DE1900984B2 - Verfahren zum Entfernen von Schwefeldioxyd aus einem sauerstoffhaltigen Gasgemisch - Google Patents
Verfahren zum Entfernen von Schwefeldioxyd aus einem sauerstoffhaltigen GasgemischInfo
- Publication number
- DE1900984B2 DE1900984B2 DE1900984A DE1900984A DE1900984B2 DE 1900984 B2 DE1900984 B2 DE 1900984B2 DE 1900984 A DE1900984 A DE 1900984A DE 1900984 A DE1900984 A DE 1900984A DE 1900984 B2 DE1900984 B2 DE 1900984B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- acceptor
- sulfur dioxide
- pores
- gas mixture
- regeneration
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 54
- 239000007789 gas Substances 0.000 title claims description 40
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 24
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 title claims description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 title claims description 7
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 44
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims description 31
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims description 31
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 claims description 21
- QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N Copper oxide Chemical compound [Cu]=O QPLDLSVMHZLSFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000005751 Copper oxide Substances 0.000 claims description 18
- 229910000431 copper oxide Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 7
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 claims description 6
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 81
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 22
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 7
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 7
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 7
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N Propene Chemical compound CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 4
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 4
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 description 2
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- -1 ammonium ions Chemical class 0.000 description 2
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 2
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000158147 Sator Species 0.000 description 1
- 239000004113 Sepiolite Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910001420 alkaline earth metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229960000892 attapulgite Drugs 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- ZURAKLKIKYCUJU-UHFFFAOYSA-N copper;azane Chemical compound N.[Cu+2] ZURAKLKIKYCUJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 1
- 238000003197 gene knockdown Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002045 lasting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N nitrogen dioxide Inorganic materials O=[N]=O JCXJVPUVTGWSNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052625 palygorskite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 1
- 229910052624 sepiolite Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019355 sepiolite Nutrition 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 230000002459 sustained effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B17/00—Sulfur; Compounds thereof
- C01B17/48—Sulfur dioxide; Sulfurous acid
- C01B17/50—Preparation of sulfur dioxide
- C01B17/60—Isolation of sulfur dioxide from gases
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/584—Recycling of catalysts
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Weiterentwicklung des Verfahrens nach Patent 15 94 687, bei welchem ein
schwefeldioxid- und sauerstoffhaltiges Gasgemisch bei einer Temperatur im Bereich von 325 bis 425° C mit
einem Akzeptor in Berührung gebracht wird, der aus einem festen, Kupferoxid enthaltenden Trägermaterial
besteht, und anschließend der beladene Akzeptor mit einem reduzierenden Gas oder Gasgemisch bei einer
Temperatur regeneriert wird, die gleich oder höher ist als jene, bei welcher die Beladung erfolgt ist, jedoch
unter 500° C liegt.
Das Verfahren des Hauptpatents kann absatzweise oder kontinuierlich durchgeführt werden. Eine sehr
interessante Ausführungsform dieses Verfahrens besteht darin, daß die Sauerstoff enthaltende Gasmischung
durch ein oder mehrere Gaskanäle geleitet wird, welche sich praktisch parallel zueinander erstrecken, wobei die
Wände der Gaskanäle derart ausgeführt sind, daß sich der Akzeptor auf, in oder hinter den Kanalwandungen
befindet und für die Gasmischung frei zugänglich ist.
Der absatzweise Betrieb läßt sich sehr zweckmäßig in einer Anlage mit zwei Reaktoren durchführen, welche
wechselweise für die Beladung und für die Regenerierung dienen. Die Sauerstoff enthaltende Gasmischung
wird dabei durch den ersten Reaktor während der Beladungsstufe hindurchgeleitet, bis die Durchbruchskapazität
erreicht ist. Als Durchbruchskapazität wird die Anzahl Gewichtseinheiten an Schwefeldioxid
definiert, welche von 100 Gewichtseinheiten des ■5 Akzeptors aufgenommen worden ist, und zwar zu einem
Zeitpunkt, in dem eine vorbestimmte Menge an Schwefeldioxid am Auslaufende des Akzeptorbettes
austritt Während der Regenerierung des beladenen Akzeptors wird der zweite Reaktor, der mit vorher
ίο regeneriertem Akzeptor gefüllt ist, auf die Beladung
umgestellt Bei einem kontinuierlichen Betrieb kann auch ein sich fortbewegender Akzeptor oder eine
Akzeptorwirbelschicht verwendet werden.
Die Durchbruchskapazität des Akzeptors hängt in großem Ausmaß von der vorherbestimmten Menge an
Schwefeldioxid ab, welche zulässigerweise am Austrittsende des Katalysators in Erscheinung treten darf, sowie
von der stündlichen Raumgeschwindigkeit, mit welcher die Gasmischung durch den als Beladungsstufe geschalteten
Reaktor der Anlage hindurchgeht. Im Hinblick auf die sehr großen Mengen an Schwefeldioxid enthaltenden
Gasmischungen, welche oft anfallen, ist es von großem Vorteil, wenn im Verlauf des ganzen Verfahrens
eine sehr hohe stündliche Raumgeschwindigkeit der Gasmischung und eine hohe Durchbruchskapazität des
Akzeptors aufrechterhalten werden kann. Bei einer sehr hohen Raumgeschwindigkeit kann jedoch der Fall
eintreten, daß die vorbestimmte Menge an Schwefeldioxid am Auslaßende des für die Beladung eingesetzten
jo Reaktors schon kurz nach Inbetriebnahme desselben
austritt. In einem solchen Fall hat der Akzeptor nur eine niedrige Durchbruchskapazität und das auf dem
Trägermaterial niedergeschlagene Kupferoxid wird nicht ausreichend ausgenützt In dem Maß, wie der
Beladungszustand des Akzeptors niedriger ist, wird mehr Akzeptor benötigt, um die gleiche Menge an
Schwefeldioxid zu binden. Bei Akzeptoren mit einer niedrigen Durchbruchskapazität werden daher sehr
große Reaktoren benötigt.
