Verteilung des Porenvolumens über einen bestimmten Bereich des Porendurchmessers dienen daher Messungen mit einem im Handel erhältlichen Quecksilberporosimeter in Standardausführung.
  • Für die Bestimmung des Gesamtvolumens derjeigen Poren, welche einen Durchmesser von 200 Å und weniger aufweisen, wird die Methode von S. Brunauer, P.H. Emmett und Eo Teller verwendet (Journal American Chemical Society 60 (1938), Selten 309 - 319)o Diese Meßmethode beruht auf der Kondensation von Stickstoff innerhalb der Poren.
  • Der Prozentsatz des Porenvolumens, welches von Poren mit Durchmessern oberhalb 200 Å gebildet wird, läßt sich berechnen, indem man das Gesamtvolumen der Poren mit Durchmessern von mehr als 200 R durch die Summe des Gesamtvolumen an Poren mit Durchmessern von mehr als 200 2 und des Gesamtvolumens von Poren mit Durchme3-sern von 200 Å oder weniger teilt und den dabei erhaltenen Quotienten mit 100 multipliziert.
  • Bei den Poren mit Durchmessern von mehr als 200 Å kann der Einzeldurchmesser innerhalb eines sehr weiten Bereichs variieren. Sehr gute Ergebnisse sind mit festen Trägermaterialien erzielt worden, bei denen das Porenvolumen zu mindestens 10 % durch Poren mit einem Durchmesser von weniger als 4000 Å gebildet wird. Selbstverständlich kennen aber auch Trägermaterialien eingesetzt werden, deren Poren einen Durchmesser oberhalb 4000 2 aufweisen. Vorzugsweise werden mindestens 30 % des Porenvolumens des Trägermaterials von Poren gebildet, welche Durchmesser von mehr als 200 Å aufweisen0 Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren können die stündlichen Raumgeschwindigkeiten innerhalb eines weiten Bereichs variieren, Sehr zweckmäßig liegen die Raumgeschwindigkeiten im Bereich von 1000 10.000 Volumenteilen der Gasmischung je Volumenteil Akzeptor je Stunde. Die Gasvolumina beziehen sich dabei auf eine Temperatur von 0°C und einen Druck von 1 atm abs. Bei dem Volumen des Akzeptors handelt es sich um das Schüttvolumen. Selbstverständlich können aber auch Raumgeschwindigkeiten von weniger als 1000 und mehr als 10.000 zur Anwendung kommen. Besonders günstige Ergebnisse sind mit Raumgeschwindigkeiten im Bereich von 5000 -10.000 Volumina Gasmischung je Volumen des Akzeptors je Stunde erzielt worden.
  • Auch die Korngröße des festen Trägermaterials kann innerhalb eines weiten Bereiches variieren. Im allgemeinen liegt jedoch die Korngröße im Bereich von 0,5 - 1,5 mm, ohwohl auch Trägermaterialien mit Korngrößen außerhalb dieses bevorzugten Bereiches brauchbar sind.
  • Es wurde bereits vorstehend darauf hingewiesen, daß das erfindungsgemäße Verfahren den Vorteil bietet, daß es in einem Reaktor von relativ kleinen Abmessungen durchgeführt werden kann. Diese Tatsache beruht darauf, daß der erfindungsgemäß eingessetzte Akzeptor eine hohe Durchbruchskapazität aufweist.
  • Die Anwendung eines Reaktors von relativ kleinen Abmessungen hat zur Folge, daß auch die Regenerierung des beladenen Akzeptors, welche schon aus wirtschaftlichen Gründen sehr erwUnscht ist, in diesem Reaktor durchgeführt wird, und daß daher eine relativ hohe Regeneriergeschwindigkeit erforderlich wird, da sonst der Vorteil der Anwendung eines Reaktors von geringen Abmessungen wieder verloren geht. Eine relativ hohe Reaktionsgeschwindigkeit oder mit anderen Worten eine relativ kurze Regenerierungszeit wird erhalten, wenn der Akzeptor das Kupferoxid in Porm von Kristalliten mit Abmessungen unterhalb 100 2 und vorzugsweise unterhalb 50 Å enthalt, bestimmt durch Röntgenbeugungsmessungen. Bei einer derartigen Bestimmung der mittleren Teilchengröße eines Kristalliten ergibt sich die Teilchengröße aus der Linienverbreiterung eines Röntgenbeugungsdiagramms.
