DE1447919A1

DE1447919A1 - Lichtempfindliches Material und Verfahren zu seiner Entwicklung

Info

Publication number: DE1447919A1
Application number: DE19641447919
Authority: DE
Inventors: Mac Donald John Archibald; Stemhott Thomas Lee; Shipley Jun Charles Raymond
Original assignee: Shipley Co Inc
Current assignee: Shipley Co Inc
Priority date: 1963-12-09
Filing date: 1964-12-08
Publication date: 1969-10-16
Also published as: DE1447919B2; US3402044A; GB1078105A; NL6414326A; BE656742A; DE1447919C3; CA774047A; NL141663B

Description

Dr. Karl Traetzel

7.Dezember 1964

O2O2 WIESBADEN-BIEBRICH
Rheingaustr. 176 - Telef. ββθβ2

T 1-112

Shipley Company ,Inc.
lollesls?. Massachusetts,USA.

Lichtempfindliches Material und Verfahren in seiner .Entwicklung.

Verfahren sur Harsteilung von Druckplatten, beeondera Flachdruokplatten, bei denen auf Unterlagen wie Metallplatten oder Metallfolien» beiepieleweiae solchen aua Aluminium oder Zink» au« Naphthochinon-(1.2)-dia«idsulfonsiurecetern beetehende oder diese Vsrblndung^enthaltend· Schichten gebildet werden» sind bekannt« flach des Trocknen der Schicht wird daa ao erhaltene lichtempfindliche Material unter einer Vorlage belichtet und die belichtet· Schicht wird durch Behandlung alt verdünnten alkalieeben Lösungen, beispielsweise verdUnnten Dinetrluaphoephat- oder frinatriumphosphat- oder ähnllohen Lösungen, *u einem eichtbaren Bild entwickelt. Bei Verwendung einer positiven Vorlege iat das Bild, das fett* far·· annl—t, «in« positiv· Wiedergabe der Vorlage, von dem auf eimer Offeet-Druokmaachine Kopien der Vorlag· hergestellt werden kennen.

Die vorstehend genannton Schichten sind auch mit Vorteil brauchbar bei der mustergemäeeen Herstellung von ?hotoreetblldfläohcn (photoresists) fUr Metallplattlorungen (metal plating) und fUr daa Atzen von Metall» Platten,

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keramischen Gegenständen und dergleichen nach einer Vorlag·, beispielsweise bei chemischen Vermahlungen (chemical milling) oder bei der Herstellung τοη lichtkopierten Schaltungen (printed circuits)· Bei den bekannten Schichten dieser Art hat es sich aber oftmals gezeigt» dass ihr elektrischer Widerstand für Plattierungen unzureichend ist, ihre chemische *iderßtandefähigkeit oder Beständigkeit gegen Ätzlösungen, die gewöhnlich sauer sind, ebenfalls unzureichend ist, und dass die Schichten dünn sind, deren fehlerfreie gleichmässige Herstellung schwierig ist·

Überraschenderweise ist gefunden worden, dass dl· vorstehend beschriebenen lichtempfindlichen Schichten, was ihre oben erwähnte !Understands- und Beständigkeits-Eigenschaften und ihre Dicke anbetrifft, erheblich verbessert werden können, ohne dass sie ihr· Sntwiokelbarkelt mit sohwachalkalisehen Lösungen verlieren, indem man ihnen alkalibeständige, lichtunempfindliohe, filmbildend· Stoff· einverleibt. Bei den Sohiohten, dl· solch· Zusatzstoff· enthalten, kann man dl« vom Licht getroffenen (belichteten)Teile durch Behandlung mit schwachem Alkali entfernen, während die nicht belichteten Teile in Gestalt des gewünsohten Musters (Bilde·) auf dem Träger der Schicht, auf der Unterlag· stehen bleiben·

