DE1221520B - Verfahren und Vorrichtung zum Gasplattieren mittels eines aus durch Verdampfen einerMetallverbindung erzeugten und einem auf deren Dampftemperatur erhitzten Traegergas erhaltenen Plattierungsgasgemisches - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zum Gasplattieren mittels eines aus durch Verdampfen einerMetallverbindung erzeugten und einem auf deren Dampftemperatur erhitzten Traegergas erhaltenen Plattierungsgasgemisches

Info

Publication number
DE1221520B
DE1221520B DEC12677A DEC0012677A DE1221520B DE 1221520 B DE1221520 B DE 1221520B DE C12677 A DEC12677 A DE C12677A DE C0012677 A DEC0012677 A DE C0012677A DE 1221520 B DE1221520 B DE 1221520B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
plating
gas
metal compound
temperature
carrier gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEC12677A
Other languages
English (en)
Inventor
Peter Pawlyk
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Union Carbide Corp
Original Assignee
Union Carbide Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Union Carbide Corp filed Critical Union Carbide Corp
Publication of DE1221520B publication Critical patent/DE1221520B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4481Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by evaporation using carrier gas in contact with the source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

  • Verfahren und Vorrichtung zum Gasplattieren mittels eines aus durch Verdampfen einer Metallverbindung erzeugten und einem auf deren Dampftemperatur erhitzten Trägergas erhaltenen Plattierungsgasgemisches Die Erfindung bezieht sich auf die Gasplattierung zum Überziehen von Gegenständen für technische oder Haushaltzwecke. Hierfür ist es bekannt, ein Plattierungsgasgemisch anzuwenden, das durch Verdampfen einer Metallverbindung und Vermischen mit einem auf deren Dampftemperatur für sich vorerhitzten inerten Trägergas erhalten ist und das nach Steigerung auf eine höhere, unterhalb der Zersetzungstemperatur der Metallverbindung liegende Temperatur in den Plattierungsraum geleitet und dort mit dem auf Zersetzungstemperatur der Metallverbindung erhitzten, zu plattierenden Gegenstand in Berührung gebracht wird.
  • Nach einem bekannten Verfahren wird die Metallverbindung in fester Form (Kupferacetylacetonat) in einem praktisch abgeschlossenen Raum erhitzt und das aus dem vorerhitzten Trägergas und den Metallverbindungsdämpfen erhaltene Gemisch zunächst durch einen Wärmeaustauscher geschickt, bevor es mit dem zur thermischen Zersetzung des Metallverbindungsdampfes geeignet hocherhitzten Gegenstand im Plattierungsraum in Berührung kommt.
  • Bei der praktischen Durchführung dieser Gasplattierungsverfahren hat sich gezeigt, daß sich gelegentlich Störungen in der gleichmäßigen Zuführung von Plattierungsgasgemisch einstellen, die zu uneinheitlichen Niederschlagungen führen, so daß die Beschichtungen in der Vollkommenheit ausfallen, wie dies für verschiedene Verwendungszwecke, wie vor allem für physikalische Geräte, Voraussetzung für Brauchbarkeit ist.
  • Es wurde gefunden, daß diese gelegentlichen, aber sehr nachteiligen Störungen ihre Ursache darin haben, daß sich in dem für die Erhitzung für die Metallverbindung dienenden Raum über dem Metallverbindungsmaterial ein Dampfdruck, z. B. von Carbonyl, entwickelt, so daß ein gleichmäßiges Abziehen behindert oder das Abziehen sogar zum Stocken kommt. Dadurch sind Leeiphasen bedingt, in denen nur Trägergas in die Plattierungskammer gelangt.
