DE1772233A1 - Lichtempfindliches fotografisches Material - Google Patents

Lichtempfindliches fotografisches Material

Info

Publication number
DE1772233A1
DE1772233A1 DE19681772233 DE1772233A DE1772233A1 DE 1772233 A1 DE1772233 A1 DE 1772233A1 DE 19681772233 DE19681772233 DE 19681772233 DE 1772233 A DE1772233 A DE 1772233A DE 1772233 A1 DE1772233 A1 DE 1772233A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
silver halide
compound
emulsion
alkylene oxide
photographic material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19681772233
Other languages
English (en)
Inventor
Yuji Kuroda
Akio Oshima
Tuneo Suga
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Konica Minolta Inc filed Critical Konica Minolta Inc
Publication of DE1772233A1 publication Critical patent/DE1772233A1/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/04Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with macromolecular additives; with layer-forming substances
    • G03C1/043Polyalkylene oxides; Polyalkylene sulfides; Polyalkylene selenides; Polyalkylene tellurides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/06Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
    • G03C1/08Sensitivity-increasing substances
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/005Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
    • G03C1/06Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
    • G03C1/08Sensitivity-increasing substances
    • G03C1/10Organic substances
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/15Lithographic emulsion

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)

Description

46 186
Eonishiroku Photo Industry Co. Ltd., lokyo / Japan
Lichtempfindliches fotografisches Material
Die vorliegende Erfindung betrifft ein lichtempfindliches fotografisches, silberhalogenidhaltiges Material und insbesondere ein fotografisches Kopiermaterial vom Lith-Typus.
Ein lichtempfindliches fotografisches silberhalogeni"dhaltiges Material, das zur Rasterbild- oder Strichvorlagenreproduktion im neueren grafischen Gewerbe verwendet wird, wird als sogenannter Lith-3?ilm bezeichnet. Hierfür werden verschiedene fotografische Eigenschaften gefordert, u. a. ein hoher Bildkontrast, scharfe Rasterpunkte und ein gutes Strichbild, ein breiter Spielraum für die Entwicklung, eine hohe Empfindlichkeit und eine hohe Auflösung.
Im grafischen Gewerbe ist deshalb zur Entwicklung von Lith-Filmen eine sogenannte Lith-Entwicklerlösung (Lith-infectious developing solution) vorgeschlagen worden> die ein alkalischer Hydrochinon-Entwickler ist, der einen Aldehyd enthält. Dies erfolgt, um einen hohen Bildkontrast und scharfe Rasterpunkte zu erhalten. Ins einzelne gehende diesbezügliche In-
109882/U71
formationen können dem Artikel entnommen werden, der unter dem Titel "Formaldehyde Hydroquinone Developer and Infectious Development" veröffentlich ist. Rasterpunkte, die unter Verwendung von dem erwähnten Lith-Entwickler erhalten werden, sind sehr hart und scharf. Wenn jedoch die obenerwähnten Ergebnisse erhalten werden, sollte eine Lith-Emulsion verwendet werden, die ursprünglich einen hohen Kontrast besitzt.