Erfindungsgemäß lassen sich diese Nachteile beheben, und es kann insbesondere mit einem relativ klein
ausgelegten Reaktor gearbeitet werden. Außerdem läßt sich die Regenerierung in einer kürzeren Zeitspanne
durchführen.
Das erfindungsgemäße Verfahren zum Entfernen von Schwefeldioxid aus einem sauerstoffhaltigen Gasgemisch
mit einem aus einem festen, Kupferoxid enthaltenden Trägermaterial bestehenden Akzeptor,
der anschließend mit einem reduzierenden Gas oder
so Gasgemisch regeneriert wird unter Bildung eines Regenerierungsabgases, das einen relativ hohen Gehalt
an Schwefeldioxid besitzt, wobei das Schwefeldioxid enthaltende Gasgemisch bei einer Temperatur im
Bereich von 325 bis 4250C mit dem Akzeptor kontaktiert und der beladene Akzeptor bei einer
Temperatur regeneriert wird, die gleich oder höher ist als jene, bei welcher die Beladung erfolgt ist, jedoch
unter 500° C liegt, nach Patent 15 94 687, ist dadurch gekennzeichnet, daß das Kupferoxid im Akzeptor in
Form von Kristalliten mit Abmessungen unterhalb 100 A, bestimmt aufgrund von Röntgenbeugungsdiagrammen,
vorliegt und daß ein Trägermaterial verwendet wird, dessen Porenvolumen zu mindestens 10% aus
Poren mit einem Durchmesser über 200 A gebildet wird.
Das Gesamtvolumen an Poren mit einem Durchmesser von über 200 A wird gemäß der Methode von H. L
Ritter und L. C. Drake bestimmt (Ind. Eng. Chemistry, Analytical Edition 17 [1945], Seiten
782-786). Diese Meßmethode beruht auf der Tatsache, daß Quecksilber je nach dem angewendeten Druck
durch Poren unterschiedlicher Größe gedrückt werden kann. Je kleiner die Poren sind, in welche das
Quecksilber eingepreßt werden soll, desto größer ist der dafür erforderliche Druck. Beispielsweise kann Quecksilber
bei einem Druck von 140 kg/cm2 abs. in Poren von einem Durchmesser von 1066 Ä und mehr gepreßt
werden, während für Poren mit einem Durchmesser von 214 A und mehr ein Druck von 700 kg/cm2 abs. benö<igt
wird. Als Grundlage für die Bestimmung der Verteilung des Porenvolumens über einen bestimmten Bereich des
Porendurchmessers dienen daher Messungen mit einem im Handel erhältlichen Quecksilberporosimeter in
Standardausführung.
Für die Bestimmung des Gesamtvolumens derjenigen Poren, welche einen Durchmesser von 200 Ä und
weniger aufweisen, wird die Methode von S. B r u η a υ e r, P. H. E m m e 11 und E. T e 11 e r verwendet (Journal
American Chemical Society 60 [1938], Seiten 309-319). Diese Meßmethode beruht auf der Kondensation von
Stickstoff innerhalb der Poren.
Der Prozentsatz des Porenvolumens, welches von Poren mit Durchmessern oberhalb 200 A gebildet wird,
läßt sich berechnen, indem man das Gesamtvolumen der Poren mit Durchmessern von mehr als 200 A durch die
Summe des Gesamtvolumens an Poren mit Durchmessern von mehr als 200 A und des Gesamtvolumens von
Poren mit Durchmessern von 200 A oder weniger teilt und den dabei erhaltenen Quotienten mit 100 multipliziert.
Bei den Poren mit Durchmessern von mehr als 200 A kann der Einzeldurchmesser innerhalb eines sehr weiten
Bereichs variieren. Sehr gute Ergebnisse sind mit festen Trägermaterialien erzielt worden, bei denen das
Porenvolumen zu mindestens 10% durch Poren mit einem Durchmesser von weniger als 4000 A gebildet
wird. Selbstverständlich können aber auch Trägermaterialien eingesetzt werden, deren Poren einen Durchmesser
oberhalb 4000 A aufweisen. Vorzugsweise werden mindestens 30% des Porenvolumen des Trägermaterials
von Poren gebildet, welche Durchmesser von mehr als 200 A aufweisen.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren können die stündlichen Raumgeschwindigkeiten innerhalb eines
weiten Bereichs variieren. Sehr zweckmäßig liegen die Raumgeschwindigkeiten im Bereich von 1000—10 000
Volumenteilen der Gasmischung je Volumenteil Akzeptor je Stunde. Die Gasvolumina beziehen sich dabei auf
eine Temperatur von O0C und einen Druck von 1 atm abs. Bei dem Volumen des Akzeptors handelt es sich um
das Schüttvolumen. Selbstverständlich können aber auch Raumgeschwindigkeiten von weniger als 1000 und
mehr als 10 000 zur Anwendung kommen. Besonders günstige Ergebnisse sind mit Raumgeschwindigkeiten
im Bereich von 5000 — 10 000 Volumina Gasmischung je
Volumen des Akzeptors je Stunde erzielt worden.
