DE1439601A1 - Verfahren zur Kennzeichnung von Halbleiterkristallen - Google Patents
Verfahren zur Kennzeichnung von HalbleiterkristallenInfo
- Publication number
- DE1439601A1 DE1439601A1 DE19621439601 DE1439601A DE1439601A1 DE 1439601 A1 DE1439601 A1 DE 1439601A1 DE 19621439601 DE19621439601 DE 19621439601 DE 1439601 A DE1439601 A DE 1439601A DE 1439601 A1 DE1439601 A1 DE 1439601A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- semiconductor
- systems
- marking
- identification
- semiconductor surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 38
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 8
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 11
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/544—Marks applied to semiconductor devices or parts, e.g. registration marks, alignment structures, wafer maps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/326—Application of electric currents or fields, e.g. for electroforming
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Description
ü.
"Verfahren zur Kennzeichnung von HaTbleiterkristallen"
Bei der Herstellung sogenannter Planartransistoren ist es beispielsweise üblich, auf einer einzelnen Halbleiterscheibe
mehrere Halbleitersysteme gleichzeitig herzustellen. Zu diesem Zweck wird die gesamte Halbleiterscheibe mit einer Diffusionsschicht vom Leitungstyp der Basiszone sowie mit einer Diffusionsschicht
vom Leitungstyp der Emitterzone versehen. Die > einzelnen Systeme werden dann durch Aufteilen der diffundierten
Scheibe gewonnen.
Das Aufteilen der Halbleiterscheibe erfolgt mit Hilfe eines Klebebandes« auf das die Halbleiterscheiben zunächst aufge~
klebt werden. Nach dem Aufkleben werden die Scheiben entsprechend den Begrenzungslinien der einzelnen Systeme geritzt
und anschließend längs der geritzten Linien gebrochen.
809812/0673
Es empfiehlt sich, die einzelnen Systeme noch vor dem Aufteilen
der Halbleiterscheibe meßtechnisch zu überprüfen. Die Überprüfung erfolgt durch einen Whisker, welcher die einzelnen
Systeme auf der Scheibe bzw. deren Elektroden nacheinander abtastet. Durch eine solche meßtechnische Überprüfung
können ungeeignete Systeme rechtzeitig erkannt und aussortiert werden. Die Kennzeichnung erfolgt mit Hilfe
eines !Farbtupfers, der auf die unbrauchbaren Systeme aufgebracht
wird.
Nach dem Zerteilen der Halbleiterscheibe müssen die durch Brechen gewonnenen Einzelsysteme durch Eintauchen in eine
heiße, z.B. aus Natronlauge bestehende Iiösung vom Klebeband
gelöst werden. Das Eintauchen in eine heiße Lösung hat jedoch den .Nachteil, daß nicht nur das Klebeband, sondern gleichzeitig
auch die zur Kennzeichnung aufgebrachte Farbe gelöst wird. Außerdem ist es auch mit erheblichen Schwierigkeiten
verbunden, Halbleiterkristalle mit den heute üblichen kleinen Abmessungen zu betupfen.
Zur Vermeidung dieser Nachteile wird erfindungsgemäß vorgeschlagen,
daß die Kennzeichnung von Halbleiterkristallen durch einen Stromstoß vorgenommen und zu diesem Zweck ein
Bereich der Halbleiteroberfläche durch den Stromstoß derart umgewandeltvird, daß er sich von der übrigen Halbleiteroberfläche
durch sein Aussehen unterscheidet.
809812/06 73
Eine solche optische Umwandlung eines Teilbereiches der
Halbleiteroberfläche kann beispielsweise durch einen Whisker
erfolgen, der auf die zu kennzeichnende Halbleiteroberfläche aufgesetzt und mit einem Stromimpuls beschickt wird. Bei
entsprechender Wahl des Stromimpulses läßt sich erreichen, daß die Halbleiteroberfläche in der unmittelbaren Umgebung
des "fliiskers leicht angeschmort wird. Die Kennzeichnung von
jüinzelsystemen nach dem erfindungsgemäßen Verfahren erfordert
dann keinen Mehraufwand, wenn, wie allgemein üblich, ™
ohnehin ein Whisker bei der Bestimmung der elektrischen Werte verwendet und auf die Oberfläche des Halbleiterkristalles
aufgesetzt wird. Die Kennzeichnung kann dann unmittelbar an die Messung angeschlossen werden, indem ein
geeigneter Stromimpuls in Anschluß an den Meßstrom durch den Whisker geschickt wird.
Die Erfindung soll an einem Ausführungsbeispiel näher erläutert
werden. ä
Von einen stabförmigen Halbleiterkristall werden zunächst einseine Scheiben attge schnitt en, die vorerst nicht in
eineeine Halbleiterplättchen aufgeteilt, sondern im ungeteilten
Zustand weiterbehandelt werden. Die Weiterbehandlung besteht darin, daß die zur Herstellung eines Halbleiterbauelementes
erforderlichen Verfahrensschritte nicht
809812/0673
143960t
nur an einem Halbleiterplattchen, sondern an der ganzen
Scheibe durchgeführt werden. Auf der Scheibe werden also gleichzeitig mehrere Systeme aufgebaut.