  • Ein zusatslscher Vorteil einer kurzen Regenerierzeit ist auch darin zu sehen, daß der Gehalt des verbrauchten Regeneriergases unter sonst identischen Bedingungen an Schwefeldioxyd umso hoher ist, Je kürzer die Regenerierzeit ist. Da die verbrauchten Regeneriergase als Ausgangsmaterial für die Erzeugung von Chemikalien eingesetzt werden können, beispielsweise für die Gewinnung von Schwefel oder Schwefelsãure, ist es im allgemeinen vorteilhaft, wenn der Schwefeldioxydgehalt der verbrauchten Gase so hoch wie möglich ist.
  • Der beladene Akzeptor kann unter Anwendung eines breiten Bereiches beztiglich der Raumgeschwindigkeiten des reduzierend wirkenden Gases regeneriert werden. Sehr geeignete Raumgeschwindigkeiten liegen im Bereich von 25 - 500 Volumenteilen des reduzierend wirkenden Gases je Volumenteil Akzeptor je Stunde. Selbstverständlich können auch Raumgeschwindigkeiten außerhalb dieses bevorzugten Bereiches angewendet werden, obwohl bei Raumgeschwindigketten unterhalb 25 die Regenerierzeit ziemlich lang wird und das verbrauchte Regeneriergas bei Raumgeschwindigkeiten oberhalb 500 einen nicht mehr tragbaren niedrigen Schwefeldioxydgehalt hat.
  • Sehr befriedigende Ergebnisse sind mit Regenerierzeiten im Bereich von 30 Minuten bis 2 Stunden erzielt worden. Besonders günstig sind Regenerierzeiten zwischen 1 und 1 1/2 Stunden.
  • Das feste Trägermaterial soll bei den Temperaturen, bei welchen das erfindungsgemäße Verfahren durchgeführt wird, beständig sein.
  • Jedoch sind nicht alle Trägermaterialien, welche dieser Bedingung entsprechen, gleich wirksam in bezug auf die Regenerierung des beladenen Akzeptors. Beispielsweise ist Kieselsäure weniger ge-, eignet, weil die fur eine anschließende Regenerierung erforderliche Zeit nach jedem aus einer Beladung und einer Regenerierung bestehenden Arbeitszyklus etwas länger ist als bei der vorhergehenden Regenerierbehandlung. Der Grund rar dieses Verhalten ist darin zu sehen, daß die Kupferoxydkristallite dazu neigen, sich während des Gebrauchs zu Büscheln oder Nestern zusammenzulagern.
  • Aua diesem Grund ist Kieselsäure als Trägermaterial schon aus wirtschaftlichen orRnden nicht besonders geeignet, denn ein solches Trägermaterial kann nur fur eine relativ kleine Anzahl von Arbettszyklen verwendet werden, welche aus einer Beladung und Regenerierung bestehen. Sehr geelgnete Trägermaterialien in bezug auf die Regenerierbehandlung enthalten Aluminiumoxyde, wobei γ-Aluminiumoxyd besonders bevorzugt ist, da es fur eine große Anzahl von aus Beladung und Regenerierung bestehenden Arbeitszyklen eingesetzt werden kann.
  • FAr die Herstellung von einem Akzeptor, welcher das Kupferoxyd in Form von Kristalliten mit Abmessungen unterhalb 100 Å enthält, ist nicht jede an sich bekannte Herstellungsmethode geeignet. Wenn man beispielsweise ein Trägermaterial mit einer Lösung imprägniert, welche Kupfersulfat enthalt, den Träger anschließend trocknet und dann kalziniert, so wird ein Akzeptor erhalten, bei dem das Kupferoxyd zur Hauptsache in Form von Kristalliten mit Abmessungen oberhalb 100 * vorliegt. Eine sehr geeignete Methode zur Herstellung von gut brauchbaren Akzeptoren besteht darin, daß man Kupfernitrat und/oder ein komplexes Kupferammoniumsalz auf einem Aluminiumoxyd niederschlägt, anschließend trocknet und kalziniert.
