DE102006028322A1 - Flüssigkristallanzeigevorrichtung und Herstellungsverfahren - Google Patents

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Abstract

Eine LCD-Vorrichtung, die fähig ist, ein Kontrastverhältnis zu verbessern, indem eine Helligkeit verbessert wird und ein Herstellungsverfahren dieser LCD-Vorrichtung ist bereitgestellt. Die LCD-Vorrichtung weist auf: ein erstes Substrat und ein zweites Substrat; eine Mehrzahl von Gateleitungen, die auf dem ersten Substrat in einer ersten Richtung gebildet sind; eine Mehrzahl von Datenleitungen, die auf dem ersten Substrat in einer Richtung senkrecht zu den Gateleitungen gebildet sind, wodurch eine Mehrzahl von Pixelbereichen definiert wird; eine Schaltvorrichtung, die an jedem Kreuzungspunkt der Gateleitungen mit den Datenleitungen gebildet ist; eine Schwarzmatrix, die auf dem zweiten Substrat in dreieckiger Rippenform gebildet ist, und eine Reflektionsschicht auf ihrer Oberfläche aufweist; einen Farbfilter, der auf der Schwarzmatrix gebildet ist; und eine Flüssigkristallschicht, die zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten Substrat gebildet ist.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung (LCD-Vorrichtung) und insbesondere eine LCD-Vorrichtung, die eine verbesserte Helligkeit aufweist, und ein Herstellungsverfahren derselben.
  • Seit kurzem werden aufgrund ihrer kleinen Größe, ihres geringen Gewichts und ihres leistungseffizienten Betriebs verschiedene tragbare elektrische Vorrichtungen, wie zum Beispiel Mobiltelefone, persönliche digitale Assistenten (PDAs) und Notebook-Computer entwickelt. Folglich wurden Flachpaneel-Anzeigevorrichtung, wie zum Beispiel Flüssigkristallanzeigen (LCDs), Plasma-Anzeigepaneels (PDPs), Feldemissionsanzeigen (FEDs) und Vakuumfluoreszenzanzeigen (VFDs) entwickelt. Von diesen Flachpaneelanzeigen werden gegenwärtig LCDs aufgrund ihres einfachen Treiberschemas und überragenden Bildqualität in Massenproduktion hergestellt.
  • 1 ist eine schematische Ansicht, die ein Einheits-Pixel einer herkömmlichen LCD-Vorrichtung zeigt.
  • Wie gezeigt, weist die LCD-Vorrichtung ein unteres Substrat 5, ein oberes Substrat 3 und eine zwischen dem unteren Substrat 5 und dem oberen Substrat 3 gebildete Flüssigkristallschicht 7 auf.
  • Das untere Substrat 5 ist ein Treibervorrichtungs-Arraysubstrat, auf dem eine Mehrzahl von Pixeln gebildet ist. Eine Schaltvorrichtung 9, wie zum Beispiel ein Dünnschichttransistor (TFT) ist bei jedem Pixel gebildet.
  • Das obere Substrat 3 ist ein Farbfiltersubstrat, auf dem eine Schwarzmatrix 8 und eine Farbfilterschicht 2 zum Implementieren der Grundfarben gebildet sind. Eine Pixelelektrode 6 und eine gemeinsame Elektrode 4 sind jeweils auf dem unteren Substrat 5 bzw. dem oberen Substrat 3 gebildet. Eine Ausrichtungsschicht zum Ausrichten von Flüssigkristallmolekülen der Flüssigkristallschicht 7 ist auf dem unteren Substrat 5 abgeschieden.
  • Das untere Substrat 5 und das obere Substrat 3 sind mittels eines Abichtmittels (nicht gezeigt) miteinander verbunden, das am äußeren Umfang der Substrate gebildet ist, und eine konstante Zellenlücke mittels eines dazwischen gebildeten Abstandhalters (nicht gezeigt) aufrechterhält. Die Flüssigkristallschicht 7, die zwischen dem unteren Substrat 5 und dem oberen Substrat 3 gebildet ist, schaltet auch jeden Pixel mittels der Schaltvorrichtung, die auf dem unteren Substrat 5 gebildet ist, um die Flüssigkristallmoleküle zu Treiben (Anzusteuern) und eine Lichtmenge zu steuern, die durch die Flüssigkristallschicht hindurch läuft, wodurch Informationen angezeigt werden.