  • Das Verfahren gemäß der Erfindung ist demgemäß dadurch gekennzeichnet, daß zur Herstellung des aus dem Trägergas und einem Metallverbindungsdampf bestehenden Plattierungsgasgemisches die Metallverbindung auf eine über ihren Verdampfungspunkt, vorzugsweise etwa 10 bis 40° C, erhöhte Temperatur unter gleichzeitigem Vermischen mit dem auf etwa gleich erhöhte Temperatur vorerhitzten Trägergas erhitzt wird.
  • Durch dieses Verfahren gelingt es, die vorstehend aufgezeigten Störungen auf einfache Weise zu vermeiden, die bisher dadurch entstehen konnten, daß im Mischgefäß und Wärmeaustauscher eine der Verdampfungstemperatur allenfalls gleiche Temperatur für ausreichend gehalten und gegebenenfalls sogar eine gegenüber der Verdampfungstemperatur tiefere Temperatur für ausreichend angesehen worden ist.
  • Wie sich gezeigt hat, wird durch die Erhitzung der Metallverbindung auf eine Temperatur über ihrer Verdampfungstemperatur zuverlässig erreicht, daß unter den physikalischen Bedingungen, wie sie im System vorliegen, dauernd ausreichende Mengen Metallverbindungsdampf abströmen können und damit für den Gesamtplattierungsvorgang die gleichbleibende Zusammensetzung des Plattierungsgasgemisches gewährleistet ist.
  • Als vorteilhaft. hat es sich erwiesen, wenn das vorerhitzte Gemisch aus Trägergas und Metallverbindungsdampf stufenweise zunächst zur Stabilisierung der Gastemperatur weitererhitzt und anschließend erst auf eine höhere, aber unterhalb Zersetzungstemperatur der Metallverbindung liegende Temperatur erhitzt wird. Diese Maßnahme ist besonders dann von Bedeutung., wenn zwischen Verdampfungstemperatur und Zersetzungstemperatur der Metallverbindung ein größerer Unterschied vorhanden ist, d. h. wenn es sich um Metallverbindungen mit verhältnismäßig hohen Zersetzungstemperaturen handelt. Zur weiteren Erläuterung der Erfindung wird auf die Zeichnung verwiesen.
  • F i g. 1 zeigt schematisch die Anordnung einer Gasplattierungsanlage, wie sie im Prinzip bekannt ist, bis auf die Ausbildung des Verdampfer- und Mischgefäßes, welches in F i g. 2 vergrößert in einem Längsschnitt gezeigt ist; F i g. 3 stellt den ölbadbehälter mit dem beheizbaren Teil der Inertgasleitung und den Misch- und Verdampfbehälter dar; F i g. 4 zeigt eine andere Ausführungsform der in F i g. 2 gezeigten Vorrichtungsteile; F i g. 5 ist eine Einzeldarstellung zur Veranschaulichung der Füllungsweise mit Festkörpern im Mischgefäß und F i g. 6 eine andere Füllungsanordnung.
  • Wie die F i g. 1 zeigt, wird aus der Gasflasche 10 inertes Trägergas, z. B. verflüssigtes Kohlendioxyd, über das Ventil 28 und die Kupferrohrleitung 9 mit der Meßvorrichtung 36 in das Verdampfer- und Mischgefäß 4 eingeleitet. Die Kupferrohrleitung 9 ist in Form einer Spirale 7 um das Gefäß 4 geführt. Durch die Öffnung 5 (F i g. 2) im Boden des Gefäßes 4 tritt das Gas in das Gefäß 4 ein. Die Spirale 7 und das Gefäß 4 tauchen vollkommen in das Ölbad 3 ein, das mittels des elektrischen Heizelementes 29 beheizt wird. Zur Regelung der Temperatur des Ölbades 3 dient der Thermostat 37, der mittels der Zuführung 38 am Heizelement befestigt ist.
  • An die der Öffnung 5 gegenüberliegenden Abzugsöffnung 6 des Gefäßes 4 schließt sich die Leitung 12 zur Plattierungskammer 24 an. Diese Leitung 12 ist von einem Isoliermantel 33, z. B. aus Asbest, umkleidet; sie kann auch aus wärmeisolierendem Material bestehen. Die Leitung 12 ist von dem Heizelement 11 umgeben.
  • Die Plattierungskammer 24 ist so ausgebildet, daß sie das zu plattierende Werkstück aufnehmen kann. Sie kann aber auch aus dem zu plattierenden Werkstück selbst bestehen, beispielsweise dann, wenn, wie F i g. 1 zeigt, die Innenwände eines Werkstückes mit Metall ausgekleidet werden sollen. Zu diesem Zweck ist das Rohrstück 24, das als Kammer dient, an beiden Enden durch Flansche 30 und 31 verschlossen. Durch die Flansche sind dann die Zuleitung 12 und die Abzugsleitung 32 geführt, die ihrerseits an eine Vakuumpumpe angeschlossen ist. Das Rohrstück ist mit Asbest 25 umkleidet. Auf dieser Umkleidung ist weiterhin die elektrische Heizspule 26 angeordnet.
