DE102004018412B4 - Verfahren und Einrichtung zur elektrochemischen Beschichtung von kleinsten Partikeln - Google Patents

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    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
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Abstract

Verfahren zur elektrochemischen Beschichtung von kleinsten Partikeln, die wegen ihres geringen Gewichtes zum Aufschwemmen infolge von Gasblasenadhäsion bei der Elektrolyse neigen oder die infolge von Gasblasenadhäsion keine ausreichende Kathodenkontaktierung aufweisen, in einem galvanischen Bad, bei dem auf eine horizontal angeordnete flache und seitlich erhöhte Kathode die Partikel als Partikelschicht der Höhe (H) aufgebracht werden, eine elektrochemische Beschichtung der Partikel der von der Kathode entfernt liegenden Teilschicht mit der durch die Bedeckfähigkeit des Elektrolyten bestimmten Teilschichthöhe (h) erfolgt und die Partikelschicht periodisch oder stetig eine Vermischung und Planierung erfährt, so dass eine Oberflächenverkrustung der Partikelschicht durch das sich absetzende Beschichtungsmaterial vermieden wird, wobei- die Partikelschichthöhe (H) in Abhängigkeit von den Abmessungen der Partikel, deren Form und Dichte, des elektrischen Leistungsvermögens sowie der Bedeckfähigkeit des Elektrolyten bestimmt wird und zwischen dem 2 bis 5-fachen der Teilschichthöhe (h) beträgt,- die Verfahrenstemperatur im Bereich von 18 - 60°C liegt und- die Beschichtung mit einer Stärke von 1 - 20 µm aufgebracht wird.

Description

  • Die Erfindung bezieht sich auf das Gebiet des Elektroplattierens und beschreibt ein Verfahren und eine Einrichtung zur elektrochemischen Beschichtung von kleinsten Partikeln.
  • Aus dem Stand der Technik ist das elektrochemische Beschichten in der Absicht des Schutzes der Oberfläche von Metallen vor Korrosion und zur Erzielung anderer wertvoller Eigenschaften bekannt („Galvanische Schichten in der Elektrotechnik und Elektronik“ in Galvanotechnik,2001,92 N9 Seiten 2421-2422 Deutsch und Apparatus for coating powders: Pat USA IPC7 C23c14/35 The Regents of the Uni v of Calivornia Makowiecki Daniel M., Kerns John A., Alford Craig S, MC Kernan Mark A., N09/009643 pabl.21.11.2000 NPK 204/29828 GB).
  • Aus der DE 159 897 A ist eine Vorrichtung zur Massengalvanisierung kleiner Gegenstände mit beweglichem oder festem Kathodenträger und mit einer über diesem angeordneten Anode bekannt. Dabei werden die zu plattierenden Teile stetig umgewälzt unter Verwendung u. a. eines Schabers.
  • Die DE 108 028 A nutzt beim Galvanisieren kleiner Gegenstände einen hin- und hergehenden Rechen zur Bewegung der Gegenstände.
  • Aus der DE 550 284 A ist es bekannt, bei der Galvanisierung von Massenware diese auf einer gelochten Platte mit erhöhtem Rand im Galvanisierungsbad einer Rüttelbewegung auszusetzen.
  • Die DE 183 188 A verwendet bei der Massengalvanisierung einen Kathodenteller mit konzentrischen Rillen, wobei mittels Schaufel einer Wendevorrichtung die Gegenstände von einer Rille zur nächsten gewälzt werden.
  • Es ist ferner bekannt, dass das Auftragen von elektrochemischen Beschichtungen auf elektrisch leitende Oberfläche in stationären elektrolytischen Bädern, in Anlagen des Trommel- oder Glockentyps und in halbautomatischen oder automatischen Fließstraßen erzeugt werden.
  • Für das Auftragen der Beschichtung werden die Teile „a“ aufgehangen an Aufhängungen „b“ und überführt in das elektrolytische Aggregat „c“ auf die kathodische Stange „d“ (1).
  • Die Aufhängung mit den Teilen erhält eine elektrische negative Ladung, wenn die Aufhängung „b“ mit den Teilen „a“ die kathodische Stange kontaktiert. Die Kontaktintensität wird dank ihrer Masse „P“ erreicht. Der notwendige Kontakt der Teile mit der Aufhängung wird ebenfalls durch die Masse der Teile oder mit Hilfe von den speziellen Vorrichtungen, die den intensiven Kontakt „P2 schaffen, erreicht.
