DE1522477A1 - Offset-Matrize - Google Patents

Offset-Matrize

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DE1522477A1
DE1522477A1 DE19671522477 DE1522477A DE1522477A1 DE 1522477 A1 DE1522477 A1 DE 1522477A1 DE 19671522477 DE19671522477 DE 19671522477 DE 1522477 A DE1522477 A DE 1522477A DE 1522477 A1 DE1522477 A1 DE 1522477A1
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Ormsbee Kershaw Mary
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AB Dick Co
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AB Dick Co
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/06Silver salts
    • G03F7/07Silver salts used for diffusion transfer

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Description

8 MÜWOHlSir SO SCHWEIOXBSTRASSE * DRJS.T.MEOHMAW» „„„, „„„
1A-32 9o2
Beschreibung zu der Patentanmeldung
A. B. DICK COMPAKT 57oo West louhy Avenue, BFiles, Illinois, USA
betreffend
"Offset-Matrisse",
Die Erfindung bezieht sich, auf die Vervielfältigung im lithographischen oder im Offset-Verfahren, insbesondere auf eine neue und verbesserte Offset-Matrize und ein Verfahren zu deren Herstellung·
Matrizen bzw· Druckstöcke oder Platten zur Herstellung von Kopien im Offset-Verfahren gehören im allgemeinen dem "direkten Abbildungstyp11 an, wobei die hydrophile lithographische Oberfläche der Matrize unmittelbar durch Beschichtung mit einem oleophilen, farbaufnehaenden Bemusterungsmaterial beschriftet bzw· bebildert wird; dies geschieht z. B. durch Beschriften mit einem Stift oder mit Druckfarbe oder durch Übertragung von einem Kohleblatt, das mit einem Stichel, mit Hilfe der Schreibmaschine oder durch Aufpressen einer form gegen die Unterlage gedrückt wird. Wenn das so bemusterte oder bebilderte Stück auf eine litho-
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BAD
— ρ —
gxa phi schell Presse aufgebracht und mit einer oleophilen Farbmasse, sowie mit einem wässrigen, ölabstoßenden Mittel benetzt wird, nehmen die nicht bemusterten Stellen das wässrige Abstoßmittel an, während die !"arbmasse von den oleophilen, die Druckfarbe annehmen-
den, bemusterten Seilen der Platte angenommen wird, von wo sie dann entweder unmittelbar auf mit dem eingefärbten Druckstoff in Kontakt gebrachte Kopierblatter übertragen werden; die Übertragung kann auch indirekt erfolgen unter Verwendung eines Zwischenblattes (offset blanket), von welchem das Muster bzw. Bild an die Kopierblätter abgegeben wird.
Soll ein nach einem Original bemusterter· Druckstock hergestellt werden, so mußte bisher ein indirekter Druckstock, der • auch öfters als fotolithographische Matrize oder Platte bezeichnet wird, eingeschaltet werden. Matrizen dieser Art sind so hergestellt worden, daß die hydrophile lithographische Oberfläche überzogen wird mit einer wasserlöslichen, harzbildenden, lichtempfindlichen Diaζoverbindung. Es wurde nun zunächst von dem Original eine Dianegativ abgenommen, worauf dann der lichtempfindliche Diazoüberzug über das entwickelte Zwischennegativ transparent belichtet wurde, um die Diaζοverbindung in den exponierten Bereichen zu verharzen, während die Seile des lichtempfindlichen Diazoüberzugs in den nicht exponierten Bereichen ausgewaschen wurden, bo daß eine entsprechend bemusterte bzw. bebilderte fotolithographische Platte entsteht. Es sind'auch fotolithographisohe Druckstöcke von etwas abgewandelter Art bekannt, bei denen der Druckstock mit einem lichtempfindlichen Material präpariert wird, das unter der Einwirkung des lichtes in ein für Druckfarben
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BAD OR/GiNAL
aufnahmefähiges Abbildungsmaterial überführbar ist. Derartige vorsensibilisierte fotolithographische Matrizen haben jedoch eine Anzahl von Nachteilen, u. a. sind sie relativ teuer, haben eine kurze Lebensdauer und man muß zu ihrer Herstellung besondere Einrichtungen und Materialien verwenden; außerdem muß mit Hilfe der üblichen fotographischen Technik ein Negativ hergestellt werden.