  • Ein solches Niederschlagen kann in der verschiedensten Weise durchgeführt werden, beispielsweise mittels einer wäßrigen Lösung von Kupfernitrat.
  • Obwohl der bei dem erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzte Akzeptor stabil ist, wird nach langem Gebrauch doeh eine gewisse Pulverbildung der Katalysatorteilchen beobachtet. Ein solcher zum Teil in Pulver umgewandelter Katalysator muß dann häufig durch eine frische Charge ersetzt werden. Um einen Akzeptor mit langer Lebensdauer zu erhalten, ist es daher vorteilhaft, bei der Herstellung desselben darauf zu achten, daß eine Pulverbildung während der praktischen Verwendung auf ein Minimum zurückgeführt wird. Das läßt sich erreichen, indem man in den Akzeptor ein Verstärkungsmaterial einlagert, welches unter den Betriebsbedingungen, bei welchen die Entfernung des Schwefeldioxyds durchgeführt wird, praktisch inert ist. Auf diese Weise lassen sich Pellets des Akzeptors mit verbesserter Härte und erhöhtem Abriebwiderstand erhalten.
  • Das Verstärkungsmaterial kann dem Akzeptor in jeder beliebigen Stufe des Herstellungsverfahrens einverleibt werden. Beispielsweise kann das Trägermaterial zunächst mit dem Verstärkungsmaterial behandelt werden, und dann kann die Kupferverbindung auf dem so behandelten Trägermaterial niedergeschlagen werden. Man kann aber auch zunächst die Kupferverbindung auf dem nicht vorbehandelten Trägermaterial niederschlagen und erst anschließend das Verstärkungsmaterial zusetzen.
  • Ein solches Verstärkungsmaterial wird vorzugsweise in einer Menge von 1 - 20 Gew.-%, bezogen auf das feste Trägermaterial, eingesetzt. Selbstverständlich können aber auch Konzentrationen außerhalb dieses bevorzugten Bereiches verwendet werden.
  • me bereits erwähnt, soll das Verstärkungsutaterial unter den Betriebsbedingungen, bei welchen das Schwefeldioxyd entfernt wird, praktisch inert sein. Falls in dem Verstärkungsmaterial große Mengen an Natrium vorhanden sind, bildet sich während der Beladung des Akzeptors so viel Natriumsulfat, daß dadurch die Festigkeit der Akzeptorteilchen beeinträchtigt wird. Vorzugsweise verwendet, man daher keine wäßrige Natriumsilikatlösung als Ausgangsmaterial für die Herstellung des verstärkten Akzeptors. Andererseits stellt kolloidale Kieselsäure ein sehr geeignetes Verstärkungsmaterial dar, wobei es sich um eine Dispersion von Kieselsäure in einem flüssigen Ibdiui handelt und die Kieselsäure Teilchengrößen innerhalb des kolloidalen Bereiches aufweist. Voraussetzung ist jedoch, daß eine solche kolloidale Kieselsäure einen geringen Natriumgehalt hat. Im Handel erhältliche kolloidale Kieselsäuren lassen sich sehr gut für derartige Verstärkungsswecke einsetzen.
  • Ein anderes geeignetes Verstärkungsmaterial ist ein Ton, dessen austauschbare Metallionen, insbesondere Alkalimetall- und/oder Erdalkalimetallionen, durch Wasserstoff- oder A@moniumionen ersetzt worden sind. For diesen Zweck geeignete Tone sind beispielsweise Attapulgit, Kaolin und Sepiolitt. Vorzugsweise wird für solehe Verstärkungszwecke ein Bentonit-Ton verwendet, dessen austauschbare Ionen durch Wassersttoffionen oder Ammoniumionen ersetzt worden sind.
  • Beispiel 1 Dieses Beispiel erläutert den Einfluß des Porendurchmessers auf die Durchbruchskapazität des Redoxkatalysators.
