DE1421981B2 - Zinkatbad fuer aluminium und aluminiumlegierungen - Google Patents
Zinkatbad fuer aluminium und aluminiumlegierungenInfo
- Publication number
- DE1421981B2 DE1421981B2 DE19611421981 DE1421981A DE1421981B2 DE 1421981 B2 DE1421981 B2 DE 1421981B2 DE 19611421981 DE19611421981 DE 19611421981 DE 1421981 A DE1421981 A DE 1421981A DE 1421981 B2 DE1421981 B2 DE 1421981B2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- group
- formula
- aluminum
- substituents
- substituent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 title claims description 16
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims description 13
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 12
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 19
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 14
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 claims description 12
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 10
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 9
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 9
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 9
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims description 5
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 claims description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 3
- -1 hydroxyaryl compound Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 claims description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims 1
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 8
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 5
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 4
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJOQJPYNENPSSS-XQHKEYJVSA-N [(3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxyoxan-3-yl] acetate Chemical compound CC(=O)O[C@@H]1CO[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O MJOQJPYNENPSSS-XQHKEYJVSA-N 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Substances OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940071106 ethylenediaminetetraacetate Drugs 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-K pentetate(3-) Chemical compound OC(=O)CN(CC([O-])=O)CCN(CC([O-])=O)CCN(CC(O)=O)CC([O-])=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N salicylaldehyde Chemical compound OC1=CC=CC=C1C=O SMQUZDBALVYZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- RAGGRQGFXCZCAX-UHFFFAOYSA-N (2-formylphenyl) hydrogen sulfate Chemical compound OS(=O)(=O)OC1=CC=CC=C1C=O RAGGRQGFXCZCAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDMXADMEKAUMIV-NSCUHMNNSA-N (e)-prop-1-ene-1,2-diamine Chemical compound C\C(N)=C/N FDMXADMEKAUMIV-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- CIAMOALLBVRDDK-UHFFFAOYSA-N 1,1-diaminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)C(N)N CIAMOALLBVRDDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 2-[[6-[4-(2-hydroxyethyl)piperazin-1-yl]-2-methylpyrimidin-4-yl]amino]-n-(2-methyl-6-sulfanylphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide;hydrate Chemical compound O.C=1C(N2CCN(CCO)CC2)=NC(C)=NC=1NC(S1)=NC=C1C(=O)NC1=C(C)C=CC=C1S WXHLLJAMBQLULT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSYNRYMUTXBXSQ-FOQJRBATSA-N 59096-14-9 Chemical compound CC(=O)OC1=CC=CC=C1[14C](O)=O BSYNRYMUTXBXSQ-FOQJRBATSA-N 0.000 description 1
- BSYNRYMUTXBXSQ-UHFFFAOYSA-M Acetylsalicylate Chemical compound CC(=O)OC1=CC=CC=C1C([O-])=O BSYNRYMUTXBXSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GPDSIDFSIIJYET-UHFFFAOYSA-N C(CC)(=O)O.C(CC)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(CN)N Chemical compound C(CC)(=O)O.C(CC)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(CN)N GPDSIDFSIIJYET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKROIAMLMVENMW-UHFFFAOYSA-N CCC(=O)ON(OC(=O)CC)CCN(OC(=O)CC)OC(=O)CC Chemical compound CCC(=O)ON(OC(=O)CC)CCN(OC(=O)CC)OC(=O)CC YKROIAMLMVENMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N D-Mannitol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-KVTDHHQDSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M D-gluconate Chemical compound OC[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O RGHNJXZEOKUKBD-SQOUGZDYSA-M 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195725 Mannitol Natural products 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLURBNVEVKVLLJ-UHFFFAOYSA-N acetic acid ethoxyethane Chemical compound C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)(=O)O.C(C)OCC FLURBNVEVKVLLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 229940068372 acetyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229940061720 alpha hydroxy acid Drugs 0.000 description 1
- 150000001280 alpha hydroxy acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 230000009920 chelation Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229940050410 gluconate Drugs 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000000594 mannitol Substances 0.000 description 1
- 235000010355 mannitol Nutrition 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- LSHROXHEILXKHM-UHFFFAOYSA-N n'-[2-[2-[2-(2-aminoethylamino)ethylamino]ethylamino]ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCNCCN LSHROXHEILXKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L potassium sodium L-tartrate Chemical compound [Na+].[K+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O LJCNRYVRMXRIQR-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000011006 sodium potassium tartrate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 235000010356 sorbitol Nutrition 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N triacetic acid Chemical compound CC(=O)CC(=O)CC(O)=O ILJSQTXMGCGYMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/31—Coating with metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/34—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated
- C25D5/42—Pretreatment of metallic surfaces to be electroplated of light metals
- C25D5/44—Aluminium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Anti-Oxidant Or Stabilizer Compositions (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Zinkatbad zur Vorbehandlung
von Gegenständen aus Aluminium oder dessen Legierungen für das Galvanisieren, das zusätzlich
Chelatbildner enthält.