In letzter Zeit hat man lithographische oder Offset-Druckstflcke hergestellt, die von exponierten, jedoch nicht entwickelten Silberhalogenidnegativen aus mit Hilfe der Diffusionsüber- ■ tragungstechnik bemustert bzw. mit Abbildungen versehen werden können. Hierbei wird die hydrophile lithographische Oberfläche versehen mit einem keim- oder schleierbildenden Mittel, um das Silberhalogenid zu einem für Drückfarben aufnahmefähigen, wasserabstoßenden Silberbild zu reduzieren? wenn dann die Matrize in Kontakt gebracht wird mit dem exponierten Silberhalogenidnegativ, das mit einem lösungsmittel für Silberhalogenid und einem Entwickler benetzt ist, geht das Silberhalogenid in den unexponierten Teilen des Negativs durch Diffusion auf die Oberfläche der Matrize über, wo das Silberhalogenid (bzw. ein daraus gebildeter Komplex) reduziert wird zu einem silberhaltigen, für Druckfarben aufnahmefähigen, wasserabstoßenden Bildmaterial auf der hydrophilen, für Wasser aufnahmefähigen, lithographischen Oberfläche, so daß die Matrize entsteht, deren Bild dem Original entspricht.
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Die Einrichtungen und Materialien, welche für. diese auf Diffusion beruhende Umkehrübertragungstechnik benutzt werden, sind relativ billig und waren bisher auf dem bedeutenden Arbeitsgebiet weit verbreitet, wenn es sich darum handelte, auf dem beschriebenen Weg durch Diffusion eine einzelne Kopie zu erzeugen. Beim Diffusionsübertragungsverfahren braucht auch kein Dianegativ hergestellt zu werden und ebenso wird die Projektion des Dianegative auf eine vorsensibilisierte Matrize vermieden.
Der beschriebene Umkehrübertragungsprozess durch Diffusion zur Herstellung eines bemusterten bzw. bebilderten lithographischen Druckstockes von einem Original ist jedoch gegenwärtig beschränkt auf die Verwendung von Matrizen auf einer Metallbasis aus z. B. Aluminium, deren Oberfläche beispielsweise durch Silikatbehandlung (silicating), Bürsten, Anodisieren oder dgl. vorbehandelt ist, um die Fläche wasseraufnahmefähig, hydrophob oder lithographisch zu machen. Es erschien nun wünschenswert, das lithographische Verfahren in der Richtung weiter zu entwickeln, daß man billigere lithographische Matrizen aus überzogenem Papier verwenden kann, die mit Hilfe der Diffusionsübertragungstechnik bemustert werden können, und es ist weiterhin wünschenswert, Mittel vorzusehen zur Verbesserung der Schärfe des auf der lithogtaphischen Oberfläche erzeugten Bildes, was beispielsweise dadurch erreicht werden kann, daß man ein bestimmtes Differential zwischen der Wasseraufnahmefähigkeit der lithographischen Fläche und der Aufnahmefähigkeit für Druckfarben bzw. der Wasserabstoßung des durch Ablagerung von Silber darauf gebildeten Bildes
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erzeugt'. Die erfindungsgemäßen Matrizen bzw. Druckstöcke erfüllen diese Voraussetzung.
Die erfindungsgemäßen lithographischen oder Offset-DruckstSeke können auf einer Papier- oder Mlmbasis hergestellt herden, ebenso gut aber auch mit Hilfe eines amphoteren Metalls, wie Aluminium. Die Matrize kann direkt oder indirekt durch Diffusionsübertragung von einem exponierten Silberhalogenidnegativ bebildert werden; die Erzeugung des Bildes bzw. Musters kann auch erfolgen durch direktes Aufbringen von Silberhalogenid, um das betreffende Bild auf der lithographischen Oberfläche zu erzeugen, das dann ein wünschenswertes Gleichgewicht zwischen dem hydrophilen, nicht bebilderten Seil und den oleophilen bebilderten Teilen der Matrize aufweist. Der Druckstock muß nicht vorsensibilisiert sein unä ist daher nicht lichtempfindlich, kann Jedoch zur Herstellung einer großen Zahl von Bildern guter Qualität unter Anwendung der üblichen lithographischen Vervielfältigungstechnik verwendet werden.
Die Erfindung sei anhand der Zeichnungen näher erläutert, bei welchen die einzelnen Eiguren folgende Bedeutung haben:
Pig. 1 zeigt in perspektivischer Ansicht, teilweise im Schnitt, eine erfindungsgemäß hergestellte lithographische Platte bzw. einen lithographischen Druckstock.
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Pig. 2 Pig. 2 zeigt eine abgewandelte Ausführungsform im Längsschnitt.
