DE102014108432B4

DE102014108432B4 - OLED-Anzeigepanel, Verfahren zu dessen Herstellung und Anzeigevorrichtung

Info

Publication number: DE102014108432B4
Application number: DE102014108432.2A
Authority: DE
Inventors: Guoli Wang; Dayong Huang; Bengang ZHAO
Original assignee: Tianma Microelectronics Co Ltd; Shanghai Tianma AM OLED Co Ltd
Current assignee: Wuhan Tianma Micro Electronics Co Ltd Cn; Wuhan Tianma Micro Electronics Co Ltd Shan Cn; Tianma Microelectronics Co Ltd
Priority date: 2013-12-31
Filing date: 2014-06-16
Publication date: 2021-07-01
Anticipated expiration: 2034-06-17
Also published as: DE102014108432A1; US9337249B2; US20150187858A1; CN103928495A; CN103928495B

Abstract

Organisches Leuchtdioden (OLED)-Anzeigepanel, umfassend ein Substrat (201);
eine Vielzahl von Stromleitungen (202), die auf dem Substrat (201) angeordnet sind;
eine auf den Stromleitungen (202) angeordnete Reflexionsschicht (203), wobei die Reflexionsschicht (203) elektrisch mit den Stromleitungen (202) verbunden ist;
eine Anode (204), die auf der Reflexionsschicht (203) angeordnet ist;
eine optische Modulationsschicht (211), die zwischen der Reflexionsschicht (203) und der Anode (204) angeordnet ist;
eine Kathode (207), die auf der Anode (204) angeordnet ist; und
eine organische Emissionsvorrichtungsschicht (205), die zwischen der Anode (204) und der Kathode (207) angeordnet ist;
wobei die Reflexionsschicht (203) von der Anode (204) isoliert ist, und das OLED-Anzeigepanel auf einer dem Substrat (201) abgewandten Seite der Reflexionsschicht (203) lichtdurchlässig ist, und
die Reflexionsschicht (203) eine Metallschicht und eine transparente, leitfähige Schicht, die auf die Metallschicht aufgebracht ist, umfasst, wobei die Metallschicht auf einer Seite nahe der organischen Emissionsvorrichtungsschicht (205) angeordnet ist, während die transparente, leitfähige Schicht auf einer Seite nahe dem Substrat (201) angeordnet ist.

Description

TECHNISCHES GEBIET
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf das Gebiet der Anzeigetechnologien und insbesondere auf ein OLED-Anzeigepanel, ein Verfahren zu dessen Herstellung und eine Anzeigevorrichtung.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Organische Leuchtdioden (OLED)-Anzeigevorrichtungen erfreuen sich derzeit wachsender Beliebtheit.
Die Darstellungsqualität der OLED-Anzeigevorrichtungen ist jedoch schlecht.
Die US-Patentanmeldung US 2012/0 261 684 A1 bezieht sich auf eine organische EL-Vorrichtung und ein elektronisches Gerät. Die organische EL-Vorrichtung (electroluminiscent device) umfasst eine reflektierende Schicht, die zumindest Lichtreflexionsvermögen aufweist, eine erste Elektrode, die durch eine erste Isolierschicht hindurch auf der reflektierenden Schicht angeordnet ist, eine organische Funktionsschicht, die auf der ersten Elektrode angeordnet ist und zumindest eine lichtemittierende Schicht umfasst, eine zweite Elektrode, die auf der organischen Funktionsschicht angeordnet ist und zumindest Lichtreflexionsvermögen aufweist, und eine Haltekapazität. In der organischen EL-Vorrichtung wird ein optischer Resonator, der Licht von der organischen Funktionsschicht in Resonanz bringt, durch die reflektierende Schicht und die zweite Elektrode gebildet, und die Haltekapazität wird unter Verwendung der reflektierenden Schicht, der ersten Isolierschicht und der ersten Elektrode gebildet.
Die Patentanmeldung US 2012/0 299 002 A1 bezieht sich auf eine Farbanzeigevorrichtung, die mehrere Pixel auf einem Substrat enthält, wobei jedes Pixel aus mehreren Subpixeln, die Licht mit unterschiedlicher Wellenlänge im sichtbaren Bereich emittieren, und einem weißen Subpixel zusammengesetzt ist, wobei die mehreren Subpixel und das weiße Subpixel jeweils eine weiße organische Elektrolumineszenzschicht aufweisen, die zwischen einer optisch halbtransparenten Reflexionsschicht und einer Lichtreflexionsschicht angeordnet ist, der optische Abstand zwischen der optisch halbtransparenten Reflexionsschicht und der Lichtreflexionsschicht in jedem der mehreren Subpixel einen Resonator bildet, der einen Abstand zum Resonieren von emittiertem Licht aufweist, und der optische Abstand zwischen der optisch halbtransparenten Reflexionsschicht und der Lichtreflexionsschicht in dem weißen Subpixel länger ist als der maximale optische Abstand zwischen der optisch halbtransparenten Reflexionsschicht und der Lichtreflexionsschicht in jedem der mehreren Subpixel.
KURZE ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Daher sehen erfindungsgemäße Ausführungsformen ein OLED-Anzeigepanel, ein Verfahren zu dessen Herstellung und eine Anzeigevorrichtung vor.
Eine erfindungsgemäße Ausführungsform sieht ein OLED-Anzeigepanel vor, umfassend: ein Substrat; eine Vielzahl von Stromleitungen, die auf dem Substrat angeordnet sind; eine auf den Stromleitungen angeordnete Reflexionsschicht, wobei die Reflexionsschicht elektrisch mit den Stromleitungen verbunden ist; eine Anode, die auf der Reflexionsschicht angeordnet ist; eine optische Modulationsschicht, die zwischen der Reflexionsschicht und der Anode angeordnet ist; eine Kathode, die auf der Anode angeordnet ist; und eine organische Emissionsvorrichtungsschicht, die zwischen der Anode und der Kathode angeordnet ist, wobei die Reflexionsschicht von der Anode isoliert ist, und das OLED-Anzeigepanel auf einer dem Substrat abgewandten Seite der Reflexionsschicht lichtdurchlässig ist.
Entsprechend sieht eine erfindungsgemäße Ausführungsform ferner ein Verfahren zur Herstellung eines OLED-Anzeigepanels vor, wobei das Verfahren die Schritte umfasst: Bereitstellen eines Substrates; Bilden einer Vielzahl von Stromleitungen auf dem Substrat; Bilden einer Reflexionsschicht auf den Stromleitungen, wobei die Reflexionsschicht elektrisch mit den Stromleitungen verbunden ist; Bilden einer optischen Modulationsschicht auf der Reflexionsschicht; Bilden einer Anode auf der optischen Modulationsschicht; Bilden einer organischen Emissionsvorrichtungsschicht auf der Anode; und Bilden einer Kathode auf der organischen Emissionsvorrichtungsschicht, wobei die Reflexionsschicht von der Anode isoliert ist und das OLED-Anzeigepanel auf einer dem Substrat abgewandten Seite der Reflexionsschicht lichtdurchlässig ist.
Ferner sieht eine erfindungsgemäße Ausführungsform entsprechend eine Anzeigevorrichtung vor, die das oben beschriebene OLED-Anzeigepanel enthält.
Die erfindungsgemäßen Ausführungsformen können mindestens einen der folgenden vorteilhaften Effekte erzielen.
Bei den erfindungsgemäßen Ausführungsformen ist die Reflexionsschicht auf den Stromleitungen angeordnet, wobei die Reflexionsschicht dick, leitfähig und auf dem gesamten Substrat angeordnet ist, die Stromleitungen elektrisch mit der Reflexionsschicht verbunden sind, so dass die Stromleitungen parallel an die Reflexionsschicht angeschlossen sind, somit der Gesamtwiderstand jeder Anzeigeeinheit verringert ist und ein signifikanter Spannungsunterschied an entsprechenden Stellen entlang der Stromleitungen vorliegt, d.h. der Spannungsabfall der Stromleitungen wird verringert, wodurch die Unausgewogenheit der Anzeigehelligkeit, die durch einen signifikanten Spannungsabfall verursacht wird, vermieden wird; und die optische Modulationsschicht ist zwischen der Reflexionsschicht und der Anode angeordnet, d.h. die optische Modulationsschicht ist unterhalb der organischen Emissionsvorrichtungsschicht angeordnet, so dass keine Lichtstrahlen durch die optische Modulationsschicht gesperrt werden, während Emissionslicht auf der Kathodenseite durchgelassen wird, was einen Lichtstrahlungsverlust vermeidet und einen Displayeffekt verbessert.
Figurenliste
Zur besseren Verdeutlichung der technischen Lösungen der erfindungsgemäßen Ausführungsformen werden nachfolgend kurz die zur Beschreibung der Ausführungsformen zu verwendenden Zeichnungen vorgestellt, wobei sich versteht, dass die nachfolgend beschriebenen Zeichnungen lediglich einige erfindungsgemäße Ausführungsformen veranschaulichen sollen und der Durchschnittsfachmann aus diesen Zeichnungen andere Zeichnungen ableiten kann, ohne erfinderisch tätig zu werden.

