DE102005027204B4

DE102005027204B4 - Ein Gaschromatographensystem, das einen verbesserten Einlassabdichtungsmechanismus umfasst

Info

Publication number: DE102005027204B4
Application number: DE102005027204A
Authority: DE
Inventors: Wei-Liang Song; Lee Xu; Guo-Chen He
Original assignee: Agilent Technologies Inc
Current assignee: Agilent Technologies Inc
Priority date: 2004-09-30
Filing date: 2005-06-13
Publication date: 2010-08-05
Anticipated expiration: 2025-06-14
Also published as: GB2418714B; US20060065122A1; GB2418714A; CN1755358A; US7273518B2; GB0519853D0; JP2006105992A; CN100397074C; JP4819462B2; DE102005027204A1

Abstract

Gaschromatographiesystem mit:
einem Einlass (10) mit folgenden Merkmalen:
einer unteren Anordnung (3), die einen ersten zylindrischen Stift (30) aufweist;
einer oberen Anordnung (2), die eine erste abgeschrägte Oberfläche (23) und eine erste Einkerbung (20) aufweist; und
einer lateralen Antriebseinheit (21), wobei die obere Anordnung (2) angeordnet ist, um durch ein Ausrichten der ersten Einkerbung (20) der oberen Anordnung (2) mit dem ersten zylindrischen Stift (30) der unteren Anordnung (3) im Inneren der unteren Anordnung (3) platziert zu werden, und wobei die laterale Antriebseinheit (21) angeordnet ist, um die obere Anordnung (2) lateral anzutreiben, so dass sich die erste abgeschrägte Oberfläche (23) der oberen Anordnung (2) gegen den zylindrischen Stift (30) der unteren Anordnung (3) hebt, was eine Abdichtung der oberen Anordnung (2) mit der unteren Anordnung (3) ermöglicht, wobei, wenn die obere und die untere Anordnung (2, 3) abgedichtet sind, die Position des ersten zylindrischen Stifts...

Description

Als eine wichtige Einheit eines Gaschromatographensystems wird ein Einlass üblicherweise zum Einführen zu analysierender Flüssigkeitsproben in das Gaschromatographensystem zur Verdampfung verwendet. Die verdampften Proben werden dann zur Analyse in eine Säule gepresst. 1 stellt die Struktur eines herkömmlichen Einlass 1 eines Gaschromatographen-(GC-)Systems dar. Wie aus 1 zu sehen ist, umfasst der Einlass 1 eine obere Anordnung 7, eine Schaleneinheit 8 und einen Einsatz 9. Der Einsatz 9 ist üblicherweise aus Quarz hergestellt, das beschädigt werden kann, wenn es nicht ordnungsgemäß gehandhabt wird. Zwei Rohre 70 und 70' sind mit der oberen Anordnung 7 für einen Trägergasfluss bzw. Spülgasfluss verbunden. Der Einsatz 9 wird zum Verdampfen der zu analysierenden Probe verwendet und ist im Inneren der Schaleneinheit 8 platziert. Der obere Abschnitt 90 des Einsatzes 9 ist durch die obere Anordnung 7 bedeckt. Gewinde 80 sind an der äußeren Oberfläche des oberen Abschnitts der Schaleneinheit 8 zur Ineingriffnahme mit den Gewinden (nicht gezeigt) an dem unteren Abschnitt der oberen Anordnung 7 vorgesehen. Dies ermöglicht eine feste Anbringung der oberen Anordnung 7, um einen abdichtenden Gummi-O-Ring 81 an dem Einsatz 9 zu komprimieren, um so die Wirkung zu erzielen, dass verhindert wird, dass Trägergas und verdampfte Probe aus dem System herauslaufen.
Da die Proben üblicherweise während eines Betriebs des GC-Systems durch das Trägergas nicht vollständig verdampft oder vollständig gereinigt werden können, könnte ein Rückstand der Proben in dem Einsatz 9 hinterbleiben. Dies bedeutet, dass der Einsatz 9 periodisch der Genauigkeit halber ersetzt werden muss. Während des Austauschs ist es nötig, zuerst die obere Anordnung 7 von der Schaleneinheit 8 zu lösen, um den gebrauchten Einsatz 9 zu entfernen. Die obere Anordnung 7 wird dann wieder an der Schaleneinheit 8 befestigt, sobald ein neuer Einsatz 9 darin platziert ist.
