DE1621246B2 - - Google Patents
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- DE1621246B2 DE1621246B2 DE19681621246 DE1621246A DE1621246B2 DE 1621246 B2 DE1621246 B2 DE 1621246B2 DE 19681621246 DE19681621246 DE 19681621246 DE 1621246 A DE1621246 A DE 1621246A DE 1621246 B2 DE1621246 B2 DE 1621246B2
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/10—Glass or silica
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Abänderung des Verfahrens zum Oberflächenvergüten von Kunststoffen
durch Bedampfen derselben mit SiOx, (Igxä2)
im Hochvakuum (10~4 bis 10~6 Torr) unter Verwendung
eines Elektronenstrahlverdampfers in Gegenwart von Sauerstoff bis zur Erreichung einer Schichtdicke
von etwa 2 bis etwa 5 μ gemäß Patentanmeldung P 1 521 249.4-45. Bei diesem Verfahren werden Kunststoffe
bedampft, die bei 1200C einen Dampfdruck von weniger als 10~5 Torr besitzen und deren Oberflächen
zu höchstens 30% mit einer monomolekularen Schicht von organischen Fremdstoffen bedeckt sind. Dabei
wird eine Elektronenstrahlenergiedichte von 5 bis 15 Kw/cm2 bei einer effektiven Verdampfungsfläche
von etwa 0,3 bis 0,6 cm2 angewandt. Die Verdampfung erfolgt bei einem Partialdruck des SiO* von mindestens
einmal 10~2 Torr und einer mittleren Kondensationsrate von etwa 90 bis 110 A/sec in mindestens 50 aufeinanderfolgendenden
Schichten.
In der deutschen Patentschrift 834 490 wird ein Verfahren zur Erzeugung dünner Schichten auf Glasoberflächen
beschrieben, bei dem ein Gemisch von SiO2 und Metallen oder Metalloxiden im Vakuum
verdampft wird und das entstehende Reaktionsprodukt absublimiert. Es hat sich nun herausgestellt, daß das
Aufdampfen von quarzhaltigen Schichten auf Kunststoffe ein wesentlich schwierigeres Problem darstellt
und dementsprechend eine kompliziertere Technologie erforderlich macht als die Erzeugung dünner festhaftender
Quarzschichten auf Glasoberflächen. Dabei spielt die qualitative und quantitative Zusammensetzung
des zu verdampfenden Materials eine wichtige Rolle.
Es wurde nämlich gefunden, daß besonders widerstandsfähige Vergütungsschichten erzielt werden können,
wenn man erfindungsgemäß an Stelle von reinem Quarz ein Gemisch aus etwa 95 bis etwa 98,5 Gewichtsprozent
Siliziumdioxid und etwa 5 bis etwa 1,5 Gewichtsprozent Zinkoxid, Zirkonoxid oder Antimonoxid,
bevorzugt jedoch Chromoxid, oder Gemischen dieser Oxide, verdampft, wodurch sich ein
entsprechendes Gemisch auf den Oberflächen der Kunststoffe niederschlägt.
Durch diese Abänderung des Verfahrens gemäß Patentanmeldung 1 521 249 wird eine noch bessere
ίο Oberflächenvergütung der Kunststoffe, insbesondere
hinsichtlich ihrer Beständigkeit gegenüber starken Temperaturwechseln, z. B. im Bereich zwischen +20
und +100° C, und gegenüber Schwefeldioxid enthaltender feuchter Luft, erreicht. So halten die nur mit
einer Quarzschicht bedampften Oberflächenvergütungen gemäß dem Verfahren des Hauptpatents zwar den
Beanspruchungen des Weather-O-Meter-Tests recht gut stand, bei wiederholter Einwirkung rascher Temperaturwechsel
zwischen etwa 20cC und etwa 100;C
kann es jedoch vorkommen, daß feine Haarrisse in der aufgedampften Schicht auftreten. Bei nach dem vorliegenden
Abänderungsverfahren hergestellten Vergütungsschichten ist dies nicht der Fall.