1 ist ein Aufbauschema, das einen Schnitt durch ein OLED-Anzeigepanel nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform zeigt;
2 zeigt eine Draufsicht auf eine Reflexionsschicht nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform;
3 ist ein vereinfachtes Aufbauschema eines Mikrohohlraums nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform;
4 zeigt ein Aufbauschema eines Mikrohohlraums in einer Anzeigeeinheit nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform;
5 ist ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zur Herstellung eines OLED-Anzeigepanels nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform;
6 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zur Herstellung einer Mikrohohlraumstruktur in einer Anzeigeeinheit nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform;
7 ist ein vereinfachtes Diagramm einer Dampfabscheidung unter Verwendung einer Feinausrichtungsmaske;
8a und 8b zeigen ein Diagram einer Mikrohohlraumstruktur nach dem Stand der Technik bzw. ein Diagramm einer Mikrohohlraumstruktur nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform;
9 zeigt eine Verbindungsbeziehung zwischen Stromleitungen und einem Stromversorgungsbus PVDD; und
10 ist ein schematisches Diagramm einer Anzeigevorrichtung nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform.

DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
Nachfolgend werden weitere Einzelheiten der Erfindung unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben, um die Ziele, die technischen Lösungen und die Vorteile der Erfindung zu verdeutlichen. Es versteht sich, dass die beschriebenen Ausführungsformen nur einen Teil, aber nicht alle Ausführungsformen der Erfindung darstellen. Alle anderen Ausführungsformen, die für den Durchschnittsfachmann aufgrund der erfindungsgemäßen Ausführungsformen ohne erfinderische Tätigkeit erhältlich sind, sollen unter den Umfang der Erfindung fallen.
Bei den erfindungsgemäßen Ausführungsformen ist eine Reflexionsschicht auf Stromleitungen und der gesamten Oberfläche eines Substrates angeordnet, wobei die Stromleitungen elektrisch mit der Reflexionsschicht verbunden sind und die Reflexionsschicht dick und leitfähig ist, weshalb die Reflexionsschicht ausreichend dick gestaltet werden kann (wobei die Reflexionsschicht auch eine große Querschnittsfläche aufweist), um dadurch den Widerstandswert zu verringern (d.h. den Gesamtwiderstand jeder Anzeigeeinheit); und ferner ist jede Stromleitung mit der Reflexionsschicht verbunden, die auf der gesamten Oberfläche des Substrates angeordnet ist, so dass die Spannungspegel der Stromleitungen jeder Anzeigeeinheit im wesentlichen konstant sind, d.h. der Spannungsabfall der Stromleitungen wird verringert, wodurch das Problem vermieden wird, das durch den signifikanten Spannungsabfall über die unterschiedlichen Anzeigeeinheiten verursacht ist, und die Anzeigequalität verbessert wird.
Dabei können die erfindungsgemäßen Ausführungsformen nicht nur das Problem eines signifikanten Spannungsabfalls vermeiden, sondern auch die Lichtausbeute erhöhen, um die Leuchtdichte zu verbessern. Insbesondere wird eine Mikrohohlraumstruktur zwischen der Reflexionsschicht und der Kathode gebildet, wobei eine geeignete Mikrohohlraumlänge durch Anpassen der Dicke einer optischen Modulationsschicht vorgegeben werden kann, und dann Licht in drei Farben, das von einer Emissionsschicht emittiert wird, jeweils maximal schwingt, so dass Licht von der Kathode mit der höchsten Lichtstärke emittiert wird, was die Lichtausbeute erhöht und die Leuchtdichte verbessert; und ferner kann die erforderliche Emissionsschicht in den Ausführungsformen durch Dampfabscheidung durch drei Feinausrichtungen angeordnet (gebildet) werden, wodurch nicht nur die Präzision der Feinausrichtungen sichergestellt ist, sondern auch der Verfahrensaufwand verringert und die Produktausbeute verbessert wird.
Es sei angemerkt, dass mit „oberhalb“ und „auf“ in „X oberhalb Y“ oder „X auf Y“ bei den erfindungsgemäßen Ausführungsformen beispielsweise lediglich eine Beziehung zwischen den Schichten bezeichnet wird, was aber nicht unbedingt eine direkte Überdeckung der Schichten bedeutet, und „Abstand“ in den erfindungsgemäßen Ausführungsformen den „Lichtweg“ bezeichnet, und ein Substrat ist beispielhalber ganz unten angeordnet, wie dies in 1 gezeigt ist.
Die erfindungsgemäße Lösung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf besondere Ausführungsformen derselben näher beschrieben, wobei die Erfindung zwar die folgenden Ausführungsformen umfassen kann, aber nicht auf diese beschränkt ist.
Ein nachfolgend beschriebenes OLED-Anzeigepanel gemäß einer Ausführungsform ist auf einer einem Substrat abgewandten Seite einer Reflexionsschicht lichtdurchlässig, d.h. das OLED-Anzeigepanel ist beispielhalber eine nach oben emittierende Struktur.
1 ist ein Aufbauschema, das einen Schnitt durch ein OLED-Anzeigepanel nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform zeigt, wobei das OLED-Anzeigepanel ein Substrat 201, Stromleitungen 202, eine Reflexionsschicht 203, eine Anode 204, eine organische Emissionsvorrichtungsschicht 205 und eine Kathode 207 aufweist.
Die Stromleitungen 202 sind oberhalb des Substrates 201 angeordnet und in jeder Anzeigeeinheit verteilt, wobei jede Stromleitung 202 mit einem Stromversorgungsbus verbunden ist (eine Verbindungsbeziehung zwischen Stromleitungen und einem Stromversorgungsbus PVDD ist in 9 gezeigt).
Die Reflexionsschicht 203 ist auf den Stromleitungen 202 angeordnet. Die Reflexionsschicht 203 ist elektrisch mit den Stromleitungen 202 verbunden und von der Anode 204 isoliert, wobei die Reflexionsschicht 203 auf dem gesamten Substrat 201 angeordnet ist und aus einem leitfähigen Material mit einem Ersatzwiderstand von weniger als 100 Ω besteht.
Bei einer erfindungsgemäßen Ausführungsform kann die Reflexionsschicht 203 als quadratischer Widerstand bezeichnet werden. Der quadratische Widerstand wird typischerweise für einen Dünnfilm verwendet und weist einen konstanten Widerstand auf, der unabhängig von der Größe der Fläche des quadratischen Widerstandes ist, aber durch die Dicke des quadratischen Widerstandes bestimmt wird (d.h. die Reflexionsschicht 203 weist einen konstanten Widerstand auf, und der konstante Widerstand der Reflexionsschicht 203 wird durch die Dicke der Reflexionsschicht 203 bestimmt, wobei die Dicke der Reflexionsschicht 203 üblicherweise zwischen 200 nm und 2000 nm liegt). Daher kann ein quadratischer Widerstand mit einem Ersatzwiderstand von weniger als 100 Ω als Reflexionsschicht 203 gewählt werden.
Die Anode 204 ist oberhalb der Reflexionsschicht 203 angeordnet, die Kathode 207 ist oberhalb der Anode 204 angeordnet, und die organische Emissionsvorrichtungsschicht 205 ist zwischen der Anode 204 und der Kathode 207 angeordnet, wobei die Anode 204 und die Kathode 207 beide mit der organischen Emissionsvorrichtungsschicht 205 verbunden sind; und ferner umfasst das OLED-Anzeigepanel eine Pixeldefinitionsschicht 206 zwischen der organischen Emissionsvorrichtungsschicht 205 und der Anode 204, um die Anzeigeeinheit des OLED-Anzeigepanels zu definieren.
Das OLED-Anzeigepanel umfasst ferner eine erste Isolierschicht 208, die auf den Stromleitungen 202 und dem gesamten Substrat 201 angeordnet ist, wobei die erste Isolierschicht 208 eine Vielzahl von ersten Durchgangslöchern 209 aufweist und siche jedes erste Durchgangsloch 209 durch die erste Isolierschicht 208 erstreckt, um die jeweilige Stromleitung 202 freizulegen, so dass die Reflexionsschicht 203 durch die ersten Durchgangslöcher 209 elektrisch mit den Strom leitungen 202 verbunden ist.