  • In weiterer Ausgestaltung der Erfindung ist zur Aufnahme des die Metalldampfverbindung liefernden Materiales, das aus mit Glaswolle oder Glasperlen vermischt oder unvermischt vorgeformten perlenförmigen Füllkörpern besteht, das als Verdampfer dienende Gefäß 4 durch Netze, Siebe od. dgl. unterteilt. Wie aus F i g. 2 ersichtlich ist, sind hierfür die feinmaschigen Netze paarweise mit Abstand voneinander angeordnet, wobei die Netze 15 voneinander durch Schichten 14 aus Glaswolle getrennt sind. Zwischen je zwei Netzen befindet sich eine Lage von z. B. Chromcarbonyl. Besonders feinmaschige Netze 16 liegen vor der Zuleitung 5 und der Ableitung 6, um dadurch eine besonders gute Verteilung zu gewährleisten. Die Vermischung mit Glasperlen oder die Füllung unvermischt in Form vorgeformter perlenförmiger Füllkörper zeigen die F i g. 5 und 6, in denen mit 21 Glasperlen bezeichnet sind, die mit festen Teilchen 22 aus Chromcarbonyl durchsetzt sind. In F i g. 6 sind mit 23 Perlen aus Chromcarbonyl bezeichnet, die durch feinmaschige Netze 35 zusammengehalten werden.
  • Wie F i g. 3 zeigt, können die Rohrschlange 7 und der Behälter 4 jeweils voneinander getrennt in ein Ölbad eingetaucht sein, wobei zwischen beiden ein Abstandsstück 17 angeordnet ist. Eine solche Anordnung wird verwendet, wenn nur geringe Temperaturschwankungen im Ölbad auftreten, vor allem dann, wenn die Metallverbindungen flüssig sind und damit eine besonders vereinfachte Neubeschickung des Verdampfers möglich ist. Besonders vorteilhaft ist jedoch eine Anordnung für die Durchführung des Verfahrens, wie sie F i g. 4 zeigt, bei der ein in einem ersten Heizbehälter angeordneter, mit einer Rohrschlange umgebener Verdampfer durch eine aus diesem führenden, mit einem Heizkörper ummantelten Rohrleitung zu einem weiteren Heizbehälter mit einer darin angeordneten Rohrschlange führt, deren aus dem Heizbehälter auftretendes Ende wiederum mit einem Heizmantel umgeben ist. In der Zeichnung ist der Heizmantel 20 am Ende einer Rohrleitung angeordnet, die z. B. als Kupferrohr 9 in Form der Spirale 7 in dem ersten Heizbehälter 3 dem Verdampfer 4 zugeordnet ist. Aus dem Heizbehälter 3 ist das spiralförmige Kupferrohr als Rohrleitung 12 herausgeführt, die von dem Heizkörper 11 umgeben ist und die in die Bohrschlange 34 übergeht, die in dem Ölbad 19 des Behälters 18 angeordnet ist und deren aus dem Ölbad herausführendes Ende von dem Heizmantel 20 umgeben ist. Eine solche Anordnung erlaubt eine einwandfreie Stabilisierung der Temperatur des Plattierungsgasgemisches, da die mit konstanter Temperatur aus dem zweiten Behälter abfließende Mischung der Temperatureinwirkung des Heizmantels 20 ausgesetzt ist.
  • Bei der praktischen Durchführung muß, wie üblich, darauf geachtet werden, daß saubere Werkstücke für die Plattierung verwendet werden. Vor dem Einführen der Plattierungsgase ist die Vorrichtung luftleer zu machen und vor dem Einleiten des inerten Gases zum Ausspülen dessen Temperatur der des Ölbades anzupassen. Auch die . Metallteilchen sind auf die Arbeitstemperatur vorzuwärmen. Als Metallverbindungen kommen feste Verbindungen, wie z. B. Molybdäncarbonyl, Wolfram- oder Kobaltcarbonyl, wie auch Flüssigkeiten, z. B. Nickelcarbonyl und Eisenpentacarbonyl u. a. in Betracht. Geeignet sind auch Hydride von Antimon und Zinn, ferner Chromylchlorid, Kupfernitroxyl sowie Kobalt und Nitroxylcarbonyl.

