DE1458546B1 - Verfahren zur Herstellung von zusammengesetzten Halbleitertraegern - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von zusammengesetzten Halbleitertraegern

Info

Publication number
DE1458546B1
DE1458546B1 DE1963N0023640 DEN0023640A DE1458546B1 DE 1458546 B1 DE1458546 B1 DE 1458546B1 DE 1963N0023640 DE1963N0023640 DE 1963N0023640 DE N0023640 A DEN0023640 A DE N0023640A DE 1458546 B1 DE1458546 B1 DE 1458546B1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
blank
cooling
annealing
solution
metal part
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE1963N0023640
Other languages
English (en)
Inventor
Paul William Nippert
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Luvata Ohio Inc
Original Assignee
Nippert Electric Products Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippert Electric Products Co filed Critical Nippert Electric Products Co
Publication of DE1458546B1 publication Critical patent/DE1458546B1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C9/00Alloys based on copper
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/02Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working in inert or controlled atmosphere or vacuum
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/08Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of copper or alloys based thereon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
    • C22F1/00Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
    • C22F1/10Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of nickel or cobalt or alloys based thereon
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/02Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of metals or alloys
    • H01B1/026Alloys based on copper
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/48Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
    • H01L21/4814Conductive parts
    • H01L21/4871Bases, plates or heatsinks
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/48Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
    • H01L23/488Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/83801Soldering or alloying
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01013Aluminum [Al]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01015Phosphorus [P]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01019Potassium [K]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01023Vanadium [V]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01039Yttrium [Y]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/0104Zirconium [Zr]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01042Molybdenum [Mo]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01047Silver [Ag]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01074Tungsten [W]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01075Rhenium [Re]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01084Polonium [Po]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/0132Binary Alloys
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/013Alloys
    • H01L2924/014Solder alloys