Bei einer erhöhten Pixeldichte einer Anzeigevorrichtung, d.h. einer erhöhten Anzahl von Anzeigeeinheiten, erhöht sich auch die Anzahl der Stromleitungen 202 bei gleichzeitiger Verringerung der Leitungsbreite der Stromleitungen 202, wodurch sich der Widerstand der Stromleitungen 202 erhöht, was dann zu einem größeren Spannungsabfall an entsprechenden Stellen entlang der Stromleitungen 202 führt. Die Reflexionsschicht 203 ist durch die ersten Durchgangslöcher 209 elektrisch mit den Stromleitungen 202 verbunden, so dass die Stromleitungen 202 aller Anzeigeeinheiten durch die auf dem gesamten Substrat 201 angeordnete Reflexionsschicht 203 elektrisch miteinander verbunden sind. Somit kann die auf dem gesamten Substrat 201 angeordnete Reflexionsschicht 203 als Widerstand betrachtet werden, und die Stromleitungen 202 können als weiterer Widerstand betrachtet werden, der mit der Reflexionsschicht 203 parallel geschaltet ist, wobei der Gesamtwiderstand der Anzeigeeinheiten (ein Widerstand der Parallelschaltung der Stromleitungen 202 und der Reflexionsschicht 203) notwendigerweise kleiner als der Widerstand der Reflexionsschicht 203 ist, und es liegt ein unbedeutender Spannungsunterschied an den entsprechenden Stellen entlang der Stromleitungen 202 vor, d.h. der Spannungsabfall der Stromleitungen 202 ist verringert, wodurch die durch einen signifikanten Spannungsabfall verursachte Unausgewogenheit der Anzeigehelligkeit vermieden wird.
Da der Widerstand der Reflexionsschicht 203 umgekehrt proportional zu ihrer Dicke ist, kann der Widerstand der Reflexionsschicht 203 durch Vergrößern der Dicke der Reflexionsschicht 203 verringert werden, wodurch auch der Spannungsabfall verringert wird.
Bei einer erfindungsgemäßen Ausführungsform kann die Reflexionsschicht 203 eine mehrschichtige Struktur aufweisen, wobei die Reflexionsschicht 203 dann eine Metallschicht (nicht gezeigt) und eine transparente, leitfähige Schicht (nicht gezeigt), die auf die Metallschicht aufgebracht ist, umfassen kann, und die Metallschicht kann auf einer Seite nahe der organischen Emissionsvorrichtungsschicht 205 angeordnet sein, während die transparente, leitfähige Schicht auf einer Seite nahe dem Substrat 201 zur Reflexion angeordnet sein kann.
Unabhängig davon, ob die Reflexionsschicht 203 eine einschichtige oder eine mehrschichtige Struktur aufweist, kann die Metallschicht aus Silber, Molybdän, Aluminium, Gold, Kupfer, Titan, Nickel, Eisen, Chrom und Wolfram oder aus einer Legierungsstruktur hergestellt sein, die aus einer beliebigen Kombination von mehr als einem der folgenden Metalle besteht: Silber, Molybdän, Aluminium, Gold, Kupfer, Titan, Nickel, Eisen, Chrom und Wolfram, wobei ein bestimmter Anteil der die Legierung bildenden Metalle in der Praxis nach Wunsch eingestellt werden kann, und auf eine wiederholte Beschreibung wird hier verzichtet.
Die Reflexionsschicht 203 kann ferner zweite Durchgangslöcher 210 umfassen, wobei sich jedes zweite Durchgangsloch 210 durch die Reflexionsschicht 203 erstreckt, und das OLED-Anzeigepanel umfasst ferner eine optische Modulationsschicht 211, die zwischen der Reflexionsschicht 203 und der Anode 204 angeordnet ist, wobei die optische Modulationsschicht 211 aus einem transparenten Isoliermaterial besteht und dritte Durchgangslöcher 212 umfasst, die sich jeweils durch die optische Modulationsschicht 211 erstrecken, wobei jedes zweite Durchgangsloch 210 mit dem entsprechenden dritten Durchgangsloch 212 in Verbindung steht. Ferner umfasst das OLED-Anzeigepanel zudem eine Anordnung von TFTs, die auf dem Substrat 201 angeordnet sind, wobei eine Source-Elektrode 213 des TFT durch das zweite Durchgangsloch 210 freigelegt ist, so dass die Anode 204 durch das zweite Durchgangsloch 210 und das dritte Durchgangsloch 212, die miteinander in Verbindung stehen, elektrisch mit der Source-Elektrode 213 des TFT verbunden ist. Darüber hinaus schließt der Vorsprung des zweiten Durchgangslochs 210 auf dem Substrat 201 den Vorsprung des dritten Durchgangslochs 212 auf dem Substrat 201 mit ein, so dass ein durch Kontakt der Anode 204 mit der Reflexionsschicht 203 verursachter Kurzschluss vermieden wird.
2 ist eine Draufsicht auf die Reflexionsschicht 203, die eine Vielzahl zweiter Durchgangslöcher 210 umfasst, und es sei angemerkt, dass die zweiten Durchgangslöcher 210 in einer Ebene lediglich beispielhalber, ohne darauf beschränkt zu sein, in der Lösung der Ausführungsform kreisförmig sind, und die Form der zweiten Durchgangslöcher unterliegt bei der erfindungsgemäßen Ausführungsform keiner Einschränkung.
Bei der erfindungsgemäßen Ausführungsform ist die Reflexionsschicht auf den Stromleitungen angeordnet, um mehrere der Stromleitungen elektrisch mit der auf dem gesamten Substrat angeordneten Reflexionsschicht zu verbinden, wobei die Reflexionsschicht dick und leitfähig ist, so dass die Stromleitungen als parallel an die Reflexionsschicht angeschlossen betrachtet werden können, und somit ist der Gesamtwiderstand jeder Anzeigeeinheit verringert, weshalb an entsprechenden Stellen entlang der Stromleitungen ein insignifikanter Spannungsunterschied vorliegt, d.h. der Spannungsabfall der Stromleitungen ist verringert, wodurch eine schlechte Anzeigequalität und insbesondere die durch einen signifikanten Spannungsabfall verursachte Unausgewogenheit der Anzeigehelligkeit vermieden wird. Ferner kann die Reflexionsschicht auch als Spiegel eines Mikrohohlraums ausgebildet sein, und durch drei Feinausrichtungen können drei Mikrohohlraumstrukturen gebildet werden, die den drei Farben R, G und B entsprechen, die vom entsprechenden Abschnitt der Emissionsschicht emittiert werden. Dadurch wird sichergestellt, dass die Hohlraumlänge der Mikrohohlraumstruktur durch Einstellen der optischen Modulationsschicht eingestellt und die Anzahl der Feinausrichtungen verringert werden kann, was die Präzision der Feinausrichtungen gewährleistet und die Produktausbeute verbessert, gleichzeitig aber auch den Verfahrensaufwand verringert. Darüber hinaus ist die optische Modulationsschicht zwischen der Reflexionsschicht und der Anode angeordnet, d.h. die optische Modulationsschicht ist unterhalb der organischen Emissionsvorrichtungsschicht angeordnet, so dass keine Lichtstrahlen durch die optische Modulationsschicht gesperrt werden, während Emissionslicht auf der Kathodenseite durchgelassen wird, was einen Lichtstrahlungsverlust vermeidet und einen Displayeffekt verbessert.
Es sei angemerkt, dass das OLED-Anzeigepanel in der obigen Ausführungsform beispielhalber als nach oben emittierende Emissionsstruktur beschrieben wurde, weshalb die leitfähige Reflexionsschicht, die oberhalb der Stromleitungen angeordnet ist, gegebenenfalls reflektierend ausgebildet sein muss. Bei anderen Ausführungsformen kann das OLED-Anzeigepanel beispielhalber als nach unten emittierende Struktur ausgebildet sein, wobei die Reflexionsschicht dann nach Bedarf so angeordnet werden kann, dass das OLED-Anzeigepanel auf einer Seite der Reflexionsschicht nahe dem Substrat lichtdurchlässig ist. Die in den obigen erfindungsgemäßen Ausführungsformen erwähnte Reflexionsschicht ist auf beide der oben erwähnten Emissionsstrukturen (nach oben emittierende Struktur und nach unten emittierende Struktur) anwendbar. Da die Reflexionsschicht in der nach unten emittierenden Struktur ähnlich der Reflexionsschicht in der nach oben reflektierenden Struktur ist, kann auf die oben beschriebene Lösung der nach oben emittierenden Struktur Bezug genommen und hier auf eine wiederholte Beschreibung eines Anzeigepanels in einer nach unten emittierenden Struktur verzichtet werden.
Ferner wird nachfolgend, entsprechend dem OLED-Anzeigepanel der obigen erfindungsgemäßen Ausführungsformen, ein weiteres OLED-Anzeigepanel nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform beschrieben, wobei das weitere OLED-Anzeigepanel, bis auf eine Veränderung der Leistung der Strukturfilmschichten, strukturell dem OLED-Anzeigepanel nach den obigen erfindungsgemäßen Ausführungsformen entspricht.
Diese Ausführungsform wird nachfolgend erneut am Beispiel der nach oben emittierenden Struktur in 1 beschrieben, wobei die Erfindung jedoch nicht auf die nachfolgende Ausführungsform beschränkt ist.
