DE102018215310A1 - Integrierte Halbleiterschaltung - Google Patents

Integrierte Halbleiterschaltung Download PDF

Info

Publication number
DE102018215310A1
DE102018215310A1 DE102018215310.8A DE102018215310A DE102018215310A1 DE 102018215310 A1 DE102018215310 A1 DE 102018215310A1 DE 102018215310 A DE102018215310 A DE 102018215310A DE 102018215310 A1 DE102018215310 A1 DE 102018215310A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
circuit
control signal
isolation
semiconductor integrated
preferred
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE102018215310.8A
Other languages
English (en)
Inventor
Motoki Imanishi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Publication of DE102018215310A1 publication Critical patent/DE102018215310A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/16Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits
    • H01L25/162Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof the devices being of types provided for in two or more different main groups of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. forming hybrid circuits the devices being mounted on two or more different substrates
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • H03K17/689Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors with galvanic isolation between the control circuit and the output circuit
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • H03K17/689Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors with galvanic isolation between the control circuit and the output circuit
    • H03K17/691Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors with galvanic isolation between the control circuit and the output circuit using transformer coupling
    • HELECTRICITY
    • H04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04LTRANSMISSION OF DIGITAL INFORMATION, e.g. TELEGRAPHIC COMMUNICATION
    • H04L25/00Baseband systems
    • H04L25/02Details ; arrangements for supplying electrical power along data transmission lines
    • H04L25/0264Arrangements for coupling to transmission lines
    • H04L25/0266Arrangements for providing Galvanic isolation, e.g. by means of magnetic or capacitive coupling

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

Vorgesehen ist eine integrierte Halbleiterschaltung, die eine Isolationssicherheit zwischen einer Hochspannungsschaltung und einer Niederspannungsschaltung verbessert. Die integrierte Halbleiterschaltung umfasst das Folgende: eine erste Schaltung, die durch ein Steuersignal niedriger Spannung gesteuert und bei einer höheren Spannung angesteuert wird; eine zweite Schaltung, die dafür eingerichtet ist, das Steuersignal an die erste Schaltung abzugeben, um das Ansteuern der ersten Schaltung zu steuern; und eine Vielzahl von Isolationsschaltungen, die jeweils ein isolierendes Elements enthalten, wobei die Vielzahl von Isolationsschaltungen zwischen der ersten und der zweiten Schaltung in Reihe verbindet. Jede Isolationsschaltung ist dafür eingerichtet, das Steuersignal in dem isolierenden Element magnetisch oder kapazitiv zu koppeln, um es von der zweiten Schaltung zur ersten Schaltung zu übertragen, und ist dafür eingerichtet, die erste Schaltung von der zweiten Schaltung im isolierenden Element zu isolieren, um zu verhindern, dass die höhere Spannung von der ersten Schaltung an die zweite Schaltung angelegt wird.

Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • Gebiet der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf integrierte Halbleiterschaltungen.
  • Beschreibung des Stands der Technik
  • Isolationsschaltungen (Isolatoren) wurden herkömmlicherweise jeweils zwischen einer zentralen Verarbeitungseinheit (CPU), die eine auf einer höheren Ebene eines Systems positionierte Steuerschaltung bildet, und einem Halbleiter-Schaltelement angeordnet, das bei einer hohen Spannung im System angesteuert wird. Beispielsweise offenbart die offengelegte japanische Patentanmeldung Nr. 2013-51547 eine integrierte Halbleiterschaltung, die eine Isolationsschaltung wie etwa einen Optokoppler oder einen digitalen Isolator enthält. Die integrierte Halbleiterschaltung überträgt ein Signal, während eine Übertragungsschaltung von einer Empfangsschaltung isoliert wird.
  • Der Optokoppler oder der digitale Isolator weist einen isolierenden Bereich auf, der aus einer organischen Verbindung besteht. Ein Anlegen einer Spannung, die größer als eine oder gleich einer dielektrischen Festigkeit bzw. Durchschlagsfestigkeit über den isolierenden Bereich innerhalb des Isolators ist, erzeugt einen elektrischen Durchschlag, um einen Kurzschlussstrom durch den isolierenden Teil hindurchfließen zu lassen. Die auf einer höheren Ebene des Systems angeordnete CPU und das Innere des Systems, an das eine hohe Spannung angelegt wird, sind leider nicht länger voneinander isoliert.
  • ZUSAMMENFASSUNG
  • Es ist eine Aufgabe der Beschreibung, eine integrierte Halbleiterschaltung vorzusehen, die eine Isolationssicherheit zwischen einer bei einer hohen Spannung angesteuerten Schaltung und einer bei einer niedrigeren Spannung als der hohen Spannung angesteuerten Schaltung verbessert.
  • Ein Aspekt der Beschreibung sieht eine integrierte Halbleiterschaltung vor, die das Folgende enthält: eine erste Schaltung, die durch ein Steuersignal niedriger Spannung gesteuert und bei einer höheren Spannung als das Steuersignal niedriger Spannung angesteuert wird; eine zweite Schaltung, die dafür eingerichtet ist, das Steuersignal niedriger Spannung an die erste Schaltung abzugeben, um das Ansteuern der ersten Schaltung zu steuern; und eine Vielzahl von Isolationsschaltungen, die jeweils ein isolierendes Element enthalten, wobei die Vielzahl von Isolationsschaltungen zwischen der ersten Schaltung und der zweiten Schaltung in Reihe verbindet. Jede Isolationsschaltung ist dafür eingerichtet, das Steuersignal in dem isolierenden Element magnetisch zu koppeln oder kapazitiv zu koppeln, um das Steuersignal von der zweiten Schaltung zur ersten Schaltung zu übertragen, und ist dafür eingerichtet, die erste Schaltung von der zweiten Schaltung in dem isolierenden Element zu isolieren, um zu verhindern, dass die höhere Spannung von der ersten Schaltung an die zweite Schaltung angelegt wird.
  • Die integrierte Halbleiterschaltung gemäß dem Aspekt der Beschreibung verbessert eine Isolationssicherheit zwischen einer bei einer hohen Spannung angesteuerten Schaltung und einer bei einer niedrigeren Spannung als der hohen Spannung angesteuerten Schaltung.
  • Diese und andere Aufgaben, Merkmale, Aspekte und Vorteile der vorliegenden Erfindung werden aus der folgenden detaillierten Beschreibung der vorliegenden Erfindung ersichtlicher werden, wenn sie in Verbindung mit den beiliegenden Zeichnungen vorgenommen wird.
  • Figurenliste
    • 1 ist ein Diagramm einer Konfiguration einer integrierten Halbleiterschaltung gemäß einer ersten bevorzugten Ausführungsform;
    • 2 ist ein Diagramm einer Konfiguration einer integrierten Halbleiterschaltung gemäß einer zweiten bevorzugten Ausführungsform;
    • 3 ist ein Diagramm einer Konfiguration einer integrierten Halbleiterschaltung gemäß einer dritten bevorzugten Ausführungsform;
