DE1572360A1 - Verfahren zur Erzeugung von Mattierungsbildern auf einer thermoplastischen Schicht - Google Patents

Description

XEROX LIMITED
Rank Xerox House
338, Buston Road
London, N.W. 1
England

Verfahren zur Erzeugung von Mattierungsbildern auf einer thermoplastischen Schicht

Die Erfindung "bezieht sich auf ein DeformationsatiMldungsverfahren, insbesondere auf ein elektrostatisches Mattierungsverfahren.

In der britischen Patentschrift 1 049 881 ist ein neuartiges Deformati onsafbildungsverfahr en beschrieben, bei dem zur selektiven Mattierung eines kontinuierlich deformierbaren Ulmes oder einer Schicht in bildmäßiger Verteilung ein elektrostatisches Ladungsbild verwendet wird. Durch die Mattierungsvorgänge erhält man bei diesem Verfahren Bilder mit Eigenschaften, die gegenüber den nach bisherigen Verfahren hergestellten Bildern große Unterschiede zeigen. Wie auch in der genannten britischen Patentschrift ausgeführt ist, beruhten die bisherigen Verfahren darauf, daß an den *

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Grenzlinien zwischen gelaaenen und ungeladenen Fläehenteilen der deformierbaren Oberfläche ein Saum gebildet wurde, wodurch sich ein Muster aus vertieften und erhöhxen Flächenteilen entsprechend den geladenen und ungeladenen Flächenteilen ergab. Dadurch entstand bei der Abbildung eines aus kontinuierlich getönten Flächen bestehenden Bildes lediglich ein Relief- oder Konturenbild. Die elektrostatischen Mattierun_tsverfahren andererseits ermöglichen eine Abbildung von Flächentönungsbildern und/oder Linienzeichnungen auf dem mechanisch deformierbaren Stoff in Form von relativ geordneten Strukturen mikroskopisch kleiner Un-gleichmäßigkeiten, wodurch an allen Punkten des Deformationsbildes, an denen eine Belichtung vorgenommen wurde, lichtstreuende Eigenschaften vorhanden' sind.

Hit einem Mattierungsverfahren, auf das sich auch die vorliegende Erfindung bezieht, ist also die Abbildung kontinuierlich getönter Bilder wie bei den üblichen Halogensilberphotograpliien möglich. Das der vorliegenden Erfindung zugrundeliegende Problem läßt sich daher am besten lösen, wenn man die Halogensilberbilder etwas eingehender betrachtet und besonders berücksichtigt, daß eine der wichtigsten Eigenschaften dieser Bilder darin besteht, daß der Zusammenhang zwischen der Bildschwärzung und der Belichtung, also der sogenannte Wert gamma der photographischen Emulsion, durch das Entwicklungsverfahren zu beeinflussen ist. Die gamma-Eigenschaften des Films können also verstärkt oder verringert werden. Durch derartige Regulierungen können entsprechende Änderungen des Kontrastes des entwickelten Bildes erreicht werden, d.h. die Abstufungen der Tönung eine3 reproduzierten Bildes können dem Auge des Betrachters 'angepaßt werden, Unterbelichtungen können ausgeglichen werden usw.

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BAD ORiOiNAL 3 _

Ein spezielles Beispiel der Anwendung dieser Höflichkeiten stellt die Verarbeitung von Filmen dar, bei denen es auf einen möglichst hohen Informationsinhalt des endgültigen Bilaes ankommt, und der Entwicklungevorgang und/oder die Belichtung des Positivbildes zur "bestmöglichen Ausnutzung der gamma-Eigenschaften beeinflußt werden.

Die Erfindung betrifft nun ein Verfahren zur Herstellung von Mattierungsbildern auf einer thermal as ti sehen Schicht, die sich auf einer mit leitfähiger Unterlage versehenen photoleitfähigen Schicht befindet. Dieses Verfahren ist gemäß der Erfindung derart ausgebildet, daß die freie Oberfläche der thermoplastischen Schicht auf ein erstes Potential aufgeladen wird, daß die photoleitfähige Schicht mit dem aufzuzeichnenden Bild belichtet wird, und daß die thermoplastische Schicht nochmals auf ein zweites Potential aufgeladen und zur Ausbildung des erwünschten Kattierungsbilders erweicht wird, wobei das erste und das zweite Potential uurch einen vorgegebenen Zusammenhang zwischen der Mattierung der thermoplastischen Schicht und der Belichtung der photoleitfähigen Scücht festgelegt werden.

