DE10063624A1 - Plattierungssystem und Plattierungsverfahren - Google Patents

Abstract

Es sind ein verbessertes Plattierungssystem und ein verbessertes Plattierungsverfahren geschaffen. Das Plattierungssystem enthält ein Plattierungsbad, eine Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen, die eine Kathode bilden und die im Plattierungsbad angeordnet sind, zum Befördern von Arbeitsstücken, ein Paar aus einer oberen und einer unteren Anode, die gegenüberliegend zueinander über den elektrisch leitenden Walzen im Plattierungsbad an ihren jeweiligen Stellen oberhalb und unterhalb der elektrisch leitenden Walzen angeordnet sind, und einen Plattierungsstrom-Zuführabschnitt zum Zuführen von Plattierungsstrom zu den elektrisch leitenden Walzen. Das Plattierungssystem kann weiterhin eine Walzenantriebseinrichtung zum Drehen der elektrisch leitenden Walzen in Vorwärtsrichtung und Rückwärtsrichtung enthalten. Das Plattierungsverfahren enthält die folgenden Schritte: Hineintragen von Arbeitsstücken in das Plattierungsbad; Unterziehen der Arbeitsstücke einer Plattierung, während die Arbeitstücke durch die elektrisch leitenden Walzen bewegt werden oder die Arbeitsstücke auf den elektrisch leitenden Walzen hin- und herbewegt werden, indem die elektrisch leitenden Walzen in Vorwärtsrichtung und Rückwärtsrichtung gedreht werden; und Hinaustragen der Arbeitsstücke aus dem Plattierungsbad.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft Systeme und Verfahren zum effizienten Plattieren eines Subjekts zum Plattieren (das hierin nachfolgend "Arbeitsstück(e)" genannt wird).

Ein herkömmlicher Prozeß zum Plattieren eines massiven leitenden Arbeitsstücks, wie beispielsweise eines plattenförmigen Metallstücks oder Magnetstücks, wird wie folgt durchgeführt: eine Vielzahl von solchen Arbeitsstücken wird in einer Trommel angeordnet, die eine polygonale, beispielsweise eine hexagonale, Konfiguration im Querschnitt hat und eine Vielzahl von Kommunikationsanschlüssen für eine Plattie­ rungslösung definiert; die Trommel wird dann in die in einem Plattierungsbad enthal­ tene Plattierungslösung eingetaucht; und ein Plattierungsstrom wird an eine im Plat­ tierungsbad angeordnete Anode und eine in der Trommel angeordneten Kathode angelegt, während die Trommel gedreht wird. Normalerweise werden mit der Katho­ de elektrisch verbundene Medien (Eisenkugeln) in die Trommel eingeführt, so daß der Plattierungsstrom einheitlich durch die Vielzahl von Arbeitsstücken laufen kann.

Bei einem solchen herkömmlichen Plattierungsprozeß überlagern sich jedoch in der Trommel untergebrachte Arbeitsstücke einander, was zu einem Problem einer sehr niedrigen Plattierungseffizienz führt. In dem Fall, in welchem die Medien verwendet werden, werden die in die Trommel eingeführten Medien unvermeidbar plattiert, was in einer weiter erniedrigten Plattierungseffizienz resultiert. Zusätzlich veranlaßt eine Drehung der Trommel, daß die Arbeitsstücke miteinander kollidieren, was in einer Beschädigung eines spitzen bzw. eckigen Teils eines jeweiligen Arbeitsstücks resul­ tiert.

Die vorliegende Erfindung ist angesichts solcher Probleme gemacht, und demgemäß ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Plattierungssystem und ein Plat­ tierungsverfahren zur Verfügung zu stellen, die ein Plattieren mit einer höheren Plat­ tierungseffizienz erreichen können, während sie eine Beschädigung einzelner Ar­ beitsstücke verhindern.

Gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Plattierungssystem geschaffen, das folgendes aufweist: ein mit einer Anode versehenes Plattierungs­ bad; eine Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen, die eine Kathode bilden und im Plattierungsbad angeordnet sind, zum Weiterleiten von Arbeitsstücken als Subjekte zur Plattierung; und einen Plattierungsstrom-Zuführabschnitt zum Zuführen von Plat­ tierungsstrom zur Anode und zu den elektrisch leitenden Walzen, um zu veranlas­ sen, daß die Arbeitsstücke plattiert werden.

Das Plattierungssystem gemäß dem ersten Aspekt der Erfindung kann Arbeitsstücke plattieren, die getrennt voneinander auf den elektrisch leitenden Walzen angeordnet sind, während sie dieselben befördern bzw. weiterleiten, und demgemäß können die Arbeitsstücke ohne irgendeine Störung oder Kollision miteinander, und somit ohne irgendeine Beschädigung an einem jeweiligen Arbeitsstück, effizient plattiert werden.

Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel des obigen Plattierungssystems hat das Plattierungsbad eine Seitenwand zum Hineintragen, die einen Einlaß definiert, durch welchen die Arbeitsstücke auf die elektrisch leitenden Walzen im Plattierungsbad getragen werden, und eine Seitenwand zum Hinaustragen, die einen Auslaß defi­ niert, durch welchen die Arbeitsstücke, die plattiert worden sind, aus dem Bad hin­ ausgetragen werden, wobei jede der Seitenwand zum Hineintragen und der Seiten­ wand zum Hinaustragen mit einer Auslauf-Verhinderungseinrichtung versehen ist, um zu verhindern, daß eine Plattierungslösung im Plattierungsbad aus dem Bad fließt, während sie zuläßt, daß die Arbeitsstücke durch den Einlaß oder den Auslaß laufen.

Das Vorsehen des Einlasses und des Auslasses, die jeweils in der Seitenwand zum Hineintragen und der Seitenwand zum Hinaustragen definiert sind, des Plattierungs­ bads läßt zu, daß Arbeitsstücke durch den Einlaß in das Plattierungsbad hineinge­ tragen werden, und daß die Arbeitsstücke, die plattiert worden sind, durch den Aus­ laß aus dem Bad hinausgetragen werden. Dieses Merkmal ermöglicht, daß die Arbeitsstücke ruhig in das Plattierungsbad hineingetragen und aus dem Plattierungs­ bad hinausgetragen werden, wodurch die Produktivität verbessert wird. Zusätzlich ist es deshalb, weil die Auslauf-Verhinderungseinrichtung davon abhält oder verhindert, daß eine große Menge der Plattierungslösung durch den Einlaß oder den Auslaß ausläuft, wenn die Arbeitsstücke in das Plattierungsbad hinein- oder aus dem Plattie­ rungsbad hinausgetragen werden, möglich, die Plattierungslösung im Plattierungs­ bad effektiv zu nutzen, während ein Plattierungsfehler aufgrund eines solchen Aus­ laufens der Plattierungslösung vermieden wird.

Ein weiteres bevorzugtes Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem ersten Aspekt der Erfindung weist weiterhin folgendes auf: eine Walzen- Antriebseinrichtung zum veranlassen, daß sich die elektrisch leitenden Walzen vor­ wärts und rückwärts drehen.

Das Vorsehen der Walzen-Antriebseinrichtung ermöglicht, daß sich die elektrisch leitenden Walzen vorwärts und rückwärts drehen. Eine Vorwärts- und Rückwärtsdre­ hung der elektrisch leitenden Walzen läßt zu, daß sich ein Bereich, in welchem Ar­ beitsstücke durch die elektrisch leitenden Walzen gegen die Anode abgeschirmt werden, für eine erwünschte Zeitperiode hin- und herbewegt, wodurch jedes Ar­ beitsstück mit einer Plattierungsschicht mit einer erwünschten Dicke einheitlich plat­ tiert werden kann. Weiterhin ist es deshalb, weil ein Plattieren an sich hin- und her­ bewegenden Arbeitsstücken erreicht werden kann, möglich, das Plattierungsbad kompakt auszubilden.

Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem ersten Aspekt der Erfindung weist die Anode eine untere Anode auf, die unter den elek­ trisch leitenden Walzen angeordnet ist, und eine obere Anode, die über den elek­ trisch leitenden Walzen angeordnet ist.

Das Vorsehen der oberen und der unteren Anode läßt zu, daß die auf den elektrisch leitenden Walzen im Plattierungsbad angeordneten Arbeitsstücke von oben und von unten plattiert werden, wodurch es ermöglicht wird, eine Plattierungsschicht auf der oberen und der unteren Seite jedes Arbeitsstücks schnell auszubilden. Dies ist bei­ spielsweise besonders vorteilhaft, wo jedes Arbeitsstück flach oder plattenförmig ist.

Ein weiteres Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem ersten Aspekt der Erfindung weist weiterhin ein Dummy- bzw. Blind- bzw. Schein- bzw. Er­ satz-Arbeitsstück auf, das benachbart zu jedem von gegenüberliegenden lateralen Rändern eines ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeordnet ist, der durch die elektrisch leitenden Walzen definiert ist, wobei das Ersatz-Arbeitsstück mit einer Kathodenseite des Plattierungsstrom-Zuführabschnitts elektrisch verbunden ist.

Das Vorsehen des Ersatz-Arbeitsstücks ermöglicht es, zu verhindern, daß sich ein Plattierungsstrom an einem spitzen bzw. eckigen Teil eines Arbeitsstücks konzen­ triert, das benachbart zu einem lateralen Rand bzw. einer lateralen Kante des ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeordnet ist, wodurch ein lokales Verdicken der resultierenden Plattierungsschicht vermieden wird, was sonst bei einem solchen spitzen Teil eines als solches angeordneten Arbeitsstücks wahrscheinlich wäre. Demgemäß kann die Ausbildung einer nicht einheitlichen Plattierungsschicht, was der Anordnung eines jeweiligen Arbeitsstücks in dem ein Arbeitsstück tragenden Be­ reich zuzuschreiben ist, verhindert werden.

