DE1621352B2 - Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer - Google Patents

Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer

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DE1621352B2 DE19671621352 DE1621352A DE1621352B2 DE 1621352 B2 DE1621352 B2 DE 1621352B2 DE 19671621352 DE19671621352 DE 19671621352 DE 1621352 A DE1621352 A DE 1621352A DE 1621352 B2 DE1621352 B2 DE 1621352B2
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/38Coating with copper
    • C23C18/40Coating with copper using reducing agents
    • C23C18/405Formaldehyde

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Description

Materialien in die bezeichneten Bäder. Die Abscheidung wird bei einer Badtemperatur von etwa 20 bis 600C bis zum Erhalt der gewünschten Schichtdicke durchgeführt.
Die abgeschiedene Kupferschicht kann dann mit den üblichen galvanischen Bädern behandelt und mit beliebigen Metallschichten versehen werden.
Die folgenden Beispiele beschreiben erfindungsgemäß stabilisierte Kupferbäder sowie deren Betriebsbedingungen.
Beispiel 2 Beispiel 1
Mol/Liter
Kupf ersulfat-Pentahydrat 0,04
Dinatriumsalz der Äthylendiamin-
tetraessigsäure 0,05
Formaldehyd 0,27
Natriumhydroxid 0,35
QuecksilberillJ-chlorid 10~B
pH 13,0
Temperatür 500C
Abscheidungsgeschwindigkeit ... etwa 5,0 μΐη/h
Mol/Liter
Kupfersulf at-Pentahydrat 0,04
Nitrilotriessigsäure 0,08
Formaldehyd 0,27
Natriumhydroxid 0,31
QuecksilberillJ-sulfat 10~5
pH 12,5
Temperatur 250C
Abscheidungsgeschwindigkeit ... etwa 2,9 μΐη/h
Beispiel 3
Mol/Liter
Kupfersulfat-Pentahydrat 0,025
Triäthanolamin 0,06
Formaldehyd 0,10
Natriumhydroxid 0,20
Quecksilber(II)-chlorid 10~5
pH 13,0
Temperatür 250C
Abscheidungsgeschwindigkeit ... etwa 3,3 μΐη/h.

Claims (3)