    • 4 ist ein Diagramm einer Konfiguration einer integrierten Halbleiterschaltung gemäß einer vierten bevorzugten Ausführungsform; und
    • 5 ist ein Diagramm einer Konfiguration einer integrierten Halbleiterschaltung gemäß einer fünften bevorzugten Ausführungsform.
  • BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • <Erste bevorzugte Ausführungsform>
  • Das Folgende beschreibt eine integrierte Halbleiterschaltung gemäß einer ersten bevorzugten Ausführungsform. 1 ist ein Diagramm einer Konfiguration der integrierten Halbleiterschaltung gemäß der ersten bevorzugten Ausführungsform.
  • Die integrierte Halbleiterschaltung umfasst eine erste Schaltung 10, eine zweite Schaltung 20 und eine Vielzahl von Isolationsschaltungen 30.
  • Die erste Schaltung 10 enthält ein Schaltelement und ist auf einer niedrigeren Ebene eines (nicht dargestellten) Systems angeordnet. Die erste Schaltung 10 empfängt ein Steuersignal niedriger Spannung von der zweiten Schaltung 20 und wird bei einer höheren Spannung als das Steuersignal niedriger Spannung angesteuert. Das Schaltelement gibt die hohe Spannung zum Beispiel als Antwort auf den Empfang des Steuersignals niedriger Spannung ab. In der ersten bevorzugten Ausführungsform ist das Schaltelement eine Leistungs-Halbleitervorrichtung genannte Halbleitervorrichtung, an die die hohe Spannung angelegt wird.
  • Die zweite Schaltung 20 ist auf einer höheren Ebene des Systems angeordnet und ist beispielsweise eine CPU. Die zweite Schaltung 20 gibt das Steuersignal niedriger Spannung an die erste Schaltung 10 ab, um das Ansteuern der ersten Schaltung 10 zu steuern.
  • Jede Isolationsschaltung 30 verbindet zwischen der ersten Schaltung 10 und der zweiten Schaltung 20 in Reihe. In der ersten bevorzugten Ausführungsform ist eine Anzahl N Isolationsschaltungen 30, die von n = 1 bis n = N reichen, in Reihe verbunden (N ist eine natürliche Zahl größer oder gleich Eins).
  • Jede Isolationsschaltung 30 enthält ein isolierendes Element, das in 1 nicht dargestellt ist.
  • Jede Isolationsschaltung 30 koppelt magnetisch oder koppelt kapazitiv das Steuersignal in dem isolierenden Element, um das Steuersignal von der zweiten Schaltung 20 zur ersten Schaltung 10 zu übertragen. Ferner isoliert die Isolationsschaltung 30 die erste Schaltung 10 von der zweiten Schaltung 20 in dem isolierenden Element, um zu verhindern, dass die höhere Spannung von der ersten Schaltung 10 an die zweite Schaltung 20 angelegt wird.
  • Selbst wenn ein elektrischer Durchschlag in dem isolierenden Element, das in irgendeiner der Isolationsschaltungen enthalten ist, erzeugt wird, ermöglicht die integrierte Halbleiterschaltung, dass die verbleibenden Isolationsschaltungen die erste Schaltung 10 von der zweiten Schaltung 20 sicher isolieren. Außerdem ermöglicht die integrierte Halbleiterschaltung, dass das System, an das die hohe Spannung angelegt wird, und Komponenten, die die bei der niedrigeren Spannung als der hohen Spannung angesteuerte CPU enthalten, sicher voneinander isoliert werden. Das heißt, die integrierte Halbleiterschaltung in der ersten bevorzugten Ausführungsform verbessert eine Isolationssicherheit zwischen der bei der niedrigen Spannung angesteuerten zweiten Schaltung 20 und der bei der höheren Spannung als der niedrigen Spannung angesteuerten ersten Schaltung 10.
  • <Zweite bevorzugte Ausführungsform>
  • Das Folgende beschreibt eine integrierte Halbleiterschaltung gemäß einer zweiten bevorzugten Ausführungsform. Es wird besonders erwähnt, dass ähnliche Komponenten und ähnliche Operationen zwischen der ersten bevorzugten Ausführungsform und der zweiten bevorzugten Ausführungsform hier nicht weiter ausgeführt werden.
  • 2 ist ein Diagramm einer Konfiguration der integrierten Halbleiterschaltung gemäß der zweiten bevorzugten Ausführungsform.