Übliche Zinkatbäder sind beträchtlich konzentriert, und zwar in der Größenordnung von 500 g/l
Gesamtsalzgehalt. Sie enthalten üblicherweise Natriumhydroxid und Zinkoxid. In manchen Fällen werden
schwächere Laugen bevorzugt, wogegen weiterhin sehr hoch konzentrierte Bäder verwendet werden, um
dünne und gleichmäßige Zinkschichten zu erhalten. Während der letzten Jahre wurden die üblichen
Zinkatbäder auf verschiedene Weise verbessert, insbesondere hinsichtlich der Beschleunigung der Zinkabscheidung,
der Haftfestigkeit und der Gleichmäßigkeit der Zinkschichten. Zwei Wege wurden angewandt
— und zwar Zusatz eines aktivierenden Metallions oder eines Komplexbildners für Aluminium — um die
Geschwindigkeit der Entfernung des sich auf Aluminium bildenden Oxidfilms zu erhöhen. Die Anwendung
eines hohen Prozentsatzes von Komplexbild-"nerii, mit oder ohne metallische Aktivatoren, erlaubt
Bäder mit 180 bis 360 g/l Gesamtsalzgehalt.
Das erfindungsgemäße Zinkatbad zur Vorbehandlung von Gegenständen aus Aluminium oder Aluminiumlegierungen
für das Galvanisieren geht aus von einer wäßrigen alkalischen Lösung mit einem Gehalt
von etwa 60 bis 180 g/l eines Zinksalzes und enthält eine Kombination von Chelatbildnern für das Aluminium
und Zink. Die eine Gruppe der erfindungsgemäß angewandten Chelatbildner umfaßt Polyamine, Diamine
und α-Hydroxyarylverbindungen, die andere Gruppe α-Hydroxy-carbonsäuren oder -alkohole. Die
beiden Gruppen liegen in einem Mengenverhältnis von 5:95 bis 95: 5 vor.
Für das erfindungsgemäße Zinkatbad sind Polyamine folgender Formel geeignet:
N-
(CH2)2 —NR5
(CH2)2 —N
R3
R4
worin R1 bis R4 ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe
mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder eine Hydroxyl- oder Carboxylgruppe sind, mit der Maßgabe,
daß — wenn nicht alle Substituenten R1 bis R4 Wasserstoffatome
sind — zumindest ein Substituent eine Hydroxyl-, Carboxylgruppe oder der Essigsäurerest
ist. Der Substituent R5 ist ein Wasserstoffatom oder entspricht R1 bis R4. χ ist eine ganze Zahl von 1 bis 4.
Als Beispiele für solche Verbindungen werden Diäthylentriamin-pentaacetat,
Triäthylentetramin, Pentaäthylenhexamin genannt.