  • Die LCD-Vorrichtung wird durch die folgenden Prozesse hergestellt. Zuerst wird ein Treibervorrichtungs-Arraysubstrat-Prozess zum Bilden einer Treibervorrichtung auf dem unteren Substrat 5 durchgeführt, und ein Farbfiltersubstratprozess zum Bilden eines Farbfilters auf dem oberen Substrat 3 wird durchgeführt. Dann werden ein Abstandhalter-Bildungsprozess und ein Abdichtmittel-Bildungsprozess durchgeführt, wodurch die LCD-Vorrichtung vervollständigt wird.
  • Der Treibervorrichtung-Arraysubstrat-Prozess wird wie folgt durchgeführt. Zuerst wird eine Mehrzahl von Gateleitungen und Datenleitungen zum Definieren der Pixelbereiche auf dem unteren Substrat 5 angeordnet. Dann wird jeweils ein Dünnschichttransistor 9, der mit den Gateleitungen und den Datenleitungen gekoppelt ist, in jedem Pixelbereich gebildet. Dann wird die Pixelelektrode 6 gebildet, die mit dem Dünnschichttransistor gekoppelt ist, um die Flüssigkristallschicht anzutreiben, indem ein Signal durch den Dünnschichttransistor empfangen wird.
  • Der Farbfiltersubstratprozess wird wie folgt durchgeführt. Zuerst wird die Schwarzmatrix 8 auf dem oberen Substrat 3 gebildet. Dann wird der Farbfilter 2 zum Implementieren der Farben Rot (R), Grün (G) und Blau (B) gebildet. Dann wird die gemeinsame Elektrode 4 auf der Farbfilterschicht 2 gebildet.
  • In der herkömmlichen LCD-Vorrichtung wird Licht von einer Hintergrundbeleuchtungsvorrichtung bereitgestellt, die an einem unteren Abschnitt davon vorgesehen ist. Die Flüssigkristallmoleküle werden auch durch eine Treibervorrichtung getrieben, d.h. angesteuert, die auf dem unteren Substrat gebildet ist, wodurch die Lichtmenge gesteuert wird, die durch die Flüssigkristallschicht hindurchläuft und folglich Informationen anzeigt.
  • Jedoch wird bei der herkömmlichen LCD-Vorrichtung Licht, das von der Hintergrundbeleuchtung einfällt, zum Verhindern einer Lichtleckage von der Schwarzmatrix 8 abgeschirmt. Folglich ist Licht, das auf die Schwarzmatrix 8 einfällt, verloren, wodurch es die Gesamt-Helligkeit nicht verbessert.
  • Folglich ist es ein Ziel der Erfindung, eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung (LCD-Vorrichtung) bereitzustellen, die fähig ist, die Helligkeit von Licht zu verbessern, das auf eine Schwarzmatrix einfällt, und ein Herstellungsverfahren dafür.
  • Zum Erreichen dieser und anderer Vorteile und in Übereinstimmung mit dem Zweck der Erfindung, wie er hierin ausgeführt und ausführlich beschrieben ist, ist eine LCD-Vorrichtung bereitgestellt, die aufweist: ein erstes Substrat und ein zweites Substrat; eine Mehrzahl von Gateleitungen, die auf dem ersten Substrat in einer ersten Richtung gebildet sind; eine Mehrzahl von Datenleitungen, die auf dem ersten Substrat in einer Richtung senkrecht zu den Gateleitungen gebildet sind, wodurch eine Mehrzahl von Pixelbereichen definiert ist; eine Schaltvorrichtung, die an jedem Kreuzungspunkt der Gateleitungen mit den Datenleitungen gebildet ist; eine Schwarzmatrix, die auf dem zweiten Substrat rippenförmig gebildet ist, und eine Reflektionsschicht auf ihrer Oberfläche aufweist; einen Farbfilter, der auf der Schwarzmatrix gebildet ist; und eine Flüssigkristallschicht, die zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten Substrat gebildet ist.