Gemäß einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Plattierungssystem geschaffen, das folgendes aufweist: ein mit einer Anode versehenes Plattierungs­ bad; eine Arbeitsstück-Behältereinheit mit einer Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen zum Tragen von Arbeitsstücken als Subjekte zur Plattierung darauf, wobei die elektrisch leitenden Walzen eine Kathode bilden; und eine Walzen- Antriebseinrichtung zum Veranlassen, daß sich die elektrisch leitenden Walzen vor­ wärts und rückwärts drehen; eine Beförderungseinrichtung zum Befördern der Ar­ beitsstück-Behältereinheit und zum Einpassen bzw. Bringen der Arbeitsstück-Behäl­ tereinheit in das Plattierungsbad und zum Entfernen derselben daraus; und einen Plattierungsstrom-Zuführabschnitt zum Zuführen von Plattierungsstrom zur Anode und zu den elektrisch leitenden Walzen, um zu veranlassen, daß die Arbeitsstücke plattiert werden.

Dieses Plattierungssystem gemäß dem zweiten Aspekt der Erfindung führt einen Plattierungsprozeß durch, bei welchem Arbeitsstücke auf den elektrisch leitenden Walzen getragen werden, und kann somit ein effizientes Plattieren realisieren, ohne die Arbeitsstücke zu beschädigen. Weiterhin können deshalb, weil die Arbeitsstück- Behältereinheit mit den elektrisch leitenden Walzen durch die Beförderungseinrich­ tung in das Plattierungsbad eingepaßt und von ihm entfernt werden kann, Arbeitsstücke auf einer Arbeitsstück-Behältereinheitenbasis behandelt werden. Somit ist das Plattierungssystem ausgezeichnet in bezug auf eine Handhabungseigenschaft und eine Betreibbarkeit. Beispielsweise können Behandlungen, die für den Plattie­ rungsprozeß nebensächlich sind, wie beispielsweise ein Waschen mit Säure und ein Waschen mit Wasser, auf einer Arbeitsstück-Behältereinheitenbasis erreicht werden. Weiterhin läßt das Vorsehen der Walzen-Antriebseinrichtung zu, daß ein Bereich, in welchem die Arbeitsstücke durch die elektrisch leitenden Walzen gegen die Anode abgeschirmt sind, für eine erwünschte Zeitperiode durch eine Vorwärts- und Rück­ wärts-Drehung der elektrisch leitenden Walzen hin- und herbewegt werden, wodurch jedes Arbeitsstück mit einer Plattierungsschicht mit einer gewünschten Dicke einheit­ lich plattiert werden kann. Weiterhin ist es deshalb, weil eine Plattierung an den Ar­ beitsstücken in einem Zustand einer Hin- und Herbewegung erreicht werden kann, möglich, die Arbeitsstück-Behältereinheit kompakt auszubilden.

Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem zweiten Aspekt der Erfindung weist die Anode eine untere Anode auf, die unter den elektrisch leitenden Walzen angeordnet ist, und eine obere Anode, die über den elektrisch leitenden Walzen angeordnet ist; und weiterhin ist eine Verschiebeeinrich­ tung zum Verschieben der oberen Anode zu einer Stelle vorgesehen, bei welcher die obere Anode die Arbeitsstück-Behältereinheit nicht stört, wenn die Arbeitsstück- Behältereinheit in das Plattierungsbad einzupassen oder von ihm zu entfernen ist.

Das Vorsehen der oberen Anode und der unteren Anode läßt zu, daß die auf den elektrisch leitenden Walzen angeordneten Arbeitsstücke von oben und von unten plattiert werden, wenn die Arbeitsstück-Behältereinheit im Plattierungsbad eingepaßt ist, wodurch es ermöglicht wird, eine Plattierungsschicht an der oberen und an der unteren Seite jedes Arbeitsstücks schnell auszubilden. Dies ist beispielsweise be­ sonders vorteilhaft, wo jedes Arbeitsstück flach oder plattenförmig ist. Weiterhin ist es möglich, zu verhindern, daß die obere Anode die Arbeitsstück-Behältereinheit stört, wenn die Arbeitsstück-Behältereinheit in das Plattierungsbad einzupassen ist.

Ein weiteres Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem zweiten Aspekt der Erfindung weist weiterhin ein Ersatz-Arbeitsstück auf, das benachbart zu einem peripheren Rand eines ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeordnet ist, der durch die elektrisch leitenden Walzen definiert ist, wobei das Ersatz-Arbeitsstück mit einer Kathodenseite des Plattierungsstrom-Zuführabschnitts elektrisch verbun­ den ist.

