DE1621352B2 - Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer - Google Patents
Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von KupferInfo
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Description
Materialien in die bezeichneten Bäder. Die Abscheidung wird bei einer Badtemperatur von etwa 20 bis
600C bis zum Erhalt der gewünschten Schichtdicke durchgeführt.
Die abgeschiedene Kupferschicht kann dann mit den üblichen galvanischen Bädern behandelt und mit
beliebigen Metallschichten versehen werden.
Die folgenden Beispiele beschreiben erfindungsgemäß stabilisierte Kupferbäder sowie deren Betriebsbedingungen.
Mol/Liter
Kupf ersulfat-Pentahydrat 0,04
Dinatriumsalz der Äthylendiamin-
tetraessigsäure 0,05
Formaldehyd 0,27
Natriumhydroxid 0,35
QuecksilberillJ-chlorid 10~B
pH 13,0
Temperatür 500C
Abscheidungsgeschwindigkeit ... etwa 5,0 μΐη/h
Mol/Liter
Kupfersulf at-Pentahydrat 0,04
Nitrilotriessigsäure 0,08
Formaldehyd 0,27
Natriumhydroxid 0,31
QuecksilberillJ-sulfat 10~5
pH 12,5
Temperatur 250C
Abscheidungsgeschwindigkeit ... etwa 2,9 μΐη/h
Mol/Liter
Kupfersulfat-Pentahydrat 0,025
Triäthanolamin 0,06
Formaldehyd 0,10
Natriumhydroxid 0,20
Quecksilber(II)-chlorid 10~5
pH 13,0
Temperatür 250C
Abscheidungsgeschwindigkeit ... etwa 3,3 μΐη/h.
Claims (3)
1. Stabilisiertes alkalisches Bad mit einem Gehalt und HgSO4, als auch wenig dissoziierte Verbindungen,
an Komplexbildnern zur stromlosen Abschei- 5 wie K2HgJ4, in derartigen Kupferbädera gleicherdung
von Kupfer, dadurch gekennzeich- maßen gut als Stabilisatoren.
net, daß dieses als Stabilisator mindestens eine Als besonders wirksam haben sich indessen solche
Quecksilberverbindung enthält, in der das Element Verbindungen des zweiwertigen Quecksilbers erwiesea,
in Form des zweiwertigen positiven Ions vorliegt. die sich aus den genannten Salzen und den in alkali-
2. Bad nach Anspruch 1 enthaltend die Queck- io sehen Kupferbädern üblicherweise enthaltenen Korn-Silberverbindung
in einer Konzentration von plexbildnern bilden. Derartige Komplexbildner sind
10~7 bis 10-* Mol/Liter. z. B. Polyaminocarbonsäuren, wie ÄDTE, Polyamino-
3. Verfahren zur stromlosen Abscheidung von alkohole, wie Triäthanolamin, und Polycarbonsäuren,
Kupfer auf metallischen oder nichtmetallischen wie Nitrilotriessigsäure, welche zusammen mit den
Oberflächen, dadurch gekennzeichnet, daß ein Bad 15 genannten Salzen möglicherweise sogar den eigentnach
Anspruch 1 oder 2 verwendet wird. liehen Stabilisator darstellen, der sich auf Grund seiner
Komplexbildungskonstante im Bad aus den Kompo- : ; nenten bildet.
Der besondere Vorteil der erfindungsgemäß zu 20 verwendenden Stabilisatoren besteht darin, daß sich
diese in einem weit größeren Konzentrationsbereich
als die bekannten Stabilisatoren verwenden lassen und außerdem im Gegensatz zu den bekannten eine
nahezu unbegrenzte Haltbarkeit in den betriebenen 25 Kupferbädern aufweisen.
Die bevorzugte Konzentration der erfindungsgemäß
Die Erfindung betrifft ein stabilisiertes, stromlos zu verwendenden Quecksilberverbindungen liegt etwa
arbeitendes Kupferbad, mit dem Kupferüberzüge auf im Bereich von ICh7 bis 10~4 Mol/Liter. Außerdem
metallischen und nichtmetallischen Oberflächen abge- enthalten die Bäder die üblichen Bestandteile, d. h.
schieden werden können. 30 KupfersaLze, Reduktionsmittel, Komplexbildner sowie
Bekannt sind stromlos arbeitende Kupferbäder, die gegebenenfalls Puffersubstanzen, Netz- und/oder
komplex gebundenes zweiwertiges Kupfer und als Glanzmittel.
komplex gebundenes zweiwertiges Kupfer und als Glanzmittel.
