DE102005044619A1

DE102005044619A1 - Verfahren zum Verringern der Exzentrizität bei einem Plattenlaufwerk mit DTR-Medien

Info

Publication number: DE102005044619A1
Application number: DE102005044619A
Authority: DE
Inventors: Shoji San Jose Suzuki; Wen Fremont Jiang
Original assignee: Komag Inc
Current assignee: WD Media LLC
Priority date: 2004-09-24
Filing date: 2005-09-19
Publication date: 2006-03-30
Also published as: US20060066994A1; MY147577A; JP2006092727A; US7684152B2

Abstract

Es wird ein Plattenlaufwerk mit DTR-Medien und ein Herstellungsverfahren beschrieben. Das Verfahren kann umfassen, ein Zentrum von Spurmustern zum Aufzeichnen unter Verwendung diskreter Spuren (DTR; engl.: Discrete Recording) auf einer DTR-Platte mit einem Rotationszentrum einer Spindelnabe aufzurichten und die DTR-Platte auf der Spindelnabe zu befestigen, um Exzentrizität zu minimieren. Nachdem die DTR-Platte an der Spindelnabe befestigt ist, kann sie mit einer vorgesehenen Drehzahl gedreht werden, und kann die Masseunwucht der sich drehenden DTR-Platte/Spindelnabe erfasst werden. Die Masseunwucht kann verringert werden, indem eine mechanische Komponente verwendet wird, wie zum Beispiel ein Gegengewicht, das mit einer durch die Spindel drehbaren Komponente gekoppelt ist, zum Beispiel die Spindelnabe, eine Abstandshalteranordnung, eine Klemmanordnung etc. Das Verfahren kann die den DTR-Medien zuzuordnende Exzentrizität verringern und Rundlauffehler aufgrund der Masseunwucht einer auf andere Weise gedrehten DTR-Platte/Nabe minimieren, die zur Korrektur der Exzentrizität ausgerichtet sind.

Description

TECHNISCHES GEBIET
Diese Erfindung betrifft das Gebiet von Plattenlaufwerken und im Spezielleren, die Exzentrizität bei Plattenlaufwerken mit Medien zur Aufzeichnung mittels diskreter Spuren zu verringern.

HINTERGRUND

Ein Plattenlaufwerk umfasst eine oder mehrere magnetische Aufzeichnungsplatten und Steuervorrichtungen, um Daten in näherungsweise kreisförmigen Spuren auf der Platte zu speichern. Eine Platte ist aus einem Substrat und einer oder mehreren Schichten zusammengesetzt, die auf dem Substrat abgeschieden sind (z. B. Aluminium). Eine Lage des Substratmaterials kann entlang äußeren und inneren Durchmesserkonturen gelocht oder eingeritzt sein, um zu erreichen, dass das Substrat einen inneren Durchmesser (ID) und einen äußeren Durchmesser (OD) aufweist.

Ein Trend bei der Auslegung von Plattenlaufwerken besteht darin, die Aufzeichnungsdichte der magnetischen Aufzeichnungsplatte, die in dem System verwendet wird, zu erhöhen. Ein Verfahren, die Aufzeichnungsdichte zu erhöhen, besteht darin, die Oberfläche der Platte mit diskreten Spuren zu mustern, was als Aufzeichnung mittels diskreter Spuren (DTR; engl.: discrete track recording) bezeichnet wird. Ein DTR-Muster kann durch Nano-Drucklithografieverfahren (NIL; engl.: nano-imprint lithography) hergestellt werden, bei denen ein vorab geprägtes Formwerkzeug (a. k. a., Stempel, Prägewerkzeug, etc.), das ein inverses zu prägendes Muster aufweist, in einen prägbaren Film (d. h. Polymer) gepresst wird, der über einem Plattensubstrat angeordnet ist, um ein anfängliches Muster komprimierter Bereiche zu bilden. Dieses anfängliche Muster bildet schließlich ein Muster erhöhter und vertiefter Bereiche. Nach dem Stempeln des prägbaren Films kann ein Ätzverfahren verwendet werden, um das Muster durch den prägbaren Film zu übertragen, indem der übrige Film in den komprimierten Bereichen entfernt wird. Nach dem Drucklithographieverfahren kann ein anderes Ätzverfahren verwendet werden, um das Muster in einer Basisstruktur auszubilden, die eine oder mehrere Schichten (z. B. Substrat, Nickelphosphor-, weichmagnetische Schicht, etc.) aufweist, die unterhalb des prägbaren Films sitzen. Die resultierende DTR-Spurenstruktur enthält ein Muster von konzentrischen erhöhten Bereichen und vertieften Bereichen unter einer magnetischen Aufzeichnungsschicht. Die erhöhten Bereiche (auch als Hügel, Stege, Erhöhungen, etc. bekannt) werden verwendet, um Daten zu speichern, und die vertieften Bereiche (auch als Senken, Täler, Nuten, etc. bekannt) können Servo-(Kopfpositionierungs)-Informationen speichern und für eine Isolation zwischen Spuren sorgen, um Rauschen zu reduzieren. Die Servoinformation kann auch mit Daten in Sektoren alternierend angeordnet sein, die in den erhöhten Bereichen gespeichert sind.