Auch die Korngröße des festen Trägermaterials kann innerhalb eines weiten Bereiches variieren. Im allgemeinen
liegt jedoch die Korngröße im Bereich von 0,5—1,5 mm, obwohl auch Trägermaterialien mit Korngrößen
außerhalb dieses bevorzugten Bereiches brauchbar sind.
Es wurde bereits vorstehend darauf hingewiesen, daß das erfindungsgemäße Verfahren den Vorteil bietet, daß
es in einem Reaktor von relativ kleinen Abmessungen
durchgeführt werden kann. Diese Tatsache beruht darauf, daß der erfindungsgemäß eingesetzte Akzeptor
eine hohe Durchbruchskapazität aufweist.
Die Anwendung eines Reaktors von relativ kleinen Abmessungen hat zur Folge, daß auch die Regenerierung
des beladenen Akzeptors, welche schon aus wirtschaftlichen Gründen sehr erwünscht ist, in diesem
Reaktor durchgeführt wird, und daß daher eine relativ hohe Regeneriergeschwindigkeit erforderlich wird, da
sonst der Vorteil der Anwendung eines Reaktors von geringen Abmessungen wieder verlorengeht. Eine
iü relativ hohe Reaktionsgeschwindigkeit oder mit anderen
Worten eine relativ kurze Regenerierungszeit wird erhalten, wenn der Akzeptor das Kupferoxid in Form
von Kristalliten mit Abmessungen unterhalb 100 A und vorzugsweise unterhalb 50 A enthält, bestimmt durch
Röntgenbeugungsmessungen. Bei einer derartigen Bestimmung der mittleren Teilchengröße eines Kristalliten
ergibt sich die Teilchengröße aus der Linienverbreiterung eines Röntgenbeugungsdiagramms.
Ein zusätzlicher Vorteil einer kurzen Regenerierzeit ist auch darin zu sehen, daß der Gehalt des verbrauchten Regeneriergases unter sonst identischen Bedingungen an Schv/efeldioxid um so höher ist, je kürzer die Regenerierzeit ist. Da die verbrauchten Regeneriergase als Ausgangsmaterial für die Erzeugung von Chemikalien eingesetzt werden können, beispielsweise für die Gewinnung von Schwefel oder Schwefelsäure, is I es im allgemeinen vorteilhaft, wenn der Schwefeldioxidgehalt der verbrauchten Gase so hoch wie möglich ist.
Ein zusätzlicher Vorteil einer kurzen Regenerierzeit ist auch darin zu sehen, daß der Gehalt des verbrauchten Regeneriergases unter sonst identischen Bedingungen an Schv/efeldioxid um so höher ist, je kürzer die Regenerierzeit ist. Da die verbrauchten Regeneriergase als Ausgangsmaterial für die Erzeugung von Chemikalien eingesetzt werden können, beispielsweise für die Gewinnung von Schwefel oder Schwefelsäure, is I es im allgemeinen vorteilhaft, wenn der Schwefeldioxidgehalt der verbrauchten Gase so hoch wie möglich ist.
Der beladene Akzeptor kann unter Anwendung eines breiten Bereiches bezüglich der Raumgeschwindigkeiten
des reduzierend wirkenden Gases regeneriert werden. Sehr geeignete Raumgeschwindigkeiten liegen
im Bereich von 25 — 500 Volumenteilen des reduzierend wirkenden Gases je Volumenteil Akzeptor je Stunde.
ij Selbstverständlich können auch Raumgeschwindigkeiten
außerhalb dieses bevorzugten Bereiches angewendet werden, obwohl bei Raumgeschwindigkeiten unterhalb
25 die Regenerierzeit ziemlich lang wird und das verbrauchte Regeneriergas bei Raumgeschwindigkeiten
oberhalb 500 einen nicht mehr tragbaren niedrigen Schwefeldioxidgehalt hat. Sehr befriedigende Ergebnisse
sind mit Regenerierzeiten im Bereich von 30 Minuten bis 2 Stunden erzielt worden. Besonders günstig sind
Regenerierzeiten zwischen 1 und 1 '/2 Stunden.
•»5 Das feste Trägermaterial soll bei den Temperaturen,
bei welchen das erfindungsgemäße Verfahren durchgeführt wird, beständig sein. Jedoch sind nicht alle
Trägermaterialien, welche dieser Bedingung entsprechen, gleich wirksam in bezug auf die Regenerierung des
so beladenen Akzeptors. Beispielsweise ist Kieselsäure weniger geeignet, weil die für eine anschließende
Regenerierung erforderliche Zeit nach jedem aus einer Beladung und einer Regenerierung bestehenden Arbeitszyklus
etwas länger ist als bei der vorhergehenden Regenerierbehandlung. Der Grund für dieses Verhalten
ist darin zu sehen, daß die Kupferoxidkristallite dazu neigen, sich während des Gebrauchs zu Büscheln oder
Nestern zusammenzulagern. Aus diesem Grund ist Kieselsäure als Trägermaterial schon aus wirtschaftlichen
Gründen nicht besonders geeignet, denn ein solches Trägermaterial kann nur für eine relativ kleine
Anzahl von Arbeitszyklen verwendet werden, welche aus einer Beladung und Regenerierung bestehen. Sehr
geeignete Trägermaterialien in bezug auf die Regenerierbehandlung enthalten Aluminiumoxide, wobei
γ-Aluminiumoxid besonders bevorzugt ist, da es für eine
große Anzahl von aus Beladung und Regenerierung bestehenden Arbeitszyklen eingesetzt werden kann.