Reduktionsmittel Formaldehyd in alkalischer Lösung Bereits bei der niedrigsten angegebenen Konzen-
enthalten. AJs brauchbare Komplexbildner sind z. B. tration ist die stabilisierende Wirkung auf die Kupfer-Weinsäure,
Äthylendiamintetraessigsäure (ÄDTE) und 35 bäder sehr deutlich, wobei jedoch die Abscheidungs-Triäthanolamin
bekanntgeworden. Derart zusammen- geschwindigkeit des Kupfers und die Qualität des
gesetzte Kupferbäder scheiden auf verschiedenen Überzuges im gesamten Konzentrationsbereich nahezu
katalytisch wirkenden Metallen Kupferüberzüge ab. unverändert bleiben. Die erhaltenen Kupferüberzüge
Auch Nichtleiter, wie Keramik und organische Kunst- haben überdies eine sehr ansprechende rötliche Farbe
stoffe, können nach geeigneter Vorbehandlung und 40 und eine ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit. Da
Aktivierung mit feinverteiltem Metall mit einem sich die erfindungsgemäß zu verwendenden Verbin-Kupferüberzug
versehen werden. düngen im Kupferbad chemisch nicht verändern kön-
Je nach Zusammensetzung und Betriebsbedingungen nen und ihre Konzentration lediglich durch Einbau
neigen stromlose Kupferbäder zu mehr oder weniger des Quecksilbers in den Kupferüberzug geringfügig
raschem Zerfall unter Abscheidung von metallischem 45 sinken kann, genügt es, die Anfangskonzentration der
Kupfer. Es ist bereits bekannt, daß derartige Bäder Verbindungen im Kupferbad auf einen etwas höheren
durch Zusatz anorganischer Cyanide oder durch Wert als erforderlich, z. B. auf 10-s Mol/Liter, einbestimmte
organische Schwefelverbindungen, wie z. B. zustellen. Beim Betrieb des Bades ist ein erneuter
2-Mercaptobenzthiazol, stabilisiert-werden können. · Zusatz des Stabilisators dann nicht mehr erforderlich,
Die bisher bekannten Stabilisatoren sind jedoch nur 50 und zur Wartung genügt es lediglich, den pH-Wert
in einem relativ engen Konzentrationsbereich wirk- und den Gehalt des Bades an Formaldehyd zu korrisam.
Im Fall einer zu geringen Konzentration des gieren.
Stabilisators ist das Kupferbad daher einerseits zu Die Herstellung der beschriebenen stabilisierten
instabil, bei zu hoher Konzentration werden anderer- Kupferbäder erfolgt zweckmäßig, indem man die
seits im allgemeinen "Überzüge von schlechter Be- 55 Quecksilberverbindung gemeinsam mit dem Kupferscbaffenheit
erhalten, oder es wird sogar die Abschei- salz und dem Komplexbildner löst und anschließend
dung völlig unterbunden. Da die Konzentration der den pH-Wert der Lösung und den Gehalt an Formbisher
bekannten Stabilisatoren im Kupferbad über- aldehyd auf den gewünschten Wert einstellt. Sollte die
dies z. B. durch Einbau in den Kupferüberzug, durch verwendete Quecksilberverbindung nur wenig wasser-Oxidationsvorgänge
usw. ständig abnimmt, ist im 60 löslich sein, so wird sie vorteilhaft mit einem geringen
Betrieb eine häufige Korrektur der Stabilisatorkonzen- Überschuß an ÄDTE und Natronlauge vorgelöst
tration erforderlich. und dann erst dem Kupferbad zugesetzt.
Es wurde nun gefunden, daß ein alkalisches, strom- Erfindungsgemäß stabilisierte Kupferbäder können
los arbeitendes Kupferbad die genannten Nachteile zur Verkupferung von metallischen und entsprechend
vermeidet, wenn dieses als Stabilisator Quecksilber- 65 vorbehandelten nichtmetallischen Oberflächen, z. B.
verbindungen enthält, in denen das Element in Form aus Kunststoffen oder anderen Materialien, in an sich
des zweiwertigen positiven Ions vorliegt. bekannter Weise verwendet werden.
Überraschenderweise ist die stabilisierende Wirkung Zu diesem Zweck bringt man die zu verkupfernden
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DESC040172 | 1967-02-03 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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DE1621352B2 true DE1621352B2 (de) | 1974-10-03 |
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Family
ID=7435543
Family Applications (1)
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DE19671621352 Expired DE1621352C3 (de) | 1967-02-03 | 1967-02-03 | Stabilisiertes alkalisches Kupferbad zur stromlosen Abscheidung von Kupfer |
Country Status (3)
Country | Link |
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DE (1) | DE1621352C3 (de) |
FR (1) | FR1553375A (de) |
GB (1) | GB1203131A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3737778A1 (de) * | 1986-11-06 | 1988-05-11 | Nippon Denso Co | Loesung fuer stromlose verkupferung und verfahren zur stromlosen verkupferung |
DE4202842C1 (en) * | 1992-01-30 | 1993-01-14 | Schering Ag Berlin Und Bergkamen, 1000 Berlin, De | Stable aq. copper complex for non-electrolytic deposition of copper@ - comprises copper(II) salt, 3-(bis(carboxy methyl)amino) propanoic acid as complexing agent, buffer and reducing agent |
Families Citing this family (5)
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---|---|---|---|---|
US3649308A (en) * | 1970-05-21 | 1972-03-14 | Shipley Co | Stabilized electroless plating solutions |
US3663242A (en) * | 1970-09-25 | 1972-05-16 | Shipley Co | Stabilized electroless plating solutions |
US4167601A (en) | 1976-11-15 | 1979-09-11 | Western Electric Company, Inc. | Method of depositing a stress-free electroless copper deposit |
US4228213A (en) | 1979-08-13 | 1980-10-14 | Western Electric Company, Inc. | Method of depositing a stress-free electroless copper deposit |
CN1003524B (zh) * | 1985-10-14 | 1989-03-08 | 株式会社日立制作所 | 无电浸镀金溶液 |
-
1967
- 1967-02-03 DE DE19671621352 patent/DE1621352C3/de not_active Expired
-
1968
- 1968-02-02 FR FR1553375D patent/FR1553375A/fr not_active Expired
- 1968-02-05 GB GB565068A patent/GB1203131A/en not_active Expired
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Also Published As
Publication number | Publication date |
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DE1621352A1 (de) | 1971-05-13 |
GB1203131A (en) | 1970-08-26 |
DE1621352C3 (de) | 1975-05-28 |
FR1553375A (de) | 1969-01-10 |
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