  • Die LCD-Vorrichtung weist ferner eine Pixelelektrode auf, die in einem Pixelbereich des ersten Substrats gebildet ist, und eine gemeinsame Elektrode, die auf einer gesamten Oberfläche des Farbfilters des zweiten Substrats gebildet ist. Die gemeinsame Elektrode und die Pixelelektrode können zusammen auf dem ersten Substrat gebildet sein.
  • Die LCD-Vorrichtung weist ferner einen ersten Polarisator und einen zweiten Polarisator auf, die jeweils auf den Rückseiten des ersten Substrats bzw. des zweiten Substrats gebildet sind. Eine Kontaktoberfläche des zweiten Polarisators mit dem zweiten Substrat reflektiert Licht.
  • Gemäß einem anderen Ausführungsbeispiel der Erfindung ist ein Farbfiltersubstrat vorgesehen, das aufweist: ein transparentes Substrat; eine Schwarzmatrix, die auf dem transparenten Substrat in horizontalen und vertikalen Richtungen angeordnet ist, wodurch eine Mehrzahl von Pixelbereichen definiert wird, mit einer Rippenform und einer Reflektionsschicht auf ihrer Oberfläche; und einen Farbfilter, der auf der Schwarzmatrix gebildet ist.
  • Zum Erreichen dieser und anderer Vorteile und in Übereinstimmung mit dem Zweck der Erfindung, wie er ausgeführt und hierin ausführlich beschrieben ist, ist auch ein Herstellungsverfahren einer LCD-Vorrichtung bereitgestellt, das aufweist: Bereitstellen eines ersten Substrats mit einem Dünnschichttransistorarray; Bereitstellen eines zweiten Substrats, auf dem eine Schwarzmatrix und ein Farbfilter gebildet werden, wobei die Schwarzmatrix auf dem transparenten Substrat in horizontalen und vertikalen Richtungen angeordnet wird, wodurch eine Mehrzahl von Pixelbereichen definiert wird, mit einer Rippenform, und eine Reflektionsschicht auf ihrer Oberfläche aufweist; und Bilden einer Flüssigkristallschicht zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten Substrat. Der Schritt des Bereitstellens des zweiten Substrats weist auf: Bereitstellen eines transparenten Substrats; Bilden einer Rippenstruktur, die in Rechts- und Links-Richtungen auf dem transparenten Substrat symmetrisch ist; Bilden einer Reflektionsschicht auf einer Oberfläche der Rippenstruktur; und Bilden einer Farbfilterschicht auf dem transparenten Substrat.
  • Das Herstellungsverfahren einer LCD-Vorrichtung kann ferner das Bilden einer gemeinsamen Elektrode auf der Farbfilterschicht aufweisen.
  • Gemäß einem anderen Ausführungsbeispiel der Erfindung ist ein Herstellungsverfahren einer LCD-Vorrichtung vorgesehen, das aufweist: Bereitstellen eines transparenten Substrats; Bilden einer Rippenstruktur, die in Rechts- und Links-Richtungen auf dem transparenten Substrat symmetrisch ist; Bilden einer Reflektionsschicht auf einer Oberfläche der Rippenstruktur; und Bilden einer Farbfilterschicht auf dem transparenten Substrat.
  • In der Erfindung ist die Schwarzmatrix so ausgebildet, um eine Rippenform zu haben, die in Rechts- und Links-Richtungen symmetrisch ist, und die Reflektrionsschicht ist auf einer Oberfläche der Schwarzmatrix gebildet. Das heißt, die linke Seite der Rippenform ist spiegelsymmetrisch zur rechten Seite. Folglich wird Licht, das auf die Schwarzmatrix einfällt, von der Reflektionsschicht reflektiert, um in den Pixelbereich eingeführt zu werden. Demzufolge geht kein Licht auf der entsprechenden Schwarzmatrix verloren und dieses Licht kann zum Verbessern der Gesamt-Helligkeit der Erfindung verwendet werden.
