DE1522459A1

DE1522459A1 - Material und Verfahren zur Herstellung von Druckformen

Info

Publication number: DE1522459A1
Application number: DE19671522459
Authority: DE
Inventors: Delzenne Dr Gerard Albert; Laridon Urbain Leopold; Verelst Ir Johan Lodewijk
Original assignee: Agfa Gevaert AG
Current assignee: Agfa Gevaert AG
Priority date: 1966-02-28
Filing date: 1967-02-24
Publication date: 1969-09-11
Also published as: GB1116737A; FR1511334A; NL6701698A; BE694652A; US3494767A

Description

AGFA-GEVAERTAG ₂

PATENTABTEILUNa

LEVERKUSEN

Gs/Stf 16. Dezember 1968

Material und Verfahren zur Herstellung von

Druckformen

Die Erfindung betrifft lichtempfindliche Verbindungen und Schichten für Aufzeichnungsmaterialien, insbesondere für solche Materialien,- die sich zur Herstellung von Positivkopien eignen.

Es ist bekannt^ durch gerbende Behandlung von Kolloidschichten, die durch Licht härtbare Substanzen enthalten, Bilder zu erzeugen. Lichtempfindliche Substanzen dieser Art sind beispielsweise Salze der Chromsäure oder gewissen Diazoverbindungen. Die genannten Kolloidschichten eignen sich zur photochemischen Herstellung von Druckplatten. Nachteilig an diesen Platten ist, daß sie Druckformen liefern, die hinsichtlich der Vorlage negativ sind, so daß eine zusätzliche Behandlung notwendig ist, um zu positiven Druckformen zu gelangen. '

Aufgabe der Erfindung ist es, ein lichtempfindliches System zu beschreiben, das die Herstellung direkt-positiver Bilder oder Druckplatten ermöglicht.

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Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß man von einem aus Schichtträger und lichtempfindlicher Pchichi bestehenden Aufzeichnungsmaterial ausgeht, dessen Schicht dadurch gekennzeichnet ist, daß sie wenigstens eine Bis-o-chinondiazoverbindungen der Formel

XX

I I

enthält, in der

R eine Methylengruppe, eine mit Alkyl, Dialkyl oder Aryl substituierte Methylengruppe, eine Sulfongruppe oder cycloaliphatische Gruppe darstellt und

X Wasserstoff, Halogen, einen niederen Alkylrest oder eine Nitrogruppe bedeutet.

Die Gruppe ¹^Np" kann in den hier beschriebenen Verbindungen in den Formen "=N=N"und "-N=N" vorliegen.

Die lichtempfindlichen Schichten enthalten im allgemeinen ein Polymeres, vorzugsweise ein alkalilösliches Polymeres. Als solche sind beispielsweise Mischpolymere von ungesättigten Carbonsäuren geeignet, wie etwa Acrylsäure, Methacrylsäure, Crotonsäure, Maleinsäure, Fumarsäure, Itaconsäur« und Citraconsäure. Weiter eignen sich ungesättigte Dicarbonsäuren, deren Halbester und Halbamide. Als zweite Poly-· merisationskomponente werden ungesättigte Athylenverοindungen verwendet, z.B. Styrol und seine Derivate, Vi iyi- chloridV Vinylidenchlorid, Vinylester wie Vinylacetat, .*cry!~

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säureester ι Methacrylsäureester, Acrylnitril, Methyacrylnitril usw.. Der Anteil der zuletztgenannten Verbindungen an Mischpolymerisat wird dabei so' gewählt, daß das Polymere alkalilöslich bleibt.

Als alkalilösliche Polymere bevorzugt werden die sogenannten Novolacke. Es sind dies bekanntlich lösliche, schmelzbare, nicht härtende aus einem Phenol und einem Aldehyd hergestellte synthetische Harze.

Die Menge des alkalilöslichen Harzes in der lichtempfindlichen Schicht ist nicht kritisch. Im allgemeinen soll jedoch wenigstens 1 Gewichtsteil alkalilösliches Harz für 4 Gewichtsteile der Chinondiasogruppen enthaltenden Verbindungen vorhanden sein.