'■■ - (

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird im folgenden an Hand der Figuren beschrieben.

Es zeigen:

Fig.1 die Ausführung einer aus drei Schichten bestehenden mattierbaren Bildplatte, die im erfindungsgemäßen Verfahren verwendet wird,

Fig.2 eine graphische Darstellung des Zusammenhanges zwischen der Mattierungsdichte und der Oberflächenladungsdichte auf einer Bildplatte gemäß Fig.1,

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Fig.3 und 4 analytische Kurven, die bei Durchführung des erfinduncsgeäßen Verf ε-hrens das in Abhängigkeit vom Logarithmus der Belichtung zu erwartende Oberflächenpotential und die Oberflächenladungsdichte einer Bildplatte gemäß Fig.1 angeben, und

Fig.5 und 6 empirische Kurven, die die in den Figo und 4 dargestellten Größen für das in Beispiel I beschriebene Ausführungsbeispiel einer Bildplatte angeben.

In Fig.1 ist eine typische mattierbare Bildplatte dargestellt, die fc ähnlich den in der genannten britischen Patentschrift beschriebenen Platten ausgebildet ist. Diese Bildplatte 1 besteht aus einer leitfähigen Unterlage 2, die vorteilhaft aus einem dünnen Aluminiumblech gebildet ist, einer photöleitfähigen Schicht 4 und einer darüber angeordneten mattierbaren Schicht 6. Die photoleitfähige Schicht kann aus einer Schicht glasförmigen Selens mit einer Stärke d_n und einer Dielektrizitätskonstante £« bestehen, In einigen

Fällen kann diese Schicht jedoch auch aus einer natürlichen Verbindung bestehen und zu einem geringeren Anteil Selen enthalten, das als Ladungsspeicher dient, sowie einen größeren Anteil einer relativ panchromatischen Selen-Tellur-Legierung, die als photoleitfähiger Stoff dient.

Die oberste mattierbare Schicht 6 hat die Stärke d und eine Dielektrizitätskonstante £jo . In der genannten britischen Patentschrift 1 049 881 sind verschiedene Stoffe für diese mattierbare Schicht angeführt. In einem typischen Ausführungsbeispiel besteht die Schicht aus einem wenige Mikron starken Überzug aus Staybelite 'Ester 10 (Glyceryltriester von zu 50 # hydriertem Baumharz), erhältlich unter dieser Bezeichnung von der Hercules Powder Company,

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·" 5 —

Wilmington, Delaware. Es sei bemerkt, daß in einiren Fällen zwischen der photoleitfähigen Schicht 4 und der mattierbaren Schicht 6 eine mehrere Hundertstel Mikron starke Zwischenschicht eines organischen Stoffes angeordnet sein kann, die auf noch nicht völlig geklärte Weise zur Erhöhung der Auflösung des endgültigen Mattierungsbildes beiträgt, Für die vorliegende Erfindung stellt diese Zwischenschicht jedoch kein spezielles Erfordernis dar und sie kann für auswertende Betrachtungen als innerhalb der mattierbaren Schicht 6 liegend gedacht werden.

Bei der Durchführung des in der britischen Patentschrift 1 049 881 beschriebenen elektrostatischen Mattierungsverfahrens wird die Bildplatte 1 zunächst auf der Oberfläche der Schicht 6 mit einer ladung versehen, indem sie an einer Korona-Ladeeinrbhtung o.a. vorbeibewegt wird. Die Bildplatte wird dann mit einem Licht-Schatten-Bild belichtet, z.B. durch ein photograph!sches Vergrößerungsgerät, wodurch eine Wanderung von ladungen in Teile der photoleitfähigen Schicht 4 stattfindet, die unter den belichteten Flächenteilen der Bildplatte liegen. Diese wandernden Ladungen werden an der Zwischenschicht zwischen den Schichten 4 und 6 gebunden, wodurch mii ent- " sprechenden Punkten der Oberfläche der deformierbaren Schicht 6 das Potential verringert wird. Danach wird die Schicht 6 nochmals mit derselben oder einer ähnlichen Korona-Einrichtung aufgeladen, um die Oberfläche 6 wieder in einen Äquipotentialzustand zu versetaen. In den vorher belichteten und von der Ladungswanderung beeinflußten Flächenteilen nimmt die Oberfläche der Schicht 6 eine zusätzliche Ladung auf, wodurch das elektrische Feld und die Potentialdifferenz an diesen Flächenteilen gleichfalls «ehr ver-

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b DRIQiNAL

stärkt wird. Bei Erweichung der deform!erbaren Schicht 6 mattieren die dem verstärkten elektrischen Feld ausgesetzten Flächenteile zu einem Grade, der von dem elektrischen PoId oder der vorhandenen Ladungsdichte abhängt.