Um die gewünschte Verbesserung der Oberflächenvergütung zu erzielen, sollte der Gegalt der genannten
Metalloxide zum Siliziumoxid nicht unter etwa 1,5 Gewichtsprozent, bezogen auf das Gemisch der
Oxide, liegen. Andererseits treten bei Überschreitung dieses Gehalts von etwa 5 Gewichtsprozent Verschlechterungen
der Eigenschaften der Oberflächenvergütungen ein.
Das erfindungsgemäß zu verdampfende Gemisch kann aus einer zweckmäßig zuvor auf eine Temperatur
bis etwa 1000°C geglühten, physikalischen Mischung
feinkörnigen Siliziumdioxids und feinkörniger Fremdoxide bestehen. Man kann das Pulvergemisch vor seiner
Verwendung jedoch auch durch Erhitzen auf Temperaturen oberhalb etwa 1800° C zu einem Block
verschmelzen.
Eine besonders innige Durchmischung des Siliziumdioxids mit den Fremdmetalloxiden kann man durch
gemeinsames Fällen aus wäßrigen Lösungen, z. B. der entsprechenden Chloride, also z. B. des Siliziumtetrachlorids
und des Chromchlorids, mit z. B. Ammoniak und Glühen bzw. Schmelzen der Niederschläge erreichen.
Man verfährt wie im Beispiel des Hauptpatents, verwendet jedoch statt des Quarzes ein Gemisch von
95 Gewichtsprozent Quarzsand und 5 Gewichtsprozent Chromoxid, deren maximale Teilchengröße bei etwa
50 bis etwa 100 μ liegt, das zuvor bei etwa 1000° C
geglüht wurde. Die auf diese Weise auf die Oberfläche der Polycarbonatplatte aufgedampfte Vergütungsschicht ist völlig farblos, klardurchsichtig und hält
z. B. folgenden Bedingungen stand:
1. der Temperaturwechselbeständigkeitspriifung nach
DIN 52304,
2. einem 3maligen Erhitzen während 30 min auf 1000C und dazwischen 30 min langem Lagern
bei 200C,
3. der Prüfung nach DlN 50016 (Tropenwechselklima 7 Tage),
4. dem Kesternich-Test nach DIN 50018 (8 Stunden
4O0C 95% r. F. + 2 1 SO2 auf 300 1 Luft).
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zum Oberflächenvergüten von Kunststoffen durch Bedampfen derselben mit SiO* (*^1>2) im Hochvakuum (ΙΟ"4 bis 10~6 Torr) in Gegenwart von Sauerstoff unter Verwendung eines Elektronenstrahlverdampfers, bei dem das Substrat relativ zur Verdampferquelle mit gleichmäßiger Geschwindigkeit bewegt wird un-d Kunststoffe mit einem Dampfdruck von weniger als 10~5 Torr bei 12O0C bedampft werden, wobei eine Eiektronenstrahlenergiedichte von 5 bis 15 Kw/cm2 bei einer effektiven Verdampfungsfläche von etwa 0,3 bis 0,6 cm2 angewandt wird und die Verdampfung bei einem Partialdruck des SiO.c von mindestens einmal 10~2 Torr und einer mittleren Kondensationsrate von etwa 90 bis 110 Ä/sec in mindestens 50 aufeinanderfolgenden Schichten erfolgt, nach Patentanmeldung P 1521249.4-45, dadurch gekennzeichnet, daß man an Stelle von Quarz ein Gemisch aus etwa 95 bis etwa 98,5 Gewichtsprozent Siliciumdioxid und etwa 5 bis etwa 1,5 Gewichtsprozent Zinkoxid, Zirkonoxid, Antimonoxid, bevorzugt jedoch Chromoxid oder Gemischen dieser Oxide, verdampft.
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Publications (3)
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---|---|---|---|
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-
1968
- 1968-02-09 DE DE19681621246 patent/DE1621246A1/de active Granted
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- 1968-08-02 FR FR161623A patent/FR95379E/fr not_active Expired
- 1968-08-05 GB GB3717368A patent/GB1185790A/en not_active Expired
Also Published As
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Legal Events
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C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
EGA | New person/name/address of the applicant |