Die lichtempfindliche Schicht kann außerdem geringe Mengen an Zusätzen enthalten,- beispielsweise solche, die die Lichtempfindlichkeit erhöhen oder auch Stabilisatoren, Weichmacher, Streckmittel, Farbstoffe und ähnliche Substanzen. Mit dem Ausdruck "lichtempfindliches System" soll im folgenden ein System bezeichnet werden, das außer den lichtempfindlichen Chinondiazogruppen enthaltenden Verbindungen alkalilösliche Polymere und andere Zusätze enthält. Die anschließende Liste enthält Beispiele für Bis(-o-chinondiazο)-Verbindungen, die zur Herstellung des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials geeignet sind.

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Bis(ö-diazo^,4-cyclohexadien-4-y1-1-on)-methan Bis(6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-yl-1-on)-pheny!methan Bis(2-brom.—6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-y1-1-on)-phenylmethan Bis(2-nitro-6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-y1-1-on)-phenylmethan 2,2-Bis(6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-y1-1-on)-propan 2,2-Bis(2-brom—6-diazc-2,4-cyclohexadien-4-y 1-1 -on) -propan 2,2-Bis-(2-chlor—6-diazo-2,4-cyclOhexadien-4-yl-1-on)-propan 2,2-Bis(2-nitro-6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-y1-1-on)-propan 2,2-Bis(2-methyl-6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-y1-1-on)-propan Bis(6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-y .1-1-on)-sulfon Bis(2-methyl-6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-y1-1-on)-sulfon Bis(2-brom<—-6-diazo-2 »4-cyclohexadien-4-yH-on)-sulfon 1,1-Bis(2-Methyl-6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-yl-i-onj-cyclo- .

hexan.

Die Verbindungen dieses Typs sind neu. Sie können durch Reaktion von Fatriumnitrit mit dem entsprechenden Diaminobisphenolchlorhydrat gelöst in Wasser hergestellt werden. Die Brom- und Chlorderivate erhält man durch Bromierungoder Chlorierung der nicht substituierten Bis(o-chinondiazo)-Verbindungen mit Brom oder mit Natriumhypochlorit in wäßriger Salzsäure.

IUx die Herstellung des erfindungsgemäßen Aufzeichnungsmaterials verwendet man eine Lösung der Phenolderivate gegebenenfalls . zusammen mit dem alkalilöslichen Polymeren in einem organischen Lösungsmittel oder in einer Mischung organischer Lösungsmittel und trägt diese Lösung auf einen geeigneten Schichtträger auf. Pur diesen Zweck eignen sich -beispielsweise Metallunterlagen oder andere Unterlagen, die mit Metall beschichtet sind. Pur Druckplatten vorzüglich geeignete Schichtträger bestehen

9 0 9-837/0551 / -, ___.,

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beispielsweise aus Zink und insbesondere aus Aluminium.' Eine besondere chemische Oberflächenbehandlung der Schichtträger ist nicht erforderlich. Falls die Haftung der Schicht verbessert werden soll, genügt es, die Oberfläche des Schichtträgers mechanisch aufzurauhen. Zur Herstellung pianographischer Druckplatten können auch Materialien wie Stein oder Glas oder auch speziell behandelte Folien aus Papier oder Plastik verwendet werden.

Die Beschichtung des Trägermaterials kann nach den üblichen Methoden erfolgen. Die Dicke der lichtempfindlichen Schichten soll zwischen o,5 und 20 /U, vorzugsweise zwischen 1 und 5 /U liegen.

Für die Belichtung der Schichten sind alle Lichtquellen geeignet, die einen wirksamen Anteil UV-Licht liefern. Als Beispiel?? ■ hierfür seien genannt Kohlelichtbogen-, Xenonlampen, Quecksilberdampflampen, Fluoreszenzlampen, Argonglühlampen, Photolampen oder Wolframlampen. .

Die erfindüngsgemäßen Schichten können sowohl im Kontak als auch optisch durch sogenannte Strich- oder Halbton-Positive oder -Negative belichtet werden, deren opake Bildteile von gleicher optischer Dichte sind. Die Chinondiazogruppen werden während der Belichtung vermutlich photolytisch in

O3 alkalilösliche Indencarbonsäurederivate umgewandelt.