  • Bei dem Auftragen der Beschichtungen auf die Teile „a“ in den Anlagen des Trommel- oder des Glockentyps (2) erhalten die Teile eine ausreichende elektrische Ladung bei dem Kontakt mit der kathodischen Vorrichtung „b“ durch der eigenen Masse und des dichten Kontaktes miteinander.
  • Doch kann diese Methode der Beschichtung nicht für Partikel und feine Teile verwendet werden, da diese wegen des kleinen Umfanges nicht auf der Aufhängung fixiert werden können. Ihre unbedeutende Masse sorgt auch nicht für den notwendigen intensiven Kontakt.
  • In den Anlagen des Trommel- oder des Glockentyps wird der Kontakt zwischen den abgesonderten Partikeln und kathodischen Vorrichtung nicht erzielt. Deshalb werden die Partikel nicht elektrisch aufgeladen, was für die Beschichtung des Metalls notwendig ist. Gleichzeitig behindert die Gasentwicklung, die für den Prozess der Elektrolyse charakteristisch ist, das Erreichen des notwendigen Kontaktes der Partikel mit dem der kathodischen Vorrichtung.
  • Der negative Einfluss der Gasentwicklung auf den Prozess der elektrochemischen Beschichtung auf die Oberfläche der Partikel ist in den 3.1-3.5 schematisch dargestellt. Im Elektrolyt auf der flachen horizontalen Kathode „K“ sind angeordnet die Partikel „a“, deren Masse (ist die Schwerkraft) „P“, die für den intensiven Kontakt mit der Kathode ausreichend ist (3.1). Im Laufe der Elektrolyse auf den Oberflächen der Kathode und der Partikel werden die Bläschen des Gases gebildet 3.2. Sie haben genug Adhäsion zu diesen Oberflächen. Mit der Vergrößerung der Quantität der Bläschen und, entsprechend, ihres Umfanges, schaffen sie eine Schicht zwischen der Kathode und den Partikeln 3.3. Diese Schicht hat eine Keilwirkung „P1, die zum Ablösen der Partikel von der Kathode und damit zur Passivierung ihrer Oberfläche und der Unterbrechung der Fällung des Metalls auf ihre Oberflache führt. Daneben schaffen die Bläschen des Gases die Hebekraft „P2, die das Aufschwemmen der Partikel begünstigt (3.4). An der Grenze zwischen dem Elektrolyt und der Luft „C-C“ zerplatzen die Bläschen und die Partikel setzen sich auf der Kathode ( 3.5) unter der Einwirkung der eigenen Masse ab. Doch, werden die Bläschen des Gases ununterbrochen auf der Oberflache der Kathode gebildet, führen zum Aufschwemmen und schaffen für den entgegenkommenden Fluss einen Widerstand, der die Bildung des Kontaktes der Partikel mit der Kathode behindert.
  • Die mikroskopische Erforschung des Prozesses der Bildung der Gasbläschen, ihrer Größe und das weitere Zusammenwirkens mit den Partikeln verschiedener Materialien bestätigen die Korrektheit der oben erwähnten Darstellung. Das ist auf den aufgeführten Fotografien 4.1-1.6 anschaulich demonstriert.
    Auf der 4.1 sind kugelartige Partikel „a“ auf der Kathode „K“ angeordnet. Hier sind anschaulich die Gasbläschen „b“, die sich auf die Oberfläche der Kathode gebildet haben, und auch die Gasbläschen „d“, die im Elektrolyt auftauchen, zu erkennen. Die Bläschen des Gases, die sich auf der Oberflache der Kathode 4.2-4.3 gebildet haben, schaffen eine die Gasschicht „e“ zwischen ihr und den Partikeln „f“. Eine Folge ist die Entfernung der Partikel von der Oberfläche der Kathode, die Passivierung ihrer Oberflache und die Unterbrechung der Fällung des Metalls auf die Partikel wegen der Keilwirkung des Druckes „P1, der mit den Bläschens des Gases geschaffen ist.
  • Auf der 4.4 sind die kugelartigen Partikel „a“ mit den Gasbläschen „c“ zu sehen, die auf ihren Oberflächen festgehalten werden. Die Gasschicht, die zwischen der Kathode und den Partikeln ausgebildet ist, behindert den Kontakt der Partikel mit der Kathode. Das führt zur Migration (die Umstellung der Partikel auf der Oberflache der Kathode). In der 4.5 ist der Moment der Entfernung der Partikel „a“ von der Kathode „K“ und ihr Aufschwemmen sichtbar. An der Grenze zwischen Elektrolyt (weiser Grund) und der Luft (schwarzer Grund) (4.6) konnten die Bläschen nicht die Kraft der Oberflächenspannung des Elektrolyten überwinden und die Partikel „a“ suspendieren.