Nano-Drucklithographieverfahren können in nicht vermeidbarer Weise ein gewisses Maß an Exzentrizität (z. B. 5 Mikron) zwischen dem Zentrum des DTR-Musters und dem geometrischen Zentrum der Platte haben, die aus nicht perfekten Ausrichtungsvorgängen zwischen einem Stempel und der Platte während Prägeoperationen resultiert. Eine solche Exzentrizität kann auch zu Problemen bei dem Positionieren eines Kopfs über den DTR-Spuren bei Lese- und Schreiboperationen des Plattenlaufwerks führen. Wenn die Platte unter Verwendung herkömmlicher Fertigungsverfahren auf der Spindelnabe befestigt wird, würde das Massezentrum der Platte mit dem Rotationszentrum der Spindel ohne Berücksichtigung der Exzentrizität des Zentrums des DTR-Musters ausgerichtet sein.

Die Grundlage für herkömmliche Fertigungsverfahren besteht darin, dass das Massezentrum an einer Stelle A liegen kann, während das Rotationszentrum (im Wesentlichen das geometrische Zentrum des inneren Durchmessers ID, um das sich die befestigte Platte dreht) an einer anderen Stelle B liegen kann, wie in 1 veranschaulicht. Eine Platte, die diese Art Fehlausrichtung aufweist, kann mit Auswuchtproblemen konfrontiert sein, wenn sie auf der Spindel eines Plattenlaufwerksystems gedreht wird. Um eine korrekte Drehung einer Platte auf einer Spindel zu gewährleisten, versuchen herkömmliche Fertigungsverfahren, das Massezentrum der Platte an dem Rotationszentrum, um das sich die Platte dreht, anzuordnen. Daher ist eine hinsichtlich der Masse ausgewuchtete Platte eine, bei der das Massezentrum der Platte dem Rotationszentrum der Platte entspricht. Eine hinsichtlich der Masse ausgewuchtete Platte ist aus funktioneller Hinsicht wichtig, weil neuere Plattenlaufwerksysteme höhere Drehzahlen fordern. Eine hohe Drehzahl einer nicht ausgewuchteten Platte kann zu einer schlechten Leistung oder einem Plattendefekt führen. Zusätzlich ist ein korrektes Auswuchten notwendig, um eine hohe Spurdichte zu ereichen, indem der Lese/Schreibkopf in die Lage versetzt wird, Datenspuren auf einer Platte genau zu folgen. Herkömmliche Fertigungsverfahren berücksichtigen jedoch nicht die Exzentrizität des Zentrums des DTR-Musters relativ zu dem Rotationszentrum der Spindel.