Das Vorsehen des Ersatz-Arbeitsstücks ermöglicht es, zu verhindern, daß sich Plat­ tierungsstrom an einem eckigen Teil eines jeweiligen Arbeitsstücks konzentriert, das benachbart zum peripheren Rand des ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeord­ net ist, wodurch ein lokales Verdicken der resultierenden Plattierungsschicht vermie­ den wird, was sonst an einem eckigen Teil eines als solches angeordneten Arbeits­ stücks wahrscheinlich wäre. Demgemäß kann die Ausbildung einer nicht einheitli­ chen Plattierungsschicht, was der Anordnung eines jeweiligen Arbeitsstücks in ein Arbeitsstück tragenden Bereich zuzuschreiben ist, verhindert werden.

Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel, das die obere und die untere Anode hat, des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung, kann der Plattierungsstrom-Zuführabschnitt einen oberen Anodenstrom- Steuerabschnitt zum Steuern eines zur oberen Anode zuzuführenden Plattie­ rungsstroms und einen unteren Anodenstrom-Steuerabschnitt zum Steuern eines zur unteren Anode zuzuführenden Plattierungsstroms enthalten.

Durch das Vorsehen des oberen und des unteren Anodenstrom-Steuerabschnitts ist es möglich, die Stromdichte bei der unteren Anode, die durch die elektrisch leitenden Walzen abgeschirmt ist, verglichen mit der Stromdichte bei der oberen Anode zu erhöhen. Durch Erhöhen der Stromdichte bei der unteren Anode verglichen mit der­ jenigen bei der oberen Anode ist es möglich, die Plattierungsmenge an der unteren Seite jedes Arbeitsstücks zu erhöhen, das durch die elektrisch leitenden Walzen ab­ geschirmt ist und somit nicht einfach zu plattieren ist, wodurch eine verbesserte Plat­ tierungsschicht-Einheitlichkeit an der oberen und der unteren Seite jedes Arbeits­ stücks geschaffen wird.

Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel, das die obere und die untere Anode hat, des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung können die elektrisch leitenden Walzen mit einer Walzenabdeckung versehen sein, die eine untere Seite davon gegen die untere Anode abschirmt.

Das Vorsehen der Walzenabdeckung ermöglicht es, eine Plattierungsschicht zu re­ duzieren, die durch die untere Anode unvermeidlich an Oberflächen der elektrisch leitenden Walzen ausgebildet wird. Somit kann für jede Walze verhindert werden, daß sie rauhe Oberflächen hat, welche sonst aufgrund der Ausbildung einer Plattie­ rungsschicht auf der Walze gebildet würden, wodurch die äußeren Peripherien bzw. Außenumfänge der Walzen einheitlich gehalten werden. Demgemäß ist es möglich, ein nicht einheitliches Plattieren zu reduzieren, was sonst aufgrund eines nicht ein­ heitlichen Kontakts zwischen den Arbeitsstücken und den Walzen wahrscheinlich wäre. Weiterhin kann ein Austausch der elektrisch leitenden Walzen, welcher dann notwendig wird, wenn die Menge an Plattierungsschicht auf jeder Walze eine vor­ bestimmte zulässige Grenze übersteigt, nach einem längeren Zeitintervall bewirkt werden, was in einer verbesserten Wartungsfähigkeit resultiert.

Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung haben die elektrisch leitenden Wal­ zen jeweils einen Antriebswellenteil, der mit einem Antriebselement versehen ist, und einen ein Arbeitsstück tragenden Walzenteil, der am Antriebswellenteil entfernbar angebracht ist, zum Tragen der Werkstücke darauf.

Das Merkmal, daß der ein Arbeitsstück tragende Walzenteil am Antriebswellenteil entfernbar angebracht ist, läßt zu, daß nur der ein Arbeitsstück tragende Teil jeder Walze durch ein neues zu ersetzen ist, wenn die Walze zu sehr plattiert ist, wodurch ein günstiger Kontakt zwischen der Walze und jedem Arbeitsstück beibehalten wird. Demgemäß gibt es keine Notwendigkeit, die gesamte elektrisch leitende Walze zu ersetzen, was in einer verbesserten Wartungsfähigkeit resultiert.

Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel, das die obere und die untere Anode hat, des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung, kann die obere Anode ein lösbares Elektrodenmaterial aufweisen, das mit einem Fortschreiten eines Plattierens lösbar ist, und kann ein Netzelement unter der oberen Anode vorgesehen sein, um zu verhindern, daß feine Partikel des lösbaren Elektro­ denmaterials, die aus einer Auflösung des lösbaren Elektrodenmaterials resultieren, während eines Plattierens auf die Arbeitsstücke fallen.

Das Netzelement verhindert, daß solche feinen Partikel des lösbaren Elektrodenma­ terials, die während des Plattierungsprozesses erzeugt werden, an einer oberen Oberfläche eines jeweiligen Arbeitsstücks anhaften. Demgemäß gibt es keine Mög­ lichkeit, daß solche feinen Partikel als Kerne dienen, um zu veranlassen, daß eine Plattierungsschicht nicht einheitlich wächst, und somit kann eine Plattierungsschicht hoher Qualität mit einem günstigen Oberflächenprofil ausgebildet werden.

Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel, das die obere und die untere Anode hat, des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung, kann die obere Anode alternativ ein unlösbares Elektrodenmaterial aufweisen. In diesem Fall wird sich das Elektrodenmaterial der oberen Anode niemals im Plattie­ rungsprozeß auflösen, und somit niemals feine Partikel davon erzeugen, die in dem Fall eines lösbaren Elektrodenmaterials erzeugt werden würden. Somit kann eine Plattierungsschicht hoher Qualität ohne ein Auftreten eines nicht einheitlichen Wachstums erhalten werden.

Bei einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems ge­ mäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung ist das Plattierungsbad mit einer Filtervorrichtung zum Filtern einer im Plattierungsbad enthaltenen Plattierungs­ lösung versehen, um darin enthaltene feine Verschmutzungen zu entfernen.

Das Vorsehen der Filtervorrichtung ermöglicht es, feine Partikel eines lösbaren Elek­ trodenmaterials zu entfernen, die aufgrund einer Auflösung des lösbaren Elektro­ denmaterials erzeugt werden, und feine Verschmutzungen, wie beispielsweise Staub, die in der im Plattierungsbad enthaltenen Plattierungslösung enthalten sind. Demgemäß ist es möglich, eine Ausbildung einer nicht einheitlichen Plattierungs­ schicht aufgrund eines Anhaftens von solchen feinen Verschmutzungen an einem jeweiligen Arbeitsstück zu verhindern, wodurch eine Plattierungsschicht hoher Quali­ tät geschaffen wird.

Ein weiteres Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung weist weiterhin eine Beförderungsführung auf, um zu verhindern, daß Arbeitsstücke, die auf den elektrisch leitenden Walzen an Stellen angeordnet sind, die benachbart zueinander entlang einer Achse einer jeweiligen der elektrisch leitenden Walzen sind, einander kontaktieren.

Das Vorsehen der Beförderungsführung ermöglicht es, zuverlässig zu verhindern, daß Arbeitsstücke, die auf den elektrisch leitenden Walzen an Stellen angeordnet sind, die benachbart zueinander entlang einer Achse einer jeweiligen Walze sind, einander kontaktieren. Demgemäß ist es möglich, zuverlässig das Auftreten eines Plattierungsdefekts zu verhindern, der sonst bei möglichen Kontaktteilen von be­ nachbarten Arbeitsstücken wahrscheinlich wäre, wodurch eine Plattierungsschicht hoher Qualität an jedem Arbeitsstück sichergestellt wird.

Ein weiteres Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung weist weiterhin einen Beförderungs­ behälter auf, der auf den elektrisch leitenden Walzen anzuordnen und zu bewegen ist. Dieser Beförderungsbehälter definiert eine Vielzahl von Räumen zum Unterbrin­ gen von Arbeitsstücken, welche Räume sich jeweils durch den Behälter in seiner Dickenrichtung erstrecken, um ein jeweiliges der Arbeitsstücke einzeln unterzubrin­ gen.

Das Vorsehen des Beförderungsbehälters ermöglicht es, Arbeitsstücke zu bewegen oder zu befördern, die in jeweiligen Räumen zum Unterbringen von Arbeitsstücken des Beförderungsbehälters einzeln untergebracht sind, der auf den elektrisch leiten­ den Walzen angeordnet ist, wodurch ein gegenseitiger Kontakt zwischen Arbeits­ stücken gesichert verhindert wird, die benachbart zueinander in der Beförderungs­ richtung sowie entlang der Achse einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze ange­ ordnet sind. Demgemäß ist es möglich, einen wechselseitigen Kontakt zwischen Ar­ beitsstücken und einem Plattierungsdefekt aufgrund eines solchen wechselseitigen Kontakts zuverlässig zu verhindern, wodurch eine verbesserte Plattierungsqualität sichergestellt wird.

Gemäß einem dritten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Plattierungsverfah­ ren geschaffen, das die folgenden Schritte aufweist: Vorsehen eines Plattierungs­ bads mit einer Anode und einer Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen zum Tragen von Arbeitsstücken als Subjekte zur Plattierung darauf, wobei die elektrisch leitenden Walzen eine Kathode bilden; Tragen von Arbeitsstücken hinein in das Plattierungs­ bad; Anordnen der Arbeitsstücke auf den elektrisch leitenden Walzen und Unterzie­ hen der Arbeitsstücke einem Plattieren, während dieselben durch Drehen der elek­ trisch leitenden Walzen auf den elektrisch leitenden Walzen bewegt werden; und Hinaustragen der so plattierten Arbeitsstücke aus dem Plattierungsbad.

Dieses Verfahren kann Arbeitsstücke effizient plattieren, ohne dieselben zu beschä­ digen.

Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel dieses Plattierungsverfahrens werden die Arbeitsstücke einem Plattieren unterzogen, während sie auf den elektrisch lei­ tenden Walzen durch Drehen der elektrisch leitenden Walzen vorwärts und rück­ wärts hin- und herbewegt werden.