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Description

1 2
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung ling ohne vorherige zusätzliche Warmaushärtung in
von zusammengesetzten Halbleiterträgern hoher elek- seine endgültige Form gebracht,
irischer Leitfähigkeit und hoher mechanischer Festig- Eine weitere bevorzugte Ausführungsform des er-
keit auch bei hoher Temperatur aus einer Legierung findungsgemäßen Verfahrens besteht darin, daß der
mit 0,01 bis 0,15% Zirkonium und einer Restmenge 5 Halbleiterträger nach dem Löten und Abkühlen im
von hochreinem Kupfer, dessen Leitfähigkeit gleich Durchlaufofen zur Bildung eines Schafts und eines
derjenigen elektrolytisch gereinigten Kupfers ist, an Kopfes, an dem der Metallteil angelötet ist, in einem
denen ein Metallteil befestigt ist, wobei zum Lösungs- Gesenk geschmiedet wird, daß dem Kopf sechseckige
glühen der Halbleiterträger durch einen Schnellerbit- Gestalt gegeben wird und daß der Schaft mit einem Ge-
zungsbereich eines eine reduzierende Atmosphäre be- ίο winde versehen wird.
sitzenden Ofens hindurch bewegt und der Halbleiter- Vorteilhaft ist es, wenn auf einer Seite des Rohlings träger danach durch eine im Ofen vorgesehene Kühl- ein von einer ringförmigen Oberfläche umgebener Vorzone tieferer Temperatur transportiert wird, die eben- sprung gebildet wird, der Lotring und der Metallteil falls eine reduzierende Atmosphäre aufweist. vor dem Lösungsglühen um den Vorsprung herum auf
Bei einem derartigen Verfahren ist die Erfindung da- 15 die ringförmige Oberfläche gelegt wird und nach dem
durch gekennzeichnet, daß vor dem Hindurchbewegen Glühen, Löten und Abkühlen auf der dem Vorsprung
des als Rohling vorliegenden Halbleiterträgers durch gegenüberliegenden Seite ein Schaft gebildet wird,
den Schnellerhitzungsbereich zunächst ein Loteinsatz Besonders günstige Ergebnisse werden erzielt, wenn
auf ihn aufgebracht und danach ein Metallteil auf den die hohe Temperatur im Schnellerhitzungsbereich auf
Loteinsatz aufgebracht wird, so daß der Metallteil 20 732 bis 8430C, vorzugsweise etwa 8000C, und die
während des Lösungsglühens mit dem Rohling ver- niedrige Temperatur in der Kühlzone auf 66 bis 1210C
lötet wird, und daß die tiefere Temperatur auf einen gehalten wird.
Wert eingestellt wird, der einerseits so tief liegt, daß Dabei tritt bei z.B. 8050C Glühtemperatur ober-
das Zirkonium im Kupfer in Lösung gehalten wird, halb 0,05% Zirkonium praktisch nur noch eine ge-
und andererseits so hoch liegt, daß der zusammenge- 25 ringe Abhängigkeit vom Zirkoniumgehalt auf, weil ein
setzte Halbleiterträger gleichzeitig gehärtet wird, wobei darüber hinausgehender Zirkoniumgehalt nicht in
in der kühleren Zone eine das Auftreten von Rissen Lösung übergeht und mithin die elektrische Leitfähig-
verhindernde gleichmäßige Abkühlung vorgenommen keit nicht beeinflußt,
wird. Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung er-
Gemäß einer speziellen Ausführungsform der Er- 30 geben sich aus der folgenden Beschreibung an Hand der
findung lassen sich aus einer Kupfer-Zirkonium-Le- bevorzugten Ausführungsformen derselben darstellen-
gierung bestehende elektrische Leiter, wie sie in der den Zeichnungen. Es zeigen
deutschen Auslegeschrift 1 090 437 beschrieben sind, F i g. 1 bis 7 aufeinanderfolgende Stufen der Ver-
nach dem erfindungsgemäßen kontinuierlichen Ver- arbeitung eines aus einer erfindungsgemäß zu verwen-
fahren herstellen, wobei die reduzierende Atmosphäre 35 denden Kupferlegierung bestehenden Rohlings
aus Wasserstoff besteht. (F i g. 1) zu einem fertigen, zusammengesetzten HaIb-
Es hat sich gezeigt, daß sich durch diese spezielle leiterträger (F i g. 7),
Glühofenbehandlung von Rohlingen elektrische Leiter F i g. 8 ein Schliff bild des Gefüges des Stangenroh-
herstellen lassen, in denen die Zirkonium-Kompo- lings gemäß F i g. 1,
nente während des Abkühlens trotz der verhältnis- 4° F i g. 9 ein Schliff bild des Gef üges des Rohlings
mäßig langsamen Abkühlung im Kühlbereich des Glüh- nach dem Kaltstauchen in die Form gemäß Fig. 2,
ofens in Lösung gehalten wird. Außerdem zeichnen . Fig.;10 ein Schliffbild des Gefüges des Rohlings
sich derartige Leiter durch eine hohe thermische Leit- nach der erfindungsgemäßen Behandlung in einem
fähigkeit von etwa 91,1% I. A. C. S., ein feines Re- Durchlaufofen und
kristalh'satipnsgefüge.miteiner Korngröße von weniger 45 Fig. 11 ein Schliff bild des Gefüges des Rohlings
als 0,020 mm durchschnittlichem Durchmesser und eine nach dessen Kaltverarbeitung zur Ausbildung des
Härte in der Größenordnung von 95,6 Einheiten der Schafts gemäß F i g. 5.
Rockwell-F-Skala nach der Kaltbearbeitung aus. Gemäß den Zeichnungen beginnt die erfindungsge-