Wie in 1 gezeigt, weist bei dem OLED-Anzeigepanel die Reflexionsschicht 203 einen Reflexionsgrad von größer als 90% auf, und die Anode 204, die organische Emissionsvorrichtungsschicht 205 und die optische Modulationsschicht 211 weisen jeweils eine Transmission von größer als 80% auf, wobei die Brechzahl der optischen Modulationsschicht 211 typischerweise zwischen 1 und 3, vorzugsweise bei 1,7, liegt, und die optische Modulationsschicht 211 kann aus einem transparenten Polymermaterial oder einem anorganischen Material bestehen oder ein Fotolack sein; und die Kathode 207 weist einen spezifischen Reflexionsgrad und eine spezifische Transmission auf, wobei die Transmission der Kathode 207 vorzugsweise größer als 50% ist.
Somit wird, wie in 3 gezeigt, eine Mikrohohlraumstruktur W, welche die Anode 204, die organische Emissionsvorrichtungsschicht 205 und die optische Modulationsschicht 211 umfasst, zwischen der Kathode 207 und der Reflexionsschicht 203 gebildet, wobei eine Seitenfläche der Reflexionsschicht 203 nahe der Anode 204 ein Spiegel der Mikrohohlraumstruktur W ist und eine Seitenfläche der Kathode 207 nahe der Anode 204 ein weiterer Spiegel der Mikrohohlraumstruktur W ist, wobei die Hohlraumlänge L der Mikrohohlraumstruktur W die Summe der Dicke der optischen Modulationsschicht 211, der Anode 204 und der organischen Emissionsvorrichtungsschicht 205 ist (d.h. der Abstand zwischen der Seitenfläche der Kathode 207 nahe der Anode 204 und der Seitenfläche der Reflexionsschicht 203 nahe der Anode 204); und die Hohlraumlänge L der Mikrohohlraumstruktur W erfüllt die Gleichung: $L = \frac{λ}{2} N$
Von der organischen Emissionsvorrichtungsschicht 205 der Mikrohohlraumstruktur W emittiertes Licht kann in der Hohlraumstruktur W mit der höchsten Intensität schwingen, wodurch die Lichtausbeute erhöht und die Leuchtdichte verbessert wird, wobei L für den Abstand zwischen der Seitenfläche der Kathode 207 nahe der Anode 204 und der Seitenfläche der Reflexionsschicht 203 nahe der Anode 204 steht, λ für eine Wellenlänge des Emissionslichts steht, und N für eine positive ganze Zahl steht.
Wie in 4 dargestellt, die ein schematisches Diagramm von RGB-Pixeln nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform zeigt, entsprechen die RGB-Pixel jeweils rotem, grünem und blauem Licht. Es sei angemerkt, dass die Wellenlängen von rotem, grünem und blauem Licht voneinander verschieden sind und die Hohlraumlänge der oben beschriebenen Mikrohohlraumstruktur wellenlängenabhängig ist, so dass die Hohlraumlängen der Mikrohohlraumstruktur, die den R-, G- und B-Pixeln der Anzeigeeinheiten für das Licht in den verschiedenen Farben entsprechen, sich ebenfalls voneinander unterscheiden, d.h. die dem R-Pixel entsprechende Hohlraumlänge der Mikrohohlraumstruktur, die dem G-Pixel entsprechende Hohlraumlänge der Mikrohohlraumstruktur und die dem B-Pixel entsprechende Hohlraumlänge der Mikrohohlraumstruktur sind voneinander verschieden.
Unter Bezugnahme auf das R-Pixel (d.h. das Rotpixel), das G-Pixel (d.h. das Grünpixel) und das B-Pixel (d.h. das Blaupixel) sind vorgesehen: eine Reflexionsschicht 203, wobei auf der Reflexionsschicht 203 eine erste optische Modulationsschicht 2111, die dem R-Pixel entspricht, eine zweite optische Modulationsschicht 2112, die dem G-Pixel entspricht, und eine dritte optische Modulationsschicht 2113, die dem B-Pixel entspricht, angeordnet sind; eine erste Anode 2041, eine zweite Anode 2042 und eine dritte Anode 2043, die jeweils auf der entsprechenden optischen Modulationsschicht angeordnet sind, (d.h. die erste Anode 2041 ist auf der ersten optischen Modulationsschicht 2111 angeordnet und entspricht dem R-Pixel, die zweite Anode 2042 ist auf der zweiten optischen Modulationsschicht 2112 angeordnet und entspricht dem G-Pixel, die dritte Anode 2043 ist auf der dritten optischen Modulationsschicht 2113 angeordnet und entspricht dem B-Pixel); und eine erste Kathode 2071, die dem R-Pixel entspricht, eine zweite Kathode 2072, die dem G-Pixel entspricht, und eine dritte Kathode 2073, die dem B-Pixel entspricht, sind auf einer organischen Emissionsvorrichtungsschicht 205 angeordnet, die zwischen der Anode (der ersten Anode 2041, der zweiten Anode 2042 und der dritten Anode 2043) und der Kathode (der ersten Kathode 2071, der zweiten Kathode 2072 und der dritten Kathode 2073) angeordnet ist.
Die organische Emissionsvorrichtungsschicht 205 umfasst: eine Lochinjektionsschicht 301, die auf der Anode angeordnet ist (die Anode umfasst die erste Anode 2041, die zweite Anode 2042 und die dritte Anode 2043); eine Lochleitungsschicht 302, die auf der Lochinjektionsschicht 301 angeordnet ist; eine erste Emissionsschicht 3031, eine zweite Emissionsschicht 3032 und eine dritte Emissionsschicht 3033, die auf der Lochleitungsschicht 302 angeordnet sind, um jeweils rotes, grünes bzw. blaues Licht zu emittieren (d.h. die erste Emissionsschicht 3031 emittiert rotes Licht, die zweite Emissionsschicht 3032 emittiert grünes Licht, die dritte Emissionsschicht 3033 emittiert blaues Licht); und eine Elektronenleitungsschicht 304 sowie eine Elektroneninjektionsschicht 305, die nacheinander auf den oben erwähnten Emissionsschichten angeordnet sind, wobei die erste optische Modulationsschicht 2111 rotem Emissionslicht entspricht (d.h. die erste optische Modulationsschicht 2111 entspricht der ersten Emissionsschicht 3031 oder dem R-Pixel), die zweite optische Modulationsschicht 2112 grünem Emissionslicht entspricht (d.h. die zweite optische Modulationsschicht 2112 entspricht der zweiten Emissionsschicht 3032 oder dem G-Pixel), und die dritte optische Modulationsschicht 2113 blauem Emissionslicht entspricht (d.h. die dritte optische Modulationsschicht 2113 entspricht der dritten Emissionsschicht 3033 oder dem B-Pixel); und wobei die Dicke der ersten optischen Modulationsschicht 2111 größer als die Dicke der zweiten optischen Modulationsschicht 2112, und die Dicke der zweiten optischen Modulationsschicht 2112 größer als die Dicke der dritten optischen Modulationsschicht 2113 ist.
Folglich entsprechen die erste Anode 2041 und die erste Kathode 2071 rotem Emissionslicht (d.h. die erste Anode 2041 und die erste Kathode 2071 entsprechen der ersten Emissionsschicht 3031 oder dem R-Pixel), die zweite Anode 2042 und die zweite Kathode 2072 entsprechen grünem Emissionslicht (d.h. die zweite Anode 2042 und die zweite Kathode 2072 entsprechen der zweiten Emissionsschicht 3032 oder dem G-Pixel), und die dritte Anode 2043 und die dritte Kathode 2073 entsprechen blauem Emissionslicht (d.h. die dritte Anode 2043 und die dritte Kathode 2073 entsprechen der dritten Emissionsschicht 3033 oder dem B-Pixel).
Ferner steht L1 für den Abstand zwischen einer Seitenfläche der ersten Kathode 2071 nahe der ersten Anode 2041 und einer Seitenfläche der Reflexionsschicht 203 nahe der ersten Anode 2041, wobei $L_{1} = \frac{λ_{1}}{2} N$
ist und λ₁ für die Wellenlänge von 2 rotem Licht steht; L2 steht für den Abstand zwischen einer Seitenfläche der zweiten Kathode 2072 nahe der zweiten Anode 2042 und einer Seitenfläche der Reflexionsschicht 203 nahe der zweiten Anode 2042, wobei $L_{2} = \frac{λ_{2}}{2} N$
ist und λ₂ für die Wellen-2 länge von grünem Licht steht; und L3 steht für den Abstand zwischen einer Seitenfläche der dritten Kathode 2073 nahe der dritten Anode 2043 und einer Seitenfläche der Reflexionsschicht 203 nahe der dritten Anode 2043, wobei $L_{3} = \frac{λ_{3}}{2} N$
ist und λ₃ für die 2 Wellenlänge von blauem Licht steht. L1, L2 und L3 erfüllen die Ungleichung L1 >L2>L3, und N steht für eine positive ganze Zahl. Dies bedeutet: die Hohlraumlänge L1 der ersten Mikrohohlraumstruktur ist größer als die Hohlraumlänge L2 der zweiten Mikrohohlraumstruktur, und die Hohlraumlänge L2 der zweiten Mikrohohlraumstruktur ist größer als die Hohlraumlänge L3 der dritten Mikrohohlraumstruktur, wobei die erste Mikrohohlraumstruktur dem R-Pixel entspricht, die zweite Mikrohohlraumstruktur dem G-Pixel entspricht und die dritte Mikrohohlraumstruktur dem G-Pixel entspricht.