Um einen hohen Kontrast und eine gute Rasterpunktqualität zu erhalten, sind verschiedene Methoden vorgeschlagen worden. In der deutschen Patentschrift 1 122 834· und Journal of Photographic Science Vol. 12, Seite 5 (1964) sind beispielsweise ein Verfahren zum Erhalt von Rasterpunktbildern· mit großem Kont*<rast beschrieben worden, wobei eine Lith-Typus-Emulsion verwendet wird, die eine Alkylenoxid-Verbindung enthält. Nach diesem Verfahren erfolgt die Bildung von Rasterpunkten mit großem Kontrast jedoch nur dann im späteren Stadium der Lith-Entwicklung. Im früheren Stadium wird ein beträchtlicher Abfall in der fotografischen Empfindlichkeit und im Kontrast sowie eine schlechte Rasterpunktqualität beobachtet. Um diesen Nachteil zu vermeiden, kann ein Zusatz eines quaternären Alkylamines zusammen' mit einer Alkylenoxyd-Verbindung zu der Lith-Typus-Emulsion vorgenommen werden. Auf diese Weise kann die fotografische Empfindlichkeit und die Rasterpunktqualität im frühen Stadium verbessert werden. Im Stadium nach einer üblichen Entwicklungszeit wird jedoch die Rasterpunktqualität stark herabgesetzt. Es ist deshalb
109882/1471
♦)in "Journal of the Franklin Institute" Band 239 Seite 221 ff. "(W5) BAD ORIGINAL
schwierig, eine gute Rasterpunktquälität über den gesamten Zeitraum der Entwicklung zu erhalten.
Der vorliegenden Erfindung liegt deshalb die Aufgabenstellung zugrunde, ein lichtempfindliches fotografisches Silberhalogenidmaterial herzustellen, das ausgezeichnete fotografische Eigenschaften im anfänglichen Stadium der Lith-Entwicklung und einen guten Kontrast und eine gute Rasterpunktqualität auch im Stadium nach der normalen Entwicklungszeit besitzt.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist demgemäß ein lichtempfindliches, silberhalogenidhaltiges, fotografisches Material mit einem Träger und einer darauf befindlichen lichtempfindlichen Emulsionsschicht, das dadurch gekennzeichnet ist, daß es eine Verbindung der folgenden allgemeinen Formel
Hr
worin R ein Acylamino-, Arylamino-, Alkyl-, Aryl- oder Aralkyl-Radikal und X ein Wasserstoffatom, eine Carboxyl- oder eine Sulfongruppe bedeuten, zusammen mit einer Alkylenoxyd-Verbindung (Molekulargewicht 600 - 8000) in der lichtempfindlichen Emulsionsschicht oder in einer dazu benachbarten Schicht enthält.
109882/U71
BAD
Beispiele für Pyrazolon-Verbindungen, die im Sinne der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind die folgenden. Die Erfindung soll jedoch, nicht hierauf beschränkt sein.
1Ö9882/U7
H2C O=C
H2C
σ~°11Η23
O3H
H2C O=C
CH
000Η
H2C C-NH
O=C
H2C
0*0
C-N
II
. ORIGINAL INSPECTED
109882/Η71
H2C C-NHCOC7H15
H2C C-NHCO
O=C. N
H2C
O=C I Νν'
H2C 0=0
C-OHj
1018β2/ U71
- 7 - ■
ORIGINAL INSPECTED
Als Alkylenoxyd-Verbindungen im Sinne der vorliegenden Erfindung können verwendet werden die Kondensationsprodukte von Alkylenoxyd mit Wasser, aliphatischen -Alkoholen, Glykolen, Fettsäuren, aliphatischen Aminen, Phenolen, ringförmigen Hexit-Dihydratisierungs-Produkten usw. Diese Alkylenoxyd-Verbindungen können allein oder in Mischung angewandt werden.
Die Mengen an Pyrazolon und Alkylenoxyd-Verbindung^ die zu- a gesetzt werden, schwanken je nach ibier Art. Die Pyrazolon-Verbindung wird vorzugsweise in einer Menge von 10 mg bis 10 g pro Mol Silberhalogenid und die Alkylenoxyd-Verbindung in einer Menge von 10 mg bis 10 g pro Mol Silberhalogenid verwendet.
