DE1243642B - Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterial - Google Patents
Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von HalbleitermaterialInfo
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
- C30B13/16—Heating of the molten zone
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND DEUTSCHES S//fflffW>
PATENTAMT Int. Cl.:
BOId
AUSLEGESCHRIFT
BOIj
Deutsche Kl.: 12c-2
Deutsche Kl.: 12c-2
Nummer: 1243 642
Aktenzeichen: S 84953IV c/12 c
Anmeldetag: 27. April 1963
Auslegetag: 6. Juli 1967
Vorrichtungen zum tdegelfreien Zonenschmelzen
von Halbleitermaterial mit einem in lotrechter Lage eingespannten, stabförmigen Halbleiterkörper und
einer zur Erzeugung der Schmelzzone dienenden, längs der Stabachse bewegbaren Heizeinrichtung sowie
je einer zum Vor- bzw. Nachheizen des festen Halbleitermaterials dienenden zweiten und dritten
Heizeinrichtung, die oberhalb und unterhalb der ersten Heizeinrichtung angeordnet sind, sind bekannt.
Bei derartigen Vorrichtungen sind über bzw. unter der die Schmelzzone erzeugenden Induktionsheizspule,
welche den Halbleiterstab umschließt, weitere Spulen bzw. Windungsteile angeordnet, welche ebenfalls
den Halbleiterstab mit geringem Abstand umschließen und welche infolge geringeren Abstands
der einzelnen Windungsteile bzw. infolge Veränderung des Abstands der Windungen von dem Halbleiterstab
eine geringere Heizwirkung auf diesen ausüben. Hierdurch läßt es sich erreichen, daß der
Temperaturgradient von der Schmelzzone in das ao feste Halbleitermaterial hinein sehr gering gehalten
werden kann, wodurch sich Kristallstörungen verhindern lassen. Auch läßt sich erreichen, daß die der
Schmelzzone selbst zugeführte Leistung geringer gehalten werden kann.
Trotzdem enthält bei gleicher Heizleistung der Vor- und Nachheizeinrichtungen die äußerlich birnenförmige
Schmelzzone in ihrer Mitte feste Teile, welche von den angrenzenden festen Stabteilen aus
in die Schmelzzone hineinragen. Die vom Rand der Schmelzzone zugeführte Heizleistung schmilzt zunächst
den Rand des Materials auf. Die flüssige Phase dringt dann weiter in das Innere des Materials
vor. Beim Vorwandern der Schmelzzone ist nun der Teil des festen Halbleitermaterials, welcher von der
aufschmelzenden Seite her in die Schmelzzone hineinragt, besonders groß, da beim Erstarren des Halbleitermaterials
die Schmelzwärme wieder frei wird, während die Schmelzwärme auf der aufschmelzenden
Seite der Schmelzzone dem festen Halbleitermaterial zugeführt werden muß.
Diese Nachteile können bei einer Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterial
mit einem in lotrechter Lage eingespannten, stabförmigen Halbleiterkörper und einer zur Erzeugung
der Schmelzzone dienenden, längs der Stabachse bewegbaren Heizeinrichtung sowie je einer zum Vorbzw.
Nachheizen des festen Halbleitermaterials dienenden zweiten und dritten Heizeinrichtung, die oberhalb
und unterhalb der ersten Heizeinrichtung angeordnet sind, verringert werden, wenn erfindungsgemäß
die Heizleistung der vorheizenden Heizein-Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen
von Halbleitermaterial
von Halbleitermaterial
Anmelder:
Siemens Aktiengesellschaft, Berlin und München, Erlangen, Werner-von-Siemens-Str. 50
Als Erfinder benannt:
Dr. rer. nat. Wolfgang Keller, Pretzfeld
richtung größer ist als die der nachheizenden Heizeinrichtung.
Als Heizeinrichtung ist grundsätzlich jede Heizeinrichtung geeignet, z. B. Strahlungsheizung, Induktionsheizung
oder Heizung durch Elektronenstrahlen. Besonders einfach ist die Beheizung mit Hilfe von
Induktionsspulen, da hierbei die Heizwirkung sowohl örtlich als auch in ihrer Größe besonders leicht dimensioniert
werden kann.
An Hand der Figuren wird die Erfindung näher erläutert.
In F i g. 1 ist ein Teil eines in bekannter Weise eingespannten Halbleiterstabes 2 dargestellt, welcher
eine Schmelzzone 3 enthält, die mit Hilfe einer Induktionsspule 4 erzeugt wird. Auf beiden Seiten der
Schmelzzone befinden sich Teile einer Zusatzheizeinrichtung, welche aus den Teilspulen 5 α und 5 b
besteht. Es sei angenommen, daß die Heizzone durch den Halbleiterstab von unten nach oben hindurchbewegt
wird, so daß das Halbleitermaterial an der Oberseite der Schmelzzone aufschmilzt und an der
Unterseite der Schmelzzone erstarrt. In diesem Fall wird die Heizleistung oberhalb der Schmelzzone
größer bemessen als unterhalb der Schmelzzone. Dies kann wie bei der Vorrichtung gemäß F i g. 1 dadurch
bewirkt werden, daß die Anzahl der Windungen der Teilspule 5 α größer bemessen wird als die der Teilspule
5 b. Beide Teilspulen werden zweckmäßig vom gleichen Strom durchflossen.
Es ist zwar bereits eine Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen bekannt, bei der über und
unter der Induktionsheizspule weitere Spulen angeordnet sind, die verschiedene Windungszahlen aufweisen.