Eine Veröffentlichung von Ho Seong Lee und Herman Ferrier mit dem Titel "Open-Loop Compenstion Of Repeatable Runouts In Discrete-Track Magnetic Disks", ISPS-Band 1, ASME, 1995 analysierte Rundlauffehler aufgrund der Exzentrizität von DTR-Mustern. Diese Veröffentlichung diskutiert Experimente, bei denen eine Platte auf einem einstellbaren Spindelspannfutter unter Bedingungen angeordnet war, bei denen ein wiederholbarer Rundlauffehler (RRO; engl.: repeatable run-out) beobachtet wurde. Um die beobachteten Rundlauffehlers zu minimieren, wurde das Zentrum des Spindelspannfutters visuell über einen Videomonitor eingestellt, um den Rundlauffehler einzustellen.

Ein Problem bei einer solchen Analyse besteht darin, dass sie einen nicht wiederholbaren Rundlauffehler aufgrund einer Masseunwucht der Platte nicht berücksichtigt, wenn das Massezentrum der Platte nicht mit dem Rotationszentrum der Spindel zusammen fällt. Während eines Betriebs eines Plattenlaufwerks kann ein solcher nicht wiederholbarer Rundlauffehler der Platte durch die Spindelvibration verursacht werden, die durch das Moment der sich drehenden Platte angeregt wird. Das vordefi nierte DTR-Spurmuster auf der Platte muss von einem Kopf verfolgt werden, um auf den Datenspuren zu lesen und zu schreiben. Um dies zu erreichen, muss der Kopf dauerhaft bewegt werden, um solche Spurabweichungen des Kopfs aufgrund eines nicht wiederholbaren Rundlauffehlers zu kompensieren.

Das U.S. Patent 5,907,448 beschreibt ein Verfahren, das einen Kopf servogesteuert nachführt, bei dem zwischen dem Rotationszentrum der Platte und dem Zentrum der DTR-Spuren Exzentrizität vorliegt. Ein Aufhängungsarm, der den Kopf in dem Plattenlaufwerk trägt, muss dauerhaft bewegt werden, um auf einer speziellen Datenspur zu lesen und zu schreiben, wenn die Spur nicht mit dem Rotationszentrum der Platte konzentrisch ist. Der Aufhängungsarm ist elektronisch gesteuert, um den DTR-Spuren zu folgen, die sich tatsächlich relativ zu dem Rotationsweg um das Zentrum der Platte bewegen, mittels einer sinusförmigen Eingabe zu einem Schwingspulenmotor, der den Aufhängungsarm antreibt. Ein Problem bei einer solchen aktiven elektronischen Steuerlösung besteht darin, dass sie die Exzentrizität des Systems nicht minimiert, wenn die Platte in das Plattenlaufwerk eingebaut wird. Eine solche Lösung verbraucht auch dann Leistung, wenn Spuren verfolgt werden, und erhöht die Komplexität des Servosystems, um die Belastung durch von Abweichungen des Kopfs von Spuren zu berücksichtigen.

KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
Die vorliegende Erfindung ist beispielhaft und nicht einschränkend in den Figuren der beigefügten Zeichnungen veranschaulicht, in denen:
1 eine Platte veranschaulicht, die ein Massezentrum aufweist, das gegenüber ihrem Rotationszentrum versetzt ist.
2 eine Ausführungsform einer Plattenexzentrizität veranschaulicht.
3 eine Ausführungsform einer Ausrichtung einer DTR-Platte mit einer Spindelnabe veranschaulicht.
4 eine DTR-Platte veranschaulicht, die gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung in ein Plattenlaufwerk eingebaut ist.
5 veranschaulicht eine Ausführungsform eines Verfahrens, Komponenten in einem Plattenlaufwerk zusammen zu bauen.
DETAILLIERTE BESCHREIBUNG
In der folgenden Beschreibung sind viele spezielle Einzelheiten, wie zum Beispiel Beispiele spezieller Materialien oder Komponenten, ausgeführt, um für ein eingehendes Verständnis der vorliegenden Erfindung zu sorgen. Es ist jedoch einem Fachmann auf dem Gebiet ersichtlich, dass diese speziellen Einzelheiten nicht verwendet werden müssen, um die Erfindung umzusetzen. In anderen Fällen sind bekannte Komponenten oder Verfahren nicht im Einzelnen beschrieben worden, um zu vermeiden, die vorliegende Erfindung in unnotweniger Weise unverständlich zu machen.
Es sollte beachtet werden, dass die hier diskutieren Vorrichtungen und Verfahren bei verschiedenen Arten von Platten verwendet werden können. Bei einer Ausführungsform können die hier diskutierten Vorrichtungen und Verfahren mit magnetischen Aufzeichnungsplatten verwendet werden. Die magnetische Aufzeichnungsplatte kann beispielsweise eine längsmagnetische DTR-Aufzeichnungsplatte (engl.: DTR longitudinal magnetic recording disk) sein, die beispielsweise ein mit Nickelphosphor (NiP) plattiertes Substrat als Basisstruktur aufweist. Alternativ kann die magnetische Aufzeichnungsplatte eine quermagnetische DTR-Aufzeichnungsplatte (engl.: DTR perpendicular magnetic recording disk) sein, die einen über einem Substrat angeordneten leichtmagnetischen Film für die Basisstruktur aufweist. Bei einer alternativen Ausführungsform können die hier diskutierten Vorrichtungen und Verfahren mit anderen Typen di gitaler Aufzeichnungsplatten verwendet werden, zum Beispiel eine optische Aufzeichnungsplatte, wie zum Beispiel eine Kompakt-Disk (CD) und eine Digital-Versatile-Disk (DVD). Auch wenn hier auf eine einzelne Platten Bezug genommen sein kann, ist die Erfindung nicht derart eingeschränkt und kann für mehrere Platten verwendet werden.
Die folgende Diskussion erfolgt gelegentlich sowohl hinsichtlich einem strukturellen Verhältnis zwischen Komponenten in einem Plattenlaufwerk unter Bezugnahme auf die 2, 3 und 4 als auch hinsichtlich eines Verfahrens, Komponenten in ein Plattenlaufwerksystem einzubauen unter Bezugnahme auf 5.
2 veranschaulicht eine Ausführungsform einer DTR-Platte mit Exzentrizität zwischen ihren Spuren und ihrem Zentrum. Bei dieser Ausführungsform ist die Platte 200 eine DTR-Platte, die ein DTR-Muster 210 aufweist. Der lithografische Druckprozess, der verwendet werden kann, um das DTR-Muster 210 zu erzeugen, kann in gewissem Maß (z. B. 5 Mikron) zu einer Exzentrizität 250 zwischen dem Zentrum 211 des DTR-Musters und dem geometrischen Zentrum 201 der Platte führen, die aus der fehlerhaften Ausrichtung zwischen einem Stempel und der Platte 200 während der Prägeoperationen resultiert. Lithografische Druckverfahren, die verwendet werden, um DTR-Platten zu erzeugen, sind auf dem Gebiet bekannt; dementsprechend findet hier keine detaillierte Diskussion statt.