  • Zumindest eine einer Vielzahl von Isolationsschaltungen 30, die zwischen der ersten Schaltung 10 und der zweiten Schaltung 20 in Reihe verbinden, enthält ein magnetisches Kopplungselement 41 als isolierendes Element. In der zweiten bevorzugten Ausführungsform verbinden zwei Isolationsschaltungen 31 zwischen der ersten Schaltung 10 und der zweiten Schaltung 20 in Reihe. Jede Isolationsschaltung 31 ist beispielsweise ein digitaler Isolator. Das magnetische Kopplungselement 41 ist zum Beispiel ein Transformator. Die Anzahl von Isolationsschaltungen 31 für eine serielle Verbindung ist nicht auf Zwei begrenzt. Eine Anzahl N Isolationsschaltungen 31 kann in Reihe verbunden werden.
  • Jede Isolationsschaltung 31 koppelt das von der zweiten Schaltung 20 abgegebene Steuersignal in dem magnetischen Kopplungselement 41 magnetisch, um das Steuersignal zur ersten Schaltung 10 übertragen.
  • Eine serielle Verbindung zwischen Isolationsschaltungen kann entsprechend der Anzahl in Reihe verbundener Isolationsschaltungen eine Verzögerung in einer Signalübertragung erzeugen. In der integrierten Halbleiterschaltung in der zweiten bevorzugten Ausführungsform arbeitet jedoch der Transformator, der das magnetische Kopplungselement 41 ist, bei einer sehr hohen Frequenz, und somit wird die Verzögerung in einer Signalübertragung reduziert.
  • <Dritte bevorzugte Ausführungsform>
  • Das Folgende beschreibt eine integrierte Halbleiterschaltung gemäß einer dritten bevorzugten Ausführungsform. Es wird besonders erwähnt, dass ähnliche Komponenten und ähnliche Operationen zwischen der ersten oder zweiten bevorzugten Ausführungsform und der dritten bevorzugten Ausführungsform hier nicht weiter ausgeführt werden.
  • 3 ist ein Diagramm einer Konfiguration der integrierten Halbleiterschaltung gemäß der dritten bevorzugten Ausführungsform.
  • Zumindest eine einer Vielzahl von Isolationsschaltungen 30, die zwischen der ersten Schaltung 10 und der zweiten Schaltung 20 in Reihe verbinden, enthält ein kapazitives Kopplungselement 42 als isolierendes Element. In der dritten bevorzugten Ausführungsform verbinden zwei Isolationsschaltungen 32 zwischen der ersten Schaltung 10 und der zweiten Schaltung 20 in Reihe. Jede Isolationsschaltung 32 ist zum Beispiel ein digitaler Isolator. Die kapazitive Kopplungselement 42 ist beispielsweise ein Kondensator. Es wird besonders erwähnt, dass die Anzahl von Isolationsschaltungen 32 für eine serielle Verbindung nicht auf Zwei begrenzt ist. Eine Anzahl N Isolationsschaltungen 32 kann in Reihe verbunden sein.
  • Jede Isolationsschaltung 32 koppelt das von der zweiten Schaltung 20 abgegebene Steuersignal im kapazitiven Kopplungselement 42 kapazitiv, um das Steuersignal zur ersten Schaltung 10 zu übertragen.
  • In der integrierten Halbleiterschaltung ermöglicht eine Kapazität, die das kapazitive Kopplungselement 42 bildet, z.B. die Dicke eines isolierenden Films, die Steuerung einer Durchschlagsfestigkeit.
  • <Vierte bevorzugte Ausführungsform>
  • Das Folgende beschreibt eine integrierte Halbleiterschaltung gemäß einer vierten bevorzugten Ausführungsform. Es wird besonders erwähnt, dass ähnliche Komponenten und ähnliche Operationen zwischen irgendeiner der ersten bis dritten bevorzugten Ausführungsformen und der vierten bevorzugten Ausführungsform hier nicht weiter ausgeführt werden.
  • 4 ist ein Diagramm einer Konfiguration der integrierten Halbleiterschaltung gemäß der vierten bevorzugten Ausführungsform.
  • Zumindest eine einer Vielzahl von Isolationsschaltungen 30, die zwischen der ersten Schaltung 10 und der zweiten Schaltung 20 in Reihe verbinden, enthält das magnetische Kopplungselement 41 als isolierendes Element. Außerdem enthält zumindest eine andere der Vielzahl von Isolationsschaltungen 30 das kapazitive Kopplungselement 42 als isolierendes Element. Das heißt, die integrierte Halbleiterschaltung enthält eine Kombination einer Isolationsschaltung 31, die das magnetische Kopplungselement 41 enthält, und einer Isolationsschaltung 32, die das kapazitive Kopplungselement 42 enthält.
