NL141663B - Werkwijze ter bereiding van een lichtgevoelige bekledingssamenstelling en voorwerpen, vervaardigd onder toepassing van de aldus bereide lichtgevoelige samenstelling. - Google Patents

Werkwijze ter bereiding van een lichtgevoelige bekledingssamenstelling en voorwerpen, vervaardigd onder toepassing van de aldus bereide lichtgevoelige samenstelling.

Info

Publication number
NL141663B
NL141663B NL646414326A NL6414326A NL141663B NL 141663 B NL141663 B NL 141663B NL 646414326 A NL646414326 A NL 646414326A NL 6414326 A NL6414326 A NL 6414326A NL 141663 B NL141663 B NL 141663B
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
light
sensitive
preparing
manufactured
objects
Prior art date
Application number
NL646414326A
Other languages
English (en)
Other versions
NL6414326A (nl
Original Assignee
Shipley Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shipley Co filed Critical Shipley Co
Publication of NL6414326A publication Critical patent/NL6414326A/xx
Publication of NL141663B publication Critical patent/NL141663B/nl

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02—Local etching
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/022—Quinonediazides
    • G03F7/023—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
    • G03F7/0233—Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binders or the macromolecular additives other than the macromolecular quinonediazides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
NL646414326A 1963-12-09 1964-12-09 Werkwijze ter bereiding van een lichtgevoelige bekledingssamenstelling en voorwerpen, vervaardigd onder toepassing van de aldus bereide lichtgevoelige samenstelling. NL141663B (nl)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US32927863A 1963-12-09 1963-12-09
US413286A US3402044A (en) 1963-12-09 1964-11-23 Light-sensitive naphthoquinone diazide composition and material containing an alkali insoluble polymer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
NL6414326A NL6414326A (nl) 1965-06-10
NL141663B true NL141663B (nl) 1974-03-15

Family

ID=26986723

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL646414326A NL141663B (nl) 1963-12-09 1964-12-09 Werkwijze ter bereiding van een lichtgevoelige bekledingssamenstelling en voorwerpen, vervaardigd onder toepassing van de aldus bereide lichtgevoelige samenstelling.

Country Status (6)

Country Link
US (1) US3402044A (nl)
BE (1) BE656742A (nl)
CA (1) CA774047A (nl)
DE (1) DE1447919C3 (nl)
GB (1) GB1078105A (nl)
NL (1) NL141663B (nl)