  • Ein Zweck der Erfindung ist es, ein Verfahren und eine Einrichtung für das Auftragen von metallischen elektrochemischen Beschichtungen auf Partikel und eine Teile mit dem natürlichen oder künstlichen elektrischen Leistungsvermögen vorzuschlagen.
  • Die Beschichtung kann aus Metallen, Legierungen und Kompositionen bestehen und ein- oder mehrschichtig sein. Die Masse der Partikel soll ausreichend sein für das Absetzen auf die Kathode unter der Einwirkung der Schwerkraft.
  • Das Zweck wird erreicht mit der Anwendung einer flachen horizontal angeordneten Kathode, mit der Anordnung einer bestimmten Höhe der Schicht der Partikel auf der Kathode je nach ihrer Form und des Umfanges und mit der periodischen oder stetigen Vermischung der Partikel zur gleichmäßigen Verteilung auf der Oberfläche der Kathode.
  • Die Anwendung einer flachen horizontal angeordneten Kathode erlaubt es, die Voraussetzung für die Kontaktierung der Partikel mit der Kathode zu schaffen.
  • Die Partikel, unterworfen der Metallisierung, können wegen der eigenen kleinen Abmessung (praktisch von 5 mkm) nicht auf einer Aufhängung fixiert sein Sie befinden sich im Elektrolyt und werden sich mit verschiedener Geschwindigkeit je nach der Dichte des Materials absetzen. Für die elektrische Aufladung sollen sie Kontakt mit der Kathode haben. Diese Bedingung wird nur bei der Benutzung einer flachen horizontal angeordneten Kathode erreicht.
  • Die Möglichkeit der Metallisierung der Partikel wird mit einer vorgegebenen Höhe ihrer Schicht auf der Kathode erzielt, was in der 5 dargestellt ist.
  • Auf die Schicht der Partikel „a“, die angeordnet auf die Kathode „K“ sind, wird das Metall elektrochemisch aufgetragen. Es deckt ihre Oberschicht „b“ auf die Tiefe „h“ ab, was der Beschichtungsfähigkeit des Elektrolyten entspricht. Die Höhe der Schicht der Partikel, die sich auf die Oberfläche der Kathode „H“ befinden, soll ausreichend sein für das Vorbeugen gegen das Eindringen der Ione des Metalls durch die Schicht auf die Oberfläche der Kathode „C“. Außerdem hängt das elektrisches Leistungsvermögen der Oberschicht „b“ von der Höhe der Schicht der Partikel „H“ ab. Im Zusammenhang damit, dass die Partikel den dichten Kontakt miteinander wegen der eigenen kleinen Masse nicht haben, entsteht an der Stelle jeden Kontaktes eine zusätzliche Resistenz, die zur Abwesenheit der Ladung auf die Oberfläche der Partikel führen kann.
  • Die optimale Höhe der Schicht der Partikel wird je nach ihren Abmessungen, der Form, der Dichte, des elektrisches Leistungsvermögens sowie der Beschichtungsfähigkeit des Elektrolyten aufgestellt. Sie wird innerhalb 2-5-teilbar der Tiefe der Beschichtungsfähigkeit des Elektrolyten (H=2-5h) sein.
  • Die periodische oder stetige Vermischung der Schicht der Partikel und ihre gleichmäßige Verteilung auf der Oberfläche der Kathode sorgen für eine gleichmäßige Beschichtung der Partikel mit einer Schicht des Metalls.
  • Das Metall, das sich als Schicht auf den Partikeln absetzen wird, führt gemäß 5 bei im bewegungslosen Zustand zum Zementieren (die Bildung einer Kruste) ihrer Oberschicht „d“. Dadurch wird der Zugang der Ione des Metalls zu den Partikeln, die niedriger angeordnet sind, also auch die Fällung des Metalls auf ihre Oberfläche, ausgeschlossen.
  • Durch die periodische oder stetige Vermischung mit gleichmäßigem Planieren der Schicht der Partikel lässt sich die Zementierung nach der Oberfläche vermeiden.
  • Außerdem entfernt die Vermischung den negativen Einfluss der Gasentwicklung, verbessert den Kontakt der Partikel mit der Kathode und miteinander, entfernt die Passivierung der Oberfläche der Partikel und schafft dadurch die Bedingungen für das Aufladen der Oberfläche der Partikel.
  • Die Frequenz der Vermischung hängt vom Regime des Elektrolyse, dem Bestand der Elektrolyte, ihrer Neigung zur Bildung von Zentren der Gasentwicklung und der Geschwindigkeit des Anwachsen der Gasbläschen.