Eine solche Exzentrizität 250 kann zu Problemen beim Positionieren eines Plattenlaufwerkskopfs über einer Spur des DTR-Musters 210 bei Schreib- und Leseoperationen des Plattenlaufwerks führen. Wenn die Platte 200 unter Verwendung herkömmlicher Fertigungsverfahren auf einer Spindelnabe befestigt wird, wird das Massezentrum der Platte 200 bezüglich des Rotationszentrums der Spindel ausgerichtet, ohne dabei die Exzentrizität 250 des Zentrums 211 des DTR-Musters zu berücksichtigen. Um die Exzentrizität 250 zu korrigieren, wird das Zentrum der DTR-Spuren 211 im Wesentlichen mit dem Zentrum 331 der Spin delnabe des Plattenlaufwerks, das in 3 veranschaulicht ist, ausgerichtet (Schritt 510 von 5).
3 veranschaulicht eine Ausführungsform einer DTR-Platte mit einem DTR-Spurenzentrum, das bezüglich eines Spindelnabenzentrums ausgerichtet ist. Das Zentrum der DTR-Spuren 211 kann mit dem Zentrum 331 der Spindelnabe des Plattenlaufwerks beispielsweise mittels optischer oder visueller Prüfung von einer oder mehreren Referenzmarkierungen 220, wie in 2 veranschaulicht, ausgerichtet werden, die ein bekanntes, vorbestimmtes Verhältnis zu dem Zentrum der DTR-Spuren 211 haben. Bei einer Ausführungsform kann eine Referenzmarkierung mit dem gleichen Stempel erzeugt werden, der verwendet wird, um das Muster 210 von DTR-Spuren zu erzeugen. Alternativ kann eine Referenzmarkierung 220 mit einem anderen Stempel oder einem anderen, auf dem Gebiet bekannten Mittel erzeugt werden. Indem eine oder mehrere Referenzmarkierungen 220, die eine bekannte Position relativ zu dem Zentrum 201 der Platte 200 aufweisen, detektiert werden, kann eine entsprechende Einstellung der Platte 200 relativ zu der Spindelnabe 330 durchgeführt werden, bevor die Platte 200 an der Spindelnabel 330 gesichert wird, um das Zentrum der DTR-Spuren 211 bezüglich des Zentrums 331 der Spindelnabe auszurichten. Es sollte beachtet werden, dass die in 2 gezeigten Referenzmarkierungen nur zur Veranschaulichung dienen und die Markierungen nicht auf eine spezielle Form, Größe, Position auf der Platte 220, etc. beschränken sollen.
Die Ausrichtung des Zentrums 211 der DTR-Spuren bezüglich des Zentrums 331 der Spindelnabe 330 kann jedoch zu einer Unwucht hinsichtlich der Platte/Nabe führen, wenn sie beim Betrieb des Plattenlaufwerks gedreht wird. Eine geeignetes Auswuchten der Platte 200 ist für einen ordnungsgemäßen Betrieb der Platte 200 in dem Plattenlaufwerksystem wichtig. Die hinsichtlich der Masse ausgewuchtete Stelle auf der Platte 200 kann sich von dem Zentrum 211 der DTR-Spuren (oder sogar dem Rotationszentrum 210 der Platte 200) unterscheiden und dadurch eine Unwucht der Platte 200 bewirken, wenn sie auf der Spindelnabe 330 gedreht wird.