Bei der oben erwähnten ersten, zweiten und dritten Mikrohohlraumstruktur kann die Hohlraumlänge der ersten, zweiten und dritten Mikrohohlraumstruktur, wie in 4 gezeigt, entsprechend vorgesehen sein. Zusätzlich zum Vorteil der Vermeidung des durch den signifikanten Spannungsabfall verursachten Problems können mit der Mikrohohlraumstruktur, die durch die Reflexionsschicht und die Kathode gebildet wird, die Hohlraumlängen der ersten, zweiten und dritten Mikrohohlraumstruktur, die eine Bedingung erfüllen, bestimmt werden, indem die Dicke der ersten, zweiten und dritten optischen Modulationsschicht angepasst wird und ferner von der ersten, zweiten und dritten Emissionsschicht emittiertes Licht jeweils maximal schwingt, so dass von der ersten, zweiten und dritten Kathode durchgelassenes Licht die höchste Lichtstärke aufweist, was die Lichtausbeute erhöht und die Leuchtdichte verbessert.
Bei einer erfindungsgemäßen Ausführungsform umfasst die organische Emissionsvorrichtungsschicht eine erste organische Emissionsvorrichtungsschicht, eine zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht und eine dritte organische Emissionsvorrichtungsschicht, wobei die erste organische Emissionsvorrichtungsschicht dem R-Pixel entspricht, die zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht dem G-Pixel entspricht und die dritte organische Emissionsvorrichtungsschicht dem B-Pixel entspricht. Die erste organische Emissionsvorrichtungsschicht umfasst die Lochinjektionsschicht 301, die Lochleitungsschicht 302, die erste Emissionsschicht 3031, die Elektronenleitungsschicht 304 und die Elektroneninjektionsschicht 305; die zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht umfasst die Lochinjektionsschicht 301, die Lochleitungsschicht 302, die zweite Emissionsschicht 3032, die Elektronenleitungsschicht 304 und die Elektroneninjektionsschicht 305; und die dritte organische Emissionsvorrichtungsschicht umfasst die Lochinjektionsschicht 301, die Lochleitungsschicht 302, die dritte Emissionsschicht 3033, die Elektronenleitungsschicht 304 und die Elektroneninjektionsschicht 305. Zudem weisen die erste organische Emissionsvorrichtungsschicht, die zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht und die dritte organische Emissionsvorrichtungsschicht die gleiche Dicke auf. Selbst dann können die Hohlraumlängen der ersten, zweiten und dritten Mikrohohlraumstruktur durch Anpassen der Dicken der ersten, zweiten und dritten optischen Modulationsschicht angepasst werden, um dadurch die maximale Resonanzverstärkung des emittierten Lichtes zu erreichen und die Lichtausbeute zu erhöhen, um die Leuchtdichte zu verbessern; und die optische Modulationsschicht (erste, zweite und dritte optische Modulationsschicht) ist zwischen der Reflexionsschicht und der Anode angeordnet, d.h. die optische Modulationsschicht ist unterhalb der organischen Emissionsvorrichtungsschicht angeordnet, so dass keine Lichtstrahlen durch die optische Modulationsschicht gesperrt werden, während das emittierte Licht von der Kathodenseite durchgelassen wird, wodurch ein Lichtstrahlungsverlust vermieden und ein Displayeffekt verbessert wird.
Eine weitere erfindungsgemäße Ausführungsform wird nachfolgend unter Bezugnahme auf 1 und 5 näher beschrieben, wobei angemerkt sei, dass die Erfindung zwar die folgende Ausführungsform umfassen kann, aber nicht auf diese beschränkt sein soll. Licht wird durch ein OLED-Anzeigepanel auf einer einem Substrat abgewandten Seite einer Reflexionsschicht durchgelassen.
Wie in 1 und 5 gezeigt, umfasst ein Verfahren zur Herstellung eines OLED-Anzeigepanels nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform die folgenden Schritte 401 bis 407:
Schritt 401: Bereitstellen eines Substrates.
Schritt 402: Bilden von Stromleitungen auf dem Substrat.
In diesem Schritt 402 wird, anstatt die Stromleitungen 202 direkt auf dem Substrat 201 anzuordnen, zuerst eine Anordnung von Dünnfilmtransistoren, d.h. eine Anordnung von TFTs, auf dem Substrat 201 angeordnet, wobei der TFT typischerweise als Top-Gate-Transistor ausgebildet ist, und die Stromleitungen werden unter jeder Anzeigeeinheit nach Aufbringen einer Passivierungsschicht 214 gebildet. Ferner soll die Erfindung nicht auf eine einzige Ausführung der Herstellung der Stromleitungen beschränkt sein, sondern jede dem Fachmann bekannte Ausführung umfassen.
Schritt 403: Bilden einer Reflexionsschicht auf den Stromleitungen, wobei die Reflexionsschicht aus einem leitfähigen Material besteht und elektrisch mit den Stromleitungen verbunden ist.
Nach dem Bilden der Stromleitungen 202 wird eine erste Isolierschicht 208 mit einem ersten Durchgangsloch 209 aufgebracht, wobei sich das erste Durchgangsloch 209 durch die erste Isolierschicht 208 erstreckt, um die Stromleitungen 202 freizulegen. Danach wird die Reflexionsschicht 203 durch chemisches oder physikalisches Abscheiden gebildet, so dass die Reflexionsschicht 203 durch das erste Durchgangsloch 209 elektrisch mit den Stromleitungen 202 verbunden ist, wobei die Reflexionsschicht 203 aus einem leitfähigen Material besteht.
Da der Vorsprung des zweiten Durchgangslochs 210 auf dem Substrat 201 den Vorsprung des dritten Durchgangslochs 212 auf dem Substrat 201 mit einschließt, ist die Reflexionsschicht 203 von der Anode 204 isoliert, um dadurch einen Kurzschluss zu vermeiden, wobei der Ersatzwiderstand der Reflexionsschicht 203 weniger als 100 Ω beträgt.
Schritt 404: Bilden einer optischen Modulationsschicht auf der Reflexionsschicht.
Schritt 405: Bilden einer Anode auf der optischen Modulationsschicht.
Die Anode 204 wird auf der optischen Modulationsschicht 211 gebildet, wobei die Anode 204 durch das zweite Durchgangsloch 210 und das dritte Durchgangsloch 212 mit einer Source-Elektrode des TFT elektrisch verbunden ist, wobei das zweite Durchgangsloch 210 und das dritte Durchgangsloch 212 miteinander in Verbindung stehen.
Schritt 406: Bilden einer organischen Emissionsvorrichtungsschicht auf der Anode.
Die organische Emissionsvorrichtungsschicht 205 wird auf der Anode 204 durch Dampfabscheidung gebildet, wobei die organische Emissionsvorrichtungsschicht 205 eine Pixeldefinitionsschicht 206 umfasst.
Schritt 407: Bilden einer Kathode auf der organischen Emissionsvorrichtungsschicht.
Die Kathode 207 wird auf der organischen Emissionsvorrichtungsschicht 205 gebildet.
Bei der erfindungsgemäßen Ausführungsform ist die Reflexionsschicht auf den Stromleitungen und der gesamten Oberfläche des Substrates angeordnet, wobei die Stromleitungen elektrisch mit der Reflexionsschicht verbunden sind, die Reflexionsschicht dick und leitfähig ist, und die Reflexionsschicht ausreichend dick gestaltet werden kann (auch mit einer großen Querschnittsfläche), um dadurch den Widerstandswert zu verringern; und ferner ist jede Stromleitung mit der Reflexionsschicht verbunden, die auf der gesamten Oberfläche des Substrates angeordnet ist, so dass die Spannungspegel an entsprechenden Stellen jeder Stromleitung der jeweiligen Anzeigeeinheiten im wesentlichen konstant sind, d.h. der Spannungsabfall der Stromleitung wird verringert, wodurch das Problem vermieden wird, das durch den signifikanten Spannungsabfall über die unterschiedlichen Anzeigeeinheiten verursacht wird; und darüber hinaus ist die optische Modulationsschicht zwischen der Reflexionsschicht und der Anode angeordnet, d.h. die optische Modulationsschicht ist unterhalb der organischen Emissionsvorrichtungsschicht angeordnet, so dass keine Lichtstrahlen durch die optische Modulationsschicht gesperrt werden, während das emittierte Licht von der Kathodenseite durchgelassen wird, wodurch ein Lichtstrahlungsverlust vermieden und ein Displayeffekt verbessert wird.