Für die Herstellung von einem Akzeptor, welcher das Kupferoxid in Form von Kristalliten mit Abmessungen
unterhalb lOOÄ enthält, ist nicht jede an sich bekannte
Herstellungsmethode geeignet. Wenn man beispielsweise ein Trägermaterial mit einer Lösung imprägniert,
welche Kupfersulfat enthält, den Träger anschließend trocknet und dann kalziniert, so wird ein Akzeptor
erhalten, bei dem das Kupferoxid zur Hauptsache in Form von Kristalliten mit Abmessungen oberhalb 100 Ä
vorliegt. Eine sehr geeignete Methode zur Herstellung von gut brauchbaren Akzeptoren besteht darin, daß
man Kupfernitrat und/oder ein komplexes Kupferammoniumsalz auf einem Aluminiumoxid niederschlägt,
anschließend trocknet und kalziniert. Ein solches Niederschlagen kann in der verschiedensten Weise |-,
durchgeführt werden, beispielsweise mittels einer wäßrigen Lösung von Kupfernitrat.
Obwohl der dem erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzte Akzeptor stabil ist, wird nach langem
Gebrauch doch eine gewisse Pulverbildung der Katalysatorteilchen beobachtet. Ein solcher zum Teil in
Pulver umgewandelter Katalysator muß dann häufig durch eine frische Charge ersetzt werden. Um einen
Akzeptor mit langer Lebensdauer zu erhalten, ist es daher vorteilhaft, bei der Herstellung desselben darauf
zu achten, daß eine Pulverbildung während der praktischen Verwendung auf ein. Minimum zurückgeführt
wird. Das läßt sich erreichen, indem man in den Akzeptor ein Verstärkungsmaterial einlagert, welches
unter den Betriebsbedingungen, bei welchen die jo Entfernung des Schwefeldioxids durchgeführt wird,
praktisch inert ist. Auf diese Weise lassen sich Pellets des Akzeptors mit verbesserter Härte und erhöhtem
Abriebwiderstand erhalten.
Das Verstärkungsmaterial kann dem Akzeptor in r> jeder beliebigen Stufe des Herstellungsverfahrens
einverleibt werden. Beispielsweise kann das Trägermaterial zunächst mit dem Verstärkungsmaterial behandelt
werden, und dann kann die Kupferverbindung auf dem so behandelten Trägermaterial niedergeschlagen werden.
Man kann aber auch zunächst die Kupferverbindung auf dem nicht vorbehandelten Trägermaterial
niederschlagen und erst anschließend das Verstärkungsmaterial zusetzen.
Ein solches Verstärkungsmaterial wird vorzugsweise in einer Menge von 1—20 Gew.-%, bezogen auf das
feste Trägermaterial, eingesetzt. Selbstverständlich kennen aber auch Konzentrationen außerhalb dieses
bevorzugten Bereiches verwendet werden.
Wie bereits erwähnt, soll das Verstärkungsmaterial unter den Betriebsbedingungen, bei welchen das
Schwefeldioxid entfernt wird, praktisch inert sein. Falls in dem Verstärkungsmaterial große Mengen an
Natrium vorhanden sind, bildet sich während de Beladung des Akzeptors so viel Natriumsulfat, da
dadurch die Festigkeit der Akzeptorteilchen beeinträchtigt wird. Vorzugsweise verwendet man daher keine
wäßrige Natriumsilikatlösung als Ausgangsmaterial für die Herstellung des verstärkten Akzeptors. Anderer
seits stellt kolloidale Kieselsäure ein sehr geeignete Verstärkungsmaterial dar, wobei es sich um eini
Dispersion von Kieselsäure in einem flüssigen Medium handelt und die Kieselsäure Teilchengrößen innerhalb
des kolloidalen Bereiches aufweist. Voraussetzung ist jedoch, daß eine solche kolloidale Kieselsäure einen
geringen Natriumgehalt hat. Im Handel erhältlich« kolloidale Kieselsäuren lassen sich sehr gut für derartigi
Verstärkungszwecke einsetzen.
Ein anderes geeignetes Verstärkungsmaterial ist eii Ton, dessen austauschbare Metallionen, insbesonder
Alkalimetall- und/oder Erdalkalimetallionen, durc Wasserstoff- oder Ammoniumionen ersetzt wordei
sind. Für diesen Zweck geeignete Tone sind beispiels weise Attapulgit, Kaolin und Sepiolit. Vorzugsweis
wird für solche Verstärkungszwecke ein Bentonit-Toi verwendet, dessen austauschbare Ionen durch Wasser
stoffionen oder Ammoniumionen ersetzt worden sind.
Dieses Beispiel erläutert den Einfluß des Porendurch messers auf die Durchbruchskapazität des Redoxkataly
sators.
