DE1084848B - Photowiderstand - Google Patents

Photowiderstand

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DE1084848B
DE1084848B DEF27960A DEF0027960A DE1084848B DE 1084848 B DE1084848 B DE 1084848B DE F27960 A DEF27960 A DE F27960A DE F0027960 A DEF0027960 A DE F0027960A DE 1084848 B DE1084848 B DE 1084848B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
light
photoresistor
protective
decals
sensitivity
Prior art date
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Pending
Application number
DEF27960A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Dr-Ing Walter Heimann
Dr-Ing Helmut Johannson
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
FORSCHUNGSLABORATORIUM HEIMANN W PROF DR ING
FORSCHUNGSLABORATORIUM PROF
Original Assignee
FORSCHUNGSLABORATORIUM HEIMANN W PROF DR ING
FORSCHUNGSLABORATORIUM PROF
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Publication date
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Priority to CH216560A priority patent/CH391125A/de
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CH216560A CH391125A (de) 1959-03-14 1960-02-26 Verfahren zur Herstellung von photoelektrischen Baueinheiten vorgegebener Empfindlichkeit
NL249410A NL113052C (nl) 1959-03-14 1960-03-14 Fotoweerstand

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CH391125A (de) 1965-04-30
NL249410A (enrdf_load_stackoverflow) 1966-02-15
NL113052C (nl) 1966-07-15

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