Nach einer Ausrichtung (Schritt 510 von 5) des Zentrums 211 der DTR-Spuren hinsichtlich des Zentrums 331 der Spindelnabe wird daher die Masseunwucht einer Gewichtsverteilung von Komponenten um die Spindelnabe 330 herum bei Drehung verringert. Bei einer Ausführungsform wird, nachdem die Platte 200 an der Spindelnabe 330 befestigt ist, diese mit einer gewünschten Drehzahl (d. h. die Drehzahl, bei der die Platte/Nabe bei Lese- und Schreiboperationen des speziellen Plattenlaufwerks, das zusammengebaut wird, gedreht werden soll) gedreht (Schritt 520 von 5), und dann wird die Masseunwucht ermittelt (Schritt 530 von 5) in dem die Spindelvibration überwacht wird. Auf der Grundlage des Ausmaßes der Vibration kann die Masseunwucht verringert werden (Schritt 540 von 5), indem eine oder mehrere mechanische Komponenten mit einer oder mehreren von der Spindel gedrehten Komponenten gekoppelt werden. Alternativ kann die OD-Position (Außendurchmesserposition) der Platte gemessen werden, um das Massezentrum der Platte ohne Drehung zu messen.
Um die ermittelte Masseunwucht zu verringern, können bei einer Ausführungsform ein oder mehrere Gegengewichte (z. B. Gegengewicht 360) mit der Spindelnabe 330 gekoppelt werden. Alternativ können ein oder mehrere Gegengewichte mit anderen Komponenten/Stellen in dem Plattenlaufwerk gekoppelt werden, beispielsweise eine Klemmanordnung 370, die verwendet wird, um die Platte 200 an der Spindel zu sichern, und/oder eine Abstandshalteranordnung 380, die verwendet wird, um die Platte 200 von anderen Platten zu trennen, um für Raum für Kopfbewegungen dazwischen zu sorgen. Das Gegengewicht kann auch durch andere Begriffe bezeichnet werden, beispielsweise ein Ausgleichsmittel oder ein Ausgleichsring. Das Gegengewicht kann in eine vorhandene Komponente innerhalb einer Anordnung integriert sein, beispielsweise eine oder mehrere Schrauben, die in einer Klemmanordnung verwendet werden, können im Verhältnis relativ zu anderen Schrauben mit anderen Gewichten aufgebaut sein.
Bei einer alternativen Ausführungsform kann die Verringerung der Masseunwucht der DTR-Platte 200, die sich auf einer Spindelnabe 330 dreht, einen ID-Ausgleichsring oder Innendurchmesserausgleichsring (der sich von einem Ausgleichsring in einer Klemmanordnung unterscheidet, der vielmehr an den äußeren Flächen einer Platte als innerhalb eines Innendurchmesserrands der Platte angeordnet ist) der Platte 200 und ein Feinabgleichverfahren verwenden, beispielsweise vergleichbar zu dem, das in dem U.S. Patent 6,778,353 diskutiert ist. Ein ID-Ausgleichsring könnte allein oder in Verbindung mit einem Gegengewicht verwendet werden, um Beiträge zur Masseunwucht ausgehend von der Spindelnabe 330 auf das sich drehende System zu verringern.
4 veranschaulicht eine Ausführungsform eines Plattenlaufwerks, der ein Plattenspurenmuster aufweist, das mit dem Rotationszentrum einer Spindelnabe ausgerichtet ist und hinsichtlich der Spindelnabe ausgewuchtet ist. Das Plattenlaufwerk 400 kann eine oder mehrere Platten 200 aufweisen, um Daten entlang von Spuren in einer magnetischen Aufzeichnungsschicht der Platte 200 zu speichern. Die Platte 200 ist mit einer Spindelnabe 330 einer Spindelanordnung gekoppelt, die in einem Antriebsgehäuse 480 befestigt ist. Ein Spindelmotor (nicht gezeigt) dreht die Spindelnabe 330 und dadurch die Platte 200, um einen Kopf 550 auf einem Schieber 430 an einer speziellen Stelle entlang einer gewünschten Plattenspur zu positionieren. Die Position des Kopfs 550 relativ zu einer Spur des DTR-Spurenmusters 210 der Platte 200 kann unter Verwendung einer Positionssteuerschaltkreisanordnung 470 gesteuert werden.