In Pig.2 ist eine Kurve dargestellt, die die experimentell erreichte Mattierungsdichte einer derartigen Bildplatte als eine Punktion der Ladungsdichte auf der Bildplatte nach der zweiten Aufladung zeigt. Die Bezeichnung "Dichte¹¹ bezieht sich auf die Lichtabschwä-

¹O

chung log -γ- , die in einem optischen Weg erzeugt wird, indem die mattierte Platte angeordnet ist« Die Dichte kann also als eine direkte Angabe der innerhalb des optischen Weges durch die Mattierungsdeformationen gestreuten Lichtmenge angesehen werden. Die dargestellte Kurve entspricht der in den Pig.6a und 6b der britischen Patentschrift 1 049 881 gezeigten Kurve, und sie zeigt, daß bei jedem Mattierung sver fahr en ein bestimmter Minimalwert der Ladungsdichte erreicht sein muß, bevor eine Mattierung stattfindet. Ferner zeigt sie, daß nach Überschreiten eines bestimmten Maximalwertes der Ladungsdichte die Mattierungsdichte keinen merklichen Zuwachs erhält. Diese beiden kritischen Wert· sind in Fig. 2 mit C _ und <o _

° I max

bezeichnet, wobei die Indizes eich auf den Schwellwert und den maximalen »usnutzbaren Wert beziehen.

Das Wesen der vorliegenden Erfindung besteht in erster Linie in der Entdeckung eines Verfahrens, durch das der Bereich der Mattierungsdichte zwischen den Werten <o ^ und 6 _max zur Übereinstimmung

mit Belichtungsbereichen verschiedener Breite gebracht werden kann. In der üblichen photographischen Terminologie ist dies ein Verfahren zur Änderung des sogenannten Wertes gamma der Bildplatte. Die Er-

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8AD OFUQiHAL

"findung ermöglich ferner die Einstellung der Empfindlichkeit der Bildplatte innerhalb eines angemessenen Bereiches.

Das Verständnis der genauen Vorgänge des erfindungsgemäßen Verfahrens ist am besten möglich, wenn eine schrittweise Analyse vorgenommen wird, die angibt, in v/elcher Weise die Ladungsdichte auf einer matfierbaren Bildplatte nach der nochmaligen. Aufladung ö'n-™ sich bei einem allgemeinen Mattierunpsverfahren ändern kann, wobei die Möglichkeit unterschiedlicher Potentiale für die anfängliche und für die nochmali.-e Aufladung eingeschlossen sein soll.

Die in Fig«1 dargestellte mattierbare Bildplatte 1 wird zunächst auf ein gleichmäiaiges Oberflächenpotential V_Q durch eine Korona-Entladung aufgeladen, wobei sich auf der thermoplastischen mattierbaren Schicht 6 eine Ladun^sdichte 6"_Q einstellt. JSei Belichtung werden innerhalb der photoleitfähigen Schicht 4 Ladungsträger gebildet, die unter dem Einfluß des elektrischen Peldes der Oberflächenladungen wandern. In einem belichteten Flächenteil wird das Oberfläclieiipotential zu einem G-rade verringert, der durch die Ladung CKj, bestimmt ist, welche nach der Belichtung an der Zwischenschicht zwischen photoleitfähiger und thermoplastischer Schicht vorhanden ist. Das Oberflächenpotential V™ in den belichteten'Flä-

Xi

ähenteilen hat den folgenden Wert:

Bei dem Oberflächenpotential kann die Einwirkung des Dunkelabfalls nicht von der Einwirkung der Belichtung eindeutig unterschieden werden. Daher sind in dem Wert ö. V

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BAD ORIGINAL

die Einflüsse der Belichtung und des Dunkelabfalls zusammengefaßt. Die ladung 6*-, an der Zwischenschicht enthält die durch Belichtung und durch Dunkelabfall bestimmte ladung. Somit ergibt sich

Die Bildplatte 1 wird dann nochmals aufgeladen, um auf der Oberfläche den Äquipotentialzustand wieder herzustellen, Die Aufladung auf ein Potential V_R (V_R > V_Q) ergibt eine Oberflächenladungsdichte 6Vg in einem belichteten Flächenteil und <5"_RD in einem unbelichteten Flächenteil. Damit ist im unbelichteten Flächenteil

und im belichteten Flächenteil

eis

H Z₁O J *=■ *& Durch Zusammenfassung der Werte für ά V und V_R ergibt sich die Oberflächenladungsdichte in dem belichteten Flächenteil:

λ V +■ V« V_n - Vr- -h I/o / , \

gr, a i— ^ _£—i—-i=— f )

£· ei« ί*ΐρ ctg dt^* — + >—- -r- -+· -j—

Diese Analyse zeigt, daß die endgültige Oberflächenladungsdichte unter anderem eine Funktion der beiden voneinander unabhängigen Yerfahrensparameter Anfangspotential Y_Q und Wiederaufladungspotensowie der Belichtung ist.

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Pig,3 zeigt eine Anzahl von Kurven, die sich aus der Gleichung (1) ergeben und die Oberfläßhenladungsdichte 6rE als eine Punktion des Logarithmus der Belichtung für eine gemäß'Fig.1 ausgebildete Anordnung angeben. Die Änderung des Oberflächenpotentials J^ durch die Belichtung vor der Wiederaufladung ist diesem Schaubild gleichfalls zu entnehmen. Die Belichtungeeinheiten sind Äelativwerte, da absolute Werte für die vorliegende Beschreibung nicht erforderlich sind.

Die Kurven 1 und 2 in Pig.3 zeigen die Werte für das Anfangspotential und das Wiederaufladungspotential mit jeweils 400 Volt. Die Kurven 3 "und 4 zeigen die Werte für ein Änfan<;spotential von 200 Volt und ein Wiederaufladungspotential von 550 Volt. Es sei bemerkt, daß erwartungsgemäß die Kurven 2 und 4 für die Ladungsdichte Spiegelbilder der Potentialkurven 1 und 3 sind. Als allgemeines Merkmal ergibt sich ferner, daß die Kurven 1 und 2 sich an der senkrechten Achse schneiden, während die Kurven 3 und 4 auf dieser Achse einen Abstand haben, der durch die Spannungsdifferenz zwischen dem Anfangspotential und dem Wieder aufladung spot en tial bedingt ist.

In dieeem Schaubild sind ferner der Sehwellwert iTj für die Ladungsdicht t und d«r Maximalwert ^_1118x für die Ladungsdichte gezeigt* Ie ist zu erkennen, daß der Schnittpunkt der Kurven Zmä 4 mit der Linie für den Wert S*_T die für einen Schwellwert der Mattie- »ungsdichte erforderliche Belichtung angibt. Ferner gibt der Schnittpunkt der Kurrea 2 und 4 mit der Linie für den Wert GT_-.

max

Biliohiuag für ein· maximale Mattie:Tingi3ftichta an* "Daraus Ist

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BADOfR

zu ersehen, daß bei der Wahl von Verfahrensparametern gemäß der Kurve 4 der nutzbare Belichtungsbereieh dem Abstand 10 entspricht, während bei einer Wahl.der Verfahrensparameter gemäß der Kurve 2 der nutzbare Belichtungsbereieh enger ist und dem Abstand 12 entspricht.

Die durchschnittliche Steigung der Kurven 2 und 4 zwischen den Werten GL und Gf_, multipliziert mit der Steigung der Kurve für ©und die Mattierungsdichte D, ergibt den Wert gamma. Wie aus der Figur hervorgeht, unterscheidet sich der nach Kurve 2 erhältliche Wert gamma merklich von dem sich nach Kurve/ergebenden Wert.

Es sei ferner darauf hingewiesen, daß die Verschiebung des Belichtungsbereiches für die Kurve 4 nach links durch eine Erhöhung der effektiven Empfindlichkeit der mattierbaren Bildplatte bedingt ist, da der Schwell weit für die Mattierung bei einem viel geringeren Belichtungswert als bei der Kurve 2 auftritt. Dieser. Faktor ist noch deutlicher in Fig,4 dargestellt, die Kurven für die Oberflächenladttngsdichte und das Oberflächenpotential als eine Funktion des Logarithmus der Belichtung zeigt, wobei das Anfangspotential und das Wiederaufladungspotential für jede Kurve gleich, jedoofe für die verschiedenen Kurven fortschreitend höher sind. Die Kurven 1 und 2 zeigen diesen Effekt für V_Q a V_R = 300 Volt, die Kurven 3 und 4 für V_n » V_n - 400 Volt und die Kurven 5 und 6 für Vq β V_R w 500 Volt. In jedem Falle sind die Steigungen einander entsprechender Kurven annähernd gleich, die Empfindlichkeit der jeweiligen isattierbaren Platte nimmt jedoch von Kurve 2 zu Kurve 4 wad Ton Dorr? 4 au Kurve 6 zu. Für die Kurve 6 tibersteigt