  • Eine einzige Isolationsschaltung 31 und eine einzige Isolationsschaltung 32 verbinden zwischen der ersten Schaltung 10 und der zweiten Schaltung 20 in Reihe. Es wird besonders erwähnt, dass die Anzahl von Isolationsschaltungen 30 für eine serielle Verbindung nicht auf Zwei begrenzt ist. Eine Anzahl N Isolationsschaltungen 30 kann in Reihe verbunden sein.
  • Die Isolationsschaltung 31 koppelt das von der zweiten Schaltung 20 abgegebene Steuersignal in dem magnetischen Kopplungselement 41 magnetisch, um das Steuersignal zur ersten Schaltung 10 zu übertragen. Außerdem koppelt die Isolationsschaltung 32 das Steuersignal in dem kapazitiven Kopplungselement 42 kapazitiv, um das Steuersignal zur ersten Schaltung 10 zu übertragen.
  • Bei solch einer Konfiguration verhindert das magnetische Kopplungselement 41 die Zunahme oder die Erzeugung der Verzögerung in einer Signalübertragung. Außerdem ermöglicht ein Übertragungs- und Empfangs-Modus eines Transformators, der das magnetische Kopplungselement 41 ist, die Steuerung einer transienten Gleichtakt-Immunität (CMTI) oder Störungstoleranz. Außerdem erreicht ein Steuern der Dicke eines isolierenden Films des kapazitiven Kopplungselements 42 eine gewünschte Durchschlagsfestigkeit.
  • <Fünfte bevorzugte Ausführungsform>
  • Das Folgende beschreibt eine integrierte Halbleiterschaltung gemäß einer fünften bevorzugten Ausführungsform. Es wird besonders erwähnt, dass ähnliche Komponenten und ähnliche Operationen zwischen irgendeiner der ersten bis vierten bevorzugten Ausführungsformen und der fünften bevorzugten Ausführungsform hier nicht weiter ausgeführt werden.
  • 5 ist ein Diagramm einer Konfiguration der integrierten Halbleiterschaltung gemäß der fünften bevorzugten Ausführungsform.
  • Eine erste Schaltung 10 enthält ein Schaltelement 11. Das Schaltelement 11 ist eine Halbleitervorrichtung, die aus einem SiC enthaltenden Transistor geschaffen ist und Leistungs-Halbleitervorrichtung genannt wird, an die eine hohe Spannung angelegt wird. Das Schaltelement 11 ist hierin ein SiC-Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor (MOSFET).
  • Eine zweite Schaltung 20 gibt das Steuersignal an das Schaltelement 11 ab, um das Ansteuern des Schaltelements 11 zu steuern, um das Ansteuern der ersten Schaltung 10 zu steuern.
  • Eine Leistungs-Halbleitervorrichtung wie etwa ein SiC-MOSFET liefert eine hohe Leistung in einer Anwendung, die eine Operation bei hoher Geschwindigkeit erfordert, oder einer Anwendung, die eine hohe Festigkeit erfordert. In der fünften bevorzugten Ausführungsform enthält die integrierte Halbleiterschaltung eine Vielzahl von Isolationsschaltungen 30 wie etwa digitale Isolatoren mit einer Leistungsfähigkeit für hohe Isolation und einer Leistungsfähigkeit für hohe Geschwindigkeit. Dies verbessert ein Systemniveau, wenn die integrierte Halbleiterschaltung das Ansteuern der Leistungs-Halbleitervorrichtung steuert.
  • Es wird besonders erwähnt, dass in der vorliegenden Erfindung die individuellen Ausführungsformen innerhalb des Umfangs der Erfindung frei kombiniert werden können oder wie jeweils anwendbar modifiziert und weggelassen werden können. Obgleich die Erfindung im Detail dargestellt und beschrieben wurde, ist die vorhergehende Beschreibung in allen Aspekten veranschaulichend und nicht beschränkend. Es versteht sich daher, dass zahlreiche Modifikationen und Varianten entwickelt werden können, ohne vom Umfang der Erfindung abzuweichen.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • JP 2013051547 [0002]