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren stellt der Me- mäße Herstellung eines zusammengesetzten Halbleiter-
tallteil z. B. einen Schweißring aus Stahl oder "derglei- 50 trägers mit dem Abschneiden eines in F i g. lmitlObe-
chen Metall dar. zeichneten Rohlings bzw. Werkstücks aus gezogenem
Das In-Lösung-Halten eines Legierungsbestandteils Kupfer-Zirkonium-Stangenmaterial mit 0,01 bis 0,15% mit dem Kupfer tritt lediglich bei dieser Zirkonium- Zirkonium auf eine bemessene Länge. Als Ausgangs-Kupfer-Legierung auf, während die Legierungsbestand- material kann dabei beispielsweise eine in der deutschen teile bei anderen-bekannten Kupferlegrerangeff,1·bei'55 Abüsiegescnrifi l>O90 437 beschriebene Legierung verdenen eine Ausscheidung stattfindet, nicht in Lösung wendet werden.
verbleiben, wenn sie im Anschluß an die Behandlung Um diesen Rohling in die in F i g. 3 dargestellte bei Lösungsglühtemperatux langsam abgekühlt wer- Form zu bringen, in der er einen nach oben abstehenden. ■ den, von einer- ringförmigen Schweißring-Träger-
Beim erfindungsgemäßen Verfahren wird diese neu- 60 fläche 14 umgebenden Vorsprung 12 aufweist, wird artige Eigenschaft in einmaliger Weise zur Erzeugung er zunächst in einer ersten Stauchform in die Form gevon aus mehreren Metallen zusammengesetzten eiek- maß F i g. 2 und anschließend in einer zweiten dertrischen Leitern mit aufgelöteten bzw. verschmolzenen artigen Vorrichtung in die Form gemäß F i g. 3 kalt-Verbindungen bzw. Metallteilen ausgenutzt, da das gestaucht. Es sei jedoch ausdrücklich darauf hingelangsame Abkühlen thermisch bedingte Brüche der 65 wiesen, daß der Rohling innerhalb des Grundgedenkens Verbindungen vermeidet. der Erfindung auch mit Hilfe anderer Einrichtungen
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Er- verformt werden kann,
findung wird der lösungsgeglühte und abgekühlte Roh- Ersichtlicherweise ist nach diesem ersten Verarbei-
3 4
tungsvorgang bereits eine Ringauflagefläche 14 aus- überliegende Metall während des Schaft-Formvorgangs gebildet. Draht- bzw. Stangenstärken von etwa 8,7 mm nicht abwärts gezogen und somit ein Senkloch ver- und etwa 6,2 mm Durchmesser werden jeweils zur An- mieden wird, so daß die Oberfläche 22 des Endabfertigung von Grundabschnitten mit etwa 17,5 mm Schnitts flach bleibt. Wenn aber diese Oberfläche 22 bzw. etwa 11,1 mm Durchmesser verwendet. Die ver- 5 flach bleibt, ist keine maschinelle Bearbeitung dieser formten Teile des Halbleiterträgerrohlings können unter Fläche erforderlich, und es kann eine aus Halbleiter-Einhaltung sehr enger Toleranzen ausgebildet werden. material bestehende Scheibe ohne weitere Oberflächen-
Die beim Stauchvorgang verformten Rohlinge wer- bearbeitung aufgesetzt werden.
den in einen Drahtkorb eingegeben und in einem klei- Nunmehr wird der Schaft 10 auf einem mit einem
nen, herkömmlichen Dampfentfetter unter Verwen- *° Einspannfutter versehenen Schraubenautomaten auf
dung von Trichloräthylen im Dampfbad entfettet. die richtige Länge abgestochen. Weiteres Uberschuß-
AIs nächstes werden die Rohlinge in einen Lötglüh- material braucht nicht entfernt zu werden,
ofen eingebracht, an dessen Eintrittsende ein aus Weiterhin wird mit Hilfe einer Kaltstauchmaschine Drahtgewebe bestehendes Förderband über einen die runde Trägerfläche in die endgültige, Flächen 24 Tisch läuft. Die in den Lötofen einzubringenden Roh- 15 aufweisende Sechseckform gemäß F i g. 6 geschmiedet, linge 10 gemäß F i g. 3 werden hier von Hand mit Während dieses Stauchvorgangs wird gleichzeitig die den Flächen 12,14 nach oben auf das Förderband auf- Auflagefläche auf das richtige Maß geformt. Schließgelegt und mit je einem Ring 16 aus einer Lötlegierung lieh werden mit Hilfe eines Schraubenautomaten Absowie einem Schweißring 18 versehen (F i g. 3). schrägungen an den Kanten des Sechskantkopfs und
Die Lötglühofenkammer wird mit einer Atmosphäre 20 des Schafts angebracht und etwaige Grate entfernt, aus Spaltammoniak (75 Volumprozent Wasserstoff Als letzter Formvorgang werden die Gewinde 26 ge-
^ und 25 Volumprozent Stickstoff) beschickt, das an den maß F i g. 7 auf den Schaft 20 aufgewalzt.
ψ Eintritts- und Austrittsschlitzen brennt. Die Vorteile und der günstige Einfluß des erfin-