  • Die spezielle Einrichtung und die Vorrichtung, die für die elektrolytische Metallisierung der Partikel verwendet werden, werden von den Forderungen der galvanischen Produktion bestimmt und haben die folgenden eigentümlichen Besonderheiten:
    • - Die flache horizontal angeordnete Kathode ist mit Borden für die Vorbeugung des Abwurfs der Partikel in das Bad bei seiner Vermischung ausgerüstet.
    • - Der untere Teil der Oberfläche der Kathode hat eine Elektroisolierung mit dem Zweck ihrer Metallisierung zu vermeiden.
    • - Die vermischenden Vorrichtungen des propellerartigen oder schabenden Typs, die Abmessungen und Konfigurationen vom Material, die Dicke der Beschichtung und die Produktivität hängen davon ab, wie eine gleichmäßige Verteilung der Partikel auf der Oberfläche der Kathode erfolgt.
    • - Die Kathode, die auf halbautomatisch und automatisch Taktstraßen verwendet wird, besteht aus verschiedenen Sektionen und ist gleichzeitig Transportmittel für die Umstellung der Partikel.
    • - Bei der Benutzung der Elektrolyte mit aktiven Gasentwicklungen verwendet man eine elektromagnetische Vorrichtung, die den Zwangskontakt der Partikel aus den paramagnetischen Materialien mit der Kathode schafft.
    • - Das Auftragen der metallischen elektrochemischen Beschichtungen auf die Partikel erfolgt in den galvanischen Aggregaten für die Elektrolyse in dem vorgegebenen Regime.
  • Die Aggregate sind:
    Das elektrolytische Bad, periodisch arbeitend, mit der flächenförmigen kathodischen Einrichtung und mit dem Mechanismus für die Vermischung in Form des propellerartigen oder schabenden Typs, sowie die magnetische Vorrichtung für das Arbeit mit einem Elektrolyten, der eine hohe Gasentwicklung hat.
  • Halbautomatische und automatische Taktstraßen mit den Geräten für die Vermischung und das Transportieren der Partikel des schabenden Typs mit Ein- oder Zweischrittumstellung.
  • Elektrolytische Bäder 6 unter Beachtung der Forderungen der elektrochemischen Produktion sind:
    Die Isolierung des Konstruktionsmaterials von den aggressiven Flüssigkeiten.
    Die Beachtung der Abstände zwischen der Kathode - Anode.
    Die Bäder sind mit einem Bock „a“ für die Anordnung der Anoden „A“ und mit einer abnehmbaren kathodischen Vorrichtung „B“ ausgestattet. Die kathodische Vorrichtung umfasst den Rahmen „C“ , an dem die kathodische Stange „d“, die Stromleitung „e“ und die horizontal angeordnete flache Kathode „K“ befestigt sind. Die Partikel „f“ verfügen über die ganze Oberfläche der Kathode. Die Höhe der Schicht ist „H“. Die Kathode ist mit den Borden „g“ ausgestattet, die der Abwurf der Partikel in das elektrolytische Bad bei ihrer Vermischung verhindern. Elektroisolierung auf der unteren Fläche der Kathode „i“ verhindert der Fällung des Metalls auf sie. Am Rahmen der kathodischen Vorrichtung „C“ sind die Kragsteine „J“ für die mechanisierte oder automatisierte Montage auf dem Bad, das Herausziehen und das Transportieren und für die Umladung der Partikel vorgesehen.
  • Für die Vermischung der Partikel wird der Mechanismus der Vermischung, „L“, dessen Geschwindigkeit regulierbar ist und der auf dem Rahmen der kathodischen Vorrichtung „C“ eingerichtet ist, verwendet.
  • Die Mechanismen der Vermischung sieht zwei Typen vor, den propellerartigen 7 und den schabenden 8, die je nach der Form der Kathode „K“ verwendet werden. Wird der propellerartige Vermischungsmechanismus „a“ verwendet ist dieser auf der senkrechten Achse des Antriebs „b“, der in der Höhe regulierbar ist, angeordnet. Er wühlt das Material auf, wenn er sich in der unteren Lage befindet und planiert, wenn er sich in die oberen Lage befindet. Die Schaufeln des Propellers haben die Form eines rechteckigen Dreieckes „C“. Die Hohe der kleineren Kathete ist von 1.5 bis 3.0 Mal größer, als die Höhe des Materials „H“, das auf der Kathode angeordnet ist. Die Vermischung des Materials verwirklicht sich mit dem Abwurf auf die Fläche der kleineren Kathete. Die Schicht des Metalls, die sich auf die Oberfläche der Partikel „d“ abgesetzt, trägt zur Umwälzung der Partikel bei.