Claims (5)

  1. Integrierte Halbleiterschaltung, umfassend: eine erste Schaltung (10), die durch ein Steuersignal niedriger Spannung gesteuert und bei einer höheren Spannung als das Steuersignal niedriger Spannung angesteuert wird; eine zweite Schaltung (20), die dafür eingerichtet ist, das Steuersignal niedriger Spannung an die erste Schaltung (10) abzugeben, um das Ansteuern der ersten Schaltung (10) zu steuern; und eine Vielzahl von Isolationsschaltungen (30), die jeweils ein isolierendes Element enthalten, wobei die Vielzahl von Isolationsschaltungen zwischen der ersten Schaltung (10) und der zweiten Schaltung (20) in Reihe verbindet, wobei jede Isolationsschaltung (30) dafür eingerichtet ist, das Steuersignal in dem isolierenden Element magnetisch zu koppeln oder kapazitiv zu koppeln, um das Steuersignal von der zweiten Schaltung (20) zur ersten Schaltung (10) zu übertragen, und dafür eingerichtet ist, die erste Schaltung (10) von der zweiten Schaltung (20) im isolierenden Element zu isolieren, um zu verhindern, dass die höhere Spannung von der ersten Schaltung (10) an die zweite Schaltung (20) angelegt wird.
  2. Integrierte Halbleiterschaltung nach Anspruch 1, wobei zumindest eine der Vielzahl von Isolationsschaltungen (30) als das isolierende Element ein magnetisches Kopplungselement (41) enthält, das dafür eingerichtet ist, das Steuersignal magnetisch zu koppeln.
  3. Integrierte Halbleiterschaltung nach Anspruch 1 oder 2, wobei zumindest eine der Vielzahl von Isolationsschaltungen (30) als das isolierende Element ein kapazitives Kopplungselement (42) enthält, das dafür eingerichtet ist, das Steuersignal kapazitiv zu koppeln.
  4. Integrierte Halbleiterschaltung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei zumindest eine der Vielzahl von Isolationsschaltungen (30) als das isolierende Element ein magnetisches Kopplungselement (41) enthält, das dafür eingerichtet ist, das Steuersignal magnetisch zu koppeln, und zumindest eine andere der Vielzahl von Isolationsschaltungen (30) als das isolierende Element ein kapazitives Kopplungselement (42) enthält, das dafür eingerichtet ist, das Steuersignal kapazitiv zu koppeln.
  5. Integrierte Halbleiterschaltung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei die erste Schaltung (10) ein Schaltelement (11) umfasst, die zweite Schaltung (20) dafür eingerichtet ist, das Steuersignal an das Schaltelement (11) abzugeben, um ein Ansteuern des Schaltelements (11) zu steuern, um das Ansteuern der ersten Schaltung (10) zu steuern, und das Schaltelement (11) eine Halbleitervorrichtung ist, die aus einem SiC enthaltenden Transistor geschaffen ist.
DE102018215310.8A 2017-09-25 2018-09-10 Integrierte Halbleiterschaltung Pending DE102018215310A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017-183234 2017-09-25
JP2017183234A JP7038511B2 (ja) 2017-09-25 2017-09-25 半導体集積回路