Die lichtempfindlichen Verbindungen, nämlich die lfaphthochinon-(1.2)-diasld-sulfoneiur**st«r, dl· bei dem erflndungsgemässen lichtempfindlichen ¹Uttrial verwendet werden, sind beispielsweise in den aaerikaalsehen Patentschriften 3 046 118, 3 106 465 und 3 148983 beschrieben. Die vorsugsweise als Photo-Sensibilisatoren verwendeten Naphthochinon-(1.2)-diazid-sulfensäureester enthalten eine Hydroxylgruppe oder veresterte Hydroxylgruppe in Nachbarsteilung zu einer Carboxylgruppe und sind wasserunlöslich. Um bessere Schichten auf den ünter-

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lagen (Schichtträgern) eu erhalten, let «β vorteilhaft, bei der Herstellung der Seneibilisierungelöeungen, d.h. dtr Beeohichtungelöeungen ^organische Lösungsmittel tu benutien, In denen eich die Haphthochinon^L.2)>diasid~ aulfoneäureeater bei normaler Temperatur löeen. Löst man dit Beter in einem erwärmten Lösungsmittel auf,so tritt teilweise Sereetiung der Diazoverbindungen ein. Geeignete Lösungsmittel sind beispielsweise Äthylenglykolmonenethylather, Äthylenglykolmonoäthyläther, allphatieohe Beter wie Butylacetat, aliphatische !•tont wit Methyl-Iaobutyl-Keton und Aceton,Dioxan und Xylol·

Zur Herstellung der lichtempfindlichen Schichten werden die Naphthochinon-(1.2)-diazid-sulfonsäureeeter allein oder ale Gtmisch gebraucht. Sie können auf die Unterlagen auoh im Verein mit anderen,als fUr Druck» plattenherstellung brauchbar bekannten, o-Chinon-diazideulfoneäureeetern aufgetragen werden. Die Schichtbildung wird auf Übliche Weise vorgenommen, indem man die B«achiohtungelöeungen, welche die Sulfonsäureester enthalten, auf die Unterlagen aufschliudert, aufbürstet, oder aufgieeet oder auf andere geeignete »»eise aufbringt und dann den überzug trocknet.

Die von den Naphthochinon-(1.2)-diazid-eulfoneäureeetern gebildeten Schichten zeigen keine Krietalliaationeerscheinungen und sind daher aueeergewihnlioh gut für die photomechanische Herstellung von Druckplatten und Photoreetbildflachen geeignet. Eine Druokplatte erhält man auf photomechanieehern V<ege aus dem lichtempfindlichen Material in bekannter Weise, indem die lichtempfindliche Schicht unter einer Vorlage der Einwirkung von Licht ausgesetzt und die belichtete Schicht zwecks Herstellung einen Bildes mit einer verdttnnten alkalischen Lösung entwickelt wird. Die ent-

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wickelte Schicht wird mit Wasser gespült und an den vom Entwickler freigelegten Stellen wird die Metallunterlage wasserführend gemacht durch Behandlung mit einer etwa einprozentigen Phosphoreäurelöeung, der man Dextrin oder Gummiarabicum zusetzen kann. Beim Einfärben der Druckplatte mit fetter Farbe bleibt die Farbe an den zurückgebliebenen Teilen der ursprünglichen lichtempfindlichen Schicht haften und nan erhält Ton positiven Vorlagen positive Kopien,

Soll das lichtempfindliche Material als Photorestbildfläche verwendet werden, wird der Metall-Schichtträger an den vom Entwickler freigelegten Stellen mit einer geeigneten Ätzlösung solange behandelt» bis die Metallunterlage im gewünschten Grade geätzt ist· Die geätzte Platte wird gespült und die noch verbliebene lichtempfindliche Schicht gegebenenfalls entfernt« beispielsweise durch Behandlung mit einem der organischen Lösungsmittel» die weiter oben als für die Herstellung der lichtempfindlichen Schichten brauchbar genannt sind.