1 2 der genannten Quecksilberverbindungen von der Natur Patentansprüche: des Anions unabhängig. So eignen sich sowohl ein fache Salze des zweiwertigen Quecksilbers, wie HgCl2
1. Stabilisiertes alkalisches Bad mit einem Gehalt und HgSO4, als auch wenig dissoziierte Verbindungen, an Komplexbildnern zur stromlosen Abschei- 5 wie K2HgJ4, in derartigen Kupferbädera gleicherdung von Kupfer, dadurch gekennzeich- maßen gut als Stabilisatoren.
net, daß dieses als Stabilisator mindestens eine Als besonders wirksam haben sich indessen solche
Quecksilberverbindung enthält, in der das Element Verbindungen des zweiwertigen Quecksilbers erwiesea,
in Form des zweiwertigen positiven Ions vorliegt. die sich aus den genannten Salzen und den in alkali-
2. Bad nach Anspruch 1 enthaltend die Queck- io sehen Kupferbädern üblicherweise enthaltenen Korn-Silberverbindung in einer Konzentration von plexbildnern bilden. Derartige Komplexbildner sind 10~7 bis 10-* Mol/Liter. z. B. Polyaminocarbonsäuren, wie ÄDTE, Polyamino-
3. Verfahren zur stromlosen Abscheidung von alkohole, wie Triäthanolamin, und Polycarbonsäuren, Kupfer auf metallischen oder nichtmetallischen wie Nitrilotriessigsäure, welche zusammen mit den Oberflächen, dadurch gekennzeichnet, daß ein Bad 15 genannten Salzen möglicherweise sogar den eigentnach Anspruch 1 oder 2 verwendet wird. liehen Stabilisator darstellen, der sich auf Grund seiner
Komplexbildungskonstante im Bad aus den Kompo- : ; nenten bildet.
Der besondere Vorteil der erfindungsgemäß zu 20 verwendenden Stabilisatoren besteht darin, daß sich
diese in einem weit größeren Konzentrationsbereich
als die bekannten Stabilisatoren verwenden lassen und außerdem im Gegensatz zu den bekannten eine nahezu unbegrenzte Haltbarkeit in den betriebenen 25 Kupferbädern aufweisen.
Die bevorzugte Konzentration der erfindungsgemäß
Die Erfindung betrifft ein stabilisiertes, stromlos zu verwendenden Quecksilberverbindungen liegt etwa arbeitendes Kupferbad, mit dem Kupferüberzüge auf im Bereich von ICh7 bis 10~4 Mol/Liter. Außerdem metallischen und nichtmetallischen Oberflächen abge- enthalten die Bäder die üblichen Bestandteile, d. h. schieden werden können. 30 KupfersaLze, Reduktionsmittel, Komplexbildner sowie
Bekannt sind stromlos arbeitende Kupferbäder, die gegebenenfalls Puffersubstanzen, Netz- und/oder
komplex gebundenes zweiwertiges Kupfer und als Glanzmittel.
Reduktionsmittel Formaldehyd in alkalischer Lösung Bereits bei der niedrigsten angegebenen Konzen-
enthalten. AJs brauchbare Komplexbildner sind z. B. tration ist die stabilisierende Wirkung auf die Kupfer-Weinsäure, Äthylendiamintetraessigsäure (ÄDTE) und 35 bäder sehr deutlich, wobei jedoch die Abscheidungs-Triäthanolamin bekanntgeworden. Derart zusammen- geschwindigkeit des Kupfers und die Qualität des gesetzte Kupferbäder scheiden auf verschiedenen Überzuges im gesamten Konzentrationsbereich nahezu katalytisch wirkenden Metallen Kupferüberzüge ab. unverändert bleiben. Die erhaltenen Kupferüberzüge Auch Nichtleiter, wie Keramik und organische Kunst- haben überdies eine sehr ansprechende rötliche Farbe stoffe, können nach geeigneter Vorbehandlung und 40 und eine ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit. Da Aktivierung mit feinverteiltem Metall mit einem sich die erfindungsgemäß zu verwendenden Verbin-Kupferüberzug versehen werden. düngen im Kupferbad chemisch nicht verändern kön-
Je nach Zusammensetzung und Betriebsbedingungen nen und ihre Konzentration lediglich durch Einbau neigen stromlose Kupferbäder zu mehr oder weniger des Quecksilbers in den Kupferüberzug geringfügig raschem Zerfall unter Abscheidung von metallischem 45 sinken kann, genügt es, die Anfangskonzentration der Kupfer. Es ist bereits bekannt, daß derartige Bäder Verbindungen im Kupferbad auf einen etwas höheren durch Zusatz anorganischer Cyanide oder durch Wert als erforderlich, z. B. auf 10-s Mol/Liter, einbestimmte organische Schwefelverbindungen, wie z. B. zustellen. Beim Betrieb des Bades ist ein erneuter 2-Mercaptobenzthiazol, stabilisiert-werden können. · Zusatz des Stabilisators dann nicht mehr erforderlich, Die bisher bekannten Stabilisatoren sind jedoch nur 50 und zur Wartung genügt es lediglich, den pH-Wert in einem relativ engen Konzentrationsbereich wirk- und den Gehalt des Bades an Formaldehyd zu korrisam. Im Fall einer zu geringen Konzentration des gieren.
Stabilisators ist das Kupferbad daher einerseits zu Die Herstellung der beschriebenen stabilisierten
instabil, bei zu hoher Konzentration werden anderer- Kupferbäder erfolgt zweckmäßig, indem man die seits im allgemeinen "Überzüge von schlechter Be- 55 Quecksilberverbindung gemeinsam mit dem Kupferscbaffenheit erhalten, oder es wird sogar die Abschei- salz und dem Komplexbildner löst und anschließend dung völlig unterbunden. Da die Konzentration der den pH-Wert der Lösung und den Gehalt an Formbisher bekannten Stabilisatoren im Kupferbad über- aldehyd auf den gewünschten Wert einstellt. Sollte die dies z. B. durch Einbau in den Kupferüberzug, durch verwendete Quecksilberverbindung nur wenig wasser-Oxidationsvorgänge usw. ständig abnimmt, ist im 60 löslich sein, so wird sie vorteilhaft mit einem geringen Betrieb eine häufige Korrektur der Stabilisatorkonzen- Überschuß an ÄDTE und Natronlauge vorgelöst tration erforderlich. und dann erst dem Kupferbad zugesetzt.
Es wurde nun gefunden, daß ein alkalisches, strom- Erfindungsgemäß stabilisierte Kupferbäder können
los arbeitendes Kupferbad die genannten Nachteile zur Verkupferung von metallischen und entsprechend vermeidet, wenn dieses als Stabilisator Quecksilber- 65 vorbehandelten nichtmetallischen Oberflächen, z. B. verbindungen enthält, in denen das Element in Form aus Kunststoffen oder anderen Materialien, in an sich des zweiwertigen positiven Ions vorliegt. bekannter Weise verwendet werden.
Überraschenderweise ist die stabilisierende Wirkung Zu diesem Zweck bringt man die zu verkupfernden
DE19671621352 1967-02-03 1967-02-03 Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer Expired DE1621352C3 (de)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3737778A1 (de) * 1986-11-06 1988-05-11 Nippon Denso Co Loesung fuer stromlose verkupferung und verfahren zur stromlosen verkupferung
DE4202842C1 (en) * 1992-01-30 1993-01-14 Schering Ag Berlin Und Bergkamen, 1000 Berlin, De Stable aq. copper complex for non-electrolytic deposition of copper@ - comprises copper(II) salt, 3-(bis(carboxy methyl)amino) propanoic acid as complexing agent, buffer and reducing agent

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US4167601A (en) 1976-11-15 1979-09-11 Western Electric Company, Inc. Method of depositing a stress-free electroless copper deposit
US4228213A (en) 1979-08-13 1980-10-14 Western Electric Company, Inc. Method of depositing a stress-free electroless copper deposit
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FR1553375A (de) 1969-01-10

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Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977