Die Pyrazolon-Verbindung und die Alkylenoxyd-Verbindung können der lichtempfindlichen SiIberhalogenid-Emulsion bei jeder Stufe während der Herstellung dieser Emulsion zugesetzt werden. Die vorteilhaftesten Ergebnisse werden dann erhalten, ^ wenn diese Verbindungen nach der Reifung und vor dem Auftragen der Emulsion zugefügt werden. Die zuzufügenden Verbindungen können in Form einer Lösung in wässerigem Natriumhydroxyd oder in einem organischen Lösungsmittel wie Methanol eingearbeitet werden. Die Lösung kann auch in eine fotografische Schicht eingearbeitet werden, die der Emulsionsschicht benachbart ist, beispielsweise in eine Schutzschicht oder eine Zwischenschicht·
109882/U71 - 8 -
Im Sinne der vorliegenden Erfindung können die üblichen SiI-berhalogenid-Emulsionen verwendet werden. Es sind beispielsweise Silberchloridbromid- und Jodid-Emulsionen oder Mischungen davon brauchbar. Diese Emulsionen können weiterhin sensibilisiert werden chemisch durch Schwefelsensibilisierung (mit Ammoniumthiosulfat), durch Goldsensibilisierung (mit Goldchlorid) oder durch optische Sensibilisierung (mit einem Oyan-Farbstoff oder Merocyan-Farbstoff). Geeignete Härtemittel und oberflächenaktive Mittel können der Emulsion zugesetzt werden. Das Silberhalogenid wird in hydrophilen Stoffen dispergiert, die als Bindemittel dienen, wie Gelatine oder Polyvinylalkohol. Das Material gemäß der vorliegenden Erfindung kann mit einem konventionell bekannten Lith-Entwickler behandelt werden.
Wie oben bereits ausgeführt wurde, ist das lichtempfindliche silberhalogenidhaltige fotografische Material gemäß der Erfindung nützlich als IiIm vom Lith-Typus und besitzt einen guten Bildkontrast, scharfe Rasterpunkte und scharfes Strichbild, einen guten Spielraum bei der Entwicklung und eine hohe fotografische Empfindlichkeit und große Auflösung.
Die Erfindung wird an Hand des folgenden Beispieles erläutert, ohne sie hierauf zu beschränken.
Beispiel
Eine gelatinehaltige Silberchlorobromid-Emulsion, enthaltend 20 Mol-% Silberbromid wurde in 10 Portionen aufgeteilt. Eine
109812/14-71 -9-
davon wurde als solche zur Herstellung eines Kontrollfilmes verwendet. Die verbleibenden 9 Portionen wurden jeweils mit verschiedenen Verbindungen versetzt, die in* der nachfolgenden Tabelle aufgeführt sind. Alle so hergestellten Emulsionen wurden auf eine Filmbasis aufgetragen und dann getrocknet} die so hergestellten Filme wurden sensitometrisch untersucht und die Rasterpunktqualität wurde ermittelt.
Bei der sensitometrischen Untersuchung wurde der zu untersuchende Film in engen Kontakt mit einem Graukeil gebracht und dann einer Belichtung ausgesetzt, wobei durch den Graukeil mit einer Jodlampe von 200VoIt und ein KW als Lichtquelle bestrahlt wurde. Der belichtete Film wurde dann mit einer nachfolgend beschriebenen Entwicklungslösung behandelt. Bei diesem Versuch wurde die relative Empfindlichkeit an dem Punkt bestimmt, an dem die Dichte 1,0 ist.