  • Die vorangegangenen und andere Ziele, Merkmale, Aspekte und Vorteile der Erfindung werden aus der folgenden detaillierten Beschreibung offensichtlicher, wenn sie zusammen mit den begleitenden Zeichnungen studiert wird.
  • Die begleitenden Zeichnungen, die enthalten sind um ein weiteres Verständnis der Erfindung zu schaffen, in dieser Beschreibung enthalten sind und einen Teil davon bilden, stellen Ausführungsbeispiele der Erfindung dar, und dienen zusammen mit der Beschreibung zum Erklären der Prinzipien der Erfindung.
  • In den Zeichnungen ist bzw. sind:
  • 1 eine Querschnittsansicht, die eine herkömmliche LCD-Vorrichtung zeigt;
  • 2A und 2B schematische Ansichten, die eine LCD-Vorrichtung gemäß der Erfindung zeigen, in der 2A eine Draufsicht ist, und 2B eine Querschnittsansicht ist, die entlang der Linie I-I' in 2A genommen ist; und
  • 3A und 3B Querschnittsansichten, die Herstellungsprozesse eines Farbfiltersubstrats gemäß der Erfindung zeigen.
  • Es wird jetzt im Detail auf die bevorzugten Ausführungsbeispiele der Erfindung Bezug genommen, wovon Beispiele in den begleitenden Zeichnungen dargestellt sind.
  • Nachstehend werden eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung (LCD-Vorrichtung) und ein Herstellungsverfahren derselben gemäß der Erfindung detailliert mit Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen erklärt.
  • Die 2A und 2B sind schematische Ansichten, die eine LCD-Vorrichtung gemäß der Erfindung zeigen, in der 2A eine Draufsicht ist, und 2B eine Querschnittsansicht ist, die entlang der Linie I-I' in 2A genommen ist.
  • Wie gezeigt, weist eine LCD-Vorrichtung 100 gemäß der Erfindung ein erstes Substrat 110, ein zweites Substrat 120 und eine zwischen dem ersten Substrat 110 und dem zweiten Substrat 120 gebildete Flüssigkristallschicht 130 auf. Ein erster Polarisator 141 ist an einer Rückseite des ersten Substrats 110 befestigt, und ein zweiter Polarisator 143 ist an einer Rückseite des zweiten Substrats 120 befestigt. Eine Kontaktfläche des ersten Polarisators 141 mit der Rückseite des ersten Substrats 110 reflektiert Licht.
  • Eine Mehrzahl von Gateleitungen 101 ist auf dem ersten Substrat 110 in einer ersten Richtung angeordnet, und eine Merhzahl von Datenleitungen 103 ist in einer zweiten Richtung angeordnet, um senkrecht zu den Gateleitungen 101 zu sein, wodurch die Pixelbereiche P definiert werden. Eine Pixelelektrode 117 ist in dem Pixelbereich P gebildet. Eine Schaltvorrichtung, d.h. ein Dünnschichttransistor (TFT), der mit der Pixelelektrode 117 zum Schalten jedes Pixels elektrisch gekoppelt ist, ist an jeder Kreuzung der Gateleitungen 101 mit den Datenleitugnen 103 gebildet.
  • Die Schaltvorrichtung ist ein Dünnschichttransistor 102 und weist eine Gateelektrode 102, die aus der Gateleitung 101 gebildet ist, eine aktive Schicht 108, die auf der Gateelektrode gebildet ist, und Source-/Drainelektroden 105a und 105b, die auf der aktiven Schicht 108 gebildet sind, auf.