ο """ ■ ' ■ ■ . "'.■■.'-■

co Für die Entwicklung bzw. die Entfernung der belichteten "** Schicht teile werden wäßrige Systeme und vorzugsweise alkao "

^ Ilsehe wäßrige Lösungen verwendet. Gut geeignet für diesen Zweck ist beispielsweise die wäßrige Lösung eines Alkaliphos- A-G 217 .■■■-■- 5 -■ .

BAD

phates wie etwa Natriumphosphat. Die erfindungsgemäßen Schichten bleiben auch bei Anwesenheit eines alkalilöslichen Polymeren an den unbelichteten Stellen im alkalischen Entwicklerbad unlöslich. Es entsteht also ein positives Bild der aufbelichteten Vorlage, aus dem sich naph einer der bekannten Methoden eine Druckform herstellen läßt. In gewissen Fällen kann es zweckmäßig sein, die freigelegten Stellen des Schichtträgers durch eine nachträgliche Behandlung stärker zu hydrophilieren. Hierfür eignet sich beispielsweise das in der britischen Patentschrift 946 538 beschriebenen Verfahren. Andererseits besteht auch die Möglichkeit, die hydrophoben tEigenschaften der nicht belichteten Schichtstellen zu verstärken, beispielsweise durch Aufbringen einer Lackschicht. Geeignete Lacke und deren Anwendung sind in der britischen Patentschrift 968 706 und in der belgischen Patentschrift 631 790 beschrieben.

Es gehört zu den besonderen Vorteilen des erfindungsgemäßen Verfahrens, daß sich die Chinondiazogruppen enthaltenden Verbindungen aus billigen Ausgangsmaterialien sehr einfach synthetisieren lassen. Darüber hinaus kann die Löslichkeit des lichtempfindlichen Systems und auch das Lösungsmittel selbst dem schließlichen Verwendungszweck des Aufzeichnungsmaterials sehr leicht angepaßt werden.

Beispiel 1

In einen 250 ccm-Kolben mit Rührer, Tropftrichter, Thermometer und Rückflußkühler gibt man 5,16 g (0,02 Mol) 2,2-Bis(3-amino- -4-hydroxyphenyl)-propan, 50 ecm Wasser und 4 ecm starke

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Salzsäure. Unter Rühren und Kühlen auf O bis 5°C setzt man nun tropfenweise eine Lösung von 2,8 g (0,04 Mol) Natriumnitrit zu und rührt bei Raumtemperatur eine Stunde weiter. Dann wird das Reaktionsgemisch filtriert und das Filtrat mit natriumchlorid ausgesalzen. Die rote Fällung saugt man ab und trocknet sie unter Vakuum. Das so hergestellte Produkt ist 2,2-Bis(6-diazo-2,4-cyclohexadien-4~yl-1-on)~propan der Formel: " .

50 mg dieser Verbindung werden mit 50 mg Novolack in einer Mischung von 3 ecm GIyeoläthylather und 2 ecm Aceton gelöst. Mit der Lösung beschichtet man eine Aluminiumfolie, so daß nach Verdampfen des Lösungsmittels eine annähernd 2/U dicke Schicht zurückbleibt. Die Schicht wird durch eine transparente Strichvorlage mit einer 80-Watt-Queeksilberdampflampe aus einem Abstand von 15 cm belichtet. Anschließend entwickelt man die Schicht mit einer Lösung von 5g Natriumphophat-12-Kristallwasser und 15g Natriumchlorid in 100 ecm Wasser. Die belichteten Stellen der Schicht werden dabei ausgewaschen. Nach der Entwicklung behandelt man die an den belichteten Stellen der Schicht freigelegte Aluminiumoberfläche um ihre hydrophilen Eigenschaften zu verbessern mit einer 1-^igen Lösung von phosphoriger Säure. Danach wird die Platte mit Druckfarbe eingerieben.

Bei Verwendung einer 80-Watt-Quecksüberdampflampe genügt eine Belichtungszeit von einer Minute, um eine gut brauchbare Druck-

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A-G 217 .. ■ - 7■-■■■.■■ -. -—*

BAD ORIGINAL

form herzustellen, während bei Verwendung einer 300-Watt-Wolframlampe 4 Minuten Belichtungszeit erforderlich sind.