Erfindungsgemäß können auch Diamine der Formel
R1
N-R6
•N
R2
R3
R4
3 Kohlenstoffatomen, gegebenenfalls mit einer Hydroxylgruppe in der Seitenkette, oder eine oder
mehrere Äthyläthergruppen. Beispiele solcher Verbindungen sind:
Äthylendiamin-N,N-diacetat,
Äthylendiamin-tetraacetat,
Äthylendiamin-diacetat-dipropionat,
Äthylendiamin-tetrapropionat,
Äthylendiamin-(hydroxyäthyl)-triacetat,
Propylen-l,2-diamintetraacetat,
l,3-Diamino-2-propanol-tetraacetat,
Diamino-diäthyläther-tetraacetat,
Diamino-triäthyl-diäther-tetraacetat.
'5 Die erfindungsgemäß verwendbaren a-Hydroxyarylverbindungen
entsprechen der Formel
OH
worin der Substituent R7 eine sauerstoffhaltige Gruppe,
wie — QH, — CHO oder — COOH, ist. Gegebenenfalls
können in anderen Stellungen des Ringes andere Substituenten stehen, wie —SO3H, —Cl, —NO2.
Diese Substituenten führen zu keiner irgend nennenswerten Chelatbildung, können jedoch andere wünschenswerte
Eigenschaften, wie größere Wasserlöslichkeit, erbringen. Weiter können substituierte Phenole
der Formel
angewandt werden, worin die Substituenten R1 bis R4
obige Bedeutung haben und zusätzlich auch ein Propionsäurerest sein können und bis 2 davon Wasserstoffatome
sind. R6 ist entweder eine Gruppe mit 2 bis
R7
verwendet werden, worin R7 obige Bedeutung hat und R8 eine leicht hydrolysierbare Gruppe, wie eine Carboxylgruppe,
ist. Beispiele derartiger Verbindungen sind: Brenzkatechin, Salicylsäure, Sulfosalicylsäure,
Acetylsalicylsäure, Salicylaldehyd, Sulfosalicylaldehyd. Neben den genannten Verbindungsgruppen in einer
Menge von etwa 5 bis 95% enthält das erfindungsgemäße Zinkatbad etwa 95 bis 5% eines wasserlöslichen
Chelatbildners in Form einer a-Hydroxycarbonsäure und deren Salze der allgemeinen Formel
R9 ■
HO —C —COOH
· Rl0
wobei die Substituenten R9, R10 Wasserstoffatome oder
eine organische Gruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, wie Alkylgruppen, vorzugsweise sauerstoffhaltige,
sind, wie Carboxyl-, Aldehyd- oder Hydroxylgruppen. Beispiele derartiger Verbindungen sind:
Glykol-, Milch-, Glycerin-, Äpfel-, Wein-, Glukon-, Zucker- und Zitronensäure.
Für diesen Zweck kann man aber erfindungsgemäß auch a-Hydroxyalkohole der Formel
CH2OH
R11 — C — OH
verwenden, worin der Substituent R11 ein Wasserstoffatom
oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis
3 Kohlenstoffatomen und R12 ein Wasserstoffatom
oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen ist, die gegebenenfalls mit Hydroxylgruppen
substituiert sein können. Beispiele solcher Verbindungen sind: Äthylen- und Propylenglykol,
Glycerin, Mannitol und Sorbitol. Die Badtemperatur liegt zwischen 7,5 und 93° C.
Die erfindungsgemäßen Zinkatbäder weisen verschiedene Vorteile gegenüber den bekannten auf:
a) Die niedere Konzentration ergibt wesentlich geringere Viskositäten und verringert damit den
Lösungseinschluß, der zum Abplatzen. des anschließend elektrolytisch abgeschiedenen Überzuges
führen kann.
b) Die geringere Viskosität verringert die Verluste an Chemikalien durch Ausschleppen größerer
~ Flüssigkeitsmengen.
c) Die Kosten für die Baderneuerung sind gering, d). Schnelleres Arbeiten als mit üblichen Bädern ist
möglich.