  • Die Drainelektrode 105b ist mit der Pixelelektrode 117 elektrisch gekoppelt, und eine Gateisolationsschicht 113 ist zwischen der Gateelektrode 102 und der aktiven Schicht 108 angeordnet. Die Gateisolationsschicht 113 ist auf der gesamten Oberfläche des ersten Substrats 110 abgeschieden. Eine Passivierungsschicht 115 ist auf dem TFT ausgebildet.
  • Eine Schwarzmatrix 128 zum Verhindern einer Lichtleckage, ein Farbfilter 129 und eine gemeinsame Elektrode 127 sind auf dem zweiten Substrat 120 gebildet. Die Schwarzmatrix 128 weist eine organische Struktur 123 mit einer dreieckigen Rippenstruktur und eine Reflektionsschicht 125, die auf einer Oberfläche der organischen Struktur 123 gebildet ist, auf. Die Schwarzmatrix 128 verhindert Lichteinfall darauf zum Verhindern einer Lichtleckage und reflektiert gleichzeitig Licht, das darauf einfällt (die Pfeilrichtung in der Zeichnung), in den Pixelbereich.
  • Wenn Licht von einer Hintergrundbeleuchtung (nicht gezeigt), die an einem unteren Abschnitt des ersten Substrats 110 vorgesehen ist, an die LCD-Vorrichtung angelegt wird, steuert die Flüssigkristallschicht 130 mittels eines elektrischen Felds, das zwischen die gemeinsame Elektrode 127 und die Pixelelektrode 117 angelegt ist, die optische Durchlässigkeit. Die Schwarzmatrix 128 ist auch an einer Schnittstelle des Pixelbereichs gebildet, das heißt, entsprechend den Gateleitungen 101, den Datenleitungen 103 und den TFTs auf dem zweiten Substrat 120, wodurch eine Lichtleckage zum Zeitpunkt des Anzeigens eines Normal-Schwarz-Modus (normally black mode) verhindert wird.
  • Die Schwarzmatrix 128 schirmt nicht nur Licht ab, das von der Hintergrundbeleuchtung bereitgestellt ist, sondern reflektiert auch Licht, das von der Hintergrundbeleuchtung einfällt, in den Pixelbereich P. Das Licht, das in den Pixelbereich P einfällt, wird von dem ersten Polarisator 141 zurückreflektiert, der an der unteren Oberfläche des ersten Substrats 110 angebracht ist, wodurch die Gesamt-Helligkeit verbessert wird. Damit die Schwarzmatrix 128 effektiv darauf einfallendes Licht in den Pixelbereich reflektiert, ist eine geneigte (gekippte) Oberfläche an einer Reflektrionsoberfläche der Schwarzmatrix 128 gebildet. Vorzugsweise weist die geneigte Oberfläche eine dreieckige Rippenstruktur auf.
  • Wie mit dem Pfeil in der Zeichnung angedeutet ist, fällt Licht, das auf die Schwarzmatrix 128 einfällt, durch die Reflektrionsschicht 125 auf den Pixelbereich P ein. Dann wird das Licht, das in den Pixelbereich P einfällt, von dem ersten Polarisator 141, der an der unteren Oberfläche des ersten Substrats 110 gebildet ist, zurückreflektiert, wodurch die Gesamt-Helligkeit verbessert wird.
  • Die organische Struktur 123 mit Rippenstruktur kann unter Verwendung eines negativen Photoresists gebildet werden. Konkreter heißt dass, der negative Photoresist wird auf einem Substrat abgeschieden und dann strukturiert, um eine Gitterweite kleiner als 10 μm aufzuweisen, um dadurch eine dreieckige Rippenstruktur zu bekommen.
  • Die 3A und 3B sind Querschnittsansichten, die Herstellungsprozesse eines Farbfiltersubstrats gemäß der Erfindung zeigen.
  • Wie in 3A gezeigt ist, wird ein transparentes Substrat 220 bereitgestellt, und eine negative Photoresistschicht 223' wird auf dem transprenten Substrat 220 abgeschieden. Dann wird ultraviolette Strahlung unter Verwendung einer Maske mit Transmissionsöffnungen auf die negative Photoresistschicht 223' eingestrahlt, wobei die Transmissionsöffnungen mit auf der negativen Photoresistschicht 223' zu bildenden Bereichen ausgerichtet sind.