Auaser den Naphthochinone(1.2)-diazid-sulfoneäureestern enthält die lichtempfindliche Schicht vorteilhaft ein alkalilösliches Harz. Beispiel· solcher Harze sind die Phenol- oder Kreeol-Formaldehyd-Novolake. Selbst kleine Beigaben sind günstig. Wenn aber hochätzfeste Schichten zur Erzeugung von Photorestbildfläschen hergestellt werden sollen, kann man die lichtempfindlichen Verbindungen mit den alkalilöslichen Harzen mischen im Gewichts-Verhältnis 1 ι bis 1 ι 6, berechnet nach der Menge vorhandener lichtempfindlicher Substanz. Die notwendige Ätzwiderstandefähigkeit erfordert einen hohen Prozentgehalt Har« und gleichzeitig müssen in der Schicht beträchtliche

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Mengen an lichtempfindlicher Verbindung vorhanden sein, um deren leichte Entwicklung Bioherzueteilen. Daher werden, wae ihre Löslichkeit und Harzverträglichkeit anbetrifft» sehr hohe Anforderungen an die lichtempfindlichen ^erbindungen gestellt. Diesen Anforderungen entsprechen die lichtempfindlichen Verbindungen, die bei der Erfindung verwendet werden.

Auf Grund ihrer besonderen chemischen Struktur ▼erhalten sich die bei der Erfindung verwendeten lichtempfindlichen Verbindungen besondere günstig in bezug auf ihre löslichkeit in organischen Lösungsmitteln bei normaler Temperatur und auf ihre Verträglichkeit mit grossen Harzmengen· Diese Vorzüge erleichtern die Herstellung homogener hochätzfester Schichten mit hervorragender Eignung für die Herstellung von Hochdruok- und Tiefdruckplatten, sowie von Photorestbildflächen. Im Gegensatz zu dem umständlicheren, mit Pigmentpapier arbeitenden Transfer-Verfahren können die erfindungagemäss zusammengesetzten Schichten direkt auf die Metalle aufgetragen werden, die geätzt werden sollen, nämlich Platten oder Cylinder (Walzen). Dank des Umstände·, dass positive Kopien erzeugt werden, wird das Druckverfahren weiter vereinfacht, wogegen Pigmentpapier nur zur Erzeugung negativer Kopien geeignet ist.

Die lichtempfindlichen Sohiohten können auch Plastifizierungsmittel enthalten, die sich mit den Harzen vertragen, beispielsweise Dioctylphthalat, Dlbutylphthalat oder Mineralöl. Die Mitverwendung von Plastifizierungsmitteln in der Schicht ist jedoch beliebig und nicht unbedingt erforderlich. Auch Farbstoffe können in den Schichten enthalten sein, um diese

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und die entwickelten bilder besser sichtbar zu machen.

Die erfindungsgemässen Schicht-Zusatzstoffe müssen alkalibeetändige, filmbildende Stoffe sein. Sie sind filmbildend im Sinne der. Erfindung» wenn sie ohne andere filmbildende Stoffe und ohne dass weitere Polymerisation, beispielsweise durch Härten, erforderlich ist, aus dem geschmolzenen oder gelösten Zustand zu einem kontinuierlichen Film vergossen werden können. Sie gelten als alkalibeständig, wenn sie in form eineu trocknen 2,5 χ 10" *ineh dicken Films einer 10 Minuten dauernden Behandlung mit 4/10 normaler Kalilauge, vorzugsweise normaler Kalilauge, widerstehen, ohne dass sie für das unbewaffnete Auge wahrnehmbar angegriffen werden. Das Vorhandensein von Widerstandsfähigkeit gegen Säure wird ebenfalls dort bevorzugt, wo saure Atzlösungen verwendet werden aollen. Auch das sind brauchbare Zusatzstoffe, die durch eine 10-Mlnuten -Belichtung mit der Lichtintensität von 2000 Fcotp mit v/ellenlangen von etwa 3000 bis 5000 Angstrom , das ist der Lichtempfindlichkeitöbereich der hler benutzten Photosensibilisatorer^ Ausserdem müssen erfindungsgemässe Zusatzstoffe fähig sein, nach dem Giessen innerhalb von etwa 10 Minuten bei 100° C einen nicht klebrigen trocknen Film zu bilden, müssen mit den verwendeten Pho^sensibilisatoren verträglich sein, das heisst, sich damit mischen, ohne dass Ausscheidung und chemische Reaktion eintritt und zwar weder in dem flüssigen Besehichtungsgemisch noch in dem trocknen Film. Sie müssen ein Molekulargewicht zwischen etwa 500 und 12 000 besitzen.