Der Novolack kann im vorliegenden Falle durch andere alkali-1Ösliche Polymere ersetzwerden, beispielsweise durch ein Mischpolymerisat von Maleinsäureanhydrid und Styrol oder ein Mischpolymerisat von Maleinsäureanhydrid und Äthylen.

Beispiel 2

In einem 250 ccm-Reaktionskolben mit Rührer, Tropftrichter, Thermometer und Rückflußkühler gibt man 5,72 g (0,02 Mol) 2,2-Bis(3-methyl-5-amino-4-hydroxyphenyl)-propan, 50 ecm Wasser und 4 ecm starke Salzsäure. Unter Rühren und Kühlen auf 0-5⁰C setzt man dann eine Lösung von 2,8 g (0,04 Mol) Natriumnitrit in 10 ecm Wasser tropfenweise hinzu und rührt anschließend bei Raumtemperatur eine Stunde weiter. Das ausfallende rote Reaktionsprodukt wird abgesaugt und im Vakuum getrocknet. Es ist 2,2-Bis(2-methyl-6-diazo-2,4-cyclohexadien~4-yl-1-on)-propan der Formel;

CI J-	CH,	*Mmmm*	CI I	h
	— C —	41		,=0
Il			Il

Wie in Beispiel 1, löst man 50 mg dieser Verbindung zusammen mit 50 mg Novolack in einer Mischung von 3 ecm GIykoläthylather und 2 ecm Aceton und stellt aus dieser lösung auf einer Aluminiumfolie eine 2 /u dicke Schicht her. Belichtung, Entwicklung und Nachbehandlung führt man wie in Beispiel 1 beschrieben, durch.

A-G 217 ■■ - . - 8 -

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Zur Herstellung eines guten Bildes genügt eine Belichtungszeit von 30 Sekunden mit einer 80-Watt-Quecksirberdampflampe.

(O OO CO

Beispiel 3

* ■

Die Beispiele 1 und 2 werden mit folgenden Bisphenolen wiederholt:

1) Bis(3-amino~4-hydroxyphenyl)-pheny!methan

2) 1,1-Bis(3-Methyl-4-hydroxy-5-aminophenyl)-cyclohexan

3) Bis(3-'brora-—4-hydroxy-5-aminophenyl)-phenylmethan

4) 2,2-Bis(3-nitro-4-hydroxy-5-aminophenyl)-propan

Dabei entstehen die folgenden Chinondiazogruppen enthaltenden Yerbindungen:

1) Bis(6-diazo-2,4-cyclohexadien--4-yl~1-on)-phenylmethan

2) 1,1-Bis(2-methyl-6-diazo~2,4-eyclohexadien4-yl-1-on)-cyclohexan

3) Bis(2-brom—6-diazo-2,4-cyclohexadien-4"yl-1-on)-phenylmethan

4) 2,2-Bis<2-nitro-6-diazio-2,4-cyclohexadien-4-yl-1-on)-propan .'

Die Herstellung der lichtempfindlichen Schicht, die Belichtung und Entwicklung werden entsprechend Beispiel 1 durchgeführt. Die "benötigten Belichtungszeiten gehen aus der folgenden Tabelle hervor.

Lichtempf. Verbindung (s. obige Liste)	erforderliche Belichtungszeit	mit 300 W Wolfram- lampe
M ■ ß.	CQit 80 ¥ Quecksilber- äampf-Lampe	1 ·
	45" 20" 3' 2 ·' ■ -- .

BAD ORIGINAL

Beispiel 4

Durch Bromierung der Chinondiaaoverbindung des Bis(3-amino-4-hydroxyphenyl)-sulfon in Wasser in Gegenwart von Salzsäure wird die Verbindung Bis(2-brom-6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-yl-1-on)-sulfon der Formel

O=

Br	j"	so₂	j»	Br
?			"4	I HUM«

hergestellt.