Families Citing this family (48)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3634082A (en) * 1967-07-07 1972-01-11 Shipley Co Light-sensitive naphthoquinone diazide composition containing a polyvinyl ether
US3523223A (en) * 1967-11-01 1970-08-04 Texas Instruments Inc Metal-semiconductor diodes having high breakdown voltage and low leakage and method of manufacturing
US3637384A (en) * 1969-02-17 1972-01-25 Gaf Corp Positive-working diazo-oxide terpolymer photoresists
US4544619A (en) * 1970-03-03 1985-10-01 Shipley Company Inc. Photosensitive laminate
US4530896A (en) * 1970-03-03 1985-07-23 Shipley Company Inc. Photosensitive laminate
US3661582A (en) * 1970-03-23 1972-05-09 Western Electric Co Additives to positive photoresists which increase the sensitivity thereof
US3772016A (en) * 1973-01-30 1973-11-13 Ibm Method of producing multicolor planographic printing surface
US3950173A (en) * 1973-02-12 1976-04-13 Rca Corporation Electron beam recording article with o-quinone diazide compound
US3852771A (en) * 1973-02-12 1974-12-03 Rca Corp Electron beam recording process
US4036644A (en) * 1973-03-16 1977-07-19 International Business Machines Corporation Photoresist process and photosensitive O-quinone diazide article with aliphatic carboxylic acid as adhesion promotor
US4196003A (en) * 1974-02-01 1980-04-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Light-sensitive o-quinone diazide copying composition
US4174222A (en) * 1975-05-24 1979-11-13 Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha Positive-type O-quinone diazide containing photoresist compositions
GB1571682A (en) * 1976-01-26 1980-07-16 Vickers Ltd Printing plates
US4148654A (en) * 1976-07-22 1979-04-10 Oddi Michael J Positive acting photoresist comprising diazide ester, novolak resin and rosin
US4102686A (en) * 1977-02-25 1978-07-25 Polychrome Corporation Lithographic photosensitive compositions comprising acrylonitrile-butadiene-styrene terpolymer and novolak resin
CA1120763A (en) * 1977-11-23 1982-03-30 James A. Carothers Enhancement of resist development
US4268602A (en) * 1978-12-05 1981-05-19 Toray Industries, Ltd. Photosensitive O-quinone diazide containing composition
US4376815A (en) * 1979-10-22 1983-03-15 Oddi Michael J Method of applying photoresist by screening in the formation of printed circuits
DE3040156A1 (de) * 1980-10-24 1982-06-03 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch und damit hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
NL8101200A (nl) * 1981-03-12 1982-10-01 Philips Nv Werkwijze voor het aanbrengen van een resistmateriaal op een drager en resist-materiaal.
US4499171A (en) * 1982-04-20 1985-02-12 Japan Synthetic Rubber Co., Ltd. Positive type photosensitive resin composition with at least two o-quinone diazides
JPS58205147A (ja) * 1982-05-25 1983-11-30 Sumitomo Chem Co Ltd ポジ型フオトレジスト組成物
DE3220816A1 (de) * 1982-06-03 1983-12-08 Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt Lichtempfindliche komponenten fuer positiv arbeitende fotoresistmaterialien
US5084372A (en) * 1982-12-09 1992-01-28 Hoechst Celanese Corporation Process for preparing photographic elements utilizing light-sensitive layer containing cyclical acid amide thermo-crosslinking compound
DE3246037A1 (de) * 1982-12-09 1984-06-14 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung einer druckform aus dem kopiermaterial
DE3325022A1 (de) * 1983-07-11 1985-01-24 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur herstellung negativer kopien mittels eines materials auf basis von 1,2-chinondiaziden
EP0136110A3 (en) * 1983-08-30 1986-05-28 Mitsubishi Kasei Corporation Positive photosensitive compositions useful as photoresists
US4857435A (en) * 1983-11-01 1989-08-15 Hoechst Celanese Corporation Positive photoresist thermally stable compositions and elements having deep UV response with maleimide copolymer
US5059513A (en) * 1983-11-01 1991-10-22 Hoechst Celanese Corporation Photochemical image process of positive photoresist element with maleimide copolymer
US4902770A (en) * 1984-03-06 1990-02-20 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Undercoating material for photosensitive resins
JPS60220931A (ja) * 1984-03-06 1985-11-05 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂用下地材料
DK241885A (da) * 1984-06-01 1985-12-02 Rohm & Haas Fotosensible belaegningssammensaetninger, termisk stabile belaegninger fremstillet deraf og anvendelse af saadanne belaegninger til dannelse af termisk stabile polymerbilleder
US4596763A (en) * 1984-10-01 1986-06-24 American Hoechst Corporation Positive photoresist processing with mid U-V range exposure
JPS61141441A (ja) * 1984-12-14 1986-06-28 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ポジ型ホトレジスト組成物
JPS62102241A (ja) * 1985-10-30 1987-05-12 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性組成物
US4720445A (en) * 1986-02-18 1988-01-19 Allied Corporation Copolymers from maleimide and aliphatic vinyl ethers and esters used in positive photoresist
US4737437A (en) * 1986-03-27 1988-04-12 East Shore Chemical Co. Light sensitive diazo compound, composition and method of making the composition
DE3634371A1 (de) * 1986-10-09 1988-04-21 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
DE3711263A1 (de) * 1987-04-03 1988-10-13 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung von druckformen
DE3711264A1 (de) * 1987-04-03 1988-10-13 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch und hieraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial
DE3725949A1 (de) * 1987-08-05 1989-02-16 Hoechst Ag Lichtempfindliches gemisch, daraus hergestelltes lichtempfindliches kopiermaterial und verfahren zur herstellung von negativen reliefkopien
US5075194A (en) * 1990-01-09 1991-12-24 Industrial Technology Research Institute Positive photoresist composition containing 4,4-diester, 4,5-diester, or 5,5-diester of spiroglycol and 1-oxo-2-diazonaphthalene-5-sulfonic acid chloride
US5458921A (en) 1994-10-11 1995-10-17 Morton International, Inc. Solvent system for forming films of photoimageable compositions
US5645970A (en) * 1995-10-25 1997-07-08 Industrial Technology Research Institute Weak base developable positive photoresist composition containing quinonediazide compound
US7285422B1 (en) 1997-01-23 2007-10-23 Sequenom, Inc. Systems and methods for preparing and analyzing low volume analyte array elements
EP1332000B1 (en) 2000-10-30 2012-06-20 Sequenom, Inc. Method for delivery of submicroliter volumes onto a substrate
WO2009039122A2 (en) 2007-09-17 2009-03-26 Sequenom, Inc. Integrated robotic sample transfer device
US9698014B2 (en) * 2014-07-30 2017-07-04 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Photoresist composition to reduce photoresist pattern collapse