Der Schieberkörper 210 ist an einer Aufhängung 460 unter Verwendung einer Kardananordnung angebracht, die den Schieberköper 210 in Richtung auf die Platte 200 zu unter Last vorspannt. Die Nutzwirkung der Luftlagerfläche 260 des Schiebers 430 und der Aufhängung 460 besteht darin, dass der Schieber 430 in einer gewünschten Höhe oberhalb der Platte 200 fliegt, wenn sich die Platte dreht. Das Plattenlaufwerk 400 kann, auch wenn es nur mit einer einzelnen Platte und einer einzelnen Seite zur Erleichterung der Diskussion veranschaulicht ist, zweiseitige Platten und mehrere (einseitige und/oder zweiseitige) Platten aufweisen, wobei jede Seite einer Platte eine entsprechende Schieber- und Aufhängungsarmanordnung aufweisen kann.
Das Lesen und Schreiben von Daten wird mittels des Kopfs 550 des Schiebers 430 durchgeführt. Der Kopf 550 weist sowohl Lese- als auch Schreibelemente auf. Das Schreibelement wird verwendet, um die Eigenschaften der längs- oder quermagnetischen Aufzeichnungsschicht der Platte 200 zu ändern. Bei einer Ausführungsform kann der Kopf 550 ein magnetisch resistives (MR; engl.: magneto-resistive) und insbesondere ein in höchstem Maß magnetisch resistives (GMR; engl.: giant magneto-resistive) Leselement bzw. sich aufgrund eines einwirkenden magnetischen Feldes (stark) ändernden Widerstands und ein induktives Schreibelement aufweisen. Bei einer alternativen Ausführungsform kann der Kopf 550 ein anderer Kopftyp sein, beispielsweise ein Hall-Effekt-Kopf oder ein induktiver Kopf, der ein gemeinsames Element sowohl für Schreib- als auch Leseoperationen aufweist.
Das Plattenlaufwerk 400 weist auch, wie oben unter Bezug auf die 2 und 3 diskutiert, eine mechanische Komponente auf, um wiederholbare und nicht wiederholbare Rundlauffehler des Kopfs 550 relativ zu den Spuren auf der DTR-Platte 200 zu verringern, die andernfalls durch eine Masseunwucht der von der Spindel gedrehten Komponente in dem Plattenlaufwerksystem 400 verursacht werden können. Wie oben diskutiert, kann die mechanische Komponente an einer oder mehreren verschiedenen durch die Spindel drehbare Komponenten/Stellen des Plattenlaufwerks 400 angeordnet sein, zum Beispiel die Spindelnabe 330, die Klemmanordnung 370 und/oder die Abstandshalteranordnung 380. Eine solche Masseunwucht in der Komponentengewichtsverteilung um die Spindelnabe 330 herum kann verringert werden, um den wiederholbaren und nicht wiederholbaren Rundlauffehler in dem Plattenlaufwerk 400 zu minimieren und dadurch die Belastung für das Plattenlaufwerksystem zu reduzieren, den Kopf 550 unter Verwendung eines aktiven Steuersystems automa tisch nachzuführen, welches den Aufhängungsarm 460 kontinuierlich bewegen würde.
In der vorherigen Spezifikation ist die Erfindung unter Bezugnahme auf spezielle beispielhafte Ausführungsformen derselben beschrieben worden. Es ist jedoch klar ersichtlich, dass verschiedene Modifikationen und Änderungen durchgeführt werden können, ohne sich dabei vom Umfang der Erfindung zu entfernen, wie sie in den beigefügten Ansprüchen dargelegt ist. Die Beschreibung und Figuren sind dementsprechend viel mehr in veranschaulichendem als in einschränkendem Sinn aufzufassen.