90 g dieser Verbindung und 18 g Novolack löst man in einem Gemisch von 500 ecm Methyläthylketon und 500 ecm Methylglykol. Die Lösung wird so auf eine Zinkfolie gegossen, daß nach verdampfen der Lösungsmittel eine etwa 2/u dicke Schicht entsteht. Die Schicht belichtet man im Kontakt durch eine transparente Strichvorlage mit einer 80-Watt~Quecksilberdampflampe oder einer 300-Watt-Wolframlampe aus einem Abstand von 15 cm. Anschließend entwickelt man die Schicht mit einer 3-^igen wäßrigen Lösung von Natriumphosphat, die 15 i° Natriumchlorid enthält. Dabei werden die belichteten Teile der Schicht ausgewaschen, während die unbelichteten Teile in Form eines positiven Reliefbildes der Vorlage auf. dem Schichtträger haften bleiben. ·

Das Reliefbild wird mit einer wäßrigen Fixierlösung eingerieben, die 4 i> Kaliumhexacyanoferrat(II), 20 $> Gummiarabicum und 1 $> phosphorige Säure enthält. Um das Relief bild zu verstärken, behandelt man es" anschließend mit einem hydrophoben Lack,

. ν :<\ : 909837Λ055Ι .

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beispielsweise mit einem Lack wie er in der britischen Patentschrift 968 706 und der belgischen Patentschrift 631 790 beschrieben ist. Man erhält auf diese Weise eine Flachdruckform von ausgezeichneter Standfestigkeit.

Die nach Beispiel 4 hergestellte Druckform kann auch in eine Hochdruckform umgewandelt werden. Dazu werden die nach der Entwicklung freiliegenden Stellen des aus Zink bestehenden Schichtträgers beispielsweise mit 10-^iger Salpetersäure geätzt.

Beispiel 5

Ausgehend von 2„2-Bis(3-nitro-5-amino-4-lxydroxyphenyl)-propan erhält man nach der in den Beispielen 1 und 2 beschriebenen Arbeitsweise 2,2-Bis(2-nitro-6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-yl-1-on)-propan der folgenden Formel:

Die Verbindung wird wie in Beispiel 4 beschrieben zusammen mit Novolack in einem Lösungsmittelgemisch 1:1 von Methyläthylketon und Methylglykol so auf eine Kupferplatte aufgetragen, daß eine Schicht von etwa 2/U Dicke entsteht. Nach einer Belichtung von 1 Minute mit einer 80-Watt-Queoksilberdampflampe oder von 4 Minuten mit einer 3Ö0-Watt-Wolframlampe im Kontakt mit einer transparenten Strichvorlage wird wie in Beispiel 4 beschrieben entwickelt. Danach ätzt man die freigelegten Teile der Kupferplatte mit* einer 32 ^-igen wäßrigen Lösung von Eisen(IH)chlorid und erhält eine positive Hochdruckform von

909837/0S5t . . ___^

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ausgezeichneter Qualität.

Beispiel 6 . .

Die folgenden Yerbindungen werden zur Herstellung von Druck-' formen verwendet:

1) Bis(6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-ylT-1-on)-sulfon

2) Bis(2-nitro-6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-yl-1-on)-phenylmethan

3) 2,2-Bis(2-chlor—>6-diazo-2,4-cy clohexadien-4-y 1-1-on }propan ·

4) 2,2-Bis(2-brom—6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-y1-1-on)-propandibromhydrat

5) 2,2-Bis(2-bromo-6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-y1-1-on)-propan

Verbindung i)wird ausgehend von Bis(3-amino-4-hydTOxyphenyl)-sulfon nach der in den Beispielen 1 und 2 angegebenen Methode hergestellt.

Zu Verbindung 2) gelangt man ausgehend von Bis(3-nitro-4-hydroxy-5-aminophenyl)-phenylmethandihydrochlorya und Verbin-, dung 3) entsteht durch Chlorierung von 2,2-Bis(6-?diazo-2,4-cyclohexadien-4-y1-1-on)-propan in Wasser mit Natriumhypochlorit in Gegenwart von Salzsäure.

Die Bromierung von 2,2-Bis(6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-y1-1-on)~ propan in Wasser in Gegenwart von Salzsäure führt zu Verbindung 4), während Verbindung 5) durch Behandlung von Verbindung 4) mit Natriumcarbonat in Alkohol erhalten werden kann.