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der Wert V_n den Schwellwert für die Mattierung sogar bei fehlen einer Belichtung, wodurch ein nebelartiger Hintergrund bei höchster Empfindlichkeit der Bildplatte entsteht·

Damit dürfte das Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung verständlich sein. Im wesentlichen wird bei einem Mattierungsverfahren eine anfangliche und eine nochmalige Aufladung vorgenommen, deren Stärke in Übereinstimmung mit der jeweils gewünschten gammarEmpfindlichkeit gewählt wird. Sind beispielsweise relativ sehwache Anspreeheigenschaften gewünscht, so wählt man Verfahrensparameter M ähnlich denjenigen, der Kurve 3 in. Pig.3, in dem vor der Belichtung eine Aufladung auf ein relativ geringes Anfangspotential vorgenommen wird. Nach der Mattierung der erhaltenen relativ schwach ansprechenden Bereiche wird eine nochmalige Aufladung auf eine höhere Spannung vorgenommen, die ausreicht, um den flachen Kurventeil der ladungsdichte in den gewünschten Belichtungsbereich, z.B. den Bereich 10, anzuheben. Andererseits kann man durch Verwendung relativ hoher Anfangspotentiale wie z.B. bei den Kurven 1 und 2, und geeigneter Wiederaufladungspotentiale den Belichtungsbereich ä an eine dem Bereich 12 in Fig.3 entsprechende Stelle verschieben.

Die vorstehende Beschreibung der Erfindung ist völlig allgemein gehalten und daher in keiner Weise auf spezielle mattierbare Bildplatten beschränkt, die bestimmte Schichtstärken, Dielektrizitätskonstanten UH*. aufweisen. So können Kurven, wie sie in Fig.3 und 4 gezeigt sind, für jede mattierbare Bildplatte aufgenommen werden. Falls ausreichend viele Daten vorliegen, kann dies analytisch

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BAD ORiGlNAU 2*-

es
geschehen,/ist jedoch für die Praxis besser, für eine vorgegebene Anordnung diese Kurven zunächst empirisch zu bestimmen, d.h. durch das Experiment. Sind die Kurven auf diese Weise einmal festgelegt, so können sie_ unabhängig von dem jeweils angewendeten Verfahren in der beschriebenen Weise verwendet werden, da die ihnen zugrundeliegenden ausschlaggebenden physikalischen Vorgänge wiederholbar sind und nicht von unbekannten Veränderlichen abhängen.

Im folgenden wird an Hand eines Beispieles beschrieben, wie die empirischen Kurven aufgenommen und angewendet werden·

Beispiel

Es wurde eine raattierbare Bildplatte entsprechend der in Fig.1 gezeigten Anordnung hergestellt, wobei die unterlage 2 aus eloxiertem Aluminiumblech von 1,3 mm Stärke bestand. Die darauf angeordnete Schicht bestand aus einer ladungsspeiehernden Selenschicht von 25 Mikron Stärke, auf der eine 0,3 Mikron starke lichtempfindliche Schicht aus einer Legierung von 75 $> Selen und 25 # Tellur vorgesehen war. Eine derartige Zusammensetzung verleiht der Schicht eine panchromatische Lichtempfindlichkeit. Im vorliegenden Beispiel wurde über die lichtempfindliche Selen-Tellurschicht eine Zwischenschicht aus einem organischen Stoff von 0,05 Mikron Stärke aufgebracht, deren Aufgabe darin besteht, das größmögliche Auflösungsvermögen der Anordnung beizubehalten. Die Funktionsweise dieser Zwischenschicht ist noch nicht geklärt.

Auf der Zwischenschicht wurde eine der thermoplastischen mattierbaren Schicht 6 (Pig.1) entsprechende obere Schicht aufgebracht.

Im- vorliegenden Beispiel bestand diese Schicht aus Staybelite Ej3ter-10 (Glyceryltriester von zu 50 # hydriertem Baumharz), von

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ca, 2 Mikron Stärke. Dieser Stoff ist unter der vorstehenden Bezeichnung von der Hercules Powder Company, Wilmington, Delaware erhältlich. Die Speicherschicht und die lichtempfindliche Schicht wurden durch Vakuumaufdampfung aufgebracht. Die Zwischenschicht und die mattierbare Schicht wurden durch Eintauchen in eine Lösung aμfgebracht.