Die Menge des in den lichtempfindlichen Beschich*ungsgemischen verwendeten Zusatzstoffes kann erheblich variiert werden. Kleine Mengen verbessern di· resultierenden Schichten und mit steigenden Mengen

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zeigt sich annehmende Verbesserung, bis die Entwicklung erschwert wird· Msngen aufwärts bis annähernd zu dem Gew4: Gewicht der festen alkalilöBlichen Stoffe, also von Photo-Seneibllisator und Movolak, sind zulässig. Bei so hohen Mengen von Zusatzstoffen werden durch die Entwicklung Zsrsstsungsprodukte des Photoseneibilisators und Movolak entfernt, aber ader Zusatzstoff als porOaer, zerbreohlicher Film zurückgelassen, der abgsbürstet oder abgerieben werden kann, ohne dass unbelichtete Schichtteile entfernt werden. Kleinere Mengen, im allgemeinen weniger ale die Hälfte des Gewlohtes dsr festen, alkalilöslichen Stoffe, werden bevorzugtt «is in den nachfolgenden Beispielen gezeigt wird· Die bevorzugten Mengen werden von dem Entwickler in den beilohteten Bereichen beseitigt,ohne dass unbellchtete Sohlchtberelehe mitentfernt werden. Die LÖBungemittelmenge des Beschichtungsgemischs kann ebenfalls nach Wunsch verändert werden.

Das folgende spezielle Beispiel dient der weiteren Erläuterung der Erfindung.

Man stellt eine lichtempfindliche Beschichtungslösung von folgender Zusammensetzung herι

Ithylenglykolmonomethyläther (99#ig) 168,0 Liter

alkalilöeliches Phenolformaldehyd-

Hovolakharz 21,0 kg

Peetee Mlschpolymerieat mit
25*35 Gew.-Prozent ^ -Methylstyrol und 75-65 Gew.-Proζent Vinyltoluol

nach US P 3 000 868 8,4 kg

Butylaoetat (90 bis 92%ig) 21.0 Liter Xylol 21.0 Liter

öllösliohes Blau II 1.06 kg

Sensibilisator der nachatehenden

formell 6,3 kg

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O- » -Γ

N₂

Diese Beschichtungslöeung trägt man mittels einer Plattenschieber, die mit 78 Umdrehungen pro Minute rotiert« auf einen mehrschichtigen Schichtträger muff beispielsweise ein mit einer Kupferfolie (Gewichtι 1 Ounce je Quadratfuss) kaschiertes Epoxypapier. Die lichtempfindliche Beschichtungelösung wird im Drthraittel^punkt auf die sich drehende Folie aufgetragen und die Drehbewegung wird 5 Minuten fortgesetzt· Mit Hilfe eines im ungefähren Abstand von 15 cm Über dem Drehmittelpunkt angeordneten Infrarotstrahiere von 230 Watt wird der Überzug getrocknet. Dann bringt man die beschichtete Unterlage 15 Minuten lang in einen 150° C warmen Umlauftrockenofen, um die Trocknung «u vervollständigen.

Die unter Ausschluss von aktivierender Strahlung hergestellte Schicht wird dann etwa 2 1/2 Minuten unter einer positiven oder negativen transparenten Vorlage mittels eines KohlenstoffIichtbogene mit der Lichtstärke von 2000 Kerzen im Abstand von einem iuse (2000 foot candled belichtet. Die belichtete Schient entwickelt man mit einem alkalischen Entwickler, beispielsweise 1/4-normaler Lösung von Natrluahydroyd oder $v&ite**4«B?he9fe«t Trinatriumphosphat oder Dinatriuaphosphat oder Triethanolamin, durch Eintauchen in den Entwickler oder durch Uberwischen mit dem Entwickler· Bei Anwendung der Tauchentwicklung taucht man die

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belichtete Schicht etwa 1 1/2 Minute in die etwa 20° C wärme Entwicklerlöeung ein.