Dieses Verfahren hat den Vorteil, daß beispielsweise mit einer einzigen Diffusion sämtliche Basiszonen derjenigen
Systeme hergestellt werden können, in die die Scheibe nach Fertigstellung der für das Bauelement erforderlichen Halbleiterzonen
aufgeteilt werden kann. Die einzelnen Halbleiterzonen können z.B. durch Diffusion oder durch Legierung
hergestellt werden.
Sind die einzelnen Systeme auf ihrer gemeinsamen Scheibe fertiggestellt, so müssen sie voneinander getrennt werden.
Zu diesem Zweck werden die Halbleiterscheiben auf ein Klebeband aufgeklebt und mit einem Diamanten geritzt. Durch
das Ritzen werden die Begrenzungslinien der einzelnen Systeme hergestellt. Bevor die Halbleiterscheibe längs
der geritzten Linien gebrochen wird, werden die einzelnen Halbleitersysteme noch meßtechnisch überprüft. Eine solche
Überprüfung ermöglicht es, unbrauchbare Systeme zu kennzeichnen und damit von der V/eiterverarbeitung auszuschließen.
Die Bestimmung der elektrischen ferte erfolgt mit Hilfe eines
Whiskers, der auf die Elektroden der auf der Scheibe befindlichen Halbleitersysteme aufgesetzt wird. Auf diese Weise
- 5 -809812/0673
'•t/l·' -'Ji
werden sämtliche auf der Halbleiterscheibe befindlichen Systeme
nacheinander durchgemessen. Unbrauchbare Systeme worden im Anschluß an die Messung gekennzeichnet. Die Kennzeichnung erfolgt
gemäß der Erfindung ebenfalls mit Hilfe des /hiskers,
der bei unbrauchbaren Systemen nach der Messung auf eine zur Kennzeichnung geeignete Stelle der Halbleiteroberfläche aufgesetzt
und mit einem zur Kennzeichnung geeigneten Stromimpuls
beschickt wird. Der Stromimpuls wird dabei so gewählt, daß ein zur Kennzeichnung vorgesehener Bereich auf der Halbleiteroberfläche
angeschmort bzw. angeschmolzen wird.
Nach Beendigung der Messung und Kennzeichnung werden die einzelnen Systeme durch Brechen voneinander getrennt. Die
Plättchen müssen dann allerdings noch vom Klebeband durch ' Eintauchen in eine heiße Natronlauge gelöst werden.
809812/0673 BAD ORIQINAi.
Claims (3)
- Patentansprüche1»)Verfahren zur Kennzeichnung von Halbleiterkristallen mit bestimmten, vorzugsweise elektrischen Eigenschaften, dadurch gekennzeichnet, daß die Kennzeichnung der Kristalle durch einen Stromstoß vorgenommen und zu diesem Zweck ein Bereich der Halbleiteroberfläche mit Hilfe des Stromstoßes derart umgewandelt wird, daß der umgewandelte Bereich sich von der übrigen Halbleiteroberfläche durch sein Aussehen unterscheidet.
- 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der zur kennzeichnung verwendete »Stromstoß derart gewählt wifjd, daß der zur Kennzeichnung vorgesehene Bereich angeschmort wird.
- 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Kennzeichnung mit Hilfe eines auf die Halbleiteroberfläche aufgesetzten Whiskers erfolgt.4-, Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die auf einer gemeinsamen Halbleiterscheibe befindlichen und durch Anritzen der Halbleiteroberfläche begrenzten Halbleitersysteme mit einem Whisker nacheinander abgetastet werden und daß die Halbleitersystame beim Abtasten gemessen und gegebenenfalls mit Hilfe eines Stromstoßes gekennzeichnet werden.809812/0673
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DET0022452 | 1962-07-11 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1439601A1 true DE1439601A1 (de) | 1968-12-12 |
DE1439601B2 DE1439601B2 (de) | 1971-06-24 |
Family
ID=7550546
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19621439601 Pending DE1439601B2 (de) | 1962-07-11 | 1962-07-11 | Verfahren zum kennzeichnen einzelner halbleitersysteme |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3265860A (de) |
DE (1) | DE1439601B2 (de) |
FR (1) | FR1362344A (de) |
GB (1) | GB1044904A (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0066836A2 (de) * | 1981-06-10 | 1982-12-15 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Kennzeichnung von Halbleiterchips und kennzeichenbarer Halbleiterchip |
US9726017B2 (en) | 2014-08-28 | 2017-08-08 | Joy Mm Delaware, Inc. | Horizon monitoring for longwall system |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3501618A (en) * | 1968-01-25 | 1970-03-17 | Spranger Kg Polyplaste | Electric arc process for producing apertures in plastic elements |
US4255851A (en) * | 1978-12-06 | 1981-03-17 | Western Electric Company, Inc. | Method and apparatus for indelibly marking articles during a manufacturing process |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1493014A (en) * | 1922-05-17 | 1924-05-06 | John J Boyle | Electrical perforator |