Claims (4)

  1. Patentansprüche: 1. Verfahren zum Gasplattieren mittels eines Plattierungsgasgemisches, das durch Verdampfen einer Metallverbindung und Vermischen mit einem auf deren Dampftemperatur für sich vorerhitzten inerten Trägergas erhalten ist und auf eine höhere, unterhalb der Zersetzungstemperatur der Metallverbindung liegende Temperatur gesteigert in den Plattierungsraum geleitet und dort mit dem auf Zersetzungstemperatur der Metallverbindung erhitzten, zu plattierenden Gegenstand in Berührung gelangt, d a d u r c h g e -k e n n z e i c h n e t, daß zur Herstellung des aus dem Trägergas und einem Metallverbindungsdampf bestehenden Plattierungsgasgemisches die Metallverbindung auf eine über ihren Verdampfungspurikt, vorzugsweise etwa 10 bis 40° C, erhöhte Temperatur unter gleichzeitigem Vermischen mit dem auf etwa gleich erhöhte Temperatur vorerhitzten Trägergas erhitzt wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das vorerhitzte Gemisch aus Trägergas und Metallverbindungsdampf stufenweise zunächst zur Stabilisierung der Gastemperatur weitererhitzt und anschließend erst auf eine höhere, aber unterhalb Zersetzungstemperatur der Metallverbindung liegende Temperatur gesteigert wird.
  3. 3. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 2, gekennzeichnet durch einen in einem ersten Heizbehälter (3) angeordneten mit einer Rohrschlange (7) umgebenen Verdampfer (4), einer aus dem Verdampfer führenden, mit einem Heizkörper (11) ummantelten Rohrleitung (12), die in eine in einem weiteren Heizbehälter (19) angeordnete Rohrschlange (34) übergeht, deren aus dem Heizbehälter austretendes Ende wiederum mit einem Heizmantel (20) umgeben ist.
  4. 4. Anordnung zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Verdampfer durch Netze, Siebe od. dgl. unterteilt ist zur Aufnahme des die Metalldampfverbindung liefernden Materials, das mit Glaswolle oder Glasperlen vermischt oder unvermischt in Form von vorgeformten perlenförmigen Füllkörpern angeordnet ist. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschriften Nr. 533 644, 539 269; schweizerische Patentschriften Nr. 265 192, 290 065; französische Patentschrift Nr. 1030 726; britische Patentschrift Nr. 733 248; USA.-Patentschriften Nr. 2 516 056, 2 685 532.
DEC12677A 1955-07-07 1956-03-08 Verfahren und Vorrichtung zum Gasplattieren mittels eines aus durch Verdampfen einerMetallverbindung erzeugten und einem auf deren Dampftemperatur erhitzten Traegergas erhaltenen Plattierungsgasgemisches Pending DE1221520B (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US1221520XA 1955-07-07 1955-07-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1221520B true DE1221520B (de) 1966-07-21

Family

ID=22400996

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEC12677A Pending DE1221520B (de) 1955-07-07 1956-03-08 Verfahren und Vorrichtung zum Gasplattieren mittels eines aus durch Verdampfen einerMetallverbindung erzeugten und einem auf deren Dampftemperatur erhitzten Traegergas erhaltenen Plattierungsgasgemisches