Experimentelle Ergebnisse wurden durch die .Änderung der Mattierungsdichte D in Abhängigkeit von log E für diese mattierbare Bildplatte erhalten· Zwei entsprechende Kurven sind in den Fig.5 und 6 dargestellt, die erste zeigt die D-log E -Kurve für V_Q » 400 Volt und ν = 400 Volt, die zweite ergab sich bei V_Q = 165 Volt und V_R = 600 Volt· Die Tabelle I zeigt eine Zusammenstellung von Daten für diese Bildplatte für verschiedene andere Kombinationen von Anfangspotential und Endpotential. Es sei bemerkt, daß nicht nur eine Änderung des Wertes gamma mit der erfindungsgemäßen Analyse erreicht wurde, sondern die Empfindlichkeit der Bildplatte konnte gleichfäls durch diese Analyse beeinflußt werden.

Tabelle I

Endpoten- Empfindlich- Gamma V_mav keit ^max

mc β

2.8 3,27 1,47

2.9 0,75 1J49 8,0 1,41 1,36 8,0 0,55 1,45

10,4 0,53 1,46

Tor»tehend wurde die Empfindlichkeit gemäß einer ASA-Definition erhalten, indem der Wert 0,8 durch die Belichtung in mcdseo

009808/1*39 ■' _0RiGINAi;

Anfangspo	Endpo
tential	tial
400	400
160	455
160	500
165	600
200	490

diert wurde, die zur Urzeugung einer Mattierungsdichte von 0,1 "Einheiten über dem Nullwert zuzüglich der Nebelbildung erforderlich war. Zur Ermittlung des Wertes gamma wird eine Linie von einem Punkt an der D-log E-Kurve 0,1 Dichteeinheiten oberhalb des Nullwertes zuzüglich der Nebenbildung zu einem ähnlichen Punkt 0,1 Dichteeinheiten unterhalb des Wertes D___v gezogen. Der Anstieg dieser Linie stellt den Wert gamma dar.

Nachdem auf diese Weise der Viert gamma und/oder die Empfindlichkeit einer mattierbaren Bildplatte unter vorgegebenen Verfahrensbedingungen ermittelt wurden, können nun die Verfahrensbedingungen so festgelegt werden, daß die^mattierbare Bildplatte entsprechend den zu stellenden Anforderungen eingesetzt wird» Dies bedeutet, daß eine Entscheidung getroffen v/erden kann, welcher Wert gamma oder welche Empfindlichkeit bei einer vorgegebenen Belichtungsmöglichkeit erwünscht ist, und daß unter Bezugnahme der vorstehend beschriebenen Zusammenhänge zwischen gamma bzw. der Empfindlichkeit und der Spannung die richtigen Verfahrensparameter leicht bestimmt werden können, nämlich die richtigen Spannungen der anfäng- w liehen und der wiederholten Aufladung, wodurch die erwünschten -»Ergebnisse erreicht werden·

Nach Kenntnis der vorstehenden Beschreibung des erfindungsgemäSen Verfahrens sind dem Fachmann zahlreiche Abänderungen und Weiterbildungen der Erfindung möglich, die je#och durch deren Grundgedaiiken mit umfaßt werden.

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Claims (2)

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1. Verfahren zur Herstellung von Mattierungsbildern auf einer thermoplastischen Schicht, die sich auf einer mit leitfähiger Unterlage versehenen photoleitfähigen Schicht "befindet, dadurch gekennzeichnet, daß .die freie Oberfläche der thermoplastischen Schicht (6) auf ein erstes Potential aufgeladen wird, daß die photoleitfähige Schicht (4) mit dem aufzuzeichnenden Bild "belichtet wird, und daß die thermoplastische Schicht (6) nochmals auf ein zweites Potential aufgeladen und zur Ausbildung des erwünschten Mattierungs-"bildes erweicht wird, wobei das erste und das zweite Potential durch einen vorgegebenen Zusammenhang zwisHoen der Mattierung der thermoplastischen Schicht (6) und der Belichtung der photoleitfähigen Schicht (4) festgelegt werden.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der genannte vorgegebene Zusammenhang einen maximalen Bereich von Belichtungsmöglichkeiten zwischen einem Schwellwert und einem maximalen Wert der Mattierungsdichte der thermoplastischen Schicht (6) darstellt, λ

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