  • Den Mechanismus der Vermischung des schabenden Typs 8 verwendet man für die Kathoden „K“ mit quadratischer oder rechteckiger Form. Das Schabeisen des Mechanismus der Vermischung „a“ stellt eine Platte dar, deren Höhe 1.5 bis 3 Mal mehrer ist als die Höhe der Schicht des Materials „H“, das auf der Kathode angeordnet ist. Die Platte wird an zwei senkrecht angeordneten Ständern „b“ angeordnet mit der Möglichkeit der Regulierung der Geschwindigkeit und der Höhe der hin- und hergehenden horizontalen Bewegung. Die Vermischung geschieht mit dem Abwurf des Materials durch das Oberteil des Schabeisens.
  • Bei den elektrolytischen Bädern, die einen Elektrolyt mit aktiver Gasentwicklung (Elektrolyten der Chromierung) benutzen, befinden sich die Partikel „a“ bei der Höhe der Schicht „H9. Für den Abzug der Partikel auf der Kathode wird die äußerliche Kraft „P“, die mit dem Elektromagneten „C“ geschaffen wird, verwendet. Zu diesem Zweck wird eine abnehmbare kathodische Vorrichtung verwendet, die mit einem Magnet ausgerüstet ist. Der Magnet „C“ ist unter der Kathode K angeordnet. Die paramagnetischen Partikel werden zur Kathode herangezogen und werden auf ihr von den Kraftfeldern des Magnetes festgehalten. Die Vermischung der Partikel erfolgt mittels einer Stromabschaltung und der nochmaligen Einschaltung des Magnetes dabei. Dabei werden die Partikel von der Kathode abgerissen, tauchen auf und werden nochmalig zur Kathode herangezogen. Bei Notwendigkeit wird die mechanische Vermischung mit der Mechanismen des schabenden oder des propellerartigen Typs verwendet.
  • Die halbautomatischen oder automatischen Aggregate 10 sind unter Beachtung der Forderungen der galvanischen Produktion ausgelegt und bestehen aus dem galvanischen Bad „a“. Stromleitungen, dem System des Anschließens der Anoden „A“ und aus dem kathodischen Komplexes „K“. Der kathodische Komplex besteht aus den montierbaren horizontal angeordneten Kathoden „b“, versorgt von den Borden „c“ für die Vorbeugung des Abwurfs der Partiken in das Bad bei der Vermischung. Die untere Oberfläche der Kathoden hat Elektroisolierung „d“.
  • Die Länge des Aggregates hängt von der vorgegebenen Produktivität, von der Art und der Abmessung der Partikel und der Dicke der aufgetragenen Schicht der metallischen Beschichtung ab.
  • Die Partikel kommen auf die horizontal angeordneten Kathoden von der Dosiervorrichtung (auf dem Schema nicht zeigt), die am Anfang des Aggregates angeordnet ist. Die Menge des auf die Kathode abgegebenen Materials ist abhängig von der vorgegebenen Höhe seiner Schicht „H“. Das Fließband der schabenden Art wird für die Umstellung und die Vermischung des Materials verwendet. Das Fließband besteht aus den Wagen „f“, die auf den Rollen „g“ eingerichtet sind, die auf Gleitbahnen „i“ der Hebebrücke „j“ angeordnet sind.
  • Jeder Wagen ist mit dem Schabeisen „1“ ausgerüstet, das die Umstellung und die Vermischung des Materials, sowie die Angleichung auf die aufgegebene Höhe „H“ verwirklicht.
  • Das Schabeisen stellt eine Platte dar, deren Höhe von 2.5 bis 5.0 Mal mehr als die Höhe der Schicht des Materials ist.
    Die Platte wird an zwei senkrecht angeordnet Gleitbahnen „m“ gefestigt, die in der Höhe vom Mechanismus „n“ regulierbar sind. Die Wagen realisieren die regulierende hin- und hergehende Bewegung auf zwei Niveaus. Dafür werden sie auf dem harten Luftabzug „o“ des Antriebes „p“ mit der regulierenden Geschwindigkeit befestigt.
  • Die Regulierung der Bewegung des Wagens (Schabeisen) „L“ wird verwirklicht durch die Umstellung von der Gleitbahn des Luftabzuges auf die nachfolgende harte Befestigung mit Hilfe des Mechanismus „e“, sowie die Vorrichtung zur Regulierung des Luftabzuges „r“. Die Veränderung des Niveaus der Anordnung der Schabeisen wird vom Aufstieg der Brücke bis zu dem Niveau, das der aufgegebenen Höhe der Schicht des Materials „H“entspricht, erzeugt.
