DE1621352A1 - Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer - Google Patents

Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer

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DE1621352A1 DE19671621352 DE1621352A DE1621352A1 DE 1621352 A1 DE1621352 A1 DE 1621352A1 DE 19671621352 DE19671621352 DE 19671621352 DE 1621352 A DE1621352 A DE 1621352A DE 1621352 A1 DE1621352 A1 DE 1621352A1
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    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
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Description

SCHFRINGAG !Berlin65,aea 2, Februar 1967
U^Lil^l^ll ^SJ J X\J MOHei.tr. 170-Z72 « JTejnrUf; «MM
PATEKTABTEItUNG H»tw»n«cWuß Ifr.
Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer
Die Erfindung betrifft ein stabilisiertes, stromlos arbeitendes Kupferbad, mit dem KupferÜberzüge auf metallischen und nichtmetallischen oberflächen abgeschieden werden können*
Bekannt sind stromlos arbeitende Kupferbäder, die komplex gebundenes zweiwertiges Kupfer und als Reduktionsmittel Formaldehyd in alkalischer Lösung enthalten.- Als brauchbare Komplexbildner sind z. B. Weinsäure j Ä'thylendiamintetraessigsäure (ÄDTE). und TriEthanolamin bekanntgeworden» Derart zusammengesetzte Kupferbäder scheiden auf verschiedenen katalytisch wirkenden Me** tallen KupferÜberztige ab* Auch Nichtleiter, wie Keramik und organische Kunststoffe, können nach geeigneter Vorbehandlung und Aktivierung mit fein verteiltem Metall mit einem Kupferüberzug
s - - ■ ■
versehen werden,
Je nach Zusammensetzung und Betriebsbedingungen neigen stromlose Kupferbäder zu mehr oder weniger raschem Zerfall unter Abscheidung von metallischem Kupfer. Es ist bereits bekannt, daß derartige Bäder durch Zusatz anorganischer Cyanide oder durch.bestimmte organische Schwefelverbindungen, wie z, B, 2-Mercaptobenzthiazol, stabilisiert werden können. Die bisher bekannten
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Stabilisatoren sind Jedoch nur in einem relativ engen Konzentrationsbereich wirksam. Im Fall einer zu geringen Konzentration des Stabilisators ist das Kupferbad daher einerseits zu instabil, bei zu hoher Konzentration werden andererseits im allgemeinen Überzüge von schlechter Beschaffenheit erhalten oder es wird sogar die Abscheidung völlig unterbunden. Da die Konzentration der bisher bekannten Stabilisatoren im Kupferbad überdies z. B. durch Einbau in den Kupferüberzug, durch Oxidationsvorgänge u.s.w, ständig abnimmt, ist im Betrieb eine häufige Korrektur der Stabilisatorkönzentration erforderlich.
Es wurde nun gefunden, daß ein alkalisches, stromlos arbeitendes Kupferbad die genannten Nachteile vermeidet, wenn dieses als Stabilisator Quecksilberverbindungen enthält, in denen das Element in Form des zweiwertigen positiven Ions vorliegt.
überraschenderweise ist die stabilisierende Wirkung der genannten Quecksilberverbindungen von der Natur des Anions unabhängig. So eignen sich sowohl einfache Salze des zweiwertigen ^uecksilbers> wie HgCl2 und HgSO2,, als auch wenig dissoziierte Verbindungen» wie KgHgJj,, in derartigen Kupferbädern gleichermaßen gut als Stabilisatoren.
Als besonders wirksam haben sich indessen solche Verbindungen des zweiwertigen Quecksilbers erwiesen, die sich aus den genannten Salzen und den in alkalischen Kupferbädern üblicherweise enthaltenen Komplexbildnern bilden. Derartige Komplexbildner sind z» B. Polyaminocarbonsäuren, wie ÄDTE, Polyaminoalkohole,
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wie Triethanolamin, undPolycarbonsäuren, wie Nitrilotriessigsäure, welche zusammen mit den genannten Salzen möglicherweise sogar den eigentlichen Stabilisator darstellen, der sich aufgrund seiner Komplexbildungskonstante im Bad aus den Komponenten bildet.
Der besondere Vorteil der erfindungsgemäß zu verwendenden Stabilisatoren besteht darin, daß sich diese in einem weit grösseren Konzentrationsbereich als die bekannten Stabilisatoren verwenden lassen und außerdem im Gegensatz zu den bekannten eine nahezu unbegrenzte Haltbarkeit in den betriebenen Kupferbädern aufweisen.
Die bevorzugte Konzentration der erfindungsgemäß zu verwendenden Quecksilberverbindungen liegt etwa im Bereich von 10 ' bis 10 Mol/Liter. Außerdem enthalten die Bäder die üblichen Bestandteile, d· h. Kupfersalze, Reduktionsmittel, Komplexbildner sowie gegebenenfalls Puffersubstanzen, Netz- und/oder Glanzmittel.
Bereits bei der niedrigsten angegebenen Konzentration ist die stabilisierende Wirkung auf die Kupferbäder sehr deutlich, wobei jedoch die Abseheidungsgesehwindigkeit des Kupfers und die Qualität des Überzuges im gesamten Konzentrationsbereich nahezu unverändert bleiben. Die erhaltenen Kupfertiberzüge haben überdies eine sehr ansprechende rötliche Farbe und eine ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit. Da sich die erfindungsgemäß zu verwendenden Verbindungen im Kupferbad chemisch nicht
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verändern können* und ihre Konzentration lediglieh durch Einbau des Quecksilbers in den Kupferüberzug geringfügig sinken kann* genügt es, die Anfangskonzentration der Verbindungen im Kupferbad auf einen etwas höheren Wert als erforderlich, z. B. auf IQ"-* Mol/Liter, einzustellen. Beim Betrieb des Bades ist ein erneuter Zusatz des Stabilisators dann nicht mehr erforderlich, und zur Wartung genügt es lediglich, den pH-Wert und den Gehalt des Bades an Formaldehyd zu korrigieren.
Die Herstellung der beschriebenen stabilisierten Kupferbäder erfolgt zweckmäßig, indem man die Quecksilberverbindung gemeinsam mit dem Kupfersalz und dem Komplexbildner löst und anschHessend den pH-Wert der Lösung und den Gehalt an Formaldehyd auf den gewünschten Wert einstellt. Sollte die verwendete Quecksilberverbindung nur wenig wasserlöslich sein, so wird sie vorteilhaft mit einem geringen Überschuß an ÄDTE und Natronlauge vorgelöst und dann erst dem Kupferbad zugesetzt.
Erfindungsgeraäß stabilisierte Kupferbäder können zur Verkupferung von metallischen und entsprechend vorbehandelten nichtmetallischen Oberflächen, z* B. aus Kunststoffen oder anderen Materialien, in an sich bekannter Weise verwendet werden.
Zu diesem Zweck bringt man die zu verkupfernden Materialien in die bezeichneten Bäder. Die Abscheidung wird bei einer Badtemperatur von etwa 20 bis 60° c bis zum Erhalt der gewünsch-
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ten Schichtdicke durchgeführt.
Die abgeschiedene Kupferschicht kann dann mit den üblichen galvanischen Bädern behandelt und mit beliebigen Metallschichten versehen werden.
Die folgenden Beispiele beschreiben erfindungsgemäß stabilisierte Kupferbäder sowie deren Betriebsbedingungen.
Beispiel 1
Kupfersulfat-Pentahydrat
Dinatriumsalz der Äthylendiamintetraessigsäure
Formaldehyd 13, 0 C
Natriumhydroxid 50° 5
Quecksilber(II)-Chlorid ca.
pH
Temperatur
Abscheidungsge-
schwindigkeit
0,04 Mol/Liter
0,05 Mol/Liter
0,27 Mol/Liter
0,55 Mol/Liter
ΙΟ"5 Mol/Liter
-6-
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Beispiel
Kupfersulfat-Pentahydrat 12 ° C
Nitrilotriessigsäure" 25 2,
Formaldehyd ca.
Natriumhydroxid
Quecksilber(II)-sulfat
pH
Temperatur
Abs cheidungsge-
schwindigkeit
0,04 Mol/Liter
0,08 Mol/Liter
0,27 Mol/Liter
0,31 Mol/Liter
10"5 Mol/Liter
Beispiel
Kupfersulfat-Pentahydrat 25° C
Tri äthanolamin ca. jj
Formaldehyd
Natriumhydroxid
Quecksilber(II)-ehlorid
pH
Temperatur
Abscheidungsge-
s chwindigkei t
0,025 Mol/Liter 0,06 Mol/Liter 0,10 Mol/Liter 0,20 Mol/Liter 10~5 Mol/Liter
ORfGfWAL INSPECTED
109820/16Of