Nachteile sind dieser Einlassstruktur des Stands der Technik zugeordnet. Erstens müssen, da die Probe verdampft werden muss, alle Teile des Einlass auf relativ sehr hohen Temperaturen beibehalten werden. Deshalb muss der Benutzer oder Bediener des GC-Systems während des Austauschvorgangs des Einsatzes physisch in Kontakt mit diesen Hochtemperaturkomponenten kommen. Zweitens schränken die mit der oberen Anordnung verbundenen Rohre die Bewegung der oberen Anordnung ein und machen die Gewindeineingriffnahme der oberen Anordnung mit der Schaleneinheit sehr schwierig. Wenn die Gewinde jedoch nicht korrekt in Eingriff gebracht sind und unter Zwang zusammengepasst werden, werden nicht nur die Gewinde beschädigt, sondern auch der obere Abschnitt des Einsatzes wird auf Grund der ungleichmäßigen Gewindeineingriffnahme zerbrochen oder gebrochen.
Auf Grund der oben genannten Nachteile besteht ein Bedarf nach einer verbesserten Einlassstruktur, um den Austauschvorgang sowohl einfach als auch benutzerfreundlich zu machen, sowie die Möglichkeit einer Beschädigung des Einlass während des Austauschvorgangs des Einsatzes zu minimieren.
Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, einen Einlass mit verbesserten Charakteristika zu schaffen.
Diese Aufgabe wird durch einen Einlass gemäß Anspruch 1 gelöst.
Bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend Bezug nehmend auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
1 die Struktur eines herkömmlichen Einlass für ein Gaschromatographensystem;
2 eine perspektivische Ansicht der Struktur eines Einlass gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
3 eine auseinandergezogene Ansicht der Struktur des Einlass aus 2 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
4a eine perspektivische Ansicht der oberen Anordnung des Einlass aus 2 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
4b eine Seitenansicht der oberen Anordnung des Einlass aus 2 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
4c eine Ansicht der anderen Seite der oberen Anordnung des Einlass aus 2 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
5 ein schematisches Diagramm der Funktionsweise der oberen Anordnung des Einlass aus 2 gemäß ei nem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
6 ein schematisches Diagramm eines Gaschromatographensystems, das den Einlass aus 2 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung verwendet.
2 stellt eine perspektivische Ansicht der Struktur eines Einlass 10 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung dar. Wie aus 2 zu sehen ist, umfasst der Einlass 10 eine obere Anordnung 2, eine untere Anordnung 3 und eine Gasflusseinheit 4. Die Gasflusseinheit 4 ist an der oberen Anordnung 2 montiert. Gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung umfasst die untere Anordnung 3 zumindest einen zylindrischen Stift (zum Beispiel 30) und die obere Anordnung 2 umfasst zumindest eine Einkerbung (zum Beispiel 20 und/oder 20' in 3) und eine laterale Antriebseinheit 21. Die obere Anordnung 2 umfasst außerdem zumindest eine abgeschrägte Oberfläche (zum Beispiel die Oberflächen 23 und 23' in 3). Wie in 2 gezeigt ist, ist die obere Anordnung 2 im Inneren der unteren Anordnung 3 platziert, jedoch noch nicht vollständig mit der unteren Anordnung 3 abgedichtet. Dies wird durch ein Ausrichten der Einkerbung der oberen Anordnung 2 mit dem zylindrischen Stift der unteren Anordnung 3 durchgeführt. Für ein Abdichten der oberen Anordnung 2 mit der unteren Anordnung 3 treibt die laterale Antriebseinheit 21 die obere Anordnung 2 lateral an, was bewirkt, dass sich die abgeschrägte Oberfläche (zum Beispiel 23) der oberen Anordnung 2 gegen den zylindrischen Stift (zum Beispiel 30) derart hebt, dass die obere Anordnung 2 mit der unteren Anordnung 3 abgedichtet wird. Dies wird auch in Verbindung mit den 3 bis 6 unten detaillierter beschrieben.