Als Ausgangsmaterial dienen vier verschieden y-Aluminiumoxidsorten mit unterschiedlicher Vertei
lung der Porengröße. Diese vier Proben von y-Alumi niumoxid werden gemäß der Trockentechnik mit eine
wäßrigen Kupfernitratlösung imprägniert, anschließen* 2 Stunden lang bei 120° C getrocknet und dann ;
Stunden lang bei 500° C kalziniert. Die so kalzinierter Akzeptoren liegen in Form von Teilchen mit Abmessun
gen im Bereich von 0,5 -1,5 mm vor und enthaltei jeweils 9 Gew.-% Kupfer als Kupferoxid, berechnet au
das Trägermaterial. Das Gesamtporenvolumen voi Poren mit Durchmessern oberhalb 200 A wird mittel
eines Quecksilberporosimeters bestimmt, und da; Gesamtporenvolumen von Poren mit Durchmessen
unterhalb 200 Ä wird mittels der vorstehend erwähntei Stickstoffmethode bestimmt. Die so ermittelten Poren
Volumina, der Prozentsatz des Porenvolumens, welche durch Poren mit Durchmessern oberhalb 200 A gebilde
wird, sowie die spezifische Oberfläche der vie Katalysatorproben sind in der nachstehenden Tabelle
zusammengestellt.
| Akzeptor | Spezifische | Porenvolumen, ml/g, | gemessen mittels | Porenvolumen in %, |
| Nr. | Oberfläche in | das von Poren mit | ||
| m2/g | Stickstoffmethode | Quecksilber- | einem Durchmesser | |
| porosimeter | über 200 A gebildet | |||
| (Porendurchmesser | (Porendurchmesser | wird | ||
| 200 Ä und weniger) | größer als 200 A) | |||
| 1 | 219 | 0,34 | 0,33 | 49 |
| 2 | 310 | 0,47 | 0,20 | 30 |
| 3 | 294 | 0,62 | 0 | 0 |
| 4 | 284 | 0.70 | 0 | 0 |
Vier Reaktionsrohre mit einem Durchmesser von 2 cm werden mit den vier Akzeptorproben beschickt.
Die Betthöhe beträgt jeweils 8 cm. Die Beladung des Akzeptors mit Schwefeldioxid wird mittels einer
Gasmischung durchgeführt, welche 0,25 Vol.-°/o Schwefeldioxid, 6 Vol.-% Wasser, 6 Vol.-°/o Sauerstoff enthält,
während der Rest aus Stickstoff und Kohlendioxid besteht. Die Regenerierung des beladenen Akzeptors
wird mittels Methan bei einer Raumgeschwindigkeit von 250 Volumenteilen Methan je Volumenteil Redox- κι
katalysator je Stunde durchgeführt. Die Temperatur während der Beladung und der Regenerierung beträgt
4000C. insgesamt werden elf verschiedene Versuche bei unterschiedlichen Raumgeschwindigkeiten im Bereich
von 2000-10 000 Volumenteilen des Schwefeldioxid enthaltenden Gases je Vulumenteil Akzeptor je Stunde
durchgeführt. Die Durchbruchskapazität der Akzeptoren wird derart definiert, daß 10% des zugeführten
Schwefeldioxids am Auslaßende der Reaktionsrohre auftreten. Die Durchbruchskapazität wird dabei für
jeden Akzeptortyp aufgrund einer gewissen Anzahl von Arbeitszyklen bestimmt, welche die Beladung und
Regenerierung umfassen. In der nachstehenden Tabelle Il sind die einzelnen Versuche, die angewendeten
Raumgeschwindigkeiten und die Durchbruchskapazität 2r>
zusammengestellt.
| Tabelle | II | Raum- | Durchbruchs |
| Versuch | Akzeptor | geschwindigkeit | kapazität |
| Nr. | Nr. | Beladung des | |
| Akzeptors mit | |||
| Nl/l/h | SO2 in % | ||
| 4 000 | 8,8 | ||
| 1 | 1 | 7 700 | 8,1 |
| 2 | 1 | 2 000 | 9,2 |
| 3 | 2 | 4 000 | 9,0 |
| 4 | 2 | 8 000 | 8,4 |
| 5 | 2 | 10 000 | 7,0 |
| 6 | 2 | 2 000 | 9,0 |
| 7 | 3 | 4 000 | 7,2 |
| 8 | 3 | 8 000 | 5,8 |
| 9 | 3 | 4 000 | 7,4 |
| 10 | 4 | 7 700 | 5,4 |
| 11 | 4 | ||
35
Die Ergebnisse der Tabelle II sind in der Zeichnung graphisch dargestellt. Auf der Abszisse der graphischen
Figur ist die Raumgeschwindigkeit aufgetragen, ausgedrückt als Volumenteile des Schwefeldioxid enthaltenden
Gases je Volumenteil Akzeptor je Stunde. Auf der Ordinate ist die Durchbruchskapazität aufgetragen
ausgedrückt als Prozentsatz an Schwefeldioxid, welcher von dem Akzeptor aufgenommen wird, bezogen auf das
Gewicht des Akzeptors. Auch die Nummer des betreffenden Versuchs ist in der Figur neben dem
Versuchspunkt eingetragen. Die durch die Versuchspunkte gelegten Kurven bestätigen, daß bei Anwendung
hoher Raumgeschwindigkeiten die Akzeptortypen 1 ω>
und 2 höher beladen werden können als die Akzeptortypen 3 und 4.
Dieses Beispiel erläutert den Einfluß der Abmessun- b5
gen der Kupferoxidkristallite auf die Regeneriergeschwindigkeit.
Man stellt einen Akzeptor her, indem man mittels der Trockenimprägniermethode y-Aluminiumoxid mit einer
wäßrigen Kupfernitratlösung imprägniert, anschließend bei einer Temperatur zwischen 400 und 4500C
kalziniert. Dieser Akzeptor enthält 9 Gew.-% Kupfer in Form von Kupferoxid, berechnet auf das y-Aluminiumoxid.
Mittels eines Röntgenbeugungsdiagramms wird festgestellt, daß die Kupferoxidkristallite Abmessungen
unterhalb 50 Ä haben.