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1221520B (de)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0325319A1 (de) * 1988-01-16 1989-07-26 Philips Patentverwaltung GmbH Verfahren zum Erzeugen eines mit dem Dampf eines wenig flüchtigen Stoffes angereicherten Gasstroms
DE102006043755A1 (de) * 2006-09-13 2008-03-27 Eads Deutschland Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Verdampfen einer Vorläufersubstanz für die Beschichtung eines Substrats, sowie Beschichtungssystem
DE102007020852A1 (de) * 2007-05-02 2008-11-06 Stein, Ralf Gasversorgungssystem und Verfahren zur Bereitstellung eines gasförmigen Abscheidungsmediums
DE102009049839A1 (de) * 2009-10-16 2011-12-15 Calyxo Gmbh Gasverdampfer für Beschichtungsanlagen
DE102012022744A1 (de) * 2012-11-21 2014-05-22 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Vorrichtung zum Einstellen einer Gasphase in einer Reaktionskammer

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE533644C (de) * 1930-04-16 1931-09-18 Patra Patent Treuhand Verfahren zur Herstellung von UEberzuegen auf elektrisch leitenden Draehten, Faeden,Baendern o. dgl.
DE539269C (de) * 1927-09-25 1931-11-24 C H Boehringer Sohn Akt Ges Verfahren zur Herstellung von Maleinsaeureanhydrid und Maleinsaeure
CH265192A (de) * 1948-02-20 1949-11-30 Schweizerhall Saeurefab Verfahren und Vorrichtung zur Zersetzung flüchtiger Metallchloride.
US2516056A (en) * 1946-02-26 1950-07-18 Rca Corp Method for tuning cascade tuned circuits
CH290065A (fr) * 1949-12-06 1953-04-15 Nat D Etudes Et De Rech Aerona Procédé de formation d'alliages superficiels de diffusion, notamment de chrome.
FR1030726A (fr) * 1950-12-13 1953-06-16 Onera (Off Nat Aerospatiale) Perfectionnements apportés aux procédés pour la formation d'alliages superficielsde diffusion mixtes, notamment d'alliages à base de chrome
US2685532A (en) * 1951-10-08 1954-08-03 Ohio Commw Eng Co Gas plating with chromium hexacarbonyl
GB733248A (en) * 1952-03-27 1955-07-06 Erie Resistor Corp Copper coating for ceramics

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE539269C (de) * 1927-09-25 1931-11-24 C H Boehringer Sohn Akt Ges Verfahren zur Herstellung von Maleinsaeureanhydrid und Maleinsaeure
DE533644C (de) * 1930-04-16 1931-09-18 Patra Patent Treuhand Verfahren zur Herstellung von UEberzuegen auf elektrisch leitenden Draehten, Faeden,Baendern o. dgl.
US2516056A (en) * 1946-02-26 1950-07-18 Rca Corp Method for tuning cascade tuned circuits
CH265192A (de) * 1948-02-20 1949-11-30 Schweizerhall Saeurefab Verfahren und Vorrichtung zur Zersetzung flüchtiger Metallchloride.
CH290065A (fr) * 1949-12-06 1953-04-15 Nat D Etudes Et De Rech Aerona Procédé de formation d'alliages superficiels de diffusion, notamment de chrome.
FR1030726A (fr) * 1950-12-13 1953-06-16 Onera (Off Nat Aerospatiale) Perfectionnements apportés aux procédés pour la formation d'alliages superficielsde diffusion mixtes, notamment d'alliages à base de chrome
US2685532A (en) * 1951-10-08 1954-08-03 Ohio Commw Eng Co Gas plating with chromium hexacarbonyl
GB733248A (en) * 1952-03-27 1955-07-06 Erie Resistor Corp Copper coating for ceramics