Ein weiteres Verfahren zur Herstellung eines OLED-Anzeigepanels nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform wird nachfolgend beschrieben, wobei die Schritte des weiteren Verfahrens zur Herstellung eines OLED-Anzeigepanels im wesentlichen denen des obigen Verfahrens entsprechen, weshalb hier nur ein Verfahren zur Herstellung einer Mikrohohlraumstruktur in einer Anzeigeeinheit nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform unter Bezugnahme auf 4 und 6 beschrieben wird. 6 zeigt ein Ablaufdiagramm eines Verfahrens zur Herstellung einer Mikrohohlraumstruktur in einer Anzeigeeinheit nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform. Das Verfahren umfasst die folgenden Schritte 501-505:
Schritt 501: Bereitstellen eines Substrates und Aufbringen einer Reflexionsschicht auf das Substrat.
Die Reflexionsschicht 203 kann eine einschichtige oder eine mehrschichtige Struktur aufweisen, wobei die Reflexionsschicht 203 bei einer einschichtigen Struktur eine Metallschicht sein kann; alternativ kann die Reflexionsschicht 203 eine mehrschichtige Struktur aufweisen, wobei die Reflexionsschicht 203 dann eine Metallschicht und eine transparente, leitfähige Schicht, die auf die Metallschicht aufgebracht ist, umfassen kann, und die Metallschicht auf einer Seite nahe der organischen Emissionsvorrichtungsschicht 205 und die transparente, leitfähige Schicht auf einer Seite nahe dem Substrat 201 zur Reflexion angeordnet sein kann. Unabhängig davon, ob die Reflexionsschicht eine einschichtige oder eine mehrschichtige Struktur aufweist, kann die Metallschicht aus einem der Metalle Silber, Molybdän, Aluminium, Gold, Kupfer, Titan, Nickel, Eisen, Chrom, Wolfram oder aus einer Legierungsstruktur hergestellt sein, die aus einer beliebigen Kombination von mehr als einem der folgenden Metalle besteht: Silber, Molybdän, Aluminium, Gold, Kupfer, Titan, Nickel, Eisen, Chrom und Wolfram, wobei ein bestimmter Anteil der die Legierung bildenden Metalle in der Praxis nach Wunsch eingestellt werden kann.
Schritt 502: Strukturieren der optischen Modulationsschicht, um eine erste optische Modulationsschicht, eine zweite optische Modulationsschicht und eine dritte optische Modulationsschicht zu bilden, unter Verwendung einer ersten Fotomaske.
In diesem Schritt 502 kann die optische Modulationsschicht unter Verwendung einer allgemeinen Maske belichtet, entwickelt, geätzt und anderen Photolithographieverfahren unterzogen und mit der ersten Fotomaske strukturiert werden, um die erste optische Modulationsschicht 2111, die zweite optische Modulationsschicht 2112 und die dritte optische Modulationsschicht 2113 zu bilden, die jeweils in 4 gezeigt sind, wobei die erste optische Modulationsschicht 2111 dem R-Pixel entspricht, die zweite optische Modulationsschicht 2112 dem G-Pixel entspricht und die dritte optische Modulationsschicht 2113 dem B-Pixel entspricht; und wobei die Dicke der ersten optischen Modulationsschicht 2111 größer als die Dicke der zweiten optischen Modulationsschicht 2112, und die Dicke der zweiten optischen Modulationsschicht 2112 größer als die Dicke der dritten optischen Modulationsschicht 2113 ist.
Schritt 503: Bilden einer Anode auf der Reflexionsschicht und Strukturieren der Anode, um eine erste Anode, eine zweite Anode und eine dritte Anode zu bilden, unter Verwendung einer zweiten Fotomaske.
In diesem Schritt 503 kann die Anode unter Verwendung der allgemeinen Maske belichtet, entwickelt, geätzt und anderen Photolithographieverfahren unterzogen und mit der zweiten Fotomaske strukturiert werden, um die erste Anode 2041, die zweite Anode 2042 und die dritte Anode 2043 zu bilden, wobei die erste Anode 2041 dem R-Pixel entspricht, die zweite Anode 2042 dem G-Pixel entspricht und die dritte Anode 2043 dem B-Pixel entspricht.
Die Belichtungsgenauigkeit der allgemeinen Maske, die für die beiden Strukturierungsverfahren in den obigen Schritten 502 und 503 verwendet wird, ist nicht größer als 5 µm.
Schritt 504: Bilden einer organischen Emissionsvorrichtungsschicht auf der Anode und Strukturieren der organischen Emissionsvorrichtungsschicht, um eine erste organische Emissionsvorrichtungsschicht, eine zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht und eine dritte organische Emissionsvorrichtungsschicht zu bilden, unter Verwendung einer Maske.
In diesem Schritt 504 besteht ein Unterschied zu den oben erwähnten Schritten darin, dass die organische Emissionsvorrichtungsschicht in diesem Schritt durch Dampfabscheidung (Verdampfen) gebildet wird. Dabei wird erstens eine Lochinjektionsschicht 301 auf den jeweiligen Anoden (erste Anode 2041, zweite Anode 2042 bzw. dritte Anode 2043) durch Dampfabscheidung unter Verwendung einer allgemeinen Ausrichtungsmaske gebildet; zweitens wird eine Lochleitungsschicht 302 auf der Lochinjektionsschicht 301 durch Dampfabscheidung unter Verwendung der allgemeinen Ausrichtungsmaske gebildet; und drittens werden die erste Emissionsschicht 3031, die zweite Emissionsschicht 3032 und die dritte Emissionsschicht 3033 auf der Lochleitungsschicht 302 durch Dampfabscheidung mit drei präzisen Ausrichtungen unter Verwendung einer Feinausrichtungsmaske gebildet. Abschließend werden eine Elektronenleitungsschicht 304 und eine Elektroneninjektionsschicht 305 nacheinander durch Dampfabscheidung unter Verwendung der allgemeinen Ausrichtungsmaske gebildet.
Ferner können die erste organische Emissionsvorrichtungsschicht, die zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht und die dritte organische Emissionsvorrichtungsschicht gleicher Dicke durch Dampfabscheidung mit vier allgemeinen Ausrichtungen (Bilden der Lochinjektionsschicht 301, Bilden der Lochleitungsschicht 302, Bilden der Elektronenleitungsschicht 304 und Bilden der Elektroneninjektionsschicht 305) und drei Feinausrichtungen (erste Emissionsschicht 3031, zweite Emissionsschicht 3032 und dritte Emissionsschicht 3033) gebildet werden. Wie in 7 gezeigt, bei der es sich um ein vereinfachtes Diagramm der Dampfabscheidung unter Verwendung einer Feinausrichtungsmaske M handelt, kann die spezifische Dicke einer Filmschicht A, wie in 7 gezeigt, durch Steuern einer Zeitdauer für den Ausstoß von Filmschichten bestimmt werden, wobei der Ausstoß über eine Dampfabscheidungsquelle erfolgt, nachdem ein Substrat N mit der Feinausrichtungsmaske M präzise ausgerichtet wurde. Daher wird die Dicke der durch Dampfabscheidung gebildeten Filmschicht durch die Ausstoßzeit der Dampfabscheidungsquelle bestimmt.
Die Genauigkeit der Feinausrichtung liegt im Bereich von 1 µm bis 2 µm. Da die geeignete Feinausrichtungsmaske abhängig von der Größe einer zu verwirklichenden Anzeigeeinheit gewählt werden sollte, erfordert eine kleinere Anzeigeeinheit typischerweise eine Feinausrichtungsmaske mit einer höheren Feinausrichtungsgenauigkeit. Darüber hinaus kann ein Ausrichtungsvorgang auf einer Feinausrichtungsmaske bei einem Herstellverfahren in einem Verfahrensablauf immer anfälliger für einen Ausrichtungsfehler werden, weshalb die Feinausrichtung schwieriger als eine allgemeine Ausrichtung sein kann und dadurch die Produktausbeute verringert wird.
Schritt 505: Bilden einer Kathode auf den organischen Emissionsvorrichtungsschichten, wobei die Kathode eine erste Kathode, eine zweite Kathode und eine dritte Kathode umfasst.