Bei der Ermittlung der Rasterpunktqualität wurde der zu untersuchende Film in Kontakt mit einem Magenta-Kontakt-Raster unter Saugwirkung im Vakuum gebracht. Die Belichtung und die Entwicklung wurden in der gleichen Weise, wie oben bei der sensitometrischen Untersuchung beschrieben, ausgeführt. Das Ausmaß der Belichtung wurde jedoch so reguliert, daß eine Punktgröße von 40 - 60 % erhalten wird. Die gebildeten Rasterpunkte wurden visuell mittels eines Mikroskopes untersucht. Die Beurteilung der Rasterpunktqualität wurde mit Bezug auf die Sch*ärfe gemacht. Die Beurteilung "5" bezeichnet, daß die Punkte die größt—e Schärfe besitzen, während die
109882/1471
Beurteilung "1" bezeichnet, daß die Punkte die geringste Schärfe aufweisen. Rasterpunkte zwischen diesen beiden Beurteilungen wurden mit den Noten 4-, 3 und 2 beurteilt.
Die in diesem Beispiel verwendeten Zusatzstoffe sind in der folgenden Tabelle aufgeführt.
Zusatzstoff (pro 0,5 Mol Silberhalogenid zugefügte Probe Menge)
Alkylenoxyd-Verbindung allein
Pyrazolon-Verbindung allein
Gemeinsame Verwendung von Alkylenoxyd-Verbindung und Pyrazolon-Verbindung
Kontrolle
Polyäthylenglycol
(Molekulargewicht: 1000) 1 g
Polyäthylenglycol
(Molekulargewicht: 4000) 0,05 g
Kondensat von Äthylenoxyd
(Molekulargewicht: 900) und
,Laurylalkohol 0,4 g
Verbindung \ß] 0,1 g
Verbindung [ß] 0,05 g
Verbindung [7] 0,08 g
'polyäthylenglyc öl
(M.G. 4000) 0,05 g
und Verbindung ($} 0,1 g
Polyäthylenglyc öl
(M.G. 1000) 1 g
und Verbindung [5} 0,05 S
Kondensat von Äthylenoxyd
(M.G. 900) und Laurylalko-
hol 0,4 g
und Verbindung (7) 0,08 g
Die Entwicklung wurde bei 20 C stufenweise für Zeiträume von 1,5 Min., 2,5 Min. und 3,5 Min. durchgeführt unter Verwendung
109882/1471
- 11 -
einer Entwicklungslösung mit der folgenden Zusammensetzung:
Warmes Wasser
Additivprodukt aus Formaldehyd und Natriumsulfit Hydrochinon Natriumcarbonat Borsäure
Caliumbromid Wasser bis auf
' 500 ml
50 6
19 g
80 6
10 g
2,2 g
1000 ml
Die nachfolgenden Ergebnisse wurden erhalten:
Alkylen-
oxyd-Ver-
b indung <
allein
Relative
Empfindlichkeit
2,5
Min.
3,5
"Min.
Beurteilung der
Rasterpunkte
2,5
Min.
3,5·
Min.
]
]
Pyrazolon-
Verbindung
allein <
1,5
ilin.
190 250 1,5
Min.
1 · 1
Probe 1 100 60
40
35
100
100
90
2 3
2
2
4
4
4
1 Alkylenoxyd-
Verbindung
und Pyrazo- *
1on-Verbindung
30
10
JO
170
190
ο ο
LfN Lf\
CM CM
2
1
1
2
2
1
1
2
3
4
'53
75
175 230 CM CvI 2 1
5
6
64 93
105
Θ0
140
140
130
2 5
4
3
4
4
4
7 42
60
50
VN VN VN
8
9
10
Aus der obigen Tabelle ist ersichtlich, daß die Proben 2, 3 und 4, zu denen nur eine Alkylenoxyd-Verbindung gegeben worden war, ein Absinken in der Empfindlichkeit und in der
109882/1471
Rasterpunktqualität bei der anfänglichen Entwicklung aufweisen. Die Proben 5» 6 und 7, zu denen nur eine Pyrazolon-Verbindung gegeben worden war, zeigen ein geringeres Abfallen in der Empfindlichkeit, als sie bei den obigen Alkylenoxyd-Zusatz-Proben beobachtet worden war. Die Rasterpunktqualität war jedoch geringer. Im Gegensatz hierzu sind die Empfindlichkeit und die Rasterpunktqualität der Proben 8, 9 und 10, bei denen ein Alkylenoxyd-Derivat und eine Pyrazolon-Verbindung zusammen gemäß der vorliegenden Erfindung zugesetzt waren, bemerkenswert verbessert. Die Rasterpunktqualität dieser Proben zeigt nicht einmal ein Absinken nach einer 3,5 Min. langen Behandlung.
Patentansprüche t
109882/U71