Dies ist ein besonderer Vorteil bei vollautomatischer Betriebsführung.
Die bisher verwendeten, verdünnten Zinkatbäder konnten sich in der Praxis nicht durchsetzen, da sie
schwer zu regeln sind und die Gefahr des Abplatzens der galvanischen überzüge groß ist. Darüber hinaus
lassen sich die bekannten, verdünnten Zinkatbäder nur für eine sehr begrenzte Anzahl ganz bestimmter
Aluminiumlegierungen anwenden, so daß in der Produktion bei Materialwechsel auch das Zinkatbad gewechselt
werden muß.
Hingegen zeichnen sich die erfindungsgemäßen Bäder durch weitgehendste Anwendbarkeit und gute
Regelbarkeit aus. Zum Abplatzen der galvanischen überzüge kommt es nicht.
In den erfindungsgemäßen Zinkatbädern werden sowohl Aluminium- als auch Zink-Ionen von einem
Chelatbildner gebunden, wobei das Chelat zwar so stabil ist, daß einwandfreie Zinkniederschläge erhalten
werden, aber doch nicht so stabil, daß die Abscheidungsgeschwindigkeit merklich herabgesetzt wird.
Die Aluminiumionen werden an der mit dem Zinkatbad in Berührung stehenden Oberfläche der Aluminiumgegenstände
sehr rasch chelatisiert.
von guten Komplexbildnern für Aluminium und Zink — wie die Fluoride und Cyanide — und von Metallionenaktivatoren
— wie Eisen, Kupfer, Zinn oder Blei — für die erfindungsgemäßen Bäder schädlich
sind.
Wie erwähnt, sind die erfindungsgemäßen Bäder sehr allgemein anwendbar, d. h. für so gut wie alle
handelsübliche Aluminiumlegierungen durch entsprechende Einstellung der Salzkonzentration, vorzugsweise
zwischen 60 bis 180 g/l Gesamtsalzgehalt, der Temperatur zwischen 7,5 bis 93° C und der Eintauchzeit
zwischen vorzugsweise 5 bis 120 Sekunden. Die erfindungsgemäßen Bäder können mit üblichen Arbeitsprogrammen
mit 1-, 2- oder 3facher Tauchung der Aluminiumgegenstände verwendet werden.
Die beiden Gruppen von Chelatbildnern a) und b) unterscheiden sich hinsichtlich ihrer Stabilitätskonstanten,
und zwar haben die Polyamine, Diamine, Phenole und die a-Hydroxyarylverbindungen einen
pk-Wert von etwa 4,5 bis 10 und die a-Hydroxysäuren und -alkohole pk-Werte von etwa 1,5 bis 4.
Erfindungsgemäß können im Zinkatbad auch mehrere aus den beiden Gruppen angewandt werden.
Die erfindungsgemäß angewandten Chelatbildner werden vorzugsweise in Bädern mit etwa 60 bis 180 g/l
Gesamtsalzgehalt angewandt, und zwar mit folgendem Gehalt der einzelnen Substanzen:
a) Alkalimetallhydroxid, vorzugsweise Natriumhydroxid: etwa 60 bis 85 Gewichtsteile;
b) ein Zinksalz, wie Zinkoxid, -sulfat: etwa 5,5 bis 12 Gewichtsteile (berechnet auf Zinkgehalt). Bevorzugt
wird Zinkoxid;
c) Gewichtsverhältnis OH": Zn (als Metall) = 2,1 bis 7,9 (auf NaOH/ZnO berechnet: 4 - 15).
d) Chelatbildner: etwa 5 bis 20 Gewichtsteile, und zwar Kombinationen von 1 etwa 5 bis 95% von
zumindest einem Polyamin, Diamin, der a-Hydroxyarylverbindung oder des substituierten Phenols
und etwa 95 bis 5% von mindestens einer α-Hydroxycarbonsäure oder des a-Hydroxyalkohols
und gegebenenfalls bis etwa 2 Gewichtsteile oberflächenaktive Substanzen.