Durch ein Hin- und Herbewegen der Arbeitsstücke auf den elektrisch leitenden Wal­ zen ist es möglich, die Plattierungszeitperiode wie gewünscht einzustellen und eine Plattierungsschicht mit einer gewünschten Dicke an einem jeweiligen Arbeitsstück auszubilden, und zwar ungeachtet der Länge des Plattierungsbads in der Beförde­ rungsrichtung.

Gemäß einem vierten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Plattierungsverfah­ ren geschaffen, das die folgenden Schritte aufweist: Vorsehen eines Plattierungs­ bads mit einer Anode und einer Arbeitsstück-Behältereinheit mit einer Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen, die eine Kathode bilden und Arbeitsstücke als Subjekte zur Plattierung darauf tragen; Einpassen der Arbeitsstück-Behältereinheit in das Plattierungsbad; Unterziehen der Arbeitsstücke einem Plattieren, während dieselben durch Drehen der elektrisch leitenden Walzen auf den elektrisch leitenden Walzen vorwärts und rückwärts hin- und herbewegt werden; und Hinaustragen der Arbeits­ stück-Behältereinheit, die die so plattierten Arbeitsstücke enthält, aus dem Plattie­ rungsbad.

Dieses Verfahren kann die Plattierungszeitperiode wie gewünscht einstellen, um da­ durch eine Plattierungsschicht mit einer erwünschten Dicke an einem jeweiligen Ar­ beitsstück auszubilden, ohne das Arbeitsstück zu beschädigen. Weiterhin hat das Verfahren den Vorteil einer ausgezeichneten Handhabungseigenschaft und Betriebs­ fähigkeit, weil die Arbeitsstücke auf einer Arbeitsstück-Behältereinheitenbasis be­ handelt werden können.

Die vorangehenden und andere Aufgaben, Merkmale und begleitende Vorteile der vorliegenden Erfindung werden beim Lesen der folgenden detaillierten Beschreibung in Zusammenhang mit den beigefügten Zeichnungen klar werden.

Fig. 1 ist eine Ansicht, die die Gesamtkonfiguration eines Plattierungssystems als erstes Ausführungsbeispiel der Erfindung darstellt;

Fig. 2 ist eine teilweise abgeschnittene seitliche Aufrißansicht, die ein Plattie­ rungsbad in einem Zustand zeigt, in welchem eine Arbeitsstück- Behältereinheit im Plattierungssystem des ersten Ausführungsbeispiels aufgenommen wird;

Fig. 3 ist eine teilweise abgeschnittene vordere Aufrißansicht des in Fig. 2 gezeigten Plattierungsbads;

Fig. 4 ist eine seitliche Aufrißansicht, teilweise im Schnitt, des Plattierungs­ bads, wobei eine Verschiebungseinrichtung zum Verschieben einer oberen Anode gezeigt ist;

Fig. 5 ist eine diagrammäßige perspektivische Ansicht, die eine Rahmenstruk­ tur der Arbeitsstück-Behältereinheit zeigt;

Fig. 6 ist eine Vorderansicht, teilweise im Schnitt, von elektrisch leitenden Walzen, die an einem unteren Rahmenteil drehbar angebracht sind;

Fig. 7 ist eine fragmentarische Schnittansicht entlang der Linie A und gese­ hen in der Richtung, die durch den Pfeil in Fig. 6 angezeigt ist;

Fig. 8 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Teil eines Elektrizitäts- Zuführelements zum Zuführen von Elektrizität zu den elektrisch leiten­ den Walzen zeigt;

Fig. 9 ist ein Blockdiagramm, das ein Steuersystem des Plattierungssystems gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel zeigt;

Fig. 10 ist eine Ansicht, die die Gesamtkonfiguration eines Plattierungssystems als zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung darstellt;

Fig. 11 ist eine vertikale Schnittansicht entlang der Beförderungsrichtung eines Plattierungsbads im Plattierungssystem gemäß dem zweiten Ausfüh­ rungsbeispiel;

Fig. 12 ist eine perspektivische Ansicht, die eine Auslauf- Verhinderungsvorrichtung zeigt;

Fig. 13 ist eine vertikale Schnittansicht eines zentralen Teils der Auslauf- Verhinderungsvorrichtung;

Fig. 14 ist ein Blockdiagramm, das ein Steuersystem des Plattierungssystems gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel zeigt;

Fig. 15 ist eine seitliche Aufrißansicht, teilweise im Schnitt, des Plattierungs­ bads gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel, wobei die mit einem Netzelement versehene obere Anode gezeigt ist, und eine Filtervorrich­ tung im Blockdiagramm gezeigt ist;

Fig. 16 ist eine teilweise geschnittene Ansicht eines Beispiels einer Beförde­ rungsführung, die an einem unteren Rahmenteil angebracht ist;