Sie werden jedoch mit einem Strom gespeist, der nicht ausreicht um eine Heizwirkung zu erzielen
sondern wodurch nur eine Stützung und Formun: der Schmelzzone erreicht wird.
709 609/381
I 243
In Fig. 2 ist eine andere Ausführungsform dargestellt, bei der wiederum beide Spulenteile vom gleichen
Strom durchflossen werden. In diesem Fall ist der Abstand der Windungen der Teilspule 5 b von
dem Halbleitermaterial größer als der der Teilspule 5 a. Hierdurch wird die Ankopplung in der Teilspule
5 b verschlechtert und damit die dem Halbleitermaterial an dieser Stelle zugeführte Heizleistung vermindert.
Es kann aber auch beiden Teilspulen eine unterschiedliche Heizleistung dadurch zugeführt werden,
daß der zugeführte Strom eine unterschiedliche Größe aufweist. Außerdem kann die Ganghöhe der einzelnen
Teilspulen verschieden gewählt- sein. Gegebenenfalls kann die eine Teilspule als Flachspule wie die zur
Erzeugung der Schmelzzone dienende Spule 4 ausgebildet sein und die andere Teilspule als Zylinderspule,
wie in den Fig. 1 und 2 dargestellt. Gegebenenfalls können verschiedene dieser Maßnahmen
miteinander kombiniert werden.
Man kann beispielsweise mit einer Vorrichtung gemäß F i g. 1 einen Siliciumstab von etwa 25 mm
Durchmesser behändem, wobei die drei Spulen 4,5 α
und 5 b mit einer Geschwindigkeit von etwa 3 mm/min in Längsrichtung des Halbleiterstabes bewegt
werden. Der Spule 4 kann hierbei eine Heizleistung von etwa 2 kW zugeführt werden, während
den Spulen 5 α und 5 b eine Heizleistung von zusammen IkW zugeführt wird. Selbstverständlich
kann auch die Bewegungsrichtung der Schmelzzone durch den Halbleiterstab umgekehrt werden, in
diesem Fall ist die Heizleistung der Teilspulen 5 «und 5 b umgekehrt zu wählen. Bei einem Hin- und Herwandern
der Schmelzzone ist zweckmäßigerweise auf beiden Seiten der Schmelzzone eine gleichgroße Zusatzheizspule
vorzusehen. Beiden Zusatzheizspulen wird dann jeweils durch eine Umschaltung je nach
der Wanderungsrichtung der Schmelzzone eine unterschiedliche Heizleistung zugeführt.
Claims (3)
1. Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterial mit einem in lotrechter
Lage eingespannten, stabförmigen Halbleiterkörper und einer zur Erzeugung der Schmelzzone
dienenden, längs der Stabachse bewegbaren Heizeinrichtung sowie je einer zum Vor- bzw. Nachheizen
des* festen Halbleitermaterials dienenden zweiten und dritten Heizeinrichtung, die oberhalb
und unterhalb der ersten Heizeinrichtung angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet,
daß die Heizleistung der vorheizenden Heizeinrichtung größer ist als die der nachheizenden
Heizeinrichtung.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die zweite und dritte Heizeinrichtung
als Hochfrequenzinduktionsspulen ausgebildet sind, die vom gleichen Strom durchflossen
sind.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Induktionsspulen
verschiedene Windungszahlen aufweisen.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1147 206;
französische Patentschriften Nr. 1 315 934,
317 786,1 270 943.
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1147 206;
französische Patentschriften Nr. 1 315 934,
317 786,1 270 943.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
709 609/381 6.67 © Bundesdruckerei Berlin
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1963S0084953 DE1243642B (de) | 1963-04-27 | 1963-04-27 | Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterial |
CH50464A CH407062A (de) | 1963-04-27 | 1964-01-17 | Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterial |
GB1589564A GB1045526A (en) | 1963-04-27 | 1964-04-16 | A method of zone-by-zone melting a rod of semiconductor material |
BE647136D BE647136A (de) | 1963-04-27 | 1964-04-27 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1963S0084953 DE1243642B (de) | 1963-04-27 | 1963-04-27 | Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterial |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1243642B true DE1243642B (de) | 1967-07-06 |
Family
ID=7512062
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1963S0084953 Pending DE1243642B (de) | 1963-04-27 | 1963-04-27 | Vorrichtung zum tiegelfreien Zonenschmelzen von Halbleitermaterial |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
BE (1) | BE647136A (de) |
CH (1) | CH407062A (de) |
DE (1) | DE1243642B (de) |
GB (1) | GB1045526A (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5003551A (en) * | 1990-05-22 | 1991-03-26 | Inductotherm Corp. | Induction melting of metals without a crucible |
EP3945148A1 (de) | 2020-07-27 | 2022-02-02 | ScIDre Scientific Instruments Dresden GmbH | Laserbasierte nacherwärmung für das kristallwachstum |
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FR1317786A (de) * | 1961-03-17 | 1963-05-08 |
-
1963
- 1963-04-27 DE DE1963S0084953 patent/DE1243642B/de active Pending
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1964
- 1964-01-17 CH CH50464A patent/CH407062A/de unknown
- 1964-04-16 GB GB1589564A patent/GB1045526A/en not_active Expired
- 1964-04-27 BE BE647136D patent/BE647136A/xx unknown
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
BE647136A (de) | 1964-10-27 |
GB1045526A (en) | 1966-10-12 |
CH407062A (de) | 1966-02-15 |
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Date | Code | Title | Description |
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E771 | Valid patent as to the heymanns-index 1977, willingness to grant licences |