  • Als Ausgangsmaterial dienen vier verschiedene γ-Aluminiumoxydsorten mit unterschiedlicher Verteilung der Porengröße. Diese vier Proben von γ-Aluminiumoxyd werden gemäß der Trockentechnik mit einer wäßrigen Kupfernitratlösung imprägniert, anschließend 2 Stunden lang bei 1200C getrocknet und dann 3 Stunden lang bei 9000C kalviniert. Die so kalzinierten Akzeptoren liegen in Form von Teilchen mit Abmessungen im Bereich von 0,5 - 1,5 mm vor und enthalten jeweils 9 Gew.-% Kupfer als Kupferoxyd, berechnet auf das Trägermaterial. Das Gesamtporenvolumen von Poren mit Durchmessern oberhalb 200 Å wird mittels eines Quecksilberporosimeters bestimmt, und das Gesamtporenvolumen von Poren mit Durohmessern unterhalb 200 Å wird mittels der vorstehend erwähnten Stickstoffmethode bestimmt. Die so ermittelten Porenvolumina, der Prozentsatz des Porenvolumens, welcher durch Poren mit Durchmessern oberhalb 200 Å gebildet wird, sowie die spezifische Oberfläche der vier Katalysatorproben sind in der nachstehenden Tabelle I zusammengestellt.
  • TABELLE I
    Akzeptor Spezifi- Porenvolumen, ml/g, Porenvolumen in %,
    Nr. sche Ober- gemessen mittels das von Poren mit
    fläche in Stickstoff- Quecksilber- einem Durchmesser
    methode porosimeter über 200 Å gebil-
    m2/g
    (Porendurch- (Porendurch- det wird
    messer 200# messer größer
    u. weniger) als 200 Å)
    1 219 o,34 0,33
    2 310 0,47 0,20 30
    3 294 0,62 0 0
    4 284 0,70
    Vier Reaktionsrohre mit einem Durchmesser von 2 cm werden mit den vier Akzeptorproben beschickt. Die Betthöhe beträgt jeweils 8 cm.
  • Die Beladung des Akzeptors mlt Schwefeldioxyd wird mittels einer Gasmischung durchgeführt, welche 0,25 Vol.-% Schwefeldioxyd, 6 Vol.-% Wasser, 6 Vol.-S Sauerstoff enthält, während der Rest aus Stickstoff und Kohlendioxyd besteht. Die Regenerierung des beladenen Akzeptors wird mittels Methan bei einer Raumgeschwindigkeit von 25Q Volumenteilen Methan Je Volumenteil Redoxkatalysator je Stunde durchgeführt. Die Temperatur während der Beladung und der Regenerierung beträgt 400°C. Insgesamt werden elf verschiedene Versuche bei unterschiedlichen Raumgeschwindigkeiten im Bereich von 2000 - 10.000 Volumenteilen des Schwefeldioxyd enthaltenden Gases je Volumenteil Akzeptor je Stunde durchgefuhrt. Die Durchbruchskapazität der Akzeptoren wird derart definiert, daß 10 % des zugeführten Schwefeldioxyds am Auslaßende der Reaktionsrohre auftreten. Die Durchbruchskapazität wird dabei für Jeden Akzeptortyp aufgrund einer gewissen Anzahl von Arbeitszyklen bestimmt, welche die Beladung und Regenerierung umfassen. In der nachstehenden Tabelle II sind die einzelnen Versuche, die angewendeten Raumgeschwindigkeiten und diet Durchbruchskapazität zusammengestellt.
  • TABELLE II
    Versuch Akzeptor Raumgeschwindig- Durchbruchskapazltät
    Nr. NrO keit Beladung des Akzeptors
    @l/l/h mit S02 In %
    1 1 4000 8,8
    2 1 7700 8,1
    3 2 2000 9,2
    4 2 4000 9,0
    5 2 8000 8,4
    6 2 10000 7,0
    7 3 2000 9,0
    8 3 4000 7,2
    9 3 8000 5,8
    10 4 4000 7,4
    11 4 7700 5,4
    Die Ergebnisse der Tabelle II sind in der beigefühten Zeichnung graphisch dargestellt. Auf der Abszisse der graphischen Figur aufgetragen, ist die Raumgeschwindigkeit/ausgedrückt als Volumenteile des Schwefeldioxyd enthaltenden Gases je Volumenteil Akzeptor je Stunde. Auf der Ordinate ist die Durchbruchskapazität aufgatragen ausgedrückt als Prozent@atz an Schwefeldioxyd, welcher von dem Akzeptor aufgenommen wird, bezogen auf das Gewicht des Akzeptors.
