DE1621352A1 - Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer - Google Patents
Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von KupferInfo
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Description
SCHFRINGAG !Berlin65,aea 2, Februar 1967
U^Lil^l^ll ^SJ J X\J
MOHei.tr. 170-Z72 « JTejnrUf; «MM
Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer
Die Erfindung betrifft ein stabilisiertes, stromlos arbeitendes
Kupferbad, mit dem KupferÜberzüge auf metallischen und nichtmetallischen
oberflächen abgeschieden werden können*
Bekannt sind stromlos arbeitende Kupferbäder, die komplex gebundenes
zweiwertiges Kupfer und als Reduktionsmittel Formaldehyd in alkalischer Lösung enthalten.- Als brauchbare Komplexbildner
sind z. B. Weinsäure j Ä'thylendiamintetraessigsäure (ÄDTE).
und TriEthanolamin bekanntgeworden» Derart zusammengesetzte Kupferbäder
scheiden auf verschiedenen katalytisch wirkenden Me**
tallen KupferÜberztige ab* Auch Nichtleiter, wie Keramik und organische
Kunststoffe, können nach geeigneter Vorbehandlung und
Aktivierung mit fein verteiltem Metall mit einem Kupferüberzug
s - - ■ ■
versehen werden,
Je nach Zusammensetzung und Betriebsbedingungen neigen stromlose
Kupferbäder zu mehr oder weniger raschem Zerfall unter Abscheidung von metallischem Kupfer. Es ist bereits bekannt, daß derartige Bäder durch Zusatz anorganischer Cyanide oder durch.bestimmte
organische Schwefelverbindungen, wie z, B, 2-Mercaptobenzthiazol,
stabilisiert werden können. Die bisher bekannten
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Stabilisatoren sind Jedoch nur in einem relativ engen Konzentrationsbereich
wirksam. Im Fall einer zu geringen Konzentration des Stabilisators ist das Kupferbad daher einerseits zu instabil,
bei zu hoher Konzentration werden andererseits im allgemeinen Überzüge von schlechter Beschaffenheit erhalten oder es
wird sogar die Abscheidung völlig unterbunden. Da die Konzentration der bisher bekannten Stabilisatoren im Kupferbad überdies
z. B. durch Einbau in den Kupferüberzug, durch Oxidationsvorgänge u.s.w, ständig abnimmt, ist im Betrieb eine häufige
Korrektur der Stabilisatorkönzentration erforderlich.
Es wurde nun gefunden, daß ein alkalisches, stromlos arbeitendes
Kupferbad die genannten Nachteile vermeidet, wenn dieses als Stabilisator Quecksilberverbindungen enthält, in denen das Element
in Form des zweiwertigen positiven Ions vorliegt.
überraschenderweise ist die stabilisierende Wirkung der genannten Quecksilberverbindungen von der Natur des Anions unabhängig.
So eignen sich sowohl einfache Salze des zweiwertigen ^uecksilbers>
wie HgCl2 und HgSO2,, als auch wenig dissoziierte Verbindungen»
wie KgHgJj,, in derartigen Kupferbädern gleichermaßen
gut als Stabilisatoren.
Als besonders wirksam haben sich indessen solche Verbindungen des zweiwertigen Quecksilbers erwiesen, die sich aus den genannten
Salzen und den in alkalischen Kupferbädern üblicherweise
enthaltenen Komplexbildnern bilden. Derartige Komplexbildner sind z» B. Polyaminocarbonsäuren, wie ÄDTE, Polyaminoalkohole,
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wie Triethanolamin, undPolycarbonsäuren, wie Nitrilotriessigsäure,
welche zusammen mit den genannten Salzen möglicherweise sogar den eigentlichen Stabilisator darstellen, der sich aufgrund
seiner Komplexbildungskonstante im Bad aus den Komponenten bildet.