Die Temperaturregelung des Ofens erfolgt selbst- dungsgemäßen Verfahrens auf das Behandlungsgut ertätig. Am Eintrittsende der Kammer werden die zu- 25 geben sich aus den Tabellen 1 und 2, die im Verlauf sammengesetzten Teile gemäß F i g. 3 unter Wasser- der Entwicklung des Verfahrens aufgestellt wurden, stoff erhitzt und durch denselben gereinigt, bevor das Diese Versuche beweisen, daß ein verhältnismäßig Silberlot zu schmelzen beginnt und die Lötung im langsames Abkühlen im Gegensatz zum schnellen Abheißen Mittelbereich des Ofens stattfindet. Anschlie- schrecken keinerlei Einfluß auf das Gefüge der Werkßend werden die Werkstücke in der in einer am Aus- 30 stücke und nur einen unbedeutenden Einfluß auf die trittsende des Ofens vorgesehenen Kammer herr- elektrische Leitfähigkeit der nach dem erfindungsgeschenden Wasserstoffatmosphäre so lange abgekühlt, mäßen Verfahren hergestellten Kupfer-Zirkoniumbis sie keine Rotfärbung mehr zeigen, was durch den Halbleiterträger hat, während die Härte durch das Austrittsschlitz beobachtet werden kann. Nach dem Halten bei niedrigeren Temperaturen erhöht wird.
Erreichen dieses Schlitzes gelangen die Werkstücke so- 35 Bei der Durchführung dieser Vorversuche wurde der fort über eine wassergekühlte Förderrolle und fallen stangenförmige Kupfer-Zirkonium-Werkstoff begrain einen Wasserbehälter, woraufhin sie bei Umgebungs- digt und in zehn Proberohlinge unterteilt, von denen temperatur unmittelbar an die Außenluft gelangen. jeder über etwa 6,4 cm lang war, nachdem die während Die gelötete Anordnung ist in F i g. 4 dargestellt. des Ziehens beschädigte Stelle entfernt worden war.
Im heißen Mittelbereich des Glühofens wird die 4° Der Zirkoniumgehalt dieses Werkstoffes lag bei
Temperatur auf 732 bis 843 0C gehalten, wobei etwa 0,07 bis 0,15 %, insbesondere a,ber über 0,05 °/0. ,.;
8000C eine bevorzugte Temperatur für das Herstel- Diese. Werkstücke wurden einer KaIt-Q uerwalz-
lungsverfahren darstellt. Beim Durchlaufen des küh- behandlung unterzogen und erhielten die Form eines
) leren Austrittsbereichs werden die Werkstücke auf etwa 5 mm dicken Streifens. Anschließend wurden die
etwa 66 bis 1210C abgekühlt. Es hat sich gezeigt, daß 45 Stücke einzeln in einer Wasserstoff-Stickstoff-Atmo-
eine Geschwindigkeit des Förderbands von etwa Sphäre etwa sieben Minuten lang bei etwa 805° C ge-
0,46 m über etwa drei Minuten hinweg einen zufrieden- glüht, wobei die Glühbehandlungszeit um nicht mehr
stellenden Abkühlungsvorgang bei der erfindungs- ' als minus 0 bzw. plus 10 Sekunden schwankte. Hierauf
gemäßen Herstellung von Halbleiterträgern dar- wurden<<lie Werkstücke aus dem Glühofen entfernt
stellt. 50 und in kaltes Wasser, eingetaucht bzw. in einem an-
Die aus dem vorgenannten Verfahrensschritt «rhal- - grenzenden Glühofenbereich über eine bestimmte
tenen Werkstücke werden gründlich in Wasser ge- Verzögerungszeitspanne hinweg" bei niedrigerer Tem-
waschen und anschließend in einer kleinen Zentri- . peratur gehalten,'.wie dies in Tabelle 1 angegeben ist.
fugentrommel einer Schleudertrocknung unterworfen. Mit Ausnahme der Probe 10 wurden sämtliche Proben
Sodann werden die gereinigten Teile zusammen mit 55, am Ende der Erhitzungszeitspanne in Wasser abge-
einer abgemessenen Menge an gereinigtem Talg in löscht. Danach wurden die-Werkstücke-kurzzeitig
eine weitere Putztrommel eingegeben, wobei jedes * in 1,1-Salzsäure eingetaucht, um den sehr geringen
Werkstück einen sehr dünnen gleichmäßig verteilten Beschlag zu entfernen.
Film des Schmiermittels annehmen muß. ;, . Nach, ,der Glühbehajidlung; wurden alle Probestücke
Die mit einem Schmierfilm versehenen Rohlinge mit 60 4er-Längenach apf etwa 2,5 mm Dicke ausgewalzt,
angelötetem Schweißring werden anschließend in eine was eine Dickenveprninderung von 50 % darstellt.
Einschlußgesenkform einer schnellarbeitenden Hy- . Danach wurden alle Proben ,gemeinsam ,wieder ,jn
draulikpresse eingegeben, in'welcher durch gleichzeiti- einen Glühofen, in welchenT eine Wasser'stoffatnio-
ges Gesenkschmieden und Strangpressen der Schaft 10 spnäre herrschte, eingebracht und bei 425°C2 Stunden
und die Konfiguration der oberen Trägerfläche 22 ge- 65 lang ausgehärtet (gealtert). Anschließend wurden sie
maß F i g. 5 hervorgebracht werden. U ;;in; Wasseiuabgeschreekt. i-3 -■» Λ
Die Ausbildung des aufwärts abstehenden Vor- - ; Dip Rcekw^H^F-tHärte jeder Probe wurde jeweils
Sprungs 12 hat den; Vorteil, daß das dem Schaft gegen- ; nach dem Kältwalgen, in etwa 5 mm dicke, flache
Streifen nach dem Glühen, nach dem Kaltwalzen mit einer Dickenverminderung von 50°/0 sowie nach der zwei Stunden dauernden Alterungsbehandlung bestimmt. Die Ergebnisse sind aus Tabelle 2 ersichtlich. Schließlich wurden die Proben 1 bis 5 an den Kanten, jedoch nicht an den flachen Seiten, geschliffen und auf eine möglichst geringe Durchbiegung begradigt. Die elektrische Leitfähigkeit dieser Proben wurde bei Raumtemperatur ermittelt und ist in Tabelle 2 angegeben.