Alle diese Verbindungen werdenden Beispielen 1 und 2 entsprechend auf einen Träger geschichtet, belichtet und in einer Lösung von jj.g Natriumphosphat und 15 g Natriumchlorid in 100 ecm Wasser entwickelt. Als einzige Ausnahme wird die aus Verbindung 1)

909837/0551 - _ _t

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/13

hergestellte Schicht in einer Lösung von 10g Natriumcarbonat und 5 g Natriumchlorid in 100 ecm Wasser entwickelt. Die folgende Tabelle enthält die zur Herstellung guter positiver Reliefbilder erforderlichen Belichtungszeiten:

Lichtempfindliche Verbindung (s. obige Liste)	erforderliche Be mit 80 W Quecksilber?] lampe	lichtungszeit ampf- mit 300 W Wolframlampe
D	3'	V
2) /	2'	6'
3)	4'	co
4)	21	CTv
5)	2' .	6«

k-Cr 217"

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Claims

Patentansprüche: in

1 ./Aufzeichnungsmaterial für die phot ο chemische Herstellung von Druckplatten bestehend aus einem Schichtträger mit einer lichtempfindlichen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht wenigstens eine Bis(o-chinon-diazo)· Verbindung der Formel

=ö

X ~}~^R X t j O=, C Il H ^N2 N₂

enthält, in der

R eine Methylengruppe, eine mit Alkyl, Dialkyl oder Aryl substituierte Methylengruppe, eine Sulfongruppe oder eine cycloaliphatische Gruppe darstellt und

X Wasserstoff, Halogen einen niederen Alkylrest oder Nitrogruppe bedeutet.
2. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Schicht außerdem ein alkalilösliches Polymeres enthält.
3. Aufzeichnungsmaterial nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht auf 4 Gewichtsteile Bis(o-chinon-diazo)-bisphenol wenigstens einen Gewichtsteil alkalilösliches Polymeres enthält.
4. Aufzeichnungsmaterial nach, den Ansprüchen 1, 2 und 3, dadurch gekennzeichnet, daß das alkalilösliche Polymere

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ame Uater/a^en ^-; &»Abs. 2 _Nr. ι sxz - du Anderun_fl8fles. _v.

Kovolack ist. . _.
5. Aufzeichnungsmaterial nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß es als Bis(o-chinon-diazο)-Verbindung.. Bis(6-diazo-2,4-cyclohexadien-4-yl-1-on)-pheny!methan enthält. . '
6. Aufzeichnungsmaterial nach den Ansprüchen 1 - 4» dadurch gekennzeichnet, daß es als Bis(o-chinon-diazο)-Verbindung 2,2-Bis(2-methyl-6-diaso-2,4-cyclohexadien-4-y1-1-on)-propan enthält.
7. Aufzeichnungsmaterial nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß es als Bis(o-chinon-diazofVerbindung Bis(5-brom~6-diazo-2,4-cy clohexadien-4-y 1-1 -on)-sulf on enthält.
8. Aufzeichnungsmaterial nach den /tisp·»?¹! hea 1 bis 4» dadurch gekennzeichnet, daß es als Bis(o-chinon-dia2o)-?erbindung 1,1-Bis(2-methyl-6-diaao-2,4-cyclohexadien-4yl^m1~oa)-cyclohexan enthält. '
9. Verfahren zur Herstellung von einer Druckform aus einem den Ansprüchen 1 bis 8 entsprechenden Aufzeichnungsmaterial durch bildweise Belichtung der Kopierschicht und anschließende Entwicklung, dadurch, gekennzeichnet, daß die belichteten Stellen der Kopierschicht mit einer wäßrigen alkalischen

^1X1 Flüssigkeit herausgelöat werden. . co

OO \ " ■

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10. Verfahren nach Anspruch 9» dadurch gekennzeichnet, daß ο als Entwickler eine wäßrige !lösung von Hatriumphosphat oder

cn von ITatriumphosphat und Natriumchlorid verwendet wird.

A-G 217 - 15 - · ■ - " ■"'*■

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11. Verfahren nach den Ansprüchen 9 und 10, dadurch gekennzeichnet, daß man an die Entwicklung einen Ätzvorgang anschließt, durch den das Aufzeichnungsmaterial in eine positive Hochdruckform überführt wird.

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