  • Auch die Nummer des betreffenden Versuchs ist in der Figur neben dem Versuchspunkt eingetragen. Die durch die Versuchspunkte gelegten Kurven bestätigen, daß bei Anwendung hoher Raumgeschwindig keiten die Akzeptortypen 1 und 2 höher beladen werden können als die Akzeptortypen 3 und 4.
  • Beispiel 2 Dieses Beispiel erläutert den Einfluß der Abmessungen der Kupferoxydkristallite auf die Regeneriergeschwindigkeit.
  • Man stellt einen Akzeptor her, indem man mittels der Trockenimprägniermethode γ-Aluminiumoxyd mit einer wäßrigen Kupfernitratlösung imprägniert, anschließend bei einer Temperatur zwischen 400 und 450°C kalziniert. Dieser Akzeptor enthält 9 Gew.-% Kupfer in Form von Kupferoxyd, berechnet auf das t-Aluminiumoxyd. Mittels eines Röntgenbeugungsdiagramms wird festgestellt, daß die Kupferoxydkristallite Abmessungen unterhalb 50 2 haben.
  • und Nach 800 aus einer Beladung' einer Regenerierung bestehenden Arbeitszyklen zeigt sich, daß nur noch 70 % der auf dem Trägermaterial vorhandenen Kupferoxydkristallite Abmessungen unterhalb 50 Å aufweisen, während 30 % der Kristallite Abmessungen in Bereich von 900 - 1200 Å haben. Die rar die Regenerierung des beladenen Akzeptors erforderliche Zeit ist nach den 800 Arbeitszyklen um 30 % länger als zu Beginn des Verfahrens.
  • Beispiel 3 Dieses Beispiel erläutert, daß Kieselsäure als Trägermaterial weniger geeignet ist als Aluminiumoxyd.
  • Mittels der Ionenaustauschtechnik wird ein Akzeptor hergestellt, welcher 14 Gew.-% Kupfer in Form von Kupferoxyd auf Kieselsäure niedergeachlagen enthält. Dabei liegan @3 % des Kupferoxyda in Form von Kristalliten Ilt Abmessungen unterhalb 50 R vor.
  • Nach 10 aus einer Beladung und einer Regenerierung bestehenden Arbeitszyklen hat sich die Regeneriergeschwindigkeit um ein Drittel vermindert, und ein Röntgenbeugungsdiagramm bestätigt, daß ein Drittel des Kupferoxyds auf dem Akzeptor in Porn von Kristalliten mit Abmessungen im Bereich von 900 - 1200 R vorliegen.
  • mit Beispiel 2 Ein Vergleich dieses Ergebnisses /bestätigt, daß γ-Aluminiumoxyd gegenüber Kieselsäure als Trägermaterial bevorzugt ist.
  • Beispiel 4 Bei diesen Versuchen werden zwei verschiedene Akzeptoren verwendet. Ein Akzeptor wird gemaß Beispiel 1 hergestellt. Der andere Akzeptor wird erhalten, indem man ein γ-Aluminiumoxyd nach der Trockentechnik mit einer wäßrigen Kupfernitratlösung impragniert und dann 2 Stunden lang bei 1200C trocknet. Dann wird der Akzeptor mit der gleichen Gewichtsmenge Wasser und mit 10 Gew.-% Aluminiumnitrat vermischt, und diese Mischung wird 50 Minuten lang vermahien. Anschließend setzt man eine kolloidale Kieselsäurelösung in einer Menge zu, welche 14 Gew.-% SiO2, bezogen auf die Akzeptormasse, äquivalent ist. Die kolloidale Kieselsäurelösung enthält 30 Gew.-% SiO2 und 0,06 Gew.-% Natrium, berechnet als Na,O. Die kolloidale Kieselsäure ist mit 0,25 Gew.-% Ammoniak, berechnet als NH3, stabilisiert. Die dispergierten kolloidalen Kieselsäureteilchen weisen eine mittlere Teilchengröße von 13 Millimikron auf und die spezifische Oberfläche der dispergierten Teilchen beträgt 235 m2/g.@ Nach dem Zusatz der kolloidalen Kieselsäurelösung wird die Masse homogenisiert, und das wasser wird durch eine Trocknungsbehandlung bei 1200C verdampft. Dann kalziniert man die trockene Masse 3 Stunden lang bei einer Temperatur von 500°C und verformt sie schließlich zu Teilchen. Die Teilchengröße der beiden Akzeptoren variiert im Bereich von 0,5 - 1 mm. Beide Akzeptoren werden in einem vertikal angeordneten Reaktor geprüft, welcher am unteren Ende mit einem Gaseinlaß und am Kopfende mit einem Gasauslaß versehen ist. Dieser Reaktor besteht aus einem Gazerohr von 1 cm Innendurchmesser und 210 cm Länge, auf welches außen eine 0,2 cm dicke Schicht des Akzeptors aufgebracht ist. Die Öffnungen in der Gase haben eine Große von 74 Mikron (200 Maschen).