  • Die hin- und hergehende Bewegung der Schabeisen wird auf einem von zwei horizontaler Niveaus (10A, 10B) verwirklicht in einen „A“ oder einem Zweischritt-„B“ des Regimes. Die Wahl des Regimes hängt von der Produktivität des Aggregates ab.
  • Bei der Umstellung im Regime „A“ werden die folgenden Operationen der Bewegung des Fließbands mit dem Schabeisen erledigt: 1. Die Bewegung vorwärts in der unteren horizontalen Lage mit der gleichzeitigen Umstellung (Zusammentragung) des Materials. 2. Der Aufstieg der Schabeisen (der Brücke) auf das Niveau der vorgegebenen Höhe der Schicht des Materials „H“. 3. Die wiederkehrende Bewegung mit der Angleichung der Schicht des Materials bis zu der aufgegebenen Höhe „H“. 4. Die Senkung in die Ausgangslage in der Zeit, die für das Absetzen des Metalls auf die Partikel notwendig ist.
  • Bei der Umstellung auf das Regime „B“, das produktiver ist, werden die folgenden Operationen erledigt.
    • 1. und 2. werden ebenso, wie und im Regime „A“ erledigt.
    • 3. Bewegung vorwärts in einem Schritt in die obere horizontale Lage mit der Angleichung der Schicht des Materials bis zu der aufgegebenen Höhe-H.
    • 4. Rückkehr aus der oberen horizontalen Lage in die Ausgangslage.
    • 5. Senkung in die untere Ausgangslage in der Zeit, die für das Absetzen des Metalls auf die Partikel notwendig ist.
  • In der 11 wird das Arbeitsschema des Aggregates im Regime der Einschrittumstellung der Schabeisen „A“ vorgestellt. In der Ausgangslage „1“ bei der Höhe der Schicht des Materials „H“ wird das Schabeisen „1“ aus der Position „a“ in die Position „a1“ versetzt. Das Schabeisen „2“ wird aus der Position „a1“ auf die Position „a2“ usw. bewegt. Entsprechend dem Material (11) aus der Zone „a-a1“ wird auf die Position „a1-a2“, und aus der Zone „a1-a2“ vom Schabeisen „2“ auf die Position „a2-a3“; usw. umgesetzt. Dabei hat das Material keine gleichmäßige Verteilung auf der Kathode in den Zonen der Schrittumstellung (a1-a2, a2-a3" usw.).
  • Die Operation der gleichmäßigen Verteilung des Materials auf der Oberfläche der Kathode erzeugt man vom Aufstieg der Schabeisen auf die Höhe der Schicht (H) und der wiederkehrenden Bewegung „111“ in die ursprünglichen Positionen (a, a1, a2 USW). Dann folgt die Senkung der Schabeisen in die Ausgangslage in der Zeit, die für die Fällung des Metalls auf die Oberfläche der Partikel notwendig ist.
  • Das metallisierte Material wird mit Hilfe von dem letzten Schaubeisen in den Empfangsbunker „b“, der am Ende des Aggregates angeordnet ist, abgekippt.
  • Bei der Arbeit des Aggregates im Regime der Zweischrittumstellung (10B und 11-1Y) der Schabeisen „1,2“ usw. (die Position 1Y-1), ist das Regime ähnlich dem Regime „A“: Versetzen des Materials in die Position „1Y-II“. Dann steigen die Schabeisen auf die Höhe der Schicht des Materials „H“ und es wird der zweite Schritt vorwärts „1Y-11I“ erzeugt. Dabei erfolgt ein Ausgleich des Materials auf der Oberfläche der Kathode. Dann kehren die Schabeisen auf die Ausgangsposition zurück.
  • Bei der Ausführung der Mehrprozessesoperationen mit der automatischen Umladung des Materials aus dem Aggregat in das Aggregat wird in diesen Aggregaten die Ausschaltung der Stromversorgung des Prozesses oder die Veränderung seiner Polarität (Revers) an der Zeit der Schrittumstellung des Materials zugelassen.
  • Das Verfahren wurde vom Autor bei der Metallisierung von Partikeln und feinen Teilen unter labormäßigen Bedingungen realisiert.
  • Mehr als 20 Arten der Partikel (des Pulvers) verschiedener Natur, die von der Industrie ausgegeben werden, wurden metallisieren.