Der besondere Vorteil der erfindungsgemäß zu verwendenden Stabilisatoren
besteht darin, daß sich diese in einem weit grösseren Konzentrationsbereich als die bekannten Stabilisatoren
verwenden lassen und außerdem im Gegensatz zu den bekannten eine
nahezu unbegrenzte Haltbarkeit in den betriebenen Kupferbädern aufweisen.
Die bevorzugte Konzentration der erfindungsgemäß zu verwendenden
Quecksilberverbindungen liegt etwa im Bereich von 10 ' bis 10 Mol/Liter. Außerdem enthalten die Bäder die üblichen Bestandteile,
d· h. Kupfersalze, Reduktionsmittel, Komplexbildner sowie gegebenenfalls Puffersubstanzen, Netz- und/oder Glanzmittel.
Bereits bei der niedrigsten angegebenen Konzentration ist die
stabilisierende Wirkung auf die Kupferbäder sehr deutlich, wobei jedoch die Abseheidungsgesehwindigkeit des Kupfers und die
Qualität des Überzuges im gesamten Konzentrationsbereich nahezu unverändert bleiben. Die erhaltenen Kupfertiberzüge haben
überdies eine sehr ansprechende rötliche Farbe und eine ausgezeichnete
elektrische Leitfähigkeit. Da sich die erfindungsgemäß
zu verwendenden Verbindungen im Kupferbad chemisch nicht
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WSPECTED
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verändern können* und ihre Konzentration lediglieh durch Einbau
des Quecksilbers in den Kupferüberzug geringfügig sinken kann* genügt es, die Anfangskonzentration der Verbindungen im Kupferbad auf einen etwas höheren Wert als erforderlich, z. B. auf
IQ"-* Mol/Liter, einzustellen. Beim Betrieb des Bades ist ein
erneuter Zusatz des Stabilisators dann nicht mehr erforderlich,
und zur Wartung genügt es lediglich, den pH-Wert und den Gehalt des Bades an Formaldehyd zu korrigieren.
Die Herstellung der beschriebenen stabilisierten Kupferbäder erfolgt zweckmäßig, indem man die Quecksilberverbindung gemeinsam
mit dem Kupfersalz und dem Komplexbildner löst und anschHessend
den pH-Wert der Lösung und den Gehalt an Formaldehyd auf
den gewünschten Wert einstellt. Sollte die verwendete Quecksilberverbindung
nur wenig wasserlöslich sein, so wird sie vorteilhaft
mit einem geringen Überschuß an ÄDTE und Natronlauge vorgelöst
und dann erst dem Kupferbad zugesetzt.
Erfindungsgeraäß stabilisierte Kupferbäder können zur Verkupferung
von metallischen und entsprechend vorbehandelten nichtmetallischen Oberflächen, z* B. aus Kunststoffen oder anderen
Materialien, in an sich bekannter Weise verwendet werden.
Zu diesem Zweck bringt man die zu verkupfernden Materialien in
die bezeichneten Bäder. Die Abscheidung wird bei einer Badtemperatur
von etwa 20 bis 60° c bis zum Erhalt der gewünsch-
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ten Schichtdicke durchgeführt.
Die abgeschiedene Kupferschicht kann dann mit den üblichen galvanischen
Bädern behandelt und mit beliebigen Metallschichten versehen werden.
Die folgenden Beispiele beschreiben erfindungsgemäß stabilisierte Kupferbäder sowie deren Betriebsbedingungen.