Es zeigte sich wider Erwarten, daß die Anwesenheit Als Beispiele werden einige trockene Zusammensetzungen
für erfindungsgemäße Bäder tabellarisch aufgeführt. Die Angabe erfolgt in Gewichtsteilen.
| 1 | 2 | 3 | 4 | 5 |
| 73,8 | 73,8 | 78,1 | 81,7 | 80,0 |
| 11,8 | 11,8 - | 11,7 | 8,3 | 8,3 |
| — | 6,7 | 5,0 | — | — |
| — | — | — | — | 5,0 |
| 6,7 | — | — | — | —' |
| — | — | — | 5,0 | 5,0 |
| 6,7 | — | 4,2 | 5,0 | 1,7 |
| — | 6,7 | — | — | — |
| 1,0 | 1,0 | 1,0 | — | — |
NaOH
ZnO
Na-acetyl-salicylat ,
Brenzkatechin ,
Na-diäthylen-triamin-pentaacetat.
Na-äthylendiamin-tetraacetat
Na-äthylendiamin-tetraacetat
Na-gluconat
Rochelle-Salz
Anionisches Netzmittel ,
81,7
8,3
5,0
8,3
5,0
5,0
Mit obigen Badzusammensetzungen benötigt man bei einer Temperatur von 7,5 bis 93° C Tauchzeiten
von 5 Sekunden bis 2 Minuten. Je höher die Temperatur, um so geringer kann die Konzentration aller
Salze sein, und je aktiver die Legierung ist, um so kürzer wird die Tauchzeit sein. Für die meisten handelsüblichen
Aluminiumlegierungen liegen die optimalen Bedingungen bei 21 bis 35° C und einer Tauchzeit
von 20 bis 60 Sekunden.
Die Salze, sowohl der basischen als auch der sauren Chelatbildner, sind der unsubstituierten Säure bzw.
Base als äquivalent anzusehen.
Claims (1)
- Patentanspruch:Zinkatbad zur Vorbehandlung von Aluminium und Aluminiumlegierungen für das Galvanisieren in Form einer wäßrigen Lösung mit einem Gehalt von etwa 60 bis 180 g/l eines Zinksalzes, einer alkalischen Verbindung sowie einem Chelatbildner für Aluminium und Zink, gekennzeichnet durch eine Kombination von a) etwa 5 bis 95% eines wasserlöslichen Chelatbildners in Form eines Polyamins der FormelN-(CH2)2 —NR5-(CH2),-NR3R4R1R2N — R6 — NR3R4worin die Substituenten R1 bis R4 obige Bedeutung haben und zusätzlich noch ein Propiensäurerest sein kann und bis 2 davon Wasserstoffatome sind und R6 entweder eine Gruppe mit 2 oder 3 Kohlenstoffatomen, gegebenenfalls mit einer Hydroxylgruppe in der Seitenkette, oder eine oder mehrere Äthyläthergruppen bedeutet, oder einer u-Hy-IO20worin die Substituenten R1 bis R4 ein Wasserstoff-■ atom oder eine Alkylgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen oder eine Hydroxyl- oder Carboxylgruppe sind, mit der Maßgabe, daß, wenn nicht alle Substituenten R1 bis R4 Wasserstoffatome sind, zumindest ein Substituent eine Hydroxyl-, Carboxylgruppe oder der Essigsäurerest ist, der Substituent R entweder ein Wasserstoffatom oder R1 bis R4 und der Index χ eine ganze Zahl zwischen 1 und 4 bedeutet, oder eines Diamins der Formel354045droxyarylverbindung der FormelOH
R7worin der Substituent R7 eine sauerstoffhaltige Gruppe wie —OH, -CHO oder -COOH bedeutet und sich gegebenenfalls in anderen Stellungen im Ring Substituenten wie — SO3H,-- Cl,— NO2 befinden, bzw. substituierte Phenole der Formel /\ qr8R7worin R7 obige Bedeutung hat und R8 eine leicht hydrolysierbare Gruppe ist und b) etwa 95 bis 5% eines wasserlöslichen Chelatbildners in Form einer α-Hydroxycarbonsäure der FormelR9HO —C —COOHRioworin die Substituenten R9, R10 ein Wasserstoffatom oder -eine organische Gruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, wie Alkylgruppen, vorzugsweise sauerstoffhaltige Gruppen, insbesondere die— OH, -CHO oder — COOH-Gruppe ist, oder eines a-Hydroxyalkohols der FormelCH2OH
R11 — C — OHR12worin der Substituent R11 ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen und der Substituent R12 ein Wasserstoffatom oder eine Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, die gegebenenfalls mit Hydroxylgruppen substituiert ist. bedeutet, und eine Badtemperatur von 7,5 bis 930C .