  • Auf die dielektrische Materialien wurde mit dem chemischen (sulfitischen) Verfahren die elektrisch leitende Schicht aufgetragen.
  • Auf der 12 ist die Reihe der Materialien verschiedener Natur und der Korngrößenanalyse des Bestandes bis zu und nach der Metallisierung vorgestellt.
  • Beschichtung auf den Formersand:
    • - die einzellagige Nikeldeckung (12.1):
    • - die zweilagige Bedeckung Nikel-Kupfer (12.2).
    • - die dreilagige Bedeckung Nikei-Kupfer-Chrom (12.3).
  • Beschichtung auf Graphit:
    • - Nickel (12.4), des Kupfers (12, 5), des Zinkes (12.6).
  • Eine Beschichtung aus Nickel ist aufgetragen auf:
    • - Siliziumkarbid (12.7),
    • - Borkarbid (12.8),
    • - Verbindung Titan-Chrom-Bor (12.9),
    • - Titan (12.10),
    • - Aluminium (12.11),
    • - Verbindung das Eisen-Chrom-Bor (12.12),
    • - Aluminiumoxyd (12.13),
    • - Gläsern Kugeln die (12.14),
    • - Titandioxyd (12.15).
  • Eine Beschichtung aus Chrom ist im labormäßigen Bad unter Anwendung der elektromagnetischen kathodischen Vorrichtung erzeugt worden auf feinen Kleineisenerzeugnisse und die Teile von Uhrmechanismen. Die Dicke der aufgezählten Beschichtungen lag innerhalb 1-20 MKM.
    Die Benutzung der Erfindung lässt zu, die neue Klasse der Kompositionsmaterialen in den industriellen Umfangen mit dem rentablen Verfahren bei der niedrigen Temperatur des Prozesses -18-60°C und der hohen Geschwindigkeit der Metallfällung (bis zu 20MKM/min) zu bekommen.
  • Die Möglichkeit der Metallisierung von Metallpartikeln, Legierungen oder Kompositionsbeschichtungen ein- oder mehrlagig schafft die Vorbedingungen für das Erhalten von Kompositionen mit vorgegebenen Eigenschaften und bestimmten Vorteilen dieser Materialien in Vergleich zu den Kompositionen, die z.B. durch die Pulvermetallurgie erreicht werden.

Claims (14)

  1. Verfahren zur elektrochemischen Beschichtung von kleinsten Partikeln, die wegen ihres geringen Gewichtes zum Aufschwemmen infolge von Gasblasenadhäsion bei der Elektrolyse neigen oder die infolge von Gasblasenadhäsion keine ausreichende Kathodenkontaktierung aufweisen, in einem galvanischen Bad, bei dem auf eine horizontal angeordnete flache und seitlich erhöhte Kathode die Partikel als Partikelschicht der Höhe (H) aufgebracht werden, eine elektrochemische Beschichtung der Partikel der von der Kathode entfernt liegenden Teilschicht mit der durch die Bedeckfähigkeit des Elektrolyten bestimmten Teilschichthöhe (h) erfolgt und die Partikelschicht periodisch oder stetig eine Vermischung und Planierung erfährt, so dass eine Oberflächenverkrustung der Partikelschicht durch das sich absetzende Beschichtungsmaterial vermieden wird, wobei - die Partikelschichthöhe (H) in Abhängigkeit von den Abmessungen der Partikel, deren Form und Dichte, des elektrischen Leistungsvermögens sowie der Bedeckfähigkeit des Elektrolyten bestimmt wird und zwischen dem 2 bis 5-fachen der Teilschichthöhe (h) beträgt, - die Verfahrenstemperatur im Bereich von 18 - 60°C liegt und - die Beschichtung mit einer Stärke von 1 - 20 µm aufgebracht wird.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Verfahrensgeschwindigkeit bei der Metallfällung bis 20 µm/min beträgt.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass bei der Beschichtung von paramagnetischen Partikeln mit hoher Gasblasenbildung die Partikel mittels Magnetkraft zur Kathode bewegt werden.
  4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass durch kurzzeitiges Unterbrechen der Magnetkraftwirkung und dem damit verbundenen Aufschwemmen der paramagnetischen Partikel deren Vermischung erfolgt.
  5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass zum Vermischen der Partikelschicht in die Partikelschicht eingetauchte Schaufeln mit der Form von rechtwinkligen Dreiecken eingesetzt werden, die von oberhalb der Partikelschicht in eine um eine vertikale Achse erfolgende Drehbewegung versetzt werden, deren Abstand zur Kathode regelbar ist und deren kleinere Kathode eine Höhe aufweist, die dem 1,5 - 3,0fachen der Höhe (H) der Partikelschicht auf der Kathode beträgt.