Verfährt man,wie vorstehend beschrieben, erhält man eine Schichtdicke von etwa 70 Millionenstell inch

.( 70 inch). Dagegen beträgt bei einer unter Weg-1 000 000

laseung der Polyvinylverbindung hergestellten, sonst aber gleich zusammengesetzten Schicht die Dicke etwa 45 Millionenstell inch ( 45 <_nrtM

1 Ooö ÖÖÖ ^lncn'·

Die entwickelte Folie kann als Druckplatte oder Klischee gebraucht werden oder kann bei Ätz- oder Plattierungs-Arbeiten Verwendung finden, bei denen die Schicht ala Ätz-Photoreetbildflache dient. Die Kupferunterlage kann beispielsweise 5 bis 10 Minuten mit Eisen ^III-ohloridlösung von 42 ° Be geätzt werden. Nach dem Ätzen wird die Platte gespült und die noch verbliebene lichtempfindliche Schicht durch Behandlung mit einem geeigneten organischen Lösungsmittel entfernt·

Weitere Beispiele werden in der folgenden Tabelle angeben, in die Beispiel 1 zum Vergleich eingeschlossen ist.

Mischung

1. Sensibiliaierungsmittel (a) in kg 6.

2. Novolak(a) in kg 21

3. Farbstoff(a)in kg 1,

4. Butylacetat,in L·^ 21

5. Xylol, in I4*«*, 21

6. Äthylenglykolmonomethylather,

in iü*^ 168 168 150 150 150

Tabelle	10	Beispiel	3	9	4	.7	5	6
	35		9.45	31	.45		9.45	9.45
1	1	.6	31.5	-	.5		31.5	31.5
.3	21	.4	-			-	-
	21	.8	18.7		18.7	18,7	18.7
.06			18.7	18	18.7	18.7

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ORIGINAL INSPECTED

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ι a 4 ν y ί y

	210	250	150	5.55	5.55
70	120	100	100	200	150
45			100	100

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7.Zusatzstoff

of- Methylstyrol-Mischpolymerisat

(a) in kg 8,4 - 11.1

Polystyrol(b)

in kg 8,4 -

Melamin(c)in kg - 6.9 6.9 6,9

Sucrosebenzoat
(Benzoylsaccharose)

(d),in kg

.(ΧΙ
Dieke(Stärke) der

Schicht

bei Beispiel

bei Kontrollversuch

(a) wie in Beispiel 1

(b) Molekulargewicht etwa 5000,

(c) Polymeres Reaktionsprodukt aus Melamin, Formaldehyd und Butylalkohol gem. Product Information Bulletin Ho, 1094 z.B. dos unter der Bezeichnung "Resimene 882" im Handel erhältliche Produkt

(d) C₁₂H₁₄O₅ (C₆H₅COO) 7,4 (Durchschnitt) ist im Handel

erhältlicheβ Produkt.

(e) Inches χ 10 , aufgetragen wie in Beispiel 1 beschrieben. Unter "Kontrollversuch" wurde die Schichtetärke angegeben, die nach dem gleichen Verfahren erzielt wurde, wenn man den Zusatzstoff wegliees.

Ein weiterer Zusatzstoff, der anstelle des in den Beispielen 3- 5 genannten Melaminharze» beigefügt werden kann, ist das Reaktionsprodukt aus Benzoguanamin-(2,4-diamino-6-phenyltriazin-1,3,5)» Formaldehyd und Butylalkohol, hergestellt nach von der Firma Tennessee Products and Chemical Corporation Nashville, Tennessee, veröffentlichten Verfahren, üenzoguanamin ist ein substitutiertes Melamin, in dem eine Melaminamino-gruppe durch eine Phenylgruppe ersetzt 1st. Seine

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Reaktionen und harzartigen Produkte entsprechen im allgemeinen denen dee Melanine. Ee iat bekannt, dass sowohl bei Melaminharzen als auch bei Benzoguanaminharzen andere niedere einwertige AlkylaikohoIe anstelle dee Butylalkohole ▼erwandt werden könnenj Butylalkohol wird bevorzugt.