Die in 3 gezeigte Mikrohohlraumstruktur kann mit dem oben beschriebenen Herstellverfahren hergestellt werden, wobei die erste optische Modulationsschicht 2111, die erste Anode 2041, die erste organische Emissionsvorrichtungsschicht und die erste Kathode 2071 dem R-Pixel (rotes Emissionslicht) entsprechen; die zweite optische Modulationsschicht 2112, die zweite Anode 2042, die zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht und die zweite Kathode 2072 dem G-Pixel (grünes Emissionslicht) entsprechen, und die dritte optische Modulationsschicht 2113, die dritte Anode 2043, die dritte organische Emissionsvorrichtungsschicht und die dritte Kathode 2073 dem B-Pixel (blaues Emissionslicht) entsprechen; und ferner steht L1 für den Abstand zwischen einer Seitenfläche der ersten Kathode 2071 nahe der ersten Anode 2041 und einer Seitenfläche der Reflexionsschicht 203 nahe der ersten Anode 2041, wobei $L_{1} = \frac{λ_{1}}{2} N$
ist und λ₁ für die Wellenlänge von rotem Licht (Rotlicht) steht; L2 steht für den Abstand zwischen einer Seitenfläche der zweiten Kathode 2072 nahe der zweiten Anode 2042 und einer Seitenfläche der Reflexionsschicht 203 nahe der zweiten Anode 2042, wobei $L_{2} = \frac{λ_{2}}{2} N$
ist und λ₂ für die Wellenlänge von grünem Licht (Grünlicht) steht; und L3 steht für den Abstand zwischen einer Seitenfläche der dritten Kathode 2073 nahe der dritten Anode 2043 und einer Seitenfläche der Reflexionsschicht 203 nahe der dritten Anode 2043, wobei $L_{3} = \frac{λ_{3}}{2} N$
ist und λ₃ für die Wellenlänge von 2 blauem Licht (Blaulicht) steht, und N für eine positive ganze Zahl steht. Ferner erfüllen L1, L2 und L3 die folgende Bedingung: Hohlraumlänge L1 der ersten Mikrohohlraumstruktur > Hohlraumlänge L2 der zweiten Mikrohohlraumstruktur > Hohlraumlänge L3 der dritten Mikrohohlraumstruktur.
Daher kann in einer erfindungsgemäßen Ausführungsform, bei der gemäß der Darstellung in 3 gebildeten Mikrohohlraumstruktur, für die R-Pixel, G-Pixel und B-Pixel die Hohlraumlänge der Mikrohohlraumstruktur einfach durch Anpassen der Dicke der optischen Modulationsschicht angepasst werden, und nach Bestimmung der Wellenlänge der Emissionsschicht kann eine geeignete Hohlraumlänge in Gleichung (1) gewählt werden. Typischerweise weisen in einem Verfahren zur Herstellung eines TFT-Array-Substrates die Lochinjektionsschicht 301, die Lochleitungsschicht 302, die Elektronenleitungsschicht 304 und die Elektroneninjektionsschicht 305 über die Lichtemissionsbereiche der R-Pixel, G-Pixel und B-Pixel die gleiche Dicke auf, und die Emissionsschichten (erste Emissionsschicht 3031, zweite Emissionsschicht 3032 und dritte Emissionsschicht 3033) können über den Lichtemissionsbereich der R-Pixel, G-Pixel und B-Pixel eine ungleiche Dicke aufweisen. Darüber hinaus können die drei Emissionsschichten (d.h. erste Emissionsschicht, zweite Emissionsschicht und dritte Emissionsschicht) aufgrund ihrer unterschiedlichen Materialien separat hergestellt werden, d.h. sie können jeweils durch Dampfabscheidung mit drei Feinausrichtungen hergestellt werden.
8a und 8b zeigen ein Diagram einer Mikrohohlraumstruktur nach dem Stand der Technik bzw. ein Diagramm einer Mikrohohlraumstruktur nach einer erfindungsgemäßen Ausführungsform.
In 8a entspricht die Hohlraumlänge der Mikrohohlraumstruktur dem Abstand zwischen der Oberseite der Anode und der Unterseite der Kathode, so dass die in 8a gezeigte Mikrohohlraumstruktur durch Bilden einer Lochinjektionsschicht 602 durch Dampfabscheidung unter Verwendung einer allgemeinen Ausrichtungsmaske und anschließendes Bilden einer Lochleitungsschicht 603 durch Dampfabscheidung unter erneuter Verwendung einer allgemeinen Ausrichtungsmaske, sowie anschließendes Bilden einer ersten Lochleitungsschicht 6031, einer zweiten Lochleitungsschicht 6032, einer ersten Emissionsschicht 6041, einer zweiten Emissionsschicht 6042 und einer dritten Emissionsschicht 6043, jeweils durch Dampfabscheidung mit fünf Feinausrichtungen, gebildet werden muss. Die fünf Feinausrichtungen müssen aufgrund der unterschiedlichen Materialien und Dicken der ersten Lochleitungsschicht 6031, der zweiten Lochleitungsschicht 6032, der ersten Emissionsschicht 6041, der zweiten Emissionsschicht 6042 und der dritten Emissionsschicht 6043 durchgeführt werden. Eine höhere Anzahl Feinausrichtungen kann jedoch den Verfahrensaufwand erhöhen und zudem möglicherweise zu einer schlechteren Ausrichtungsgenauigkeit sowie zu einer geringeren Produktausbeute führen.
Bei der Ausführungsform nach der erfindungsgemäßen Lösung kann die in 8b gezeigte Mikrohohlraumstruktur einfach mittels Durchführung dreier Feinausrichtungen in den Schritten des in 6 gezeigten Verfahrens gebildet werden, wobei im Vergleich zur Lösung in 8a eine geringere Anzahl Feinausrichtungen erfolgt, was die Präzision der Feinausrichtungen gewährleistet und die Produktausbeute verbessert, während gleichzeitig der Verfahrensaufwand verringert wird.
Darüber hinaus sieht eine erfindungsgemäße Ausführungsform, wie in 10 gezeigt, ferner eine Anzeigevorrichtung 7 vor, die ein OLED-Anzeigepanel 8 enthält, wobei das OLED-Anzeigepanel 8 ein beliebiges der OLED-Anzeigepanels nach den oben beschriebenen Ausführungsformen sein kann.
Zusammenfassend lässt sich feststellen: bei dem OLED-Anzeigepanel, dem Verfahren zu dessen Herstellung und der Anzeigevorrichtung nach den erfindungsgemäßen Ausführungsformen ist die Reflexionsschicht auf den Stromleitungen angeordnet, um eine Anzahl der Stromleitungen elektrisch mit der Reflexionsschicht zu verbinden, wobei die Reflexionsschicht dick, leitfähig und auf dem gesamten Substrat angeordnet ist, so dass die Stromleitungen parallel an die Reflexionsschicht angeschlossen sind, und somit ist der Gesamtwiderstand jeder Anzeigeeinheit verringert, weshalb an den entsprechenden Stellen entlang der Stromleitungen ein insignifikanter Spannungsunterschied vorliegt, d.h. der Spannungsabfall der Stromleitungen wird verringert, wodurch die durch einen signifikanten Spannungsabfall verursachte Unausgewogenheit der Anzeigehelligkeit vermieden wird; ferner kann die Reflexionsschicht auch als Spiegel eines Mikrohohlraums ausgebildet sein, und drei Mikrohohlraumstrukturen, die jeweils dem R-Pixel, dem G-Pixel bzw. dem B-Pixel entsprechen, können als Ergebnis von drei Feinausrichtungen gebildet werden, um zu gewährleisten, dass die Hohlraumlängen der Mikrohohlraumstrukturen einfach durch Anpassen der optischen Modulationsschicht angepasst werden können und die Anzahl der Feinausrichtungen verringert werden kann, und dadurch eine verschlechterte Genauigkeit der Feinausrichtungen zu vermeiden, die Produktausbeute zu verbessern und gleichzeitig den Verfahrensaufwand zu verringern. Darüber hinaus ist die optische Modulationsschicht zwischen der Reflexionsschicht und der Anode angeordnet, d.h. die optische Modulationsschicht ist unterhalb der organischen Emissionsvorrichtungsschicht angeordnet, so dass keine Lichtstrahlen durch die optische Modulationsschicht gesperrt werden, während Emissionslicht von der Kathodenseite durchgelassen wird, wodurch ein Lichtstrahlungsverlust vermieden und ein Displayeffekt verbessert wird.

Claims

Organisches Leuchtdioden (OLED)-Anzeigepanel, umfassend ein Substrat (201); eine Vielzahl von Stromleitungen (202), die auf dem Substrat (201) angeordnet sind; eine auf den Stromleitungen (202) angeordnete Reflexionsschicht (203), wobei die Reflexionsschicht (203) elektrisch mit den Stromleitungen (202) verbunden ist; eine Anode (204), die auf der Reflexionsschicht (203) angeordnet ist; eine optische Modulationsschicht (211), die zwischen der Reflexionsschicht (203) und der Anode (204) angeordnet ist; eine Kathode (207), die auf der Anode (204) angeordnet ist; und eine organische Emissionsvorrichtungsschicht (205), die zwischen der Anode (204) und der Kathode (207) angeordnet ist; wobei die Reflexionsschicht (203) von der Anode (204) isoliert ist, und das OLED-Anzeigepanel auf einer dem Substrat (201) abgewandten Seite der Reflexionsschicht (203) lichtdurchlässig ist, und die Reflexionsschicht (203) eine Metallschicht und eine transparente, leitfähige Schicht, die auf die Metallschicht aufgebracht ist, umfasst, wobei die Metallschicht auf einer Seite nahe der organischen Emissionsvorrichtungsschicht (205) angeordnet ist, während die transparente, leitfähige Schicht auf einer Seite nahe dem Substrat (201) angeordnet ist.