  • Jeder Akzeptor wird in diesem Reaktor während 2311 Betriebsstunden geprüft, wobei 2490 aus Beladung und Regenerierung bestehende Arbeitszyklen durchgeftihrt werden und jeder Arbeitszyklus 55 Minuten lang dauert. Während der Beladungsstufe wird ein Gas durch die Reaktionsrohre geleitet, welches 0,25 - 0,35 Vol.-% Schwefeldioxyd enthält. Die Regenerierbehandlung wird mittels eines Gasen durchgeführt, welches 90 Vol.-% Propan und insgesamt 10 Vol.-% Propen und Xthan enthält.
  • Die in Tabelle III zusammengefaßten Versuchsergebnisse bestätigen, daß sich die durch Kieselsäure verstärkten Akzeptorteilchen praktisch nicht pulverisiert hatten und keine Teilchen mit Abmessungen unterhalb 149 Mikron gebildet hatten TABELLE III
    Teilchengröße Akzeptor nicht mit SiO2 Akzeptor mit SiO2
    verstärkt verstärkt
    Gew.-% Gew.-%
    größer als 420
    Mikron 72 55
    149 - 420 Mikron 9 44
    44 - 149 Mikron 2 1
    kleiner als 44
    Mikron 17 0
    Beispiel 5 513,9 g Cu(NO3)2.3H2O werden in Wasser gelöst, und diese Lözung wird auf 3500 ml verdünnt. Dann werden 1500 g γ-Aluminiumoxyd, bei welchem das Porenvolumen zu mehr als 10 Gew.-% durch Poren mit Durchmessern von mehr als 200 Å gebildet wird, mit dieser Lösung imprägniert. Vor der Imprägnierbehandlung wird das Aluminiumoxyd 3 Stunden lang bei 500°C kalziniert0 Die nach dem Imprägnieren erhaltene Paste wird ausgepreßt, bei 120°C getrocknet und dann 3 Stunden lang bei 500°C kalziniert. Die so erhaltenen geformten Teilchen werden zerkleinert, bis eine Mischung erhalten wird, welche zu 60 Gew.-% aus Teilchen mit einer Größe im Bereich zwischen 840 und 1000 Mikron und zu 40 Gew.-% aus Teilchen mit einer Größe im Bereich von 1300 und 1200 Mikron besteht.
  • 80 g des so hergestellten Akzeptors werden in einer Kugebntlhle mit 15,4g Bentonit in der Ammoniumform vermischt. Diese Mischung wird unter Zusatz von 110 ml einer wäßrigen Aluminiumnitratlösung geknetet, welche 19,5 g Al(NO3)3.9H2O enthalt. Diese Paste wird ausgepreßt, bei 1200C getrocknet und dann 3 Stunden lang bei 5000C kalziniert. Die erhaltenen ausgeformten Teilchen werden 5erkleinert, bis man eine Mischung erhält, welche zu 60 Gew.-% aus Teilchen Bit einer Größe zwischen 840 und 1006 Mikron sowie zu *0 Gew.-% an. Teilchen mit einer Größe im Bereich von 1000 und 1200 Mikron besteht.