Aus Pig. 3 ist die Anordnung mehrerer Einzelelemente zu entnehmen, einschließlich des in Pig. 1 gezeigten Druckstockes und eines exponierten Silberhalogenidnegativs. Die Einzelteile sind in einer Stellung, bei welcher durch Diffusionsübertragung auf der lithographischen Oberfläche ein Bild erzeugt wird.
Pig. 4 ist eine perspektivische Darstellung des Druckstockes nach Pig. 1 in bemustertem Zustand.
-Pig. 5 zeigt den Druckstock nach Pig. 1 mit einem Kunststoffschutzfilm.
Der in Pig. 1 dargestellte DTR-Offset-Druckstock besteht aus einem Basisblatt oder -blech 1o mit einer wasserunlöslichen, für Wasser aufnahmefähigen, hydrophilen, lithographischen Oberfläche 12, die so überzogen ist, daß die Kombination aus einem keimbildenden Mittel auf der Basis von Silberhalogenid, das auch · gelegentlich als Verschleierungs- oder Yernebelungsmittel bezeichnet wird, darauf abgelagert werden kann als dem einen Bestandteil. Den anderen Bestandteil bildet eine Schicht aus einem oder mehreren Metallsalzen, welche die Erzeugung des Silberhalogenids, seine Haftung an der lithographischen Oberfläche der Matrize und seine Aufnahmefähigkeit für Parbe fördern, so daß sich ein er-
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wtinschtes Gleichgewicht "bildet zwischen dem hydrophilen Charakter der nicht bemusterten Teile und dem hydrophoben Charakter der bemusterten oder bebilderten Teile, wodurch das wässrige Abstoßmittel, mit welchem die Oberfläche der Matrize benetzt is-t, sich an dem nicht bemusterten Plächenteilen sammelt, während die oleophile Druckfarbe die bemusterten bzw. bebilderten Teile benetzt, von denen auf entsprechende Kopierblätter Offset-Kopien abgezogen werden können. Als Basis oder Grundlage der Matrize bzw. des Druckstockes kann eine Folie aus einem amphoteren Metall, Aluminium, Kupfer oder Zinn dienen, deren Oberfläche durch Vorbehandlung hydrophil gemacht wurde. Verwendet man Aluminium als Grundblech . 1o, so kann die Oberfläche durch Bürsten oder durch anodisierende Behandlung oder durch Ätzen mit Säuren oder vorzugsweise durch "Silicieren" hydrophil gemacht sein. Die letztere besonders zweckmäßige Methode ist beschrieben in der amerikanischen Patentschrift 2 714 966.
Es wurde nun gefunden, daß man auch eine Matrize oder einen Druckstock aus einem mit Überzug versehenen Papier herstellen kann, wobei das Basisblatt 1o ein mit Harz behandeltes, im nassen Zustand besonders widerstandsfähiges Papier ist, das mit einem wasserunlöslichen, jedoch für Wasser aufnahmefähigen,; hydrophilen, lithographischen Überzug versehen ist·. Der Überzug besteht aus einem Bindemittel in Form eines hydrophilen Kolloides, wie Kasein (siehe USA-Patentschrift 2 534 65o), Carboxymethylzellulose (siehe USA-Patentschrift 2 542 784), Alginaten (siehe USA-Patent-
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schrift 2 8o6 424), Polyacrylaten (siehe USA-Patentschrift 2 76o 431), Polyvinylalkohol (siehe USA-Patentschrift 2 23o 982), Stärke, Polyvinylacetat und dgl., mit einem geeigneten Füllmittel, wie Zinkoxyd, Ton., Satinweiß und dgl.
An dem. dargestellten Basis- oder Trägerlblatt 1o sind Öffnungen 18 nahe der leitkante angebracht, die dazu dienen, die "bebilderte Matrize auf dem Zylinder einer lithographischen Presse festzuhalten. Selbstverständlich können zu,diesem Zweck auch andere Einrichtungen vorgesehen sein.
Als keimbildendes Mittel wird zweckmäßigerweise ein Stannohalogenid, z. B. Stannochlorid, verwendet, jedoch können zur Umwandlung des gelösten Silberhalogenids in Silber in Abwesenheit von licht auch andere keimbildende Mittel verwendet werden, z. B. kolloidales Silber,, Cadmiumsulfid und ähnliche keim- oder schleierbildende Mittel, wie sie in der USA-Patentschrift 2 352 o14 beschrieben sind.