Die Gefüge der Proben 1 und 10 waren voneinander nicht zu unterscheiden. Beide Proben wiesen ein rekristallisiertes Gefüge mit einer Korngröße von etwa 0,012 mm durchschnittlichem Durchmesser auf, und bei beiden Proben waren einige verstreute blaue Ausscheidungen vorhanden, vermutlich Cu3Zr, das sich anscheinend nicht gelöst hatte. In keiner der beiden Proben waren neue Ausscheidungen vorhanden.
In den F i g. 8 bis 11 sind in etwa 150facher Vergrößerung typische Gefüge eines Werkstücks bei seiner Verformung zu einem tatsächlich hergestellten elektrischen Leiter in verschiedenen Verformungsstufen dargestellt.
Die elektrische Leitfähigkeit der Probe 1 schien etwas geringer zu sein als diejenige der anderen überprüften Proben. Da es nur schwer möglich war, die Proben mit großer Genauigkeit zu untersuchen, wird angenommen, daß dieser Unterschied nur gering war.
ίο Der einzig mögliche Schluß, der aus den Versuchen gezogen werden konnte, war, daß die Legierung nach dem Lösungsglühen bei etwa 8050C fast vollständig unempfindlich gegenüber der Abschreckgeschwindigkeit ist. Diese Temperatur ist wahrscheinlich zu gering, um maximale mechanische Eigenschaften hervorzubringen, obgleich die elektrische Leitfähigkeit erstaunlich hoch ist. Durch diese Behandlung ergibt sich jedoch ein für den vorgesehenen Zweck sehr zufriedenstellender Werkstoff, wobei die Teile voll-
ao kommen frei von Zunder sind.
Tabelle 1
Härte von aus einer Kupfer-Zirkonium-Legierung bestehenden Werkstücken vor und nach dem versuchsweisen
Lösungsglühen und Aushärten
Probe-
Nr.
Ursprüngliche
Härtein
Rockwell F
Härte in
Rockwell F
nach dem
Auswalzen
auf5mmDicke
Abkühlen nach 7 Minuten
langem Lösungsglühen
bei etwa 8050C in
Wasserstoffatmosphäre
Härte in Rockwell F
nach dem Glühen
und Abkühlen
Härte in Rockwell F
nach dem Auswalzen
auf 2,5 mm Dicke
Härte in Rockw Π F
nach 2 Stunden
Aushärten bei 425° C
1 74,6 92 Abschrecken mit Wasser
von der Lösungsglüh-
Temperatur
50 94 95,3
2 80,6 93,5 1,5 Minuten lang auf
4250C gehalten, an
schließend mit Wasser
abgeschreckt
51,6 94 95,6
3 90 92,6 3 Minutenlangauf 425 ° C
gehalten, mit Wasser ab
geschreckt
52 94,6 95,3
4 89,6 92,6 5Minutenlangauf 425° C
gehalten, mit Wasser ab
geschreckt
52 95 95
5 90 96 8Minutenlangauf425°C
gehalten, mit Wasser ab
geschreckt
53 95 96
6 90 95 1,5 Minuten lang auf
1200C gehalten, an
schließend mit Wasser
abgeschreckt
54 94 94
7 88,6 93,6 3Minutenlangaufl20°C
gehalten, mit Wasser ab
geschreckt
53,3 95 95
8 89 93,3 5 Minutenlangauf 120° C
gehalten, mit Wasser ab
geschreckt
54,6 95,3 95
9 89 92,6 8Minutenlangauf 120° C
gehalten, mit Wasser ab
geschreckt
52 94,6 95,3
10 89 94 Bei Raumtemperatur in
Wasserstoffatmosphäre
abgekühlt
55 95 95
Tabelle 2
Elektrische Leitfähigkeit des Kupfer-Zirkonium-Werkstücks nach dem Ausglühen und Aushärten*)
Probe
Nr.
Spezifischer Widerstand
bei 26° C (μΩ/cm)
Leitfähigkeit
bei 26° C
(Ω-* cm-1 · 10-*)
Berechneter**)
spezifischer Widerstand
bei 20° C (μΩ/cm)
Leitfähigkeit
(% IACS)
1
2
3
4
5
1,883
1,868
1,863
1,863
1,863
53,1
53,5
53,7
53,7
53,7
1,84,
1,83χ
1,82.
1,82,
1,82,
93,4
94,0
94,4
94,4
94,4
*) Glüh- und Aushärtungsverfahren siehe Tabelle 1.
**) Berechnung nach der Formel P1=P2 (1 + aAt).
Mit P1 = spezifischer Widerstand bei 26° C.
P2 = spezifischer Widerstand bei 20° C.
Ein anschließender Versuch wurde mit einem Werkstück aus derselben Kupfer-Zirkonium-Legierung durchgeführt, welches denselben Behandlungsstufen unterworfen wurde, nur mit dem Unterschied, daß die Glühbehandlung in einem kontinuierlich arbeitenden Produktions-Glühofen vorgenommen und die Aushärtungsglühung (2 Stunden lang bei 425° C) weggelassen wurde. Die Glühung erfolgte ebenfalls 7 Minuten lang bei etwa 805 0C und in Wasserstoff-Stickstoff-Atmosphäre.
Zwei Stücke des für die vorangehenden Versuche verwendeten Stangenmaterials mit etwa 8,7 mm Durchmesser wurden in Querrichtung zu einem Streifen von etwa 5 mm Dicke ausgewalzt und geglüht. Anschließend wurden die Streifen in Längsrichtung auf eine Dicke von etwa 2,5 mm ausgewalzt. Die Rockwell-F-Härte nach dem Walzen betrug 95,6 (Durchschnitt von mehreren in Querrichtung vorgenommenen Messungen), wobei die einzelnen Ergebnisse zwischen 95,0 und 95,9+ lagen. Die elektrische Leitfähigkeit wurde nur bei der geradesten der beiden anderweitig identischen Proben (Probe Nr. 12) bestimmt. Die Ergebnisse dieser Messung sind wie folgt:
Probe
Nr.
Spezi
fischer
Wider
stand bei
26° C,
(μΩ/cm)
Leitfähigkeit
bei 26° C,
(U-1Cm-1-10-*)
Berechneter
spezifischer
Widerstand
bei 20° C,
(μΩ/cm)
Leitfähigket
(% IACS)
12 l,93x 51,8 1,892 91,1
Dieser Versuch lehrt, daß die elektrische Leitfähigkeit der Werkstücke selbst beim Weglassen der Aushärtungsglühung gemäß Tabelle 1 noch sehr hoch ist.