Fig. 17 ist eine teilweise geschnittene Ansicht entlang einer Linie A in Fig. 16 und gesehen in der Richtung, die durch den Pfeil in Fig. 16 angezeigt ist;

Fig. 18 ist eine teilweise geschnittene Ansicht eines weiteren Beispiels einer Beförderungsführung, die am unteren Rahmenteil angebracht ist;

Fig. 19 ist eine teilweise geschnittene Ansicht entlang einer Linie A in Fig. 18 und gesehen in der Richtung, die durch den Pfeil in Fig. 18 angezeigt ist;

Fig. 20 ist eine Schnittansicht entlang der Y-Achse eines mit Ersatz- Arbeitsstücken versehenen unteren Rahmenteils und einer Beförde­ rungsführung; und

Fig. 21 ist eine Draufsicht eines Beförderungsbehälters.

Nun wird die vorliegende Erfindung detailliert anhand ihrer bevorzugten Ausfüh­ rungsbeispiele unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben.

Zuerst wird unter Bezugnahme auf Fig. 1, die die Gesamtkonfiguration eines Plattie­ rungssystems als erstes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellt, kurz das gesamte Plattierungssystem beschrieben. Der angenehmen Darstellung halber wird gemäß dem Koordinatensystem in Fig. 1 die Richtung, in welcher sich ein Beförderungsträger 71 bewegt, "x-Achsenrichtung" oder "Längsrichtung" ge­ nannt, und wird die Richtung, die senkrecht zur Bewegungsrichtung des Beförde­ rungsträgers 71 in einer Längsebene einschließlich jener Bewegungsrichtung ist, "y- Achsenrichtung" oder "laterale Richtung" genannt.

Das Plattierungssystem enthält eine Station 101 zum Hineintragen, ein Säure­ waschbad 102, ein erstes Wasserwaschbad 103, ein erstes Ultraschall- Wasserwaschbad 104, ein Plattierungsbad 1, ein zweites Wasserwaschbad 105, ein zweites Ultraschall-Wasserwaschbad 106, ein drittes Wasserwaschbad 107, eine Trocknungskammer 108 mit einer Vielzahl von Heißlufteinlässen, eine Station 109 zum Hinaustragen und ein Plattierungsschicht-Entfernungsbad 110, welche linear in der x-Achsenrichtung angeordnet sind. Die Bäder, einschließlich des Plattierungs­ bads 1 und des Säurewaschbads 102, werden manchmal gemeinsam ohne Unter­ scheidung "Behandlungsbäder" genannt. Eine Beförderungsschiene 70 überspannt diese Komponenten, und der Beförderungsträger 71 ist gleitbar auf der Beförde­ rungsschiene 70 angebracht. Der Beförderungsträger 71 ist mit einem Hebearm ver­ sehen, der zum Einpassen einer Arbeitsstück-Behältereinheit 21 in ein jeweiliges solcher Behandlungsbäder oder ähnlichem und zum Entfernen derselben aus die­ sem dient, indem sie nach oben und nach unten gehängt wird. Die Station 101 zum Hineintragen und die Station 109 zum Hinaustragen sind jeweils mit einer Plattform für die darauf anzuordnende Arbeitsstück-Behältereinheit 21 versehen.

Die Arbeitsstück-Behältereinheit 21, die die Arbeitsstücke enthält, wird von der Stati­ on 101 zum Hineintragen hochgehoben und zu jedem der Behandlungsbäder und einer Kammer befördert und in diese eingepaßt, und zwar in der Reihenfolge eines Säurewaschbads 102, eines ersten Wasserwaschbads 103, eines ersten Ultraschall- Wasserwaschbads 104, eines Plattierungsbads 1, eines zweiten Wasserwaschbads 105, eines zweiten Ultraschall-Wasserwaschbads 106, eines dritten Wasser­ waschbads 107 und einer Trocknungskammer 108, damit die Arbeitsstücke einer jeweiligen Behandlung unterzogen werden. Die Arbeitsstück-Behältereinheit 21, die die so behandelten Arbeitsstücke enthält, wird dann zur Station 109 zum Hinaustragen befördert. Der Hauptteil des Plattierungssystems gemäß diesem Ausführungs­ beispiel weist das Plattierungsbad 1, die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 und den Beförderungsträger 71 auf. Die Rolle des Plattierungsschicht-Entfernungsbads 110 wird später beschrieben werden. In Fig. 1 ist ein möglicher Fall weggelassen, bei welchem mehrere Arbeitsstück-Behältereinheiten 21 in die Behandlungsbäder und eine Kammer in einer Eins-zu-Eins-Beziehung eingepaßt werden.

Der Hauptteil des Plattierungssystems gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel wird nachfolgend detailliert unter Bezugnahme auf die Fig. 2 und 3 beschrieben, die die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 in einem Zustand zeigen, in welchem sie im Plattie­ rungsbad 1 eingepaßt ist.