Bs erscheint wünschenswert, von einem wasserlöslichen Salz von Zirkon, Eiorium und/oder Q?itan in Kombination mit dem als keimbildendes Mittel vorhandenen Silberhalogenid Gebrauch zu machen. Anwendbar für diesen Zweck sind z. B. die Acetate, Propionate, Chloride, Bromide, Fluoride und Nitrate dieser Metalle.
■» ■ ■ ■
Es ist wichtig, die Menge und das Verhältnis der auf die
lithographische Oberfläche aufgebrachten Stoffe genau zu steuern. . 909836/06 54
So ist es beispielsweise bei der bevorzugten Kombination von Stannohalogenid und Zirkoniumsalz wünschenswert, das Anteilsverhältnis der Salze innerhalb eines Bereiches von 1 Gew.-Teil Stannosalz zu 1 bis 8 Gew.-Teile Zirkoniumsalz (vorzugsweise im Bereich von etwa 1 : 2,5) zu halten. Wird die beschriebene Kombination angewendet, so ist es zweckmäßig, das Salzgemisch derart abzulagern, daß sich ein Überzugsgewicht von o,1 bis 4, insbesondere von o,5 bis 3 g je m ergibt.
Das Zirkoniumsalz kann ein wasserlösliches Salz des Zirkons sein, wie Zirkonylmethylat, Zirkonylacetat, Zirkonylpropionat, Zirkonylchlorid, Zirkonylnitrat oder ein anderes Zirkony!halogenid und dgl. Die Zirkonsalze können gegebenenfalls teilweise oder ganz ersetzt sein durch die entsprechenden wasserlöslichen Salze des Thoriums oder des Titans, obgleich diese weniger zweckmäßig und den Zirkonylsalzen nicht gleichwertig sind.
Ein wichtiges Merkmal der Erfindung bestellt in der Verbesserung, die erreicht werden kann, wenn das Zirkon-, Thoriumoder Titansalz in Kombination mit einem wasserlöslichen Cadmiumsalz, wie öadmiumacetat, Gadmiumchlorid, öadmiumnitrat und dgl, verwendet wird, wobei gegebenenfalls noch ein antitoxisches Mittel zugesetzt sein kann. Die bei der Kombination von Gadmiumsalzen mit Zirkon- und dgl. Salzen erreichbaren Verbesserungen sind besonders deutlich bei lithographischen Platten aus überzogenem Papier, wobei diese dann in der Praxis mit Erfolg als DTR-Platte verwendet werden können.
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- Io -
Das verwendete Cadmiumsalz kann wasserlöslich sein, wie z.B. gewisse organische Cadmiumsalze, etwa Cadmiumaeetat, oder man kann ein anorganisches Salz,wie Oadmiumchlorid, Cadmiumbromid, Cadmiumnitrat oder ein anderes Cadmiumhalogenid und dgl. zusetzen. Das Cadmiumsalz kann gegebenenfalls ganz ersetzt werden durch ein Antioxydans; wenn jedoch überhaupt ein solches Antioxydans verwendet werden soll, dann setzt man es vorzugsweise in Kombination mit dem Cadmiumsalz zu. Beispiele für Antioxydantien, die angewendet werden können, sind:
Ascorbinsäure 8-Hydroxychinolin
Pyrogall^olcarbonsäure Gallussäure Catechin Propylgallat
Hydrochinon-di-n-butyläther Fhenidon
Hydrochinon-monomethyläther Amidol
Hydrochinon-monobenzyläther p-Benzochinon
Hydroehinon-diäthyläther Hydrochinon
Hydrochinon-dimethyläther Mono-t-butylhydrochinon
Ghinon 2,5-ditert.-Butylbydroehinon Oxychinolinsulfat
Die Stoffe werden in die Überzugsmasse eingearbeitet im Anteilsverhältnis von je 1,o8 bis 8 Gew.-!Delle Zirkoniumsalz und o,o1 bis o,5 Gew.-Teile des betreffenden Cadraiumsalzes auf 1 Gew.-Teil Stannosalz, vorzugsweise im Verhältnis von 1,7 bis 3,5 Gew.-Teile Zirkoniumsalz und o,o2 bis o,2 Gew.-feile Cadmiumsalz auf je 1 Gew.-Teil Stannosalz. Die Überzugsmasse kann so aufgebaut werden, daß sie einen Peststoffgehalt von 1 bis 15» vorzugsweise von 2 bis 8 Gew.-# aufweist· Die Masse wird dann derart
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aufgebracht, daß das Gewicht der Beschichtung innerhalb eines Bereiches von o,1 bis 4f vorzugsweise von o,5 bis 3 g Feststoffe
2
je m liegt.