Claims (2)

Patentansprüche
1. Lichtempfindliches fotografisches silberhalogenidhaltiges Material vom Lith-Typus, enthaltend 'einen Träger und eine darauf geschichtete lichtempfindliche fotografische Silberhalogenid-Emulsion, dadurch gekennzeichnet, daß die Emulsionsschicht oder eine dazu benachbarte Schult eine Pyrazolon-Verbindung der allgemeinen Pormel
G-R
worin R eine Acylamino-, Arylamino-, Alkyl-, Aryl- oder Aralkyl-Gruppe und X ein Wasserstoffatom oder eine Carboxyl- oder Sulfonsäuregruppe bedeuten,
und das Kondensationsprodukt eines Alkylenoxydes mit Wasser, einem aliphatischen Alkohol, einem Slykol, einer aliphatischen Säure, einem aliphatischen Amin, einem Phenol oder einer Ringförmigen Hexitdehydratisierungsverbindung enthält.
2. Fotografisches Material gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es die Pyrazolon-Verbindung und das Kondensat ionsprodukt in einer Menge von jeweils 10 mg bis 10 g pro Mol Silberhalogenid der Emulsion enthält,
109882/U71
DE19681772233 1967-04-20 1968-04-18 Lichtempfindliches fotografisches Material Granted DE1772233A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2478167 1967-04-20

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1772233A1 true DE1772233A1 (de) 1972-01-05

Family

ID=12147708

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19681772233 Granted DE1772233A1 (de) 1967-04-20 1968-04-18 Lichtempfindliches fotografisches Material

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3576637A (de)
BE (1) BE713912A (de)
DE (1) DE1772233A1 (de)
GB (1) GB1195134A (de)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2284172A1 (de) * 2003-03-14 2011-02-16 MediGene Ltd. Immunmodulierende heterocyclische Verbindungen
GB0325644D0 (en) * 2003-11-04 2003-12-10 Avidex Ltd Immuno ihibitory pyrazolone compounds
DK1776366T3 (da) * 2004-08-09 2009-02-16 Medigene Ltd Immunomodulerende oxopyrazolocinnoliner som CD80-inhibitorer
GB0603522D0 (en) * 2006-02-22 2006-04-05 Avidex Ltd Kinase inhibition

Also Published As

Publication number Publication date
US3576637A (en) 1971-04-27
GB1195134A (en) 1970-06-17
BE713912A (de) 1968-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1286900B (de) Gruenempfindliche supersensibilisierte Silberhalogenidemulsion
DE2303204A1 (de) Farbphotographisches silberhalogenidaufzeichnungsmaterial
DE1123557B (de) Lichtentwickelbares, direkt aufzeichnendes photographisches Material, insbesondere fuer oszillographische Aufzeichnungen
DE1572152A1 (de) Fotografische Suspension
DE2802016A1 (de) Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE1572125C3 (de) Fotografisches Material für die Herstellung direktpositiver Bilder
DE2034064B2 (de) Farbfotografisches Aufzeichenmaterial
DE2426177C2 (de)
DE1945450C3 (de) Verfahren zur Herstellung direktpositiver photographischer Bilder
DE2220798A1 (de) Entwicklerzusammensetzung fuer die Herstellung von photographischen Materialien fuer das Gebiet der Graphik
DE1945408A1 (de) Verfahren zur Herstellung photographischer Bilder
DE1772233A1 (de) Lichtempfindliches fotografisches Material
DE2755609A1 (de) Photographisches material
DE2228543C3 (de) Verfahren zum Einarbeiten von Zusätzen in eine Mischung, die zur Herstellung von Silberhalogenidaufzeichnungsmaterialien bestimmt ist
DE2239711A1 (de) Lichtempfindliche photographische silberhalogenidemulsion
DE2049797C3 (de) Verfahren zur Herstellung von direkt positiven photographischen Silberhalogemdemulsionen
DE1772720A1 (de) Photographisches Schnellentwicklungsverfahren
DE1241262B (de) Verfahren zur Herstellung von fotografischen Bildern
DE2241400A1 (de) Lichtempfindliches photographisches silberhalogenidmaterial
DE2344074A1 (de) Photographische entwicklerzusammensetzung
DE2063669B2 (de) Photographisches Aufzeichnungsmaterial mit einer spektral sensibilisierten Silberhalogenidemulsionsschicht
DE1961866C2 (de) Photographische Silberhalogenidemulsion vom Lippmann-Typ
DE2163222A1 (de) Verbesserte Entwickler für photographische Druckplatten
DE1912332A1 (de) Photographisches Aufzeichnungsmaterial
DE2508280C2 (de)

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)