  • Dann wird die negative Photoresistschicht 223', auf die ultraviolette Strahlung selektiv eingestrahlt wurde, entwickelt, wodurch eine organische Struktur 223 mit einer dreieckigen Rippenstruktur in den Bereichen gebildet wird, auf die ultraviolette Strahlung eingestrahlt wurde. Der Grund, weshalb die organische Struktur 223 eine Rippenstruktur und keine flache Struktur aufweist, ist der, dass die organische Struktur 223 eine Breite kleiner als 10 μm aufweist. Allgemein, wenn die Photoresiststruktur eine Breite kleiner als 10 μm aufweist, weisen beide Seiten der Photoresiststruktur ein geneigte Rippenstruktur auf.
  • Als Nächstes wird eine Metallschicht, die aus Al oder AINd mit einer vorzüglichen Reflektivität gebildet ist, auf der gesamten Oberfläche des transparenten Substrat 220 einschließlich der organischen Struktur 223 gebildet, und dann strukturiert. Wie in 3C gezeigt ist, wird eine Reflektionsschicht 223 nur auf einer Oberfläche der organischen Struktur 223 gebildet, wodurch eine Schwarzmatrix 228 gebildet wird, die aus der organischen Struktur 223 und der Reflektionsschicht 225 zusammengesetzt ist.
  • Wie in 3D gezeigt ist, wird jede Farbfilterschicht 229 mit roter (R), grüner (G) oder blauer (B) Farbe auf dem transparenten Substrat 220 gebildet, auf der die Schwarzmatrix 228 gebildet ist. Dann wird ein transparentes leitfähiges Material, wie zum Beispiel Indiumzinnoxid (ITO) oder Indiumzinkoxid (IZO) zum Bilden einer gemeinsamen Elektrode 227 auf der Farbfilterschicht 220 abgeschieden, wodurch das Farbfiltersubstrat vervollständigt wird.
  • Wie vorher genannt, stellt die Erfindung eine LCD-Vorrichtung bereit, die fähig ist, die Helligkeit zu verbessern, indem Licht, das auf die Schwarzmatrix einfällt, in den Pixelbereich reflektiert wird, und ein Herstellungsverfahren zum Herstellen dieser LCD-Vorrichtung. In der Erfindung ist die Schwarzmatrix so gebildet, dass sie eine Rippenstruktur aufweist, und die Reflektionsschicht ist auf der Oberfläche der Schwarzmatrix gebildet. Folglich wird Licht, das auf die Schwarzmatrix einfällt, in den Pixelbereich reflektiert, und dann wird das Licht, das in den Pixelbereich einfällt, von dem Polarisator zurückreflektiert, so dass die Gesamt-Helligkeit verbessert wird. Die Erfindung ist nicht auf eine verdreht nematische Struktur (TN, twisted nematic) beschränkt. Das heißt, die Erfindung kann auch bei einer IPS-LCD-Vorrichtung angewendet werden, wo eine gemeinsame Elektrode und eine Pixelelektrode auf dem gleichen Substrat gebildet sind. Falls eine Schwarzmatrix, die fähig ist, Licht, das darauf einfällt, in den Pixelbereich zu reflektieren, auf die Erfindung angewendet wird, kann auch jeder Ansteuerungsmodus (Treibermodus) implementiert werden.
  • Wie oben genannt, wird in der Erfindung Licht, das auf die Schwarzmatrix einfällt, in den Pixelbereich reflektiert, und das Licht, das in den Pixelbereich einfällt, wird zum Verbessern der Gesamt-Helligkeit erneut reflektiert. Da die Gesamt-Helligkeit verbessert ist, ist auch das Kontrastverhältnis verbessert, wodurch eine LCD-Vorrichtung mit einer hohen Bildqualität bereitgestellt wird.