Anstatt die Stoffe im Rahmen einer einzigen überzugsmasse aufzubringen, können die drei wesentlichen Komponenten im entsprechenden Mengenverhältnis in getrennten tiberzügen aufgebracht werden, so daß man z, B, einen Überzug 2o erhält, der das Cadmiumsalz mit oder ohne zusätzliches Antioxydans enthält, der überlagert ist von einem weiteren Überzug 22, in dem das Zirkon-, Thorium- oder Titansalz enthalten ist, sowie einen dritten Überzug, der dann das Yersehleierungs- oder keimbildende Mittel enthält. Die Stoffe können auch auf nur zwei Überzugsmassen verteilt werden, worin dann die Bestandteile in den verschiedensten Kombinationen enthalten sein können.
Ein weiteres Merkmal der Erfindung besteht in einer wesentlichen Verbesserimg des hydrophoben Charakters des auf der lithographischen Oberfläche des Druckstockes erzeugten Bildes, die dann eintritt, wenn die auf die Oberfläche aufgebrachte Masse zusätzlich noch einen sensibilisierenden Farbstoff enthält, der zur Erzeugung eines sehr dichten Bildes führt; dieses Bild ist aus von Natur" aus hoch hydrophoben Molekülen der Materialien gebildet, die von den nicht exponierten Teilen eines Silberhai ogenidnegativs übertragen worden sind. Dies trifft beispielsweise zu für Systeme, die Phthalein und andere Farbstoffe, wie Erythrosin-, Eosin OJ-, Eosin Y-, Rose Bengal- und Rhodaminfarbstoffe und dgl· enthalten. Die Verbesserung beruht auf der
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Kombination von Farbstoffen mit den Zirkonium- usw. Salzen bzw· mit den kombinierten Zirkonium- und Gadmiumsalzen.
Der gewünschte neue Effekt wird hervorgerufen, wenn der Farbstoff in dem Gemisch in einer Menge anwesend ist, die, berechnet auf die Feststoffe des Oberzugs, zwischen o,oo1 und 1,o Gew.-^, vorzugsweise zwischen o,o5 und o,1 Gew.-# liegt·
Die Komponenten des Oberzugs können in Form einer einzigen t Überzugsmasse aufgebracht werden, welche einen Feststoffgehalt von 3 bis 15 Gew.-# aufweist, oder sie können als getrennte Überzugsschichten aufgebracht werden, in denen die Bestandteile in den verschiedensten Kombinationen enthalten sind. Die folgenden Beispiele zeigen die Zusammensetzung von Gemischen, die als Überzüge auf lithographische Oberflächen aufgebracht werden können, wenn es sich darum handelt, die erfindungsgemäßen Diffusions-Übertragungs-Offsetdruckstöcke herzustellen:
Beispiel 1
2o Gew.-Teile Zirkonacetatlösung (13 i> als ZrO2) · 8o Gew·-Teile destilliertes Wasser
1 Gew.-Teil Stannochlorid
o,2 Gew.-Teile Cadeiumacetat
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Beispiel 2
2 ο Gew.-!Delle Zirkonacetatlösung (13 $> als ZrOg
So Gew.-Teile destilliertes Wasser
2 Gew.-Teile Stannoehlorid o,2 Gew.-Teile Gadmiumacetat o,2o Gew.-Teile Hydroeliiiionmonoätlayläther
Beispiel 3 ;
2ο Gew.-Teile ZirkoncalorId (13 ^ige Lösung) 8o Gew.-Teile destilliertes Wasser
2 Gew*-Teile Stannoacetat o,2 Gew.-Teile Cadmiumaoetat o,2 Gew.-Teile Ascorbinsäure
Beispiel 4 ■
2o Gew.-Teile Zirlconacetatlösung (13 % als ZrÖ2 8o Gew.-Teile Wasser
2 Gew.-Teile Stannochlorid o,2 Gew.-Teile HydroGhinonmonomethyläther
Beispiel 5
Teil Ai
Gew.-Teile Zirlconacetatlösung (13 # als Z O9)
Gew.-Teile deatllliertes Wasser 2 Gew.-Teile Stannoohlorid
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Bei der Herstellung einer beschichteten lithographischen Platte aus Papier, welche die Merkmale der Erfindung aufweist, macht man Gebrauch von mit einer Überzugsschicht versehenen Direktbildplatten, die als Basisblatt to ein Papierblatt von guter Naßfestigkeit aufweisen, das eine lithographische Schicht 12 trägtJ derartige beschichtete Basisplatten sind in den USA-Patentschriften 2 534 65o (Worthen) oder 2 542 784 (van Düsen) oder 2 806 424 (Ensink) oder 2 76o 431 (Beatty et al·) beschrieben. Die lithographische Oberfläche des Basisblattes aus Papier ist bedeckt mit einer Masse, deren Zusammensetzung einem der obigen Beispiele entspricht und die in einer Dicke aufgebracht ist, die" einer Beschichtung von o,5 bis 3,ο g je m entspricht. Die Überzugssohicht wird bei höherer Temperatur (38 bis 93° C) getrocknet.