US1810212A (en) * | 1928-12-21 | 1931-06-16 | Robert L Hinds | Electric tool |
US2035474A (en) * | 1933-02-21 | 1936-03-31 | Donaid L Hay | Spark recording system |
US2316388A (en) * | 1941-12-13 | 1943-04-13 | Robert B Annis | Metal etching stylus |
US2492214A (en) * | 1945-10-25 | 1949-12-27 | Douglass C Fonda | Method of marking tungsten carbide |
US2539874A (en) * | 1947-01-28 | 1951-01-30 | Stockfleth Berger | Card marker |
US2646609A (en) * | 1948-07-19 | 1953-07-28 | Sylvania Electric Prod | Crystal amplifier |
US2940024A (en) * | 1954-06-01 | 1960-06-07 | Rca Corp | Semi-conductor rectifiers |
US3001112A (en) * | 1956-01-19 | 1961-09-19 | Orbitec Corp | Transistor and method of making same |
US3075903A (en) * | 1960-02-23 | 1963-01-29 | Motorola Inc | Method of electrolytically etching a semiconductor element |
-
1962
- 1962-07-11 DE DE19621439601 patent/DE1439601B2/de active Pending
-
1963
- 1963-07-08 US US293535A patent/US3265860A/en not_active Expired - Lifetime
- 1963-07-09 FR FR940790A patent/FR1362344A/fr not_active Expired
- 1963-07-10 GB GB27418/63A patent/GB1044904A/en not_active Expired
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0066836A2 (de) * | 1981-06-10 | 1982-12-15 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Kennzeichnung von Halbleiterchips und kennzeichenbarer Halbleiterchip |
EP0066836A3 (en) * | 1981-06-10 | 1985-05-15 | Siemens Aktiengesellschaft | Method of marking semiconductor chips, and marked semiconductor chip |
US9726017B2 (en) | 2014-08-28 | 2017-08-08 | Joy Mm Delaware, Inc. | Horizon monitoring for longwall system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR1362344A (fr) | 1964-05-29 |
DE1439601B2 (de) | 1971-06-24 |
US3265860A (en) | 1966-08-09 |
GB1044904A (en) | 1966-10-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE1165163B (de) | Schneidvorrichtung fuer Germanium-Halbleitereinkristalle in Barrenform zum Herstellen von Halbleiterkoerpern fuer Halbleiterbauelemente | |
DE3509531C1 (de) | Verfahren zum Verkleben eines Gegenstandes mit einer Glasoberflaeche | |
DE2007099C3 (de) | Verfahren zum Zerteilen einer Scheibe aus SUicium-Halbleiterwerkstoff | |
DE102020001405A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines abdeckglases, abdeckglas und anzeigevorrichtung | |
EP0049862A1 (de) | Verfahren und Prüfkörper zur Bestimmung der Glashaftung von Glasverbund-Zwischenschichten im Zugscherversuch | |
DE1439601A1 (de) | Verfahren zur Kennzeichnung von Halbleiterkristallen | |
DE2924068C2 (de) | Verfahren zur Herstellung koplanarer optoelektronischer Koppelelemente | |
DE1439601C (de) | Verfahren zum Kennzeichnen einzelner Halbleitersysteme | |
DE1602004C3 (de) | Verfahren zum Aufteilen eines eine Anzahl elektrischer Schaltungselemente enthaltenden Körpers | |
DE698238C (de) | Glasspiegel fuer optische Zwecke, insbesondere Scheinwerferspiegel | |
DE1761740A1 (de) | Anzeige- oder Wiedergabeeinrichtung sowie Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE1952216A1 (de) | Verfahren zum Trennen von aus einem Halbleitergrundkoerper herzustellenden Halbleiterchips | |
DE459213C (de) | Verfahren zur lehrenhaltigen Verarbeitung giess-, spritz- oder pressbarer Isolierstoffe | |
EP0631886A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Diebstahlsicherung von Kraftfahrzeugen | |
DE2517159C (de) | Verfahren zum Beseitigen von Kristallwuchsstörungen von epitaktischen Halbleiterschichten | |
DE2138563A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines piezokeramischen schwingers, insbesondere fuer telefonhoerer, und piezokeramischer schwinger gemaess dem verfahren | |
AT117083B (de) | Verfahren zur Herstellung von nicht splitternden Glasscheiben. | |
DE3040675A1 (de) | Verfahren zum bearbeiten von halbleiterscheiben | |
DE1614868A1 (de) | Halbleiteranordnung | |
DE974233C (de) | Verfahren zum Herstellen von zum Loeten oder Schweissen geeigneten Oberflaechen an Stromzufuehrungen | |
DE1602004A1 (de) | Verfahren zum Aufteilen eines eine Anzahl elektrischer Schaltungselemente enthaltenden Koerpers | |
DE102007015361B4 (de) | Trägervorrichtung für Substrate bei der galvanischen Beschichtung | |
DE1464412A1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung | |
DE1027320B (de) | Spitzentransistor, dessen Halbleiteroberflaeche teilweise um einen geringen Dickenbetag abgetragen ist | |
DE653433C (de) | Vorrichtung zum Weichloeten hohlgepresster Metallbacken auf die Erle von Taschenmessern o. dgl. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
SH | Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971 |