3 ist eine auseinandergezogene Ansicht der Struktur des Einlass 10 aus 2 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Die untere Anordnung 3 umfasst eine oder mehrere zylindrische Stifte (zum Beispiel 30 und 30'). Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst die untere Anordnung 3 einen zylindrischen Stift. Bei einem anderen Ausführungsbeispiel umfasst die untere Anordnung 3 zwei zylindrische Stifte 30 und 30' (wie in 3 gezeigt ist). Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel umfasst die untere Anordnung 3 drei oder mehr zylindrische Stifte. Jeder zylindrische Stift kann verschiedene Formen annehmen. Die zylindrischen Stifte 30 und 30' sind in 180°-Symmetrie an der ringförmigen Wand der unteren Anordnung 3 angebracht. Bei einem Ausführungsbeispiel können die zylindrischen Stifte 30 und 30' an die ringförmige Wand der unteren Anordnung 3 montiert oder gelötet sein. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel können die zylindrischen Stifte 30 und 30' einstückig mit der ringförmigen Wand der unteren Anordnung 3 gebildet sein.
Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel umfasst die untere Anordnung 3 eine Schaleneinheit 31 (wie in 3 gezeigt). Die Schaleneinheit 31 ist unter der unteren Anordnung 3 so angeordnet, um einen Einsatz 32, in dem die Probe zur Analyse verdampft wird, aufzunehmen.
Die obere Anordnung 2 (eine Nockenanordnung wie in 3 gezeigt) weist eine ringförmige Form auf und umfasst eine oder mehrere Einkerbungen (zum Beispiel 20 und 20'). Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst die obere Anordnung 2 eine Einkerbung. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel umfasst die obere Anordnung 2 zwei Einkerbungen 20 und 20' (wie in 3 gezeigt). Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel umfasst die obere Anordnung 2 drei oder mehr Einkerbungen. Die Einkerbung kann verschiedene Formen annehmen. Zum Beispiel und wie aus 3 zu sehen ist, sind die Einkerbungen 20 und 20' zwei Einkerbungen, die in 180°-Symmetrie auf beiden Seiten der oberen Anordnung 2 gebildet sind. Die Einkerbungen 20 und 20' können alle Formen aufweisen, die die zylindrischen Stifte 30 und 30' aufnehmen können. Bei einem Ausführungsbeispiel weisen die Einkerbungen 20 und 20' geneigte Oberflächen (d. h. Einkerbungen mit umgekehrter Schwalbenschwanzform) auf, derart, dass die zylindrischen 30 und 30' ohne weiteres mit den Einkerbungen 20 und 20' ausgerichtet werden können.
Die obere Anordnung 2 umfasst ferner eine oder mehrere abgeschrägte Oberflächen (zum Beispiel 23 und 23'). Bei einem Ausführungsbeispiel umfasst die obere Anordnung 2 eine abgeschrägte Oberfläche. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel umfasst die obere Anordnung 2 zwei abgeschrägte Oberflächen 23 und 23' (wie in 3 gezeigt). Die Beziehung zwischen den zylindrischen Stiften 30 und 30' und den abgeschrägten Oberflächen 23 und 23' wird unten, ebenso in Verbindung mit den 4a–4c detaillierter beschrieben.
Die obere Anordnung 2 umfasst ferner eine laterale Antriebseinheit 21 zum lateralen Antreiben der oberen Anordnung 2 zur Abdichtung mit der unteren Anordnung 3. Hier bedeutet der Ausdruck lateral, dass die Antriebseinheit 21 bewirkt, dass sich die obere Anordnung 2 lateral oder horizontal in Bezug auf die untere Anordnung 3 bewegt. Die laterale Antriebseinheit 21 ist auf einer Seite der Oberseite einer kreisförmigen Plattform 22 der oberen Anordnung 2 angeordnet. Bei einem Ausführungsbeispiel kann die laterale Antriebseinheit 21 an die Seite der kreisförmigen Plattform 22 montiert oder gelötet sein. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel kann die laterale Antriebseinheit 21 einstückig mit der kreisförmigen Plattform 22 gebildet sein.