Die in Beispiel 5 wiedergegebene Bereitungsvorschrift sieht •Inen zweischichtigen überzug vor, dessen Teil A zunächst aufgebracht und getrocknet wird, worauf man den Teil B darüberlegt und das Ganze zu einem Schiohtgebilde entsprechend Pig. 2 mit den Überzugsschichten 2ο und 22 trocknet.
Die lagerfähigkeit und Lebensdauer der erfindungsgemäfl hergestellten Druckstöcke kann stark verlängert bzw. verbessert werden, wenn der bzw, die Überzüge bedeckt werden mit einem abziehbaren Film 16 aus Plastikoaaterial, z. B. eines 7iln aus Polystyrol, Polyvinylfluorid, Polyvinylidenchlorid, Polyvinylchlorid, chloriertem Kautschuk und dgl.
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'bad original
Teil Bj
o,1 Gew.-Teile Cadmiumaoetat o,2 Gew.-Teile iyrogallussäure 8o Gew.-Teile destilliertes Wasser
Beispiel 6 .
2o ml Zirkonaeetatlösung (13 # als Z O2) 8o ml destilliertes Wässer
2 g Stannoohlorid
ο, o2 g Hydrochinonmonomethylätlier o,5 ml 1 #ige lösung von Rhodamin B
Beispiel 7
2ο ml lösung von Zirkonacetat (13 % als ZrO2)
3 g Stannochlorid
8o g destilliertes Wasser o,2o g Eosin OJ
Beispiel 8
2ο ml 13 jfclge lösung von Zirkonchlorid
8o ml destilliertes Wasser o,2 g Stannoaoetat o,2 g Antioxydans
o,o1 g Erythroein
8098H/065A
Auf die lithograph!sohe Oberfläche können mehrere erfindungsgemäße BeSchichtungen übereinander aufgebracht werden. Derartige mehrschichtige Überzüge weisen gegenseitig besonders gute Schutzeigenschaften auf, so daß sie der Oxydation und Zerstörung gut widerstehen. In diesem Fall ist es auch kaum nötig, einen Schutzjffilm 16 aufzubringen.
Zwecks Verwendung der erfindungsgemäß hergestellten Platten zur Reproduktion macht man Gebrauch von einem Negativ 3o in Form eines Grundblattes 32 mit einem lichtempfindlichen, sllberhalogenidhaltigen Gelatineüberzug 34. Verwendbar als Negative sind u. a. folgende Handelsprtparate: Gevaert GS-Negativ (Gevaert Photo Production, Antwerpen, Belgien)! Oricopy (Oriental Photocopy Company, Tokyo, Japan)? Anken Photo-Rapid-Negativ, Hersteller Anken Chemical Company, USA.
Auf das Negativ 3o wird vom Original mit Hilfe eines üblichen fotographischen Apparates eine Aufnahme gemacht. Sas exponierte Negativ wird dann in Druckberührung mit der beschichteten Oberfläche des Matrizenblattes gebracht, nachdem eine oder beide Oberflächen mit einem Einbadentwiokier benetzt wurden, der beispielsweise folgende Zusammensetzung hat:
Beispiel 9
815 Teile Wasser V
2,5 Teile Phenidon
114 Teile wasserfreies Natriumsulfit
:-,:vl. 909835/0664
24.Teile Hydrochinon
24 Teile Natriumhydroxyd
9,8 Teile Hatriumthiοsulfat
1,6 Teile Kaliumbromid v
8,o Teile Garboxymethylzellulose ,
Zum Entwickeln kann beispielsweise eLn A. B. Dick 11o Photokopiergerät benutzt werden, das mit der Einbadlösung gefüllt ist. Unter der Einwirkung des Bades bildet sich in den nicht exponierten Teilen des Hegativs ein löslioher Komplex des Silberhalogenids, der dann durch Diffusion auf die beschichtete Oberfläche des Kunststoffes übertragen wird, wo aus dem Silberhalogenid eine dichte Masse (36) metallisches Silber ausfällt, die sich an der Oberfläche des Matrizenblattes konzentriert und auf der litho-^ graphischen, hydrophilen Oberfläche ein die Druckfarben annehmendes, stark hydrophobes Bild 38 erzeugt.