Die erfindungsgemäss« hergestellten lichtempfindlichen Schichten sind nicht nur dicker und widerstandsfähiger , sondern auch billiger je Einheit Schichtstarke» da der Anteil des relatiT teuren Photosensibilleators geringer iat· Ausserdem lassen sich die Schichten k leichter fehlerlos auftragen, besonders als Schut«schichten beim Ätzen, und die aufgetragenen Schichten sind biegsamer. Sie können schneller und sauberer entwickelt werden mit Entwicklern von höheren pH-Werten, sind weniger empfindlich für Schwankungen der Temperatur und der Einwirkungβzeit des Entwicklers, und ergeben glattere, härtere Schichten _mj.t verbesserter Wärmestabilität. Dadurch kann das erfindungsgemässe lichtempfindliche Material zwar gut für die Herstellung ▼on Flachdruckplatten und ähnlichen Materialien verwendet werden, bietet jedoch besondere Vorteile bei der Herstellung von Photorestbildfläohen (photoresists) fttr Metallplatte.erungen oder für das Ätzen von Metall, keramischen Gegenständen oder Kunststoffen, und kann bei ohemieohen Fräsverfahren und bei der Herstellung ▼on Photohalbleitern und lichtkopierten Schaltungen Anwendung finden.

Für den Fachmann ist leicht erkennbar, dass die Erfindung vielen Modifikationen zugänglich ist. Die Patentansprüche richten sich auch auf diese im Bereich der Erfindung liegenden Modifikationen.

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Claims

- 12 7 1-112 7*De»eaber ItM.

1.) Beschlehtungegeeieeh aur Herstellung τοη alkall e«h ent wirtel* baren llohtempflndliehen 3chientea_eIn de« eiih tin YapbthMhin·»·»' (1.2)-di*aid-eulfoaelureeater «le PheteBeaal»llleat«r la fltaaiger Dispersion befiele t,dadureh gekenn8eiohn«t_#da·· da· O*mie«a «ir Erhöhung der Di eke, der ehemieehen wideretaadeflhlgkelt «ad Glekrlsohen Widerstand·· der 8 eh loht Mittel eat*llt_#dle olektrisoh lBtllerende»_ffieliildenden Steff eathaltea eder mi· lbs beetehea.der alkaliWetaadig und gegen Lieht la dee W^lltabereleh τοπ 3000 bis 5000 Angetrla praktieeh tuteapflBdlloa iet_#einea nlehtkli»brlg«n,treoken#n FilK innerhalV τ·η 10 lUnuten Wl 100*0 bildet,eUh Bit den Beetandteilen des liehteepflndllehe« BeiehiehtungsgpaleehiTerträet und deeeeo Juolekulargewleht swiealMa 600 und 12000 liegt,wobei da« Qenl««h oieh beeeadere soai Oebraueh «1« Reetblldfläehe bei* Blektreplattieren uad UetaOlitami elgaet. 2«) Besohiohtungegeaieeh »aoh Anapru«h l,dadureh gekenn«ei«hnet, dass auch alkalilieliehe Herelake darla enthalten elnd« ?·) :^ochiehtungegeinl8oh naoh Anepnieh 1« dadurah gekenaselehnet, dan ο die l&mge der la lha anwerbenden alkalibeetledigeÄ.praktieeh 11 ohtuneepfindliehen,filebildenden Mittel gewiehteaieelc nloht grAPser 1st «le die Tienge de« alkalllleliehen TeetaUffgehalta· 4») BeBahlehtung*eealeeh naeh Anapruch l,dadMreh gekeaaMi«haet, das« dl· Menge de· alkali Hell ehen 7eeteteffgehalt· de· 0eala«h· gewlohtmAaelg wenlgeteae «welaal ·· gross let wi· dl· lleag· der in that aavresttideB «lkallbeatindlgen,praktieeh ll«httta«apfladll«h«n, f Umbilden den Lütt el.