Die laterale Antriebseinheit 21 kann verschiedene Typen annehmen. Zum Beispiel und wie aus 3 zu sehen ist, ist die laterale Antriebseinheit 21 ein Griff. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel kann die laterale Antriebseinheit 21 eine Öffnung oder ein Stift an der oberen Anordnung 2 sein und wird durch ein zugeordnetes Werkzeug (wie zum Beispiel einen Griff oder einen Stab) getrieben. Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel kann die laterale Antriebseinheit 21 außerdem eine Antriebseinheit sein, die die obere Anordnung 2 lateral antreiben (oder drehen) kann, wie zum Beispiel eine pneumatische Einheit, eine leistungsgetriebene Einheit, eine magnetisch getriebene Einheit oder eine hydraulische Einheit.
4a stellt eine perspektivische Ansicht der oberen Anordnung 2 des Einlass 10 aus 2 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung dar. Die 4b und 4c stellen unterschiedliche Seitenansichten der oberen Anordnung 2 des Einlass 10 aus 2 dar. Wie aus den 4a, 4b und 4c zu sehen ist, umgeben eine erste abgeschrägte Oberfläche 23 und eine zweite abgeschrägte Oberfläche 23' gegenüberliegend die kreisförmige Plattform 22. Die beiden Einkerbungen 20 und 20' sind als zwei Einkerbungen mit 180°-Symmetrie zwischen der ersten abgeschrägten Oberfläche 23 und der zweiten abgeschrägten Oberfläche 23' gebildet. Die unteren Oberflächen 230 und 230' der ersten abgeschrägten Oberfläche 23 und der zweiten abgeschrägten Oberfläche 23' befinden sich auf der gleichen Ebene. Die Oberflächen der ersten abgeschrägten Oberfläche 23 und der zweiten abgeschrägten Oberfläche 23' jedoch sind auf eine Halbkreis-Spiralweise abgeschrägt und die Neigungen derselben sind gleich. Die niedrigste Position 232 (der niedrigsten Höhe „a” entsprechend) und die höchste Position 233 (der höchsten Position „b” entsprechend) der ersten abgeschrägten Oberfläche 23 sind benachbart zu der höchsten Position 233' bzw. der niedrigsten Position 232' der zweiten abgeschrägten Oberfläche 23'.
Zum Abdichten der oberen Anordnung 2 mit der unteren Anordnung 3, nachdem ein neuer Einsatz 32 eingesetzt wurde, werden zuerst die zylindrischen Stifte 30 und 30' der unteren Anordnung 3 mit den Einkerbungen 20 bzw. 20' der oberen Anordnung 2 ausgerichtet. Nachdem die obere Anordnung 2 mit der unteren Anordnung 3 ausgerichtet und in die untere Anordnung 3 eingesetzt wurde, treibt die laterale Antriebseinheit 21 die obere Anordnung 2 lateral an, um so die obere Anordnung 2 zu drehen.
5 stellt ein schematisches Diagramm der Funktionsweise der oberen Anordnung 2 des Einlass 10 aus 2 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung dar. Wenn die obere Anordnung 2 durch die laterale Antriebseinheit 21 gedreht wird (im Uhrzeigersinn gedreht, wie in 5 gezeigt), drehen sich die erste abgeschrägte Oberfläche 23 und die zweite abgeschrägte Oberfläche 23' der oberen Anordnung 2 entsprechend im Uhrzeigersinn. Deshalb erheben sich die Höhen der ersten abgeschrägten Oberfläche 23 und der zweiten abgeschrägten Oberfläche 23' der oberen Anordnung 2 aus den niedrigsten Positionen 232 und 232' entlang der abgeschrägten Oberflächen 23 und 23' nach oben, wodurch sich allmählich eine Abdichtung der oberen Anordnung 2 mit der unteren Anordnung 3 bildet.