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US60795A US3216835A (en) | 1960-10-06 | 1960-10-06 | Synergistic chelate combinations in dilute immersion zincate solutions for treatment of aluminum and aluminum alloys |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE1421981A1 DE1421981A1 (de) | 1968-12-12 |
| DE1421981B2 true DE1421981B2 (de) | 1971-11-25 |
Family
ID=22031803
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19611421981 Pending DE1421981B2 (de) | 1960-10-06 | 1961-10-06 | Zinkatbad fuer aluminium und aluminiumlegierungen |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US3216835A (de) |
| DE (1) | DE1421981B2 (de) |
| GB (1) | GB935262A (de) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3408211A (en) * | 1966-02-09 | 1968-10-29 | Reynolds Metals Co | Plating system |
| BE756380A (fr) * | 1969-10-22 | 1971-03-01 | Chausson Usines Sa | Procede de traitement pour le decapage et la protection de pieces en aluminium et alliages de ce metal devant etre |
| US3982055A (en) * | 1974-07-25 | 1976-09-21 | Eltra Corporation | Method for zincating aluminum articles |
| JPS58187260A (ja) * | 1982-04-26 | 1983-11-01 | Mitsubishi Electric Corp | アルミニウム金属への半田被着法 |
| ZA833074B (en) * | 1983-05-06 | 1984-01-31 | Alcan Int Ltd | Zincating aluminium |
| JPH01501323A (ja) * | 1986-09-22 | 1989-05-11 | ビクトリアン ソーラ エネルギー カウンシル | 被覆液 |
| US5182006A (en) * | 1991-02-04 | 1993-01-26 | Enthone-Omi Inc. | Zincate solutions for treatment of aluminum and aluminum alloys |
| DE19617169C2 (de) * | 1996-04-29 | 2000-07-06 | Valeo Klimatech Gmbh & Co Kg | Flachrohrwärmetauscher und Verfahren zu dessen Herstellung |
| US6162343A (en) * | 1996-06-11 | 2000-12-19 | C. Uyemura & Co., Ltd. | Method of preparing hard disc including treatment with amine-containing zincate solution |
| US6080447A (en) * | 1998-05-14 | 2000-06-27 | Enthone-Omi, Inc. | Low etch alkaline zincate composition and process for zincating aluminum |
| US6656606B1 (en) | 2000-08-17 | 2003-12-02 | The Westaim Corporation | Electroplated aluminum parts and process of production |
| IL159222A0 (en) * | 2001-06-28 | 2004-06-01 | Algat Sherutey Gimur Teufati | Method of anodizing of magnesium and magnesium alloys and producing conductive layers on an anodized surface |
| US8231743B2 (en) * | 2009-10-22 | 2012-07-31 | Atotech Deutschland Gmbh | Composition and process for improved zincating magnesium and magnesium alloy substrates |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2650886A (en) * | 1951-01-19 | 1953-09-01 | Aluminum Co Of America | Procedure and bath for plating on aluminum |
| US2766138A (en) * | 1953-09-18 | 1956-10-09 | Gen Am Transport | Processes of chemical nickel plating |
| US2872346A (en) * | 1956-05-21 | 1959-02-03 | Miller Adolph | Metal plating bath |
-
1960
- 1960-10-06 US US60795A patent/US3216835A/en not_active Expired - Lifetime
-
1961