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7.Deaember 1964.

8«) Seeehlahtungegemleoh nach Anspruch l*4₉dadureh ge kenn ie lohnet, «a·· al· alkaUbeetlndigee.praktieoh 1 Uh tuneepflndl lohe β, filmbildend··* Kittel Feljretjrrel oder drs polynero Rttaktlenepredukt aus Uel«tU»7emallehyd und niedrig aelekularea einwertigem »der Am p«lya«r· RtaktUnspieiWtt «us BenMgnaaanln, und niedrig Bolokulares «iawtrtige« Alkaael tder 9««r*fefcttts«at darin «nihalt·· ist.

β,) Llahi«atfUdll«he· Mat·rial «it YweraAerer ^i^ung fftr den 0«>r«Mk al· Ph«i«r«ttUldfllohe_tg«ik«nnieithnst durofc ein· Unter·· lage₉die auf wenigsten· einer ihrer Otorfliehen nit einer treake·» ^; nen Sehieht »ehaftet let,la der enthalten sind (a) als ?hetO3*nelbi11eater Maphtheehine«-(1.2)-dia«id-Bulfon8äurooater, (b) alkalillellahe· IaVtIeJc-HaYB und (>e) ala 'littoi sur Steigerung Ton Dleke, ahealaaher Widerstandefähigkeit und eloktrleehem Widerstand der Sehioht lUttel,welehe elektrisoh ld*lierende,flla»ildende 3teffo ' sind und AlkalibeatlndlelMlt.praktUeh vtlletlndige Une»pfiadliehkelt gegen Lieht des Wellenbereiohe ven 3000 bis 500C AngetrlM, Einigkeit nur Bildung elnee nlehtia«brlgen_;treekAnen Pllae inner*, halb ven 10 Minuten bei 1OO°C beeltaea.nlt de« Phetpeenelbllieie· rungegeaieeh el eh vettragen und bielekulargewiahte Tea 500 He 13000 haben.

V.) LithttapfUdlleh·· linterial naeh Aneprueh 6₉dadurah gekennteitn* net «da·· die. lltnge Aar in der Sehieht anwee^nden alkallbeettedigen_f praktisch liehtunen»findlloh«n,filnbildena«i Kittel geviehttaietlg al«ht grfeter 1st ale die Uenge dee alkali Hell ohm 7*eteteffgehalt·.

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JMIiOtPlO OA3

T 1-113 7. dumber 1964.

8·) Lichtempfindliehes JCnfcerlal nach Anspruoh 6,'u'luroh gekenn«¹ ■eiöhaot,daü3 die Hange den alkal11(101 lchen Povh^toffgehalt· der Hohlclit getflclite«A**ig wenigstens xrolnal no ßroen 1st wie die Uenge der In ihr anwesenden alkallb«J!tanAlßMi,prakt.leeh liohtunempflndliohen_f filmbildenden 111UeI.

9·) Lichtempfindliches Material nach Anspruch e-Ö,daduroh gekennielohnet,dasB als alkalibeetäudlgea.praktUah Ii oh tunempfindliches,filmblldendee Mittel Pslystyrel oder das polyaere Reaktionepredukt aus l£ela«in_fPor»aldthyd und niedrig molekularem einwertig·« Alk an el oder da· pelymere Reaktloneprodukt aus Benso. guanajnin>7«raaldehjrd und niedrig molekulare« einwertig·« Alkanol oder SUqreeebemoat in der Schicht enthalten 1st* 10«) Verfahren sur Herstellung einer Fhutorestblldfliohe (photeresiit),daduroh gekennielohnet,dass «an lichtempfindliches Material nach den Ansyrflehen 6*9 unter einer Verlage belloh··t und die belichtete Schioht «lt einer echwaohalkalleohen Ent« wieklerlÖBung behandelt und daduroh die belichteten Teile der SohiOAt unter Stehenlassen der nloht belichteten Teile entfernt·

flr 3hipley Oesyany^Inc.

Patentanwalt

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