Das so -erzeugte Silberbild bleibt fest an der lithographischen Oberfläche haften. Die bebilderte bzw. bemusterte Platte wird benetzt mit einem üblichen Fixier- oder Konditioniermittel, z. B. dem GT Off set Pixer von Eastman Kodak oder mit ^84-4966 A. B. Dick Photoplax Conditioner, der bewirkt, daß die nicht bebilderten Bereiche hydrophil bleiben und das Bild auf dem Matrizenblatt fixiert wird. Anschließend kann die bebilderte Matrize auf den Plattenzylinder einer üblichen lithographiechen Presse aufmontiert werden, wo man sie mit einer wasserabstoßenden und oleophilen Druckfarbe einfärbt, so daß sich die Druck-"
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BAD ORIG4NAL
farbe nur auf den bebilderten Teilen der Platte festsetzt; auf diese Weise läßt sich die Produktion von Tausenden von Kopien guter Qualität ermöglichen.
Im folgenden sei no ob. eine andere Arbeitsmögliohkeit beschrieben: Anstatt daß man dem Bild einen stärker hydrophoben Charakter verleiht, indem man einen Farbstoff der beschriebenen Art in den Oberzug einarbeitet) kann man die hydrophoben Eigenschaften des erzeugten Bildes auch dadurch wesentlich verbessern» daß man in die Oberzugsmasse eine zusätzliche Menge an Silbersalzen zur Verstärkung des kernbildenden Mittels einarbeitet.
, Die zusätzlichen Silbersalze sind zwar in keiner Weise den erwähnten Farbstoffen äquivalent und ergeben übrigens auch bei Abwesen-
. heit von Farbstoffen das gewünschte Resultat; man verwendet jedoch den Silbersalzzusatz vorzugsweise in Kombination mit einem der oben beschriebenen sensililisierenden Farbstoffe. Geeignet als zusätzliche keimbildende Mittel in der Matrizenschicht sind u. a. Silberacetat, Silbernitrat, Silbersulfid und dgl·, wie aus dem folgenden Beispiel hervorgeht:
Beispiel 1 ο
2ο ml Zirkonacetatlösung (13 $ als ZrO2) 8o ml destilliertes Wasser
4o ml 1,3 jiige lösung von Silberaoetat 2 g Stannoohlorid
S0983B/0654
Die nach Beispiel 1o bereitete Masse wird entsprechend den vorangehendem Beispielen dosiert und zur Beschichtung der litho- j graphischen Oberfläche einer Matrize verwendet. Die Bemusterung und Weiterverwendung der beschichteten Matrize erfolgt ebenfalls wie oben beschrieben.
Bei den erfindungsgemäßen Matrizen ist das von einem exponierten Negativ durch Diffusionsübertragung erzeugte Bild fest an die lithographische Oberfläche gebunden, so daß mit Hilfe
der üblichen lithographischen Vervielfältigungstechnik eine
sehr große Anzahl von Kopien guter Qualität gezogen werden können.
Patentansprüche
SQ9835/0654 "" - ^-»

Claims (4)

  1. IQ
    Patentansprüche 1522477
    1· ) Offset-Matrize, bestehend aus einem Basisblatt mit wasser-
    unlöslicher, für Wasser aufnahmefähiger, hydrophiler, lithographischer Oberfläche, dadurch gekennzeichnet , daß sie an der lithographischen Oberfläche eine Kombination aus einem Silberhalogenidkeimbildungsmittel (nucleating agent) und einem wasserlöslichen Salz des Zirkons, Ehoriums oder Titans aufweist, wobei mindestens eine der Komponenten (1.) ein wasserlösliches Oadmiumsalz, (2,) ein Antioxydans und/oder (3·) einen sensibilisierenden Earbstoff einschließt, welch letzterer das durch Reduktion von Silberhalogenid an der lithographischen Oberfläche der Matrize gebildete Silberbild stärker hydrophob und für Druckfarben aufnahmefähig machtj und daß ihre beschichtete lithographische Oberfläche gegebenenfalls mit einem Schutzfilm aus Kunststoff bedeckt ist.
  2. 2. Offset-Matrize nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß-die in Kombination mit dem Silberhalogenid vorhandenen Komponenten ein Stannohalogenidkeimbildungsmittel (nucleating agent), ein wasserlösliches Cadmiumsalz und ein wasserlösliches Zirkoniumsalz sind.