Da die niedrigsten Positionen 300 und 300' (nicht gezeigt) der zylindrischen Stifte 30 und 30' der unteren Anordnung 3 höher sind als die niedrigsten Positionen 232 und 232' der abgeschrägten Oberflächen 23 und 23' der oberen Anordnung 2 und niedriger sind als die höchsten Positionen 233 und 233' der abgeschrägten Oberflächen 23 und 23' der oberen Anordnung 2, kann die obere Anordnung 2 nicht weitergedreht werden, wenn sich die erste abgeschrägte Oberfläche 23 und die zweite abgeschrägte Oberfläche 23' in der Höhe gegen den niedrigsten Positionen 300 und 300' der zylindrischen Stifte 30 bzw. 30' der unteren Anordnung 3 befinden (wie durch die gestrichelte Linie in 5 gezeigt ist). Inzwischen wird auch ein abdichtender Gummi-O-Ring 12 fest an den Einsatz 32 gepresst. Danach wird die obere Anordnung 2 mit der unteren Anordnung 3 abgedichtet, wodurch verhindert wird, dass das Trägergas und die verdampfte Probe aus dem Einlass 10 herauslaufen.
Gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung können die obere Anordnung 2 und die untere Anordnung 3 ohne weiteres miteinander ausgerichtet und innerhalb höchstens einer Halbkreisdrehung der oberen Anordnung 2 abgedichtet werden. Deshalb ist der Einsatzaustauschvorgang so wohl einfach als auch benutzerfreundlich. Es wird nicht nur die Zeit zum Einsatzaustausch eingespart, sondern auch die Beschädigung an der oberen Anordnung 2, der unteren Anordnung 3 und dem Einsatz 32 wird minimiert.
Wieder Bezug nehmend auf 3 könnte gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung die untere Anordnung 3 ferner eine Wärmedissipierungsplatte 33 umfassen. Die Wärmedissipierungsplatte 33 ist zwischen der unteren Anordnung 3 und der Schaleneinheit 31 zum Dissipieren der erzeugten Wärme angeordnet.
Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung könnte die untere Anordnung 3 ferner einen Teiler 34 zum Pressen eines voreingestellten Teils einer konzentrierten Probe zu der Lüftung und aus dem Einlass 10 heraus umfassen. Deshalb wird verhindert, dass eine große Menge der Probe in eine Säule und einen Detektor eines Gaschromatographensystems, an dem der Einlass 10 angebracht ist, eintritt und dieselben sättigt.
Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung wird die Gasflusseinheit 4 zum Bereitstellen eines Trägergases zur Analyse und eines Spülgases zum Herausspülen einer zurückgespülten Probe und von ausgetretenem Gas aus einem Septum 41 oder O-Ring 12 aus dem Innenraum der oberen Anordnung 2 verwendet. Die Gasflusseinheit 4 könnte ferner eine Trennwand 41 und einen rohrförmigen unteren Abschnitt 40 umfassen. Der rohrförmige untere Abschnitt 40 durchdringt die obere Anordnung 2 und ist an der oberen Anordnung 2 mit einem C-Ring 11 befestigt, der einen Schlitz 400 an dem rohrförmigen unteren Abschnitt 40 umgibt. Deshalb kann eine Nadel in einem Injektor (nicht gezeigt) durch die Trennwand 41 nach unten durchstechen, um die zu analysierende Probe in den Einsatz 32 zu injizieren. Zusätzlich bedeckt, wenn die obere Anordnung 2 mit der unteren Anordnung 3 abgedichtet ist, der rohrförmige untere Abschnitt 40 ferner den oberen Abschnitt 320 des Einsatzes 32, um zu verhindern, dass das Trägergas und die verdampfte Probe aus dem Einlass 10 herauslaufen.
6 ist ein schematisches Diagramm eines Gaschromatographensystems 100, das den Einlass 10 aus 2 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung umfasst. Das Gaschromatographensystem 100 umfasst ferner eine Säule 102 und einen Detektor 103. Der Einlass 10 wird zum Injizieren der zu analysierenden Probe verwendet. Die Säule 102 ist mit dem Einlass 10 zum Empfangen und Trennen der zu analysierenden Probe von dem Einlass 10 verbunden. Der Detektor 103 ist mit der Säule 102 verbunden und erfasst die Komponenten der getrennten zu analysierenden Probe aus der Säule 102.