Nach 800 aus einer Beladung und einer Regenerierung bestehenden Arbeitszyklen zeigt sich, daß nur noch
70% der auf dem Trägermaterial vorhandenen Kupieroxidkristallite Abmessungen unterhalb 50 A aufweisen,
während 30% der Kristallite Abmessungen im Bereich von 900—1200 Ä haben. Die für die Regenerierung des
beladenen Akzeptors erforderliche Zeit ist nach den 800 Arbeitszyklen um 30% länger als zu Beginn des
Verfahrens.
Dieses Beispiel erläutert, daß Kieselsäure als Trägermaterial weniger geeignet ist als Aluminiumoxid.
Mittels der Ionenaustauschtechnik wird ein Akzeptor hergestellt, welcher 14 Gew.-% Kupfer in Form von
Kupferoxid auf Kieselsäure niedergeschlagen enthält. Dabei liegen 43% des Kupferoxids in Form von
Kristalliten mit Abmessungen unterhalb 50 A vor.
Nach 10 aus einer Beladung und einer Regenerierung
bestehenden Arbeitszyklen hat sich die Regeneriergeschwindigkeit um ein Drittel vermindert, und ein
Röntgenbeugungsdiagramm bestätigt, daß ein Drittel des Kupferoxide auf dem Akzeptor in Form von
Kristalliten mit Abmessungen im Bereich von 900-1200 A vorliegen. Ein Vergleich dieses Ergebnisses
mit Beispiel 2 bestätigt, daß ^-Aluminiumoxid gegenüber Kieselsäure als Trägermaterial bevorzugt ist.
Bei diesen Versuchen werden zwei verschiedene Akzeptoren verwendet. Ein Akzeptor wird gemäß
Beispiel 1 hergestellt. Der andere Akzeptor wird erhalten, indem man ein ^-Aluminiumoxid nach der
Trockentechnik mit einer wäßrigen Kupfernitratlösung imprägniert und dann 2 Stunden lang bei 12O0C
trocknet. Dann wird der Akzeptor mit der gleichen Gewichtsmenge Wasser und mit 10 Gew.-% Aluminiumnitrat
vermischt, und diese Mischung wird 60 Minuten lang vermählen. Anschließend setzt man eine
kolloidale Kieselsäurelösung in einer Menge zu, welche 14 Gew.-% S1O2, bezogen auf die Akzeptormasse,
äquivalent ist. Die kolloidale Kieselsäurelösung enthält 30 Gew.-% SiO2 und 0,06 Gew.-% Natrium, berechnet
als Na2O. Die kolloidale Kieselsäure ist mit 0,25 Gew.-%
Ammoniak, berechnet als NH3, stabilisiert. Die dispergieren
kolloidalen Kieselsäureteilchen weisen eine mittlere Teilchengröße von 13 Millimikron auf und die
spezifische Oberfläche der dispergierten Teilchen beträgt 235m2/g. Nach dem Zusatz der kolloidalen
Kieselsäurelösung wird die Masse homogenisiert, und das Wasser wird durch eine Trocknungsbehandlung bei
120° C verdampft. Dann kalziniert man die trockene Masse 3 Stunden lang bei einer Temperatur von 5000C
und verformt sie schließlich zu Teilchen. Die Teilchengröße der beiden Akzeptoren variiert im Bereich von
0,5-1 mm. Beide Akzeptoren werden in einem vertikal angeordneten Reaktor geprüft, welcher am unteren
Ende mit einem Gaseinlaß und am Kopfende mit einem Gasauslaß versehen ist. Dieser Reaktor besteht aus
einem Gazerohr von 1 cm Innendurchmesser und
210 cm Länge, auf welches außen eine 0,2 cm dicke Schicht des Akzeptors aufgebracUt ««t. Dip Afft-iuns-en in
der Gaze haben eine Größe von 74 Mikron (200 Maschen).
Jeder Akzeptor wird in diesem Reaktor während 2311
Betriebsstunden geprüft, wobei 2490 aus Beladung und Regenerierung bestehende Arbeitszyklen durchgeführt
werden und jeder Arbeitszyklus 55 Minuten lang dauert. Während der Beladungsstufe wird ein Gas durch die
Reaktionsrohre geleitet, welches 0,25-0,35 Vol.-% Schwefeldioxid enthält. Die Regenerierbehandlung wird
mittels eines Gases durchgeführt, welches 90 Vol.-% Propan und insgesamt 10 VoL-0A Propen und Äthan
enthält
Die in Tabelle III zusammengefaßten Versuchsergebnisse bestätigen, daß sich die durch Kieselsäure
verstärkten Akzeptorteilchen praktisch nicht pulverisiert hatten und keine Teilchen mit Abmessungen
unterhalb 149 Mikron gebildet hatten.