  3. 3. Offset-Matrize nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Stannohalogenid, das Zirkoniumsalz.
    .909835/0654
    und das öadmiumsalz in der gleichen Oberzugsschicht vorhanden sind.*
    " 4. OffsBt-Matriz© nach Anspruchs, dadurch gek enn ζ ei c h n e t , daß das Stannohalogenid, das Zirkoniumsalz und das Cadmiumsalz in getrennten Überzugssohichten vorhanden sind.
    5. Offset-Matrize nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß auf einen Gew.-Teil Stannosalz je 1 bis 8, vorzugsweise 1,7 bis 3,5 Gew.-Teile Zirkoniumsalz und o,o1 bis o,5, vorzugsweise o,o2 bis o,2 Gew.-Teile Oadmiumsalz vorhanden sind. . ■
    6. Offset-Matrize nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch ge k e η η ζ ei c h η e t , daß die Salze auf der lithographischen Oberfläche in einem BeSchichtungsgewicht von o,1 bis
    2 -
  4. 4 g je m vorhanden sind.
    7. Offset-Matrize nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die in Kombination mit dem Silberhalogenid angewandten Komponenten ein wasserlösliches Salz des Zirkons und ein Antioxydans umfassen.
    8. Offset-Matrize nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich ein wasserlösliches Gadmiumsalz vorhanden ist.
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    BAD
    9. Offset-Matrize nach Anspruch 1, dadurch, g e lc eau zeichnet , daß die in Kombination mit dem Silberhalogenid angewandten Komponenten ein wasserlösliches Zirkoniumsalz und einen sensibilisierenden Farbstoff umfassen.
    10. Offset-Matrize nach. Anspruch, 9» dadurch gekennzeichnet , daß die Stoffe in einem solchen Verhältnis vorhanden sind, daß auf 1 Gew.-Teil SilberhalogenidkeiHibildungs-
    ' mittel 1 bis 8 Gew.-Seile des Salzes treffen, und da£ der Farbstoff in einer Menge von o,oo1 bis 1,o % des Feststoffgewichtes vorhanden ist.
    11. Offset-Matrize nach Anspruch 9» dadurch gekennzeichnet, daß das Silberhalogenidkeimbildungemittel Stannohalogenid ist und daß die Stoffe in einem solchen Verhältnis vorhanden sind, daß auf 1 Sew.-Teil Stannohalogenid 1 bis 8, vorzugsweise 1 bis 2,5 Gew.-Teile des Salzes treffen, sowie daß der Farbstoff in einer Menge von o,oo1 bis o,1, vorzugsweise von o,o5 bis o,1 $> des Gesamtgewichtes von Stannohalogenid und Salz vorhanden ist.
    12. Offset-Matrize nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß der Farbstoff ein Phthalein-, ein Erythrosin-, ein Eosin-, ein Rose Bengal- oder ein Rhodaminfarbstoff ist.
    909835/06
    13. Offset-Matrize nach Anspruch 9» dadurch g e k e η η ζ el ohne t , daß die Masse auf der lithographischen Oberfläche außerdem ein wasserlösliehes Gadmiumsalz enthält»
    14· Offset-Matrize nach Ansprach 13» dadurch g e Ic en η zeichnet, daß die Stoffe in einem solchen Verhältnis vorhanden sind» daß auf 1 Gew.-Teil KeimbildungsBiittel 1 bis β Gew·-Seile Metallsalz und o,o1 bis o,5 Gew.—!eile Cadmiumsalz treffen und daß der larbstoff in einer Menge von o,oo1 bis 1,o Gew.-i> vorhanden 1st.
    15· Offset-Matrize nach Anspruch 13, dadurch g e k e η η - ζ e lehn e t , daß das Silberhalogenkeimbildungsmittel ein Stannohalogenid ist und daß die Stoffe in einem solchen Verhältnis vorhanden sind, daß auf 1 Gew.-Teil Stannohalogenid 1 bis 2,5 Gew.-Teile Metallsalz und o,o2 bis o,2 Gew.-Ieile Oädmiumsalz treffen und daß der Farbstoff in einer Menge von o,o5 bis o,1 Gew.-^ vorhanden ist.
    16· Offset-Matrize nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Stoffe in getrennten Oberzugeschichten vorhanden sind.
    17· Offset-Matrize nach einem der vorangehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch einen die lithographische Oberfläche bedeckenden PiIm raus Kunststoff,
    909835/065 A BAD
    8629 wrw
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