Claims (5)

Patentansprüche: 55
1. Verfahren zur Herstellung von zusammengesetzten Halbleiterträgern hoher elektrischer Leitfähigkeit und hoher mechanischer Festigkeit auch bei hoher Temperatur aus einer Legierung mit 0,01 bis 0,15 °/o Zirkonium und einer Restmenge von hochreinem Kupfer, dessen Leitfähigkeit gleich derjenigen elektrolytisch gereinigten Kupfers ist, an denen ein Metailbaiiteil befestigt ist, wobei zum Lösungsglühen der Halbleiterträger durch einen Schnellerhitzungsbereich eines eine redu= 0,00363 = Temperaturkoeffizient für den Widerstand (gültig für 0 bis 250° C).
At =6 oder P., = ~±- und 0L IACS = —~
100
zierende Atmosphäre besitzenden Ofens hindurch bewegt und der Halbleiterträger danach durch eine im Ofen vorgesehene Kühlzone tieferer Temperatur transportiert wird, die ebenfalls eine reduzierende Atmosphäre aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß vor dem Hindurchbewegen des als Rohling vorliegenden Halbleiterträgers durch den Schnellerhitzungsbereich zunächst ein Loteinsatz auf ihn aufgebracht und danach ein Metallteil auf den Loteinsatz aufgebracht wird, so daß der Metallteil während des Lösungsglühens mit dem Rohling verlötet wird, und daß die tiefere Temperatur auf einen Wert eingestellt wird, der einerseits so tief liegt, daß das Zirkonium im Kupfer in Lösung gehalten wird, und andererseits so hoch liegt, daß der zusammengesetzte Halbleiterträger gleichzeitig gehärtet wird, wobei in der kühleren Zone eine das Auftreten von Rissen verhindernde gleichmäßige Abkühlung vorgenommen wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der lösungsgeglühte und abgekühlte Rohling ohne vorherige zusätzliche Warmaushärtung in seine endgültige Form gebracht wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterträger nach dem Löten und Abkühlen im Durchlaufofen zur Bildung eines Schafts und eines Kopfes, an dem der Metallteil angelötet ist, in einem Gesenk geschmiedet wird, daß dem Kopf sechseckige Gestalt gegeben wird und daß der Schaft mit einem Gewinde versehen wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß auf einer Seite des Rohlings ein von einer ringförmigen Oberfläche (14) umgebener Vorsprung (12) gebildet wird, daß der Lotring (16) und der Metallteil (18) vor dem Lösungsglühen um den Vorsprung herum auf die ringförmige Oberfläche gelegt wird und daß nach dem Glühen, Löten und Abkühlen auf der dem Vorsprung gegenüberliegenden Seite ein Schaft gebildet wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die hohe Temperatur im Schnellerhitzungsbereich auf 732 bis 843° C, vorzugsweise etwa SOO0C, und die niedrige Temperatur in der K.ühlzone auf 66 bis 121° C gehalten wird.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen COPY
009 515/94
DE1963N0023640 1962-12-26 1963-08-22 Verfahren zur Herstellung von zusammengesetzten Halbleitertraegern Pending DE1458546B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US24699162A 1962-12-26 1962-12-26
US311614A US3279039A (en) 1962-12-26 1963-09-23 Method of producing semiconductor mounts