Claims

Verfahren, mit: – Bereitstellen einer Platte (200) zum Aufzeichnen mittels diskreter Spuren (DTR) für ein Plattenlaufwerk mit eine Spindelnabe (330); und – Verringern einer Masseunwucht der DTR-Platte (200), die sich auf der Spindelnabe (330) dreht, unter Verwendung einer mechanischen Komponente.
Verfahren nach Anspruch 1, ferner mit: – Ausrichten eines Zentrums (211) der DTR-Spurmuster auf der DTR-Platte (200) im Wesentlichen mit einem Rotationszentrum (333) der Spindelnabe (330); – Befestigen der DTR-Platte (200) an der Spindelnabe (330); und – Drehen der DTR-Platte (200) auf der Spindelnabe (330), wobei das Verringern der Masseunwucht umfasst, die sich auf der Spindelnabe (330) drehende DTR-Platte (200) hinsichtlich der Masse auszuwuchten.
Verfahren nach Anspruch 2, bei dem das Zentrum (211) der DTR-Spurmuster auf der DTR-Platte (200) mit dem Rotationszentrum (331) der Spindelnabe (330) unter Verwendung von Referenzmarkierungen (220) ausgerichtet wird.
Verfahren nach Anspruch 2, bei dem das Masseauswuchten umfasst: – Drehen der DTR-Platte (200) mit einer Drehzahl; – Erfassen der Masseunwucht der sich drehenden DTR-Platte (200) auf der Spindelnabe (330); und – Koppeln der mechanischen Komponente mit der Spindelnabe (330), um die Masseunwucht zu verringern.
Verfahren nach Anspruch 4, bei dem die mechanische Komponente ein Gegengewicht (360) umfasst.
Verfahren nach Anspruch 4, bei dem die Masseunwucht erfasst wird, indem eine Spindelvibration überwacht wird.
Verfahren nach Anspruch 5, bei dem das Gegengewicht (360) eine Größe hat und auf der Grundlage der Spindelvibration der sich drehenden DTR-Platte (220) auf der Spindelnabe (330) an der Spindelnabe (330) an einer Position angebracht wird.
Verfahren nach Anspruch 1, ferner umfassend, einen nicht wiederholbaren Rundlauffehler der DTR-Platte (200) aufgrund einer Spindelvibration zu reduzieren, die durch ein Moment der sich drehenden DTR-Platte (200) angeregt wird.
Verfahren nach Anspruch 1, bei dem die mechanische Komponente ein Gegengewicht (360) umfasst und bei dem das Gegengewicht (360) eine Größe hat und auf der Grundlage einer Spindelvibration der sich drehenden DTR-Platte (200) auf der Spindelnabe (330) an einer Position in dem Plattenlaufwerk angebracht wird.
Plattenlaufwerk, mit: – einer Spindel, die eine Spindelnabe (330) mit einem Zentrum (331) umfasst; – einer Platte (200) zum Aufzeichnen mittels diskreter Spuren (DTR), die mit der Spindelnabe (330) gekoppelt ist, wobei die DTR-Platte (200) ein Zentrum (211) der DTR-Spurmuster aufweist, das im Wesentlichen mit dem Zentrum (331) der Spindelnabe (330) ausgerichtet ist; und – einer mechanische Komponente, die mit einer durch die Spindel drehbaren Komponente gekoppelt ist, um eine Masseunwucht der DTR-Platte (200) zu verringern, wenn diese auf der Spindelnabe (330) gedreht wird.
Plattenlaufwerk nach Anspruch 10, bei dem die mechanische Komponente ein Gegengewicht (360) umfasst.
Plattenlaufwerk nach Anspruch 11, bei dem das Gegengewicht (360) mit der Spindelnabe (330) gekoppelt ist.
Plattenlaufwerk nach Anspruch 11, bei dem die durch die Spindel drehbare Komponente eine Klemmanordnung (370) ist, die mit der DTR-Platte (200) gekoppelt ist, und bei dem das Gegengewicht (360) auf der Klemmanordnung (370) angeordnet ist.
Plattenlaufwerk nach Anspruch 11, bei dem die durch die Spindel drehbare Komponente eine Abstandshalteranordnung (380) ist, die mit der DTR-Platte (200) gekoppelt ist, und bei dem das Gegengewicht (360) auf der Abstandshalteranordnung (380) angeordnet ist.
Plattenlaufwerk nach Anspruch 10, ferner mit einem Schieber (430), der betriebsfähig mit der DTR-Platte (200) gekoppelt ist, wobei der Schieber (430) einen Hall-Effekt-Kopf oder einen Kopf umfasst, der ein Leseelement mit sich aufgrund einwirkender magnetischer Felder änderndem Widerstand aufweist, und bei dem die mechanische Komponente ausgeführt ist, einen nicht wiederholbaren Rundlauffehler des Kopfs zu verringern.
Plattenlaufwerk nach Anspruch 10, bei dem die mechanische Komponente einen Ausgleichsring umfasst.
Plattenlaufwerk, mit: – einer Spindelnabe (330); – einer Platte (200) zum Aufzeichnen mittels diskreter Spuren (DTR), die mit der Spindelnabe (330) gekoppelt ist, wobei die DTR-Platte (200) ein Zentrum (211) der DTR-Spurmuster aufweist, das im Wesentlichen mit dem Zentrum der Spindelnabe (330) ausgerichtet ist; und – einer Einrichtung, um eine Masseunwucht der sich auf der Spindelnabe (330) drehenden DTR-Platte (200) zu verringern.
Plattenlaufwerk nach Anspruch 17, bei dem die Masseunwucht unter Verwendung eines Gegengewichts (360) verringert wird, das betriebsfähig mit der DTR-Platte (200) gekoppelt ist.
Plattenlaufwerk nach Anspruch 17, ferner mit einem Schieber (430), der betriebsfähig mit der DTR-Platte (200) gekoppelt ist, wobei der Schieber (430) einen Hall-Effekt-Kopf oder einen Kopf umfasst, der ein Leseelement mit sich aufgrund einwirkender magnetischer Felder änderndem Widerstand aufweist.