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102018215310A1 true DE102018215310A1 (de) 2019-03-28

Family

ID=65638724

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102018215310.8A Pending DE102018215310A1 (de) 2017-09-25 2018-09-10 Integrierte Halbleiterschaltung

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20190096863A1 (de)
JP (2) JP7038511B2 (de)
DE (1) DE102018215310A1 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020261536A1 (ja) * 2019-06-28 2020-12-30 三菱電機株式会社 半導体装置および電力変換装置
JP2023062736A (ja) * 2021-10-22 2023-05-09 アズールテスト株式会社 半導体デバイス検査装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013051547A (ja) 2011-08-31 2013-03-14 Renesas Electronics Corp 半導体集積回路及びそれを備えた駆動装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6674321B1 (en) * 2001-10-31 2004-01-06 Agile Materials & Technologies, Inc. Circuit configuration for DC-biased capacitors
JP4918795B2 (ja) * 2006-03-16 2012-04-18 富士電機株式会社 パワーエレクトロニクス機器
JP5303167B2 (ja) 2008-03-25 2013-10-02 ローム株式会社 スイッチ制御装置及びこれを用いたモータ駆動装置
US7977721B2 (en) * 2008-04-30 2011-07-12 Agere Systems Inc. High voltage tolerant metal-oxide-semiconductor device
JP5164806B2 (ja) 2008-11-12 2013-03-21 サンデン株式会社 車両用通信制御装置
JP5245924B2 (ja) 2009-03-06 2013-07-24 富士電機株式会社 信号伝送回路及び電力変換装置
JP5462880B2 (ja) 2009-08-10 2014-04-02 株式会社 日立パワーデバイス 電力変換装置
US8810287B2 (en) * 2011-01-14 2014-08-19 Panasonic Corporation Driver for semiconductor switch element
JP2013017011A (ja) * 2011-07-04 2013-01-24 Sanken Electric Co Ltd ゲートドライブ回路
WO2013065254A1 (ja) 2011-11-01 2013-05-10 パナソニック株式会社 ゲート駆動回路
JP6080091B2 (ja) 2012-04-12 2017-02-15 横河電機株式会社 パルス信号出力回路
WO2013179333A1 (en) * 2012-05-29 2013-12-05 Fuji Electric Co., Ltd. Isolator and isolator manufacturing method
JP5876799B2 (ja) * 2012-09-18 2016-03-02 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
JP6111671B2 (ja) * 2013-01-10 2017-04-12 富士電機株式会社 駆動信号絶縁回路を用いた電力変換装置
JP6146130B2 (ja) 2013-05-21 2017-06-14 富士電機株式会社 電力変換装置のゲート駆動電源供給回路
JP5866506B2 (ja) 2013-08-27 2016-02-17 パナソニックIpマネジメント株式会社 ゲート駆動回路
US9923643B2 (en) * 2013-12-13 2018-03-20 Silicon Laboratories Inc. Techniques for reduced jitter in digital isolators
JP6272509B2 (ja) 2015-01-20 2018-01-31 三菱電機株式会社 信号伝達装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013051547A (ja) 2011-08-31 2013-03-14 Renesas Electronics Corp 半導体集積回路及びそれを備えた駆動装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP7038511B2 (ja) 2022-03-18
JP2019062263A (ja) 2019-04-18
US20190096863A1 (en) 2019-03-28
JP2021108499A (ja) 2021-07-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102005043907B4 (de) Halbleiterschaltungen und Übertragungsvorrichtungen zur fehlersicheren Kommunikation in Kraftfahrzeugen
DE102017211494A1 (de) Signalübertragungsvorrichtung und Leistungsschaltelementsteuervorrichtung
DE102008030222B4 (de) Steuergerät und Verfahren zum Betrieb des Steuergeräts sowie KFZ mit derartigem Steuergerät
DE102017009355A1 (de) Verfahren zum Betreiben von elektrischen Bordnetzen
DE102017009352A1 (de) Energiekoppler zum elektrischen Koppeln von elektrischen Bordnetzen und Verfahren zum elektrischen Koppeln von elektrischen Bordnetzen
DE102013222786A1 (de) Teilnehmerstation für ein Bussystem und Verfahren zur Reduzierung von leitungsgebundenen Emissionen in einem Bussystem
DE102018215310A1 (de) Integrierte Halbleiterschaltung
DE102015110064B4 (de) Anordnung zum Schutz von elektronischen Baugruppen
DE2529296A1 (de) Impuls-transformator
DE102013112262A1 (de) Ansteuerschaltung für Drei-Level-Inverter
DE3722415A1 (de) Einrichtung zur potentialfreien uebertragung von informationen
EP3084949B1 (de) Verfahren zur ansteuerung parallel geschalteter inverter
DE102018215309A1 (de) Integrierte Halbleiterschaltung
CH629027A5 (de) Hochspannungsfeste signaluebertragungseinrichtung mit einem trennuebertrager.
DE1947315A1 (de) Anordnung zur gleichstrommaessigen Potentialtrennung und zur Unterdrueckung von Leitungs-Stoergeraeuschen bei der UEbertragung unipolarer digitaler Signale
DE2029901A1 (de) Schaltungsanordnung zur Störsignalunterdrückung bzw. -dämpfung
DE102020106709A1 (de) Parallel geschaltete halbleiter mit drosseln im gate-weg
EP3884626A1 (de) Reflexionsdämpfungsvorrichtung für einen bus eines bussystems und verfahren zum dämpfen von reflexionen bei einer datenübertragung in einem bussystem
DE102019213651A1 (de) Halbleitervorrichtung
DE102016011257A1 (de) Bus- und Kommunikationssystem zur gleichstromfreien Signalübertragung auf einem gemeinsamen Medium mit Terminierung
DE112017002917T5 (de) Transienten-Unterdrückungsschaltungsanordnungen
EP3672009B1 (de) Schutzschaltung, elektronische vorrichtung und verfahren zum betreiben einer elektronischen vorrichtung
DE102017223322A1 (de) Transformatorkern und Transformator
DE102016224959A1 (de) Vorrichtung für ein Bussystem und Verfahren zur Dämpfung von Reflexionen bei einer Datenübertragung in einem Bussystem
DE1227502B (de) Elektrische Eingangsschaltung fuer Fernschreib-Empfangsanlagen mit einem Endgeraet, das die impulscodierten Fernschreibsignale empfaengt

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R084 Declaration of willingness to licence