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0325319A1 (de) * 1988-01-16 1989-07-26 Philips Patentverwaltung GmbH Verfahren zum Erzeugen eines mit dem Dampf eines wenig flüchtigen Stoffes angereicherten Gasstroms
US4947790A (en) * 1988-01-16 1990-08-14 U.S. Philips Corporation Arrangement for producing a gas flow which is enriched with the vapor of a low-volatile substance
DE102006043755A1 (de) * 2006-09-13 2008-03-27 Eads Deutschland Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Verdampfen einer Vorläufersubstanz für die Beschichtung eines Substrats, sowie Beschichtungssystem
DE102006043755B4 (de) * 2006-09-13 2009-05-07 Eads Deutschland Gmbh Beschichtungssystem und Beschichtungsverfahren
DE102007020852A1 (de) * 2007-05-02 2008-11-06 Stein, Ralf Gasversorgungssystem und Verfahren zur Bereitstellung eines gasförmigen Abscheidungsmediums
DE102009049839A1 (de) * 2009-10-16 2011-12-15 Calyxo Gmbh Gasverdampfer für Beschichtungsanlagen
DE102009049839B4 (de) * 2009-10-16 2012-12-06 Calyxo Gmbh Gasverdampfer für Beschichtungsanlagen sowie Verfahren zu dessen Betreiben
DE102012022744A1 (de) * 2012-11-21 2014-05-22 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Vorrichtung zum Einstellen einer Gasphase in einer Reaktionskammer
DE102012022744B4 (de) * 2012-11-21 2016-11-24 Helmholtz-Zentrum Berlin Für Materialien Und Energie Gmbh Vorrichtung zum Einstellen einer Gasphase in einer Reaktionskammer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2412561B2 (de) Vorrichtung zum Direktabschrecken des heißen gasförmigen Produktes der Kohlenwasserstoff-Pyrolyse
DE2418235A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von metallfasern
DE1221520B (de) Verfahren und Vorrichtung zum Gasplattieren mittels eines aus durch Verdampfen einerMetallverbindung erzeugten und einem auf deren Dampftemperatur erhitzten Traegergas erhaltenen Plattierungsgasgemisches
DE1929422A1 (de) Vorrichtung zum epitaktischen Abscheiden von Halbleitermaterial
DE1109002B (de) Verfahren zum Vernickeln oder Verchromen von Aluminiumgegenstaenden durch Gasplattieren
DE533644C (de) Verfahren zur Herstellung von UEberzuegen auf elektrisch leitenden Draehten, Faeden,Baendern o. dgl.
DE872938C (de) Verfahren und Vorrichtung zur Durchfuehrung exothermer katalytischer Gasreaktionen
DE2540053C2 (de) Verfahren zum Dotieren von III/V-Halbleiterkörpern
DE890349C (de) Roehrenwaermeaustauscher
DE1451165B2 (de) Abschreckvorrichtung zum Kuhlen eines unter hohem Druck stehenden heißen Gases
DE3543390A1 (de) Verfahren zur verfluessigung oder verfestigung von bei normaltemperatur in der gasphase befindlichen kondensierbaren stoffen, anwendung des verfahren und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens
DE7029479U (de) Vorrichtung zum erhitzen von stroemungsmitteln.
DE606603C (de) Massezylinder fuer Spritzmaschinen fuer plastische Massen
DE536053C (de) Kuehlvorrichtung mit Spritzduese
DE1667771A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Draehten und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens
DE1451165C (de) Abschreckvorrichtung zum Kuhlen eines unter hohem Druck stehenden heißen Gases
DE553156C (de) Elektrisch beheizter Verdampfer, insbesondere zur Erzeugung von Schutzgas fuer Schweisslichtboegen
AT114023B (de) Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von an Methan und Leuchtstoffen reichen Gasen.
DE443125C (de) Vorrichtung zum schnellen Erhitzen von geringen Mengen von verdampf-bzw. vergasbarenfesten Stoffen auf hohe Temperaturen
DE3214067A1 (de) Vorrichtung zur erhoehung der temperatur einer geologischen von einem bohrloch durchsetzten formation
DE711182C (de) Vorrichtung zur Erzeugung von Schutzgas aus unvollkommen verbrannten Heizgasen
DE270795C (de)
DE1817339C3 (de) Verfahren zum Herstellen eines Carbonitrid-Überzuges
DE822230C (de) Apparat zur Herstellung von destilliertem Wasser, insbesondere fuer medizinische Zwecke
DE738146C (de) Verfahren zur Durchfuehrung thermischer Zersetzungen