  6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass zum Vermischen und Planieren der Partikelschicht über der Kathode vertikal und horizontal verfahrbare Schabeisen, rechteckiger Form mit der 1,5 - 3,0fachen Höhe (H) der Partikelschicht eingesetzt werden.
  7. Verwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 6 zur elektrochemischen Beschichtung von Sandkörnungen oder Glaskugeln, die wegen ihres geringen Gewichtes zum Aufschwemmen infolge von Gasblasenadhäsion aufgrund von elektrochemischen Vorgängen neigen oder die infolge Gasblasenadhäsion keine ausreichende Kathodenkontaktierung aufweisen, wobei die Sandkörnungen mit einer einlagigen Ni-Beschichtung oder einer zweilagigen Ni-Cu-Beschichtung oder einer dreilagigen Ni-Cu-Cr-Beschichtung beschichtet werden, oder die Glaskugeln mit Nickel (Ni), wobei jeweils vorab auf diese dielektrischen Materialien mit einem sulfitischen Verfahren eine elektrisch leitende Schicht aufgetragen wird.
  8. Verwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 6 zur elektrochemischen Beschichtung von Partikeln aus - Siliziumkarbid /SiC) oder - Borkarbid (B4C) oder - der Verbindung Titan-Chrom-Bor (TiCR)B2 oder - Titan (Ti) oder - Aluminium (Al) oder - der Verbindung Eisen-Chrom-Bor (FeCrB) oder - Titandioxyd (TiO2), wobei die Partikel wegen ihres geringen Gewichtes zum Aufschwemmen infolge von Gasblasenadhäsion aufgrund von elektrochemischen Vorgängen neigen oder die infolge Gasblasenadhäsion keine ausreichende Kathodenkontaktierung aufweisen, mit Nickel (Ni).
  9. Verwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 6 zur elektrochemischen Beschichtung von Graphitpartikeln (C), die wegen ihres geringen Gewichtes zum Aufschwemmen infolge von Gasblasenadhäsion aufgrund von elektrochemischen Vorgängen neigen oder die infolge Gasblasenadhäsion keine ausreichende Kathodenkontaktierung aufweisen, mit Nickel (Ni) oder Kupfer (Cu) oder Zink (Zn).
  10. Vorrichtung zur Durchführen des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 6 zur elektrochemischen Beschichtung von kleinsten Partikeln, die wegen ihres geringen Gewichtes zum Aufschwemmen infolge von Gasblasenadhäsion aufgrund elektrochemischer Vorgänge neigen oder die infolge von Gasblasenadhäsion keine ausreichende Kathodenkontaktierung aufweisen, in einem galvanischen Bad, wobei im galvanischen Bad eine flächige, rechteckigen oder runde Kathode horizontal angeordnet ist, die seitliche Erhöhungen aufweist, zur Aufnahme der zu beschichtenden Partikel, die als Partikelschicht mit der Höhe (H) einbringbar ist, und die Kathode auf der Partikelschicht abgewandten Seite eine Isolierung besitzt sowie rotierende, schabende oder elektromagnetische regulierbare Mischer vorhanden sind, die auf die Partikel periodisch oder stetig einwirken und mit denen eine Planierung der gemischten Partikelschicht erzielbar ist.
  11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass unterhalb der Kathode ein Elektromagnet angeordnet ist, der zuschaltbar und abschaltbar ist, so dass im eingeschalteten Zustand die Partikel infolge der Magnetkraft an die Kathode gezogen werden und in abgeschalteten Zustand ein Aufschwemmen der Partikel und damit ihre Vermischung erfolgt.
  12. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass über dem galvanischen Bad an einer Hebebrücke mindestens ein reguliert vertikal verfahrbares Schabeisen an einem horizontal verfahrbaren Wagen angeordnet ist.
  13. Vorrichtung nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass das Schabeisen als Platte ausgebildet ist, dessen Höhe dem 1,5 - 3,0fachen der Höhe (H) der Partikelschicht auf der Kathode entspricht.
  14. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass bei einem rotierenden Mischer an einer Welle Schaufeln angeordnet sind, die mit der Welle vertikal verfahrbar sind, wobei die Schaufeln den Querschnitt eines rechtwinkligen Dreiecks aufweisen, dessen kleinere Kathode eine Höhe aufweist, die dem 1,5 - 3,0fachen der Höhe (H) der Partikelschicht auf der Kathode entspricht.
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