Die vorangegangene Beschreibung offenbart und beschreibt lediglich exemplarische Verfahren und Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung. Wie für Fachleute auf diesem Gebiet ersichtlich sein wird, könnte die Erfindung in anderen spezifischen Formen ausgeführt sein, ohne von der Wesensart oder wesentlichen Charakteristika derselben abzuweichen. Folglich soll die Offenbarung von Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung darstellend, jedoch nicht einschränkend sein.

Claims

Gaschromatographiesystem mit: einem Einlass (10) mit folgenden Merkmalen: einer unteren Anordnung (3), die einen ersten zylindrischen Stift (30) aufweist; einer oberen Anordnung (2), die eine erste abgeschrägte Oberfläche (23) und eine erste Einkerbung (20) aufweist; und einer lateralen Antriebseinheit (21), wobei die obere Anordnung (2) angeordnet ist, um durch ein Ausrichten der ersten Einkerbung (20) der oberen Anordnung (2) mit dem ersten zylindrischen Stift (30) der unteren Anordnung (3) im Inneren der unteren Anordnung (3) platziert zu werden, und wobei die laterale Antriebseinheit (21) angeordnet ist, um die obere Anordnung (2) lateral anzutreiben, so dass sich die erste abgeschrägte Oberfläche (23) der oberen Anordnung (2) gegen den zylindrischen Stift (30) der unteren Anordnung (3) hebt, was eine Abdichtung der oberen Anordnung (2) mit der unteren Anordnung (3) ermöglicht, wobei, wenn die obere und die untere Anordnung (2, 3) abgedichtet sind, die Position des ersten zylindrischen Stifts (30) höher als die unterste Position der ersten abgeschrägten Oberfläche (23) der oberen Anordnung (2) und tiefer als die höchste Position der ersten abgeschrägten Oberfläche (23) der oberen Anordnung (2) ist.
Gaschromatographiesystem (10) gemäß Anspruch 1, bei dem die Einkerbung (20) eine Einkerbung mit umgekehrter Schwalbenschwanzform ist.
Gaschromatographiesystem (10) gemäß Anspruch 1 oder 2, bei dem die untere Anordnung (3) ferner einen zweiten zylinderischen Stift (30') aufweist und die obere Anordnung (2) ferner eine zweite Einkerbung (20') aufweist.
Gaschromatographiesystem (10) gemäß Anspruch 3, bei dem die obere Anordnung (2) eine ringförmige Form aufweist und ferner eine zweite abgeschrägte Oberfläche (23') aufweist, wobei die erste Einkerbung (20) und die zweite Einkerbung (20') in 180°-Symmetrie zwischen der ersten abgeschrägten Oberfläche (23) und der zweiten abgeschrägten Oberfläche (23') gebildet sind.
Gaschromatographiesystem (10) gemäß Anspruch 4, bei der, wenn die obere Anordnung (2) durch ein gleichzeitiges Ausrichten der zweiten Einkerbung (20') der oberen Anordnung (2) mit dem zweiten zylindrischen Stift (30') der unteren Anordnung (3) im Inneren der unteren Anordnung (3) platziert wird und wenn die laterale Antriebseinheit (21) die obere Anordnung (2) lateral antreibt, sich die zweite abgeschrägte Oberfläche (23') der oberen Anordnung (2) gleichzeitig gegen den zweiten zylindrischen Stift (30') der unteren Anordnung (3) hebt, was eine Abdichtung der oberen Anordnung (2) mit der unteren Anordnung (3) ermöglicht.
Gaschromatographiesystem (10) gemäß Anspruch 4, bei dem die untere Anordnung (3) eine ringförmige Wand aufweist und der erste und der zweite zylindrische Stift (30, 30') in 180°-Symmetrie an der ringförmigen Wand der unteren Anordnung (3) angebracht sind.
Gaschromatographiesystem (10) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem die laterale Antriebseinheit (21) eine Einheit ist, die aus einem Griff, einer pneumatischen Einheit, einer leistungsgetriebenen Einheit, ei ner magnetisch getriebenen Einheit oder einer hydraulischen Einheit ausgewählt ist.
Gaschromatographiesystem gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, bei dem die obere Anordnung eine Nockenanordnung ist.