Claims (2)

  1. P a t e η t a η s ρ r ü c h e
    l.j Stabilisiertes alkalisches Bad mit einem Gehalt an Komplexbildnern zur stromlosen Abscheidung von Kupfer* dadurch gekennzeichnet, daß dieses als Stabilisator mindestens eine Quecksilberverbindung enthält, in der das EIe- J ment in Form des zweiwertigen positiven Ions vorliegt.
  2. 2. Bad nach Anspruch 1 enthaltend die Quecksilberverbindung
    —7 —4 / in einer Konzentration von 10 ' bis IQ Mol/Liter.
    3» Verfahren zur stromlosen Abscheidung von Kupfer auf metallischen oder nichtmetallischen Oberflächen, dadurch gekennzeichnet, daß ein Bad nach Anspruch 1 oder 2 verwendet wird.
    ORIGINAL INSPECTS*
    1*9820/1601
DE19671621352 1967-02-03 1967-02-03 Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer Expired DE1621352C3 (de)

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DESC040172 1967-02-03

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DE1621352A1 true DE1621352A1 (de) 1971-05-13
DE1621352B2 DE1621352B2 (de) 1974-10-03
DE1621352C3 DE1621352C3 (de) 1975-05-28

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DE1621352B2 (de) 1974-10-03
GB1203131A (en) 1970-08-26
DE1621352C3 (de) 1975-05-28
FR1553375A (de) 1969-01-10

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