OLED-Anzeigepanel nach Anspruch 1, ferner umfassend eine erste Isolierschicht (208), die auf den Stromleitungen (202) angeordnet ist, wobei die erste Isolierschicht (208) eine Vielzahl von ersten Durchgangslöchern (209) aufweist, die ersten Durchgangslöcher (209) sich durch die erste Isolierschicht (208) erstrecken, um die Stromleitungen (202) freizulegen, und die Reflexionsschicht (203) durch die ersten Durchgangslöcher (209) elektrisch mit den Stromleitungen (202) verbunden ist.
OLED-Anzeigepanel nach Anspruch 1, wobei die Reflexionsschicht (203) eine Vielzahl von zweiten Durchgangslöchern (210) aufweist und die zweiten Durchgangslöcher (210) sich durch die Reflexionsschicht (203) erstrecken.
OLED-Anzeigepanel nach Anspruch 3, wobei die optische Modulationsschicht (211) aus einem transparenten Isoliermaterial besteht, so dass die Reflexionsschicht (203) von der Anode (204) isoliert ist, und die optische Modulationsschicht (211) eine Vielzahl von dritten Durchgangslöchern (212) umfasst.
OLED-Anzeigepanel nach Anspruch 4, wobei die dritten Durchgangslöcher (212) sich durch die optische Modulationsschicht (211) erstrecken, die zweiten Durchgangslöcher (210) mit den dritten Durchgangslöchern (212) in Verbindung stehen, und der Vorsprung der zweiten Durchgangslöcher (210) auf dem Substrat (201) den Vorsprung der dritten Durchgangslöcher (212) auf dem Substrat (201) mit einschließt.
OLED-Anzeigepanel nach Anspruch 1, wobei ein Abstand zwischen einer Seitenfläche der Kathode (207) nahe der Anode (204) und eine Seitenfläche der Reflexionsschicht (203) nahe der Anode (204) folgende Gleichung erfüllt: $L = \frac{λ}{2} N,$
worin L für den Abstand zwischen der Seitenfläche der Kathode (207) nahe der Anode (204) und der Seitenfläche der Reflexionsschicht (203) nahe der Anode (204) steht; λ für eine Wellenlänge des Emissionslichts steht; und N für eine positive ganze Zahl steht.
OLED-Anzeigepanel nach Anspruch 6, wobei: die Anode (204) eine erste Anode (2041), eine zweite Anode (2042) und eine dritte Anode (2043) umfasst, und die Kathode (207) eine erste Kathode (2071), eine zweite Kathode (2072) und eine dritte Kathode (2073) umfasst, wobei: die erste Anode (2041) und die erste Kathode (2071) rotem Emissionslicht entsprechen, die zweite Anode (2042) und die zweite Kathode (2072) grünem Emissionslicht entsprechen, und die dritte Anode (2043) und die dritte Kathode (2073) blauem Emissionslicht entsprechen, und L1 für einen Abstand zwischen einer Seitenfläche der ersten Kathode (2071) nahe der ersten Anode (2041) und einer Seitenfläche der Reflexionsschicht (203) nahe der ersten Anode (2041) steht, L2 für einen Abstand zwischen einer Seitenfläche der zweiten Kathode (2072) nahe der zweiten Anode (2042) und einer Seitenfläche der Reflexionsschicht (203) nahe der zweiten Anode (2042) steht, und L3 für einen Abstand zwischen einer Seitenfläche der dritten Kathode (2073) nahe der dritten Anode (2043) und einer Seitenfläche der Reflexionsschicht (203) nahe der dritten Anode (2043) steht, und L1, L2 und L3 die Ungleichung L1>L2>L3 erfüllen.
OLED-Anzeigepanel nach Anspruch 7, wobei: die optische Modulationsschicht (211) eine erste optische Modulationsschicht (2111), eine zweite optische Modulationsschicht (2112) und eine dritte optische Modulationsschicht (2113) umfasst, wobei: die erste optische Modulationsschicht (2111) rotem Emissionslicht entspricht, die zweite optische Modulationsschicht (2112) grünem Emissionslicht entspricht, und die dritte optische Modulationsschicht (2113) blauem Emissionslicht entspricht, und eine Dicke der ersten optischen Modulationsschicht (2111) größer als eine Dicke der zweiten optischen Modulationsschicht (2112) ist, und die Dicke der zweiten optischen Modulationsschicht (2112) größer als eine Dicke der dritten optischen Modulationsschicht (2113) ist.
OLED-Anzeigepanel nach Anspruch 8, wobei: die organische Emissionsvorrichtungsschicht (205) eine erste organische Emissionsvorrichtungsschicht, eine zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht und eine dritte organische Emissionsvorrichtungsschicht umfasst, wobei: die erste organische Emissionsvorrichtungsschicht (3031) rotem Emissionslicht entspricht, die zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht (3032) grünem Emissionslicht entspricht, die dritte organische Emissionsvorrichtungsschicht (3033) blauem Emissionslicht entspricht, und die erste organische Emissionsvorrichtungsschicht, die zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht und die dritte organische Emissionsvorrichtungsschicht die gleiche Dicke aufweisen.
Verfahren zur Herstellung eines organischen Leuchtdioden (OLED)-Anzeigepanels, das die Schritte umfasst: Bereitstellen eines Substrates (401); Bilden von Stromleitungen auf dem Substrat (402); Bilden einer Reflexionsschicht (203) auf den Stromleitungen, wobei die Reflexionsschicht elektrisch mit den Stromleitungen (403) verbunden ist; Bilden einer optischen Modulationsschicht auf der Reflexionsschicht (404); Bilden einer Anode auf der optischen Modulationsschicht (405); Bilden einer organischen Emissionsvorrichtungsschicht auf der Anode (406); und Bilden einer Kathode auf der organischen Emissionsvorrichtungsschicht (407), wobei die Reflexionsschicht von der Anode isoliert ist, und das OLED-Anzeigepanel auf einer dem Substrat abgewandten Seite der Reflexionsschicht lichtdurchlässig ist, und die Reflexionsschicht (203) eine Metallschicht und eine transparente, leitfähige Schicht, die auf die Metallschicht aufgebracht ist, umfasst, wobei die Metallschicht auf einer Seite nahe der organischen Emissionsvorrichtungsschicht (205) angeordnet ist, während die transparente, leitfähige Schicht auf einer Seite nahe dem Substrat (201) angeordnet ist.
Verfahren nach Anspruch 10, das ferner die Schritte umfasst: Strukturieren der optischen Modulationsschicht, um eine erste optische Modulationsschicht, eine zweite optische Modulationsschicht und eine dritte optische Modulationsschicht zu bilden, unter Verwendung einer ersten Fotomaske (502), Strukturieren der Anode, um eine erste Anode, eine zweite Anode und eine dritte Anode zu bilden, unter Verwendung einer zweiten Fotomaske (503), und Strukturieren der organischen Emissionsvorrichtungsschicht, um eine erste organische Emissionsvorrichtungsschicht, eine zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht und eine dritte organische Emissionsvorrichtungsschicht zu bilden, unter Verwendung einer dritten Fotomaske (504), und die Kathode eine erste Kathode, eine zweite Kathode und eine dritte Kathode umfasst, wobei: die erste optische Modulationsschicht, die erste Anode, die erste organische Emissionsvorrichtungsschicht und die erste Kathode rotem Emissionslicht entsprechen, die zweite optische Modulationsschicht, die zweite Anode, die zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht und die zweite Kathode grünem Emissionslicht entsprechen, die dritte optische Modulationsschicht, die dritte Anode, die organische Emissionsvorrichtungsschicht und die dritte Kathode blauem Emissionslicht entsprechen, wobei: L1 für einen Abstand zwischen einer Seitenfläche der ersten Kathode nahe der ersten Anode und einer Seitenfläche der Reflexionsschicht nahe der ersten Anode steht, L2 für einen Abstand zwischen einer Seitenfläche der zweiten Kathode nahe der zweiten Anode und einer Seitenfläche der Reflexionsschicht nahe der zweiten Anode steht, und L3 für einen Abstand zwischen einer Seitenfläche der dritten Kathode nahe der dritten Anode und einer Seitenfläche der Reflexionsschicht nahe der dritten Anode steht, und L1, L2 und L3 die Ungleichung L1 >L2>L3 erfüllen.
Verfahren nach Anspruch 11, wobei eine Dicke der ersten optischen Modulationsschicht größer als eine Dicke der zweiten optischen Modulationsschicht ist, und die Dicke der zweiten optischen Modulationsschicht größer als eine Dicke der dritten optischen Modulationsschicht ist; und wobei die erste organische Emissionsvorrichtungsschicht, die zweite organische Emissionsvorrichtungsschicht und die dritte organische Emissionsvorrichtungsschicht die gleiche Dicke aufweisen.
Anzeigevorrichtung, umfassend ein OLED-Anzeigepanel nach einem der Ansprüche 1 bis 9.