Beispiel 1
Kupfersulfat-Pentahydrat
Dinatriumsalz der Äthylendiamintetraessigsäure
Formaldehyd | 13, | 0 | C |
Natriumhydroxid | 50° | 5 | |
Quecksilber(II)-Chlorid | ca. | ||
pH | |||
Temperatur | |||
Abscheidungsge- schwindigkeit |
|||
0,04 Mol/Liter
0,05 Mol/Liter
0,27 Mol/Liter
0,55 Mol/Liter
ΙΟ"5 Mol/Liter
-6-
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Kupfersulfat-Pentahydrat | 12 | ° C |
Nitrilotriessigsäure" | 25 | 2, |
Formaldehyd | ca. | |
Natriumhydroxid | ||
Quecksilber(II)-sulfat | ||
pH | ||
Temperatur | ||
Abs cheidungsge- schwindigkeit |
||
0,04 Mol/Liter
0,08 Mol/Liter
0,27 Mol/Liter
0,31 Mol/Liter
10"5 Mol/Liter
Kupfersulfat-Pentahydrat | 25° C |
Tri äthanolamin | ca. jj |
Formaldehyd | |
Natriumhydroxid | |
Quecksilber(II)-ehlorid | |
pH | |
Temperatur | |
Abscheidungsge- s chwindigkei t |
|
0,025 Mol/Liter
0,06 Mol/Liter 0,10 Mol/Liter 0,20 Mol/Liter 10~5 Mol/Liter
ORfGfWAL INSPECTED
109820/16Of
Claims (2)
- P a t e η t a η s ρ r ü c h el.j Stabilisiertes alkalisches Bad mit einem Gehalt an Komplexbildnern zur stromlosen Abscheidung von Kupfer* dadurch gekennzeichnet, daß dieses als Stabilisator mindestens eine Quecksilberverbindung enthält, in der das EIe- J ment in Form des zweiwertigen positiven Ions vorliegt.
- 2. Bad nach Anspruch 1 enthaltend die Quecksilberverbindung—7 —4 / in einer Konzentration von 10 ' bis IQ Mol/Liter.3» Verfahren zur stromlosen Abscheidung von Kupfer auf metallischen oder nichtmetallischen Oberflächen, dadurch gekennzeichnet, daß ein Bad nach Anspruch 1 oder 2 verwendet wird.ORIGINAL INSPECTS*1*9820/1601
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DESC040172 | 1967-02-03 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1621352A1 true DE1621352A1 (de) | 1971-05-13 |
DE1621352B2 DE1621352B2 (de) | 1974-10-03 |
DE1621352C3 DE1621352C3 (de) | 1975-05-28 |
Family
ID=7435543
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19671621352 Expired DE1621352C3 (de) | 1967-02-03 | 1967-02-03 | Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1621352C3 (de) |
FR (1) | FR1553375A (de) |
GB (1) | GB1203131A (de) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3649308A (en) * | 1970-05-21 | 1972-03-14 | Shipley Co | Stabilized electroless plating solutions |
US3663242A (en) * | 1970-09-25 | 1972-05-16 | Shipley Co | Stabilized electroless plating solutions |
US4167601A (en) | 1976-11-15 | 1979-09-11 | Western Electric Company, Inc. | Method of depositing a stress-free electroless copper deposit |
US4228213A (en) | 1979-08-13 | 1980-10-14 | Western Electric Company, Inc. | Method of depositing a stress-free electroless copper deposit |
CN1003524B (zh) * | 1985-10-14 | 1989-03-08 | 株式会社日立制作所 | 无电浸镀金溶液 |
AU579776B2 (en) * | 1986-11-06 | 1988-12-08 | Nippondenso Co. Ltd. | Electroless copper plating solution and process for electrolessly plating copper |
DE4202842C1 (en) * | 1992-01-30 | 1993-01-14 | Schering Ag Berlin Und Bergkamen, 1000 Berlin, De | Stable aq. copper complex for non-electrolytic deposition of copper@ - comprises copper(II) salt, 3-(bis(carboxy methyl)amino) propanoic acid as complexing agent, buffer and reducing agent |
-
1967
- 1967-02-03 DE DE19671621352 patent/DE1621352C3/de not_active Expired
-
1968
- 1968-02-02 FR FR1553375D patent/FR1553375A/fr not_active Expired
- 1968-02-05 GB GB565068A patent/GB1203131A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1621352B2 (de) | 1974-10-03 |
GB1203131A (en) | 1970-08-26 |
DE1621352C3 (de) | 1975-05-28 |
FR1553375A (de) | 1969-01-10 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 |