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA602980A (en) * 1960-08-09 Azoplate Corporation Presensitized lithographic printing plate
NL80569C (nl) * 1949-07-23
NL199728A (nl) * 1954-08-20
BE564617A (nl) * 1957-02-07
NL247939A (nl) * 1959-02-04
NL254306A (nl) * 1959-08-07
NL130926C (nl) * 1959-09-04
US3149972A (en) * 1960-08-16 1964-09-22 Gen Aniline & Film Corp Diazo and resinous coupler printing plates for photomechanical reproduction

Also Published As

Publication number Publication date
DE1447919A1 (de) 1969-10-16
GB1078105A (en) 1967-08-02
DE1447919C3 (de) 1975-07-31
CA774047A (en) 1967-12-19
NL6414326A (nl) 1965-06-10
DE1447919B2 (de) 1974-12-12
US3402044A (en) 1968-09-17
BE656742A (nl) 1965-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL141663B (nl) Werkwijze ter bereiding van een lichtgevoelige bekledingssamenstelling en voorwerpen, vervaardigd onder toepassing van de aldus bereide lichtgevoelige samenstelling.
NL138954B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een in water oplosbaar, verknoopt, kationisch polymeer.
NL150500B (nl) Werkwijze ter bereiding van een verfsamenstelling.
NL143795B (nl) Werkwijze ter bereiding van een preparaat met herbicide eigenschappen.
NL141237B (nl) Werkwijze ter bereiding van een vloeibaar bekledingspreparaat.
NL160583C (nl) Werkwijze ter bereiding van een boenwaspreparaat.
NL158480B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een preparaat met sympathomimetische werking op basis van een aan de aminogroep gesubstitueerde aminomethyl-(3,4-dihydroxyfenyl)carbinol, gedoseerd preparaat alsmede verkregen voor de bereiding van de actieve verbindingen.
NL148330B (nl) Werkwijze ter bereiding van verknoopte copolymeerparels.
NL149147B (nl) Werkwijze ter bereiding van 5-alkylideenbicyclo (2,2,1)hept-2-enen.
NL162400B (nl) Werkwijze ter bereiding van vormmaterialen, alsmede onder toepassing hiervan vervaardigde voorwerpen.
NL6502021A (nl) Werkwijze ter bereiding van een thermohardende vormsamenstelling en voorwerpen vervaardigd met behulp van de aldus bereide vormsamenstelling
NL166913C (nl) Werkwijze ter bereiding van een gemengd metaaloxide, alsmede voorwerp vervaardigd met toepassing van deze werkwijze bereid gemengd metaaloxide.
NL145244B (nl) Werkwijze ter bereiding van een siloxan.
NL156574B (nl) Werkwijze ter bereiding van herbicide middelen.
NL139442B (nl) Werkwijze ter bereiding van een bestrijdingsmiddel.
NL163516C (nl) Werkwijze ter bereiding van gesilyleerde alfa-amino- penicillineverbindingen respectievelijk de overeen- komstige alfa-aminopenicillineverbindingen.
NL141567B (nl) Werkwijze ter bereiding van een bekledingsmateriaal.
NL165448C (nl) Werkwijze voor het bereiden van een 1,1,1,3,3,3-hexa- halogeenisopropyl-methylether.
NL156162B (nl) Werkwijze voor het bereiden van een copolymeer.
NL151053B (nl) Werkwijze voor de bereiding van cyclododecatrieen-(1,5,9).
NL144959B (nl) Werkwijze voor het bereiden van hardbare boorhoudende kunstharsen, en aldus verkregen voorwerpen.
NL151695B (nl) Werkwijze ter bereiding van alfa,beta-dichloorpropionitrile.
NL142010B (nl) Werkwijze ter vervaardiging van een spanningsafhankelijke weerstand, alsmede spanningsafhankelijke weerstand vervaardigd volgens deze werkwijze.
NL160475C (nl) Werkwijze ter bereiding van een herbicide preparaat en werkwijze ter bereiding van gesubstitueerde s-triazinen met herbicide werking.
NL138918B (nl) Werkwijze ter bereiding van een preparaat met herbicide werking.

Legal Events

Date Code Title Description
V1 Lapsed because of non-payment of the annual fee
NL80 Abbreviated name of patent owner mentioned of already nullified patent

Owner name: SHIPLEY