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1458546B1 true DE1458546B1 (de) 1970-04-09

Family

ID=26938378

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1963N0023640 Pending DE1458546B1 (de) 1962-12-26 1963-08-22 Verfahren zur Herstellung von zusammengesetzten Halbleitertraegern

Country Status (7)

Country Link
US (1) US3279039A (de)
CH (1) CH413938A (de)
DE (1) DE1458546B1 (de)
DK (1) DK128629B (de)
GB (1) GB1030427A (de)
NL (2) NL295109A (de)
SE (1) SE321583B (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015001293A1 (de) * 2015-02-02 2016-08-04 Isabellenhütte Heusler Gmbh & Co. Kg Verbindungselement, insbesondere Schraube oder Mutter

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3434018A (en) * 1966-07-05 1969-03-18 Motorola Inc Heat conductive mounting base for a semiconductor device
US4192063A (en) * 1975-12-10 1980-03-11 Yoshio Sato Method for manufacturing a base of a semi-conductor device
JPS5271176A (en) * 1975-12-11 1977-06-14 Sato Tokuo Method of manufacturing base for pressure contact type semiconductor
GB1525431A (en) * 1976-01-08 1978-09-20 Gkn Floform Ltd Method of making semi-conductor mounts
US4049185A (en) * 1977-03-11 1977-09-20 The Nippert Company Method of forming double extruded mount
US4149310A (en) * 1978-03-27 1979-04-17 The Nippert Company Method of making a heat sink mounting
EP0023362B2 (de) * 1979-07-30 1993-04-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Verfahren zur Herstellung einer elektrisch leitfähigen Kupferlegierung
US4352134A (en) * 1979-11-19 1982-09-28 International Business Machines Corporation Magnetic head assembly with corrosion resistant conductive wire
DE3716106C1 (en) * 1987-05-14 1989-01-19 Battelle Institut E V A process for the powder-metallurgical production of dispersion-hardened copper alloys
US6001227A (en) 1997-11-26 1999-12-14 Applied Materials, Inc. Target for use in magnetron sputtering of aluminum for forming metallization films having low defect densities and methods for manufacturing and using such target
US6139701A (en) * 1997-11-26 2000-10-31 Applied Materials, Inc. Copper target for sputter deposition
US6172414B1 (en) * 1998-04-28 2001-01-09 Trw Inc. Apparatus and method for snap-on thermo-compression bonding
WO2008060447A2 (en) * 2006-11-09 2008-05-22 Quantum Leap Packaging, Inc. Microcircuit package having ductile layer

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE543667C (de) * 1926-10-20 1932-02-08 Ver Deutsche Metallwerke Akt G Verguetung von Kupfer-Beryllium-Legierungen
DE738228C (de) * 1941-09-17 1943-08-07 Otto Junker Fa Verfahren und Vorrichtung zum Weichgluehen von aushaertbaren Metallteilen, insbesondere Leichtmetallteilen, im Fliessbetrieb
CH256276A (de) * 1945-01-17 1948-08-15 Ici Ltd Verfahren zur Herstellung von Gegenständen aus Kupfer-Chrom-Legierungen und nach diesem Verfahren erhaltener Gegenstand.
DE1035782B (de) * 1956-07-04 1958-08-07 Philips Patentverwaltung Verfahren zur Befestigung von Halbleiteranordnungen auf einem gut waermeleitenden Traeger
DE1074609B (de) * 1960-02-04 J F Mahler Industrieofenbau Eßlmgen/Neckar Mit Schutzgas be tnebener Tunnelofen mit Kuhltunnel
DE1086899B (de) * 1957-03-28 1960-08-11 Ver Deutsche Metallwerke Ag Verfahren zur Behandlung von warmaushaertbaren Kupferlegierungen, die 0,1 bis 6% Zirkon, Rest Kupfer mit den ueblichen Verunreinigungen enthalten
DE1090437B (de) * 1956-08-14 1960-10-06 Nippert Electric Products Comp Verfahren zum Verbessern der elektrischen und mechanischen Eigenschaften von Kupfer-Zirkon-Legierungen

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2117106A (en) * 1936-02-21 1938-05-10 American Brass Co Brazed article
US2145792A (en) * 1937-03-22 1939-01-31 Mallory & Co Inc P R Contacting element
US2637672A (en) * 1950-08-22 1953-05-05 Westinghouse Electric Corp Process of producing bolts
US2984474A (en) * 1958-05-02 1961-05-16 Armco Steel Corp Heat treating method and apparatus
US2879191A (en) * 1958-06-23 1959-03-24 Nippert Electric Products Comp Method of producing heat treated copper zirconium alloys and articles formed thereof
NL120008C (de) * 1959-05-15
US3130250A (en) * 1960-07-18 1964-04-21 Pacific Scientific Co Heat treating furnace
US3197843A (en) * 1961-05-19 1965-08-03 Nippert Electric Products Comp Method of forming a mount for semiconductors