- 1961-10-06 GB GB35997/61A patent/GB935262A/en not_active Expired
- 1961-10-06 DE DE19611421981 patent/DE1421981B2/de active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US3216835A (en) | 1965-11-09 |
| DE1421981A1 (de) | 1968-12-12 |
| GB935262A (en) | 1963-08-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE1421981B2 (de) | Zinkatbad fuer aluminium und aluminiumlegierungen | |
| DE2049061B2 (de) | Alkalisches wäßriges Bad und dessen Verwendung zur stromlosen Verkupferung | |
| DE1496916B1 (de) | Cyanidfreies,galvanisches Bad und Verfahren zum Abscheiden galvanischer UEberzuege | |
| DE3628361C2 (de) | ||
| DE1109000B (de) | Bad zum galvanischen Abscheiden von Kupfer- und Kupferlegierungsueberzuegen | |
| DE959242C (de) | Bad zur galvanischen Abscheidung von Antimon oder Antimonlegierungen | |
| DE2610705A1 (de) | Saure galvanische kupferbaeder | |
| DE1421981C (de) | Zinkatbad fur Aluminium und Aluminiumlegierungen | |
| DE2300748A1 (de) | Stromfreies plattieren mit kupfer | |
| DE3619881A1 (de) | Verfahren und mittel zur verbesserung der haftfestigkeit eines metallueberzugs auf einem durch spangebende verformung hergestellten, bleihaltigen messing-formkoerper | |
| DE1153587B (de) | Bad zum galvanischen Abscheiden von Silberlegierungen | |
| EP0152601A1 (de) | Wässriges alkalisches Bad zur Chemischen Abscheidung von Kupfer oder Nickel | |
| DE2041397C3 (de) | Saures, Glanzbildner jedoch keine organischen Komplexbildner enthaltendes Zinkbad | |
| DE1952425A1 (de) | Waessrige AEtzloesungen fuer Aluminium und dessen Legierungen | |
| DE688155C (de) | Baeder fuer die elektrolytische Abscheidung von Messing | |
| DE1935821B2 (de) | Verfahren zur herstellung eines glanzzusatzes fuer alkalische cyanidfreie zinkbaeder | |
| DE1264919B (de) | Saures, galvanisches Zinnbad | |
| DE2807564C2 (de) | Verfahren zur stromlosen Abscheidung einer Gold-Nickel-Legierung | |
| DE1521512B1 (de) | Alkalisches Bad zur stromlosen Kupferabscheidung | |
| EP0588805B1 (de) | Verfahren zur herstellung glänzender verzinkter oder mit einer zinklegierung überzogener formteile | |
| DE1496958C3 (de) | Zinkatbad zur Vorbehandlung von Aluminium und Aluminiumlegierungen für das Galvanisieren in einem Kupferpyrophosphatbad, Trockenmischung zur Herstellung eines Zinkatbades und Verfahren zur Vorbehandlung von Aluminium und Aluminiumlegierungen für das Galvanisieren in einem Kupferpyrophosphatbad | |
| DE673865C (de) | Verfahren zur Behandlung von galvanischen Zinkueberzuegen | |
| DE2356678A1 (de) | Elektrolyt fuer die abscheidung glaezender schichten aus zinn, blei oder zinn-blei-legierungen | |
| DE1521512C (de) | Alkalisches Bad zur stromlosen Kupferabscheidung | |
| AT241490B (de) | Wässeriges Ätzbad für Klischees und Konzentrat zu dessen Herstellung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| SH | Request for examination between 03.10.1968 and 22.04.1971 |