Im Plattierungsbad 1, das eine Plattierungslösung enthält, sind eine obere Anode 2 und eine untere Anode 3 in einer gegenüberliegenden Beziehung zueinander ent­ lang der Höhe des Bads 1 angeordnet, zwischen welchen ein unterer Teil der Ar­ beitsstück-Behältereinheit 21 positioniert ist. Die untere Anode 3 ist am Boden des Plattierungsbads 1 in einem davon isolierten Zustand befestigt. Die obere und die untere Anode 2 und 3 weisen jeweils ein Gehäuse zum Unterbringen eines Elektro­ denmaterials und ein darin untergebrachtes Elektrodenmaterial auf, wobei das Ge­ häuse zum Unterbringen von Elektrodenmaterial eine Vielzahl von Kommunikations­ löchern zum Bereitstellen einer Kommunikation zwischen dem Elektrodenmaterial und einer im Plattierungsbad 1 enthaltenen Plattierungslösung definiert. Das Elek­ trodenmaterial kann entweder lösbares Elektrodenmaterial sein, das während des Plattierungsprozesses in der Plattierungslösung lösbar ist, oder unlösbares Elektro­ denmaterial, das in der Plattierungslösung unlösbar ist. Beispielsweise bei einem Nickel-Plattierungsprozeß kann eine Nickelplatte oder ein Nickelchip als das lösbare Elektrodenmaterial verwendet werden, während Platin, Titan oder Iridium als das unlösbare Elektrodenmaterial verwendet werden können. Das Gehäuse zum Unter­ bringen von Elektrodenmaterial ist andererseits aus unlösbarem Elektrodenmaterial gebildet, wie beispielsweise aus Titan. In dem Fall, in welchem ein geeignetes un­ lösbares Elektrodenmaterial, das in eine Platte oder ähnliches geformt ist, als die obere Anode 2 verwendet wird, ist das Gehäuse zum Unterbringen von Elektroden­ material nicht unbedingt erforderlich. In bezug auf die Plattierungslösung ist bei­ spielsweise das Watt-Bad bei einer Glanz- oder einer Semiglanzbadbehandlung bzw. -plattierung verfügbar.

Das Plattierungsbad 1 ist an seinem oberen Teil mit einem Raum 5 zum Zurückzie­ hen einer Anode ausgebildet, um zuzulassen, daß die obere Anode 2 dort hinein zurückgezogen wird. Wie es in Fig. 4 gezeigt ist, liegt eine Verschiebungseinrichtung 6 über dem Raum 5 zum Zurückziehen einer Anode, um die obere Anode 2 zwi­ schen der Plattierungsposition und dem Raum 5 zum Zurückziehen einer Anode zu verschieben. Die Verschiebungseinrichtung 6 enthält eine Führung 7, die mit einem Anodenstützarm 8 versehen ist, der entlang der Führung 7 in der y-Achsenrichtung bewegbar ist. Der Anodenstützarm 8 hat einen vorderen Teil, der mit einer sich nach unten erstreckenden Anodenbefestigung 9 ausgebildet ist, die an ihrem unteren En­ de die obere Anode 2 in horizontaler Richtung stützt bzw. hält. Der Anodenstützarm 8 ist in Vorwärtsrichtung und Rückwärtsrichtung in der y-Achsenrichtung mittels einer Antriebseinrichtung, die nicht gezeigt ist, bewegbar, und somit ist die obere Anode 2 zwischen der Plattierungsposition gegenüber der unteren Anode 3 und dem Raum 5 zum Zurückziehen einer Anode bewegbar ausgebildet. Die Antriebseinrichtung kann beispielsweise einen pneumatischen Zylinder, einen Hydraulikzylinder, einen Zahn­ stangenmechanismus oder ähnliches aufweisen. Die Führung 7, der Anodenstütz­ arm 8, die Antriebseinrichtung und ähnliches bilden die Verschiebungseinrichtung 6.

Das Plattierungsbad 1 hat gegenüberliegende obere Kanten, die sich in der x- Achsenrichtung erstrecken, an welchen vier Metallstützen 11A, 11A und 11B, 11B angebracht bzw. montiert sind, die jeweils eine V-förmige Nut zum Stützen bzw. La­ gern der Arbeitsstück-Behältereinheit 21 definieren, wie es besser in den Fig. 2 und 3 gezeigt ist. Diese Metallstützen bzw. -lager 11A, 11A und 11B, 11B, die je nach Fall allgemein mit einem Bezugszeichen 11 bezeichnet sein werden, sind vom Plat­ tierungsbad 1 isoliert. Die Metallstützen 11 sind jeweils aus einem metallischen Ma­ terial mit hoher elektrischer Leitfähigkeit ausgebildet, wie beispielsweise aus Kupfer oder einer Kupferlegierung, und ein Paar von Metallstützen 11A, 11A oder 11B, 11B ist jeweils in der x-Achsenrichtung voneinander beabstandet und um einen vorbe­ stimmten Abstand gegenüber dem anderen Paar