| Teilchengröße | Akzeptor nicht mit | Akzeptor mit |
| S1O2 verstärkt | S1O2 verstärkt ,5 | |
| Gew.-% | Gew.-% | |
| Größer als | 72 | 55 |
| 420 Mikron | ||
| 149-420 Mikron | 9 | 44 30 |
| 44-149 Mikron | 2 | 1 |
| Kleiner als | 17 | 0 |
| 44 Mikron |
513,9 g Cu(NO3J2 · 3 H2O werden in Wasser gelöst,
und diese Lösung wird auf 3500 ml verdünnt. Dann werden 1500 g γ-Aluminiumoxid, bei welchem das
Porenvolumen zu mehr als 10 Gew.-% durch Poren mit Durchmessern von mehr als 200 Ä gebildet wird, mit
dieser Lösung imprägniert. Vor der Imprägnierbehandlung wird das Aluminiumoxid 3 Stunden lang bei 500° C
kalziniert. Die nach dem Imprägnieren erhaltene Paste wird ausgepreßt, bei 1200C getrocknet und dann 3
Stunden lang bei 500° C kalziniert. Die so erhaltenen geformten Teilchen werden zerkleinert, bis eine
Mischung erhalten wird, welche zu 60 Gew.-% aus Teilchen mit einer Größe im Bereich zwischen 840 und
1000 Mikron und zu 40 Gew.-% aus Teilchen mit einer Größe im Bereich von 1000 und 1200 Mikron besteht.
80 g des so hergestellten Akzeptors werden in einer Kugelmühle mit 15,4 g Bentonit in der Ammoniumform
vermischt. Diese Mischung wird unter Zusatz von 110 ml einer wäßrigen Aluminiumnitratlösung geknetet,
welche 19,5 g AI(NO3)3 ■ 9 H2O enthält. Diese Paste
wird ausgepreui, uci .^u C „_:..:!:.""' 1^ lHa"n "5
Stunden lang bei 500°C kalziniert. Die eriiMtenen ausgeformten Teilchen werden zerkleinert, bis man eine
Mischung erhält, welche zu 60 Gew.-% aus Teilchen mit einer Größe zwischen 840 und 1000 Mikron sowie zu 40
Gew.-% aus Teilchen mit einer Größe im Bereich von 1000 und 1200 Mikron besteht.
Jeweils ein Reaktionsrohr wird mit 20 ml des bentonitfreien Akzeptors bzw. mit 20 ml des durch
Bentonit verstärkten Akzeptors beschickt. Die beiden Akzeptortypen werden dann 500 Arbeitszyklen unterworfen,
wobei jeder Arbeitszyklus aus den folgenden Stufen besteht:
a) Beladen mit SO2 unter Verwendung einer Gasmischung,
welche 75 Vol.-% Luft, 10 Vo!.-% Wasser und 15 Vol.-°/o Schwefeldioxid enthält, bei einer
Temperatur von 400° C und einer stündlichen Raumgeschwindigkeit von 5000 Nl/l/h. Die Beladungszeit
beträgt 2,5 Minuten;
b) Ausspülen der Reaktionsrohre während 5 Minuten mit Stickstoff bei einer stündlichen Raumgeschwindigkeit
von 6000 Nl/l/h;
c) Regenerieren des beladenen Akzeptors mittels einer Gasmischung, welche 90 Vol.-% Propan und
insgesamt 10 Vol.-% Propen und Äthan enthält, bei einer stündlichen Raumgeschwindigkeit von 1000
Nl/l/h. Die Regenerierzeit beträgt 2,5 Minuten;
d) Abbrennen der auf dem Akzeptor niedergeschlagenen Kohlenstoffteilchen durch Durchleiten heißer
J5 Luft bei einer Raumgeschwindigkeit von 4000 Nl/l/h während insgesamt 3 Minuten.
Die in Tabelle IV zusammengefaßten Versuchsergebnisse bestätigen, daß der mit Bentonit verstärkte
Akzeptor eine viel größere Festigkeit aufweist als der nicht verstärkte Akzeptor.
•»5
| Teilchengröße | Akzeptor nicht | Akzeptor mit |
| Betonit ver | Betonit ver | |
| stärkt | stärkt | |
| Gew.-% | Gew.-°/o |
| 1000-1200 Mikron | 6,2 | 33,7 |
| 840-1000 Mikron | 66,4 | 59,4 |
| 420- 840 Mikron | 23,8 | 6,3 |
| Kleiner als 420 Mikron | 3,6 | 0,6 |
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Verfahren zum Entfernen von Schwefeldioxid aus einem sauerstoffhaltigen Gasgemisch mit einem
aus einem festen, Kupferoxid enthaltenden Trägermaterial bestehenden Akzeptor, der anschließend
mit einem reduzierenden Gas oder Gasgemisch regeneriert wird unter Bildung eines Regenerierungsabgases,
das einen relativ hohen Gehalt an Schwefeldioxid besitzt, wobei das Schwefeldioxid
enthaltende Gasgemisch bei einer Temperatur im Bereich von 325 bis 425° C mit dem Akzeptor
kontaktiert und der beladene Akzeptor bei einer Temperatur regeneriert wird, die gleich oder höher
ist als jene, bei welcher die Beladung erfolgt ist, jedoch unter 5000C liegt, nach Patent 15 94 687,
dadurch gekennzeichnet, daß das Kupferoxid im Akzeptor in Form von Kristalliten mit
Abmessungen unterhalb 100 A, bestimmt aufgrund
von Röntgenbeugungsdiagrammen, vorliegt und daß ein Trägermaterial verwendet wird, dessen Porenvolumen
zu mindestens 10% aus Poren mit einem Durchmesser über 200 A gebildet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß ein Trägermaterial mit einem Porenvolumen
verwendet wird, welches zu mindestens 10% aus Poren mit einem Durchmesser unter 4000 A gebildet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein Trägermaterial mit einem
Porenvolumen verwendet wird, das zu mindestens 30% aus Poren mit einem Durchm asser über 200 A
gebildet wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Akzeptor Kupferoxid
in Form von Kristalliten mit Abmessungen unterhalb 50 A, bestimmt aufgrund von Röntgenbeugungsdiagrammen,