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1074609B (de) * 1960-02-04 J F Mahler Industrieofenbau Eßlmgen/Neckar Mit Schutzgas be tnebener Tunnelofen mit Kuhltunnel
DE543667C (de) * 1926-10-20 1932-02-08 Ver Deutsche Metallwerke Akt G Verguetung von Kupfer-Beryllium-Legierungen
DE738228C (de) * 1941-09-17 1943-08-07 Otto Junker Fa Verfahren und Vorrichtung zum Weichgluehen von aushaertbaren Metallteilen, insbesondere Leichtmetallteilen, im Fliessbetrieb
CH256276A (de) * 1945-01-17 1948-08-15 Ici Ltd Verfahren zur Herstellung von Gegenständen aus Kupfer-Chrom-Legierungen und nach diesem Verfahren erhaltener Gegenstand.
DE1035782B (de) * 1956-07-04 1958-08-07 Philips Patentverwaltung Verfahren zur Befestigung von Halbleiteranordnungen auf einem gut waermeleitenden Traeger
DE1090437B (de) * 1956-08-14 1960-10-06 Nippert Electric Products Comp Verfahren zum Verbessern der elektrischen und mechanischen Eigenschaften von Kupfer-Zirkon-Legierungen
DE1086899B (de) * 1957-03-28 1960-08-11 Ver Deutsche Metallwerke Ag Verfahren zur Behandlung von warmaushaertbaren Kupferlegierungen, die 0,1 bis 6% Zirkon, Rest Kupfer mit den ueblichen Verunreinigungen enthalten

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015001293A1 (de) * 2015-02-02 2016-08-04 Isabellenhütte Heusler Gmbh & Co. Kg Verbindungselement, insbesondere Schraube oder Mutter
WO2016124322A1 (de) 2015-02-02 2016-08-11 Isabellenhütte Heusler Gmbh & Co. Kg Verbindungselement, insbesondere schraube oder mutter
US10619232B2 (en) 2015-02-02 2020-04-14 Isabellenhuette Heusler Gmbh & Co. Kg Connecting element, in particular screw or nut
DE102015001293B4 (de) 2015-02-02 2022-11-17 Isabellenhütte Heusler Gmbh & Co. Kg Stromschienenanordnung

Also Published As

Publication number Publication date
CH413938A (fr) 1966-05-31
GB1030427A (en) 1966-05-25
US3279039A (en) 1966-10-18
NL129350C (de)
DK128629B (da) 1974-06-04
NL295109A (de)
SE321583B (de) 1970-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE602005005462T2 (de) Verfahren zur herstellung von bändern aus austenitischem rostfreiem stahl mit matter oberfläche
DE1608766C3 (de) Verfahren zur Wärmebehandlung von Aluminiumlegierungen
DE1458546B1 (de) Verfahren zur Herstellung von zusammengesetzten Halbleitertraegern
DE2623431A1 (de) Verfahren zur herstellung von elektrischen leitern
DE2754673C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Halbzeug aus einer Al-Mn-Legierung mit verbesserten Festigkeitseigenschaften
DE1279940B (de) Verfahren zur Waermebehandlung warmaushaertbarer Baender und Bleche aus Aluminiumlegierungen mit einem Kupfergehalt unter 1 Prozent
DE1758120B2 (de) Verfahren zur verbesserung der elektrischen leitfaehigkeit und festigkeit von kupferlegierungen
DE2446933B2 (de) Verfahren zum waermebehandeln von aiznmgcu-legierungen
DE1181256B (de) Verfahren zur Herstellung von orientiertem Siliziumstahl
DE2611252C2 (de) Verwendung einer Aluminiumlegierung für die Herstellung von elektrisch leitenden Gegenständen mit erhöhter Warmfestigkeit
EP0647723B1 (de) Verfahren zur Herstellung von nahtlos gezogenen halbharten/harten Installationsrohren
DE1243402B (de) Verfahren zur Verbesserung der mechanischen und elektrischen Eigenschaften von Aluminiumleiterdraehten
CH454473A (de) Verfahren zur Verbesserung der Festigkeit und Beständigkeit gegen Spannungskorrosion von verformten Produkten aus praktisch kupferfreien Aluminiumlegierungen
DE1533149B1 (de) Verfahren zur verbesserung der spannungskorrosionseingenschaft bei aicumg-knetstuecken in deren querrichtung
DE2358510B2 (de) Verfahren zur herstellung eines gleichmaessigen, feinen korns und einer hohen dehnung bei kupfer-aluminium-legierungen
DE19732837A1 (de) Legierung auf Kupferbasis
DE2129125A1 (de) Verfahren zur Verarbeitung von Aluminiumbronzen
DE975558C (de) Verfahren zur Waermebehandlung von Werkstuecken aus Zinklegierungen
DE508436C (de) Verfahren zur Bearbeitung von Metallen und Legierungen durch Walzen, Haemmern, Pressen, Ziehen oder aehnliche Berabeitungsmethoden
DE825599C (de) Verfahren zur Verbesserung der Korrosionsbestaendigkeit von Kupferlegierungen
DE2932374C2 (de) Verfahren zur Wärmebehandlung von dicken Erzeugnissen aus Aluminium-Legierungen des Al-Zn-Mg-Cu-Typs
DE1558797B2 (de) Verfahren zur Herstellung von Leiterdraht aus AlMgSi-Legierungen
AT301892B (de) Verfahren zum Verhindern der Sudhautbildung (Oxydation) bei der Goldwarenfabrikation
EP0274586A1 (de) Kupferlegierung und ihre Verwendung
DE2314058C3 (de) Verfahren zur Herstellung eines hxxochfesten Aluminiumlegierungsschmiedestücks