  • Jeweils ein Reaktionsrohr wird mit 20 ml des Bentonit-freien Akzeptors bzw. mit 20 ml des durch Bentonit verstärkten Akzeptors beschickt. Die beiden Akzeptortypen werden dann 500 Arbeitszyklen unterworfen, wobei jeder Arbeitszyklus aus den folgenden Stufen besteht: a) Beladen mit SO2 unter Verwendung einer Gasmischung, welche 75 Vol.-% Luft, 10 Vol.-% Wasser und 15 Vol.-% Schwefeldioxyd enthält, bei einer Temperatur von 40000 und einer stündlichen Raumgezchwindigkeit von 5000 Nl/l/h. Die Beladungszeit beträgt 2,5 Minuten; b) Ausspülen der Reaktionsrohre während 5 Minuten mit Stickstoff bei einer stündlichen Raumgeschwindigkeit von 6000 Nl/l/h; c) Regenerieren des beladenen Akzeptors mittels einer Gasmischung, welche 90 Vol.-% Propan und insgesamt 10 Vol.-% Propen und Äthan enthält, bei einer ständlichen Raumgeschwindigkeit von 1000 NlSlOh. Die Regenerierzeit beträgt 2,5 Minuten; d) Abbrennen der auf dem Akzeptor niedergeschlagenen Kohlenstoffteilchen durch Durchleiten heißer Luft bei einer Raumgeschwindigkeit von 4000 Nl/l/h während inagesamt 3 Minuten.
  • Die in Tabelle IV zusammengefaßten Versuch@ergebnisse bestätigen, daß der mit Bentonit verstärkte Akzepter eine viel größere Festigkeit aufweist als der nicht verstärkte Akzeptor.
  • TABELLE IV
    Teilchengröße Akzeptor nicht mit Akzeptor mit
    Bentonit vorstärkt Bentonit verstärkt
    Gew.-% Gew.-%
    1000 - 1200 Mikron 6,2 33,7
    840 - 1000 Mikroon 66,4 59,4
    420 - 840 Mikron 23,8 6,3
    kleiner ein 420 Mikron 3,6 0,6

Claims (10)

  1. Patentansprüche 1. Verfahren zum Entfernen von Schwefeldioxyd aus einem sauerstoffhaltigen Gasgemlsch, wobei dieses Gemisch bei einer Temperatur über 300°C mit einem Akzeptor in Berührung gebracht wird, der aus einem festen, Kupferoxyd enthaltenden Trägermaterial besteht und gegebenenfalls regeneriert wird, nach Patent ... (Patentanmeldung P 15 94687.9), dadurch gekennzeichnet, daß ein Trägermaterial mit einem Porenvolumen verwendet wird, welches zu mindestens 10 % von Porer mit einem Durchmesser über 200 Å gebildet wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Trägermaterial mit einem Porenvolumen verwendet wird, welches zu mindestens 10 % von Poren mit einem Durchmesser unter 4000 Å gebildet wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein Trägermaterial mit einem Porenvolumen verwendet wird, das zu mindestens 30 % von Poren mit einem Durchmesser über 200 Å gebildet wird.
  4. 4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das feste Trägermaterial eine Korngröße im Bereich von 0,5 -1,5 mm aufweist.
  5. 5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Akzeptor Kupferoxyd in Form von Kristalliten mit Abmessungen unterhalb 100 Å, vorzugsweise unterhalb 50 Å, bestimmt aufgrund von Röntgenbeugungsdiagrammen, enthält.
  6. 6. Verfahren nach Anspruch 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das feste Trägermaterial γ-Aluminiumoxyd enthält.
  7. 7. Verfahren nach Anspruch 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das feste Trägermaterial zusätzlich ein Verstärkungsmaterial enthält.
  8. 8. Verfahren nach Anspruch 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Schwefeldioxyd enthaltende Gasgemisch mit einer Raumgeschwindigkeit von 1000 - 10.000 Volumenteilen Gas, vorzugsweise von 5000 - 10.000 Volumenteilen Gas je Volumenteil Akzeptor je Stunde über den Akzeptor geleitet wird.
  9. 9. Verfahren nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß der beladene Akzeptor mittels eines reduzierend wirkenden Gases oder einer zolchen Ga@mischung bei einer Raumgeschwindigkeit von 25 - 500 Volumenteilen Gas je Volumenteil Akzeptor je Stunde regeneriert wird.
  10. 10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Regenerierzeit 30 Minuten bis 2 Stunder beträgt,
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