Claims (10)

  1. LCD-Vorrichtung, die aufweist: ein erstes Substrat und ein zweites Substrat; eine Mehrzahl von Gateleitungen, die auf dem ersten Substrat in einer ersten Richtung gebildet sind; eine Mehrzahl von Datenleitungen, die auf dem ersten Substrat in einer Richtung senkrecht zu den Gateleitungen gebildet sind, wodurch eine Mehrzahl von Pixelbereichen definiert wird; eine Schaltvorrichtung, die an jedem Kreuzungspunkt der Gateleitungen mit den Datenleitungen gebildet ist; eine Schwarzmatrix, die auf dem zweiten Substrat in dreieckiger Rippenform gebildet ist, und eine Reflektionsschicht auf ihrer Oberfläche aufweist; einen Farbfilter, der auf der Schwarzmatrix gebildet ist; und eine Flüssigkristallschicht, die zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten Substrat gebildet ist.
  2. LCD-Vorrichtung gemäß Anspruch 1, die ferner aufweist: eine Pixelelektrode, die in einem Pixelbereich des ersten Substrats gebildet ist, und eine gemeinsame Elektrode, die auf einer gesamten Oberfläche des Farbfilters des zweiten Substrats gebildet ist.
  3. LCD-Vorrichtung gemäß Anspruch 1, die ferner eine gemeinsame Elektrode und eine Pixelelektrode aufweist, die in dem Pixelbereich des ersten Substrats gebildet sind.
  4. LCD-Vorrichtung gemäß Anspruch 1, die ferner einen ersten Polarisator und einen zweiten Polarisator aufweist, die jeweils auf Rückseiten des ersten Substrats bzw. des zweiten Substrats gebildet sind.
  5. LCD-Vorrichtung gemäß Anspruch 4, wobei eine Kontaktfläche des zweiten Polarisators mit dem zweiten Substrat Licht reflektiert.
  6. Farbfiltersubstrat, das aufweist: ein transparentes Substrat; eine Schwarzmatrix, die auf dem transparenten Substrat in horizontalen und vertikalen Richtungen angeordnet ist, wodurch eine Mehrzahl von Pixelbereichen definiert wird, mit einer dreieckigen Rippenform und mit einer Reflektionsschicht auf ihrer Oberfläche; und einen Farbfilter, der auf der Schwarzmatrix gebildet ist.
  7. Herstellungsverfahren einer LCD-Vorrichtung, aufweisend: Bereitstellen eines ersten Substrats mit einem Dünnschichttransistorarray; Bereitstellen eines zweiten Substrats, auf dem eine Schwarzmatrix und ein Farbfilter gebildet werden, wobei die Schwarzmatrix auf dem transparenten Substrat in horizontalen und vertikalen Richtungen angeordnet wird, wodurch eine Mehrzahl von Pixelbereichen definiert wird, mit einer dreieckigen Rippenform, und mit einer Reflektionsschicht auf ihrer Oberfläche; und Bilden einer Flüssigkristallschicht zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten Substrat.
  8. Verfahren gemäß Anspruch 7, wobei der Schritt des Bereitstellens des zweiten Substrats aufweist: Bereitstellen eines transparenten Substrats; Bilden einer organischen Struktur mit einer Dreieckstruktur auf dem transparenten Substrat; Bilden einer Reflektionsschicht auf einer Oberfläche der organischen Struktur; und Bilden einer Farbfilterschicht auf dem transparenten Substrat.
  9. Verfahren gemäß Anspruch 8, das ferner das Bilden einer gemeinsamen Elektrode auf der Farbfilterschicht aufweist.
  10. Herstellungsverfahren einer LCD-Vorrichtung, das aufweist: Bereitstellen eines transparenten Substrats; Bilden einer organischen Struktur mit einer dreieckigen Form auf dem transparenten Substrat; Bilden einer Reflektionsschicht auf einer Oberfläche der organsichen Struktur; und Bilden einer Farbfilterschicht auf dem transparenten Substrat.
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