enthält.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB1807/68A GB1160662A (en) | 1968-01-12 | 1968-01-12 | Process for the Removal of Sulphur Dioxide from an Oxygen-Containing Gas Mixture and Acceptors for use in this process |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1900984A1 DE1900984A1 (de) | 1970-09-17 |
| DE1900984B2 true DE1900984B2 (de) | 1978-04-13 |
| DE1900984C3 DE1900984C3 (de) | 1978-12-07 |
Family
ID=9728363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE1900984A Expired DE1900984C3 (de) | 1968-01-12 | 1969-01-09 | Verfahren zum Entfernen von Schwefeldioxyd aus einem sauerstoffhaltigen Gasgemisch |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS4820102B1 (de) |
| BE (1) | BE726652A (de) |
| DE (1) | DE1900984C3 (de) |
| FR (1) | FR96573E (de) |
| GB (1) | GB1160662A (de) |
| NL (1) | NL6900395A (de) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1474184A (en) * | 1973-05-08 | 1977-05-18 | Shell Int Research | Process for removing sulphur oxides and particulate matter from waste gases and apparatus therefor |
| JPS5515247B2 (de) * | 1974-06-11 | 1980-04-22 | ||
| US4587113A (en) * | 1985-02-08 | 1986-05-06 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Removal of sulfur and nitrogen containing pollutants from discharge gases |
| US5516498A (en) * | 1985-03-29 | 1996-05-14 | Veg - Gasinstituut N.V. | Process for the removal of sulfur dioxide from gases |
| US5202101A (en) * | 1991-03-21 | 1993-04-13 | General Electric Environmental Services | Regenerative process and system for the simultaneous removal of particulates and the oxides of sulfur and nitrogen from a gas stream |
| CN116173697A (zh) * | 2022-11-02 | 2023-05-30 | 贵州华星冶金有限公司 | 一种锑锭生产脱硫综合处理系统 |
-
1968
- 1968-01-12 GB GB1807/68A patent/GB1160662A/en not_active Expired
- 1968-12-24 FR FR180453A patent/FR96573E/fr not_active Expired
-
1969
- 1969-01-09 DE DE1900984A patent/DE1900984C3/de not_active Expired
- 1969-01-09 BE BE726652D patent/BE726652A/xx unknown
- 1969-01-09 JP JP44001536A patent/JPS4820102B1/ja active Pending
- 1969-01-10 NL NL6900395A patent/NL6900395A/xx not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB1160662A (en) | 1969-08-06 |
| FR96573E (fr) | 1973-01-29 |
| DE1900984C3 (de) | 1978-12-07 |
| NL6900395A (de) | 1969-07-15 |
| DE1900984A1 (de) | 1970-09-17 |
| JPS4820102B1 (de) | 1973-06-19 |
| BE726652A (de) | 1969-07-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69625643T2 (de) | Sorbierende Zusammenstellung | |
| DE2928249C2 (de) | ||
| DE2656803C2 (de) | Verfahren zur Entfernung von in einem Gas oder in einer Flüssigkeit vorhandenem Quecksilber | |
| DE68909376T2 (de) | Katalysator und Verfahren zur Ozon-Zerlegung. | |
| DE68926052T2 (de) | Reforming mittels eines zeolitkatylysators | |
| DE1270007B (de) | Verfahren zur Herstellung eines Hydrierungskatalysators | |
| DE19714707A1 (de) | Sauerstoff speicherndes Material mit hoher Temperaturstabilität sowie Verfahren zu seiner Herstellung | |
| DE1259307B (de) | Verfahren zur Herstellung von gegen Abrieb bestaendigen Oxydationskatalysatoren | |
| DE1767464B2 (de) | Kristallines zeolithisches Molekularsieb vom Typ Zeolith X | |
| DE3618746A1 (de) | Verfahren zum katalytischen kracken | |
| DE69727038T2 (de) | Verfahren für die direkte oxidation von schwefelverbindungen zu elementarem schwefel mit einem kupfer enthaltenden katalysator | |
| DE69001448T2 (de) | Eisenhaltiges Aluminiumsilikat. | |
| DE69207832T2 (de) | Katalysator und Verfahren zur Behandlung von Schwefelkomponenten enthaltenden Gasen | |
| DE2908740B2 (de) | Verfahren zur Herstellung von kugelförmigen Tonerdepartikeln | |
| DE69726332T2 (de) | Katalysator zur Regelung der Abgasemission | |
| DE1900984C3 (de) | Verfahren zum Entfernen von Schwefeldioxyd aus einem sauerstoffhaltigen Gasgemisch | |
| DE1567861B2 (de) | Verfahren zur Herstellung künstlicher Zeolithteilchen | |
| DE2936718C2 (de) | ||
| DE1542194B2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines nicht-kristallinen Kieselsäure Tonerde-Crackkatalysators | |
| DE2512294C2 (de) | ||
| DE3208931C2 (de) | ||
| DE3787559T2 (de) | Wasserstoffbehandlungskatalysator und Träger mit einer doppelt verteilten Porenstruktur. | |
| DE2945755C2 (de) | Verfahren zur Herstellung kugeliger Tonerdeteilchen mit großer Dichte | |
| DE2637192A1 (de) | Verfahren zur herstellung von aluminiumoxid-formkoerpern | |
| DE69925781T2 (de) | Katalysator auf Basis von nicht gesamt entaluminierten Y-Zeolith, Bor und/oder Silicium und Verfahren zum Hydrocracken |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
| 8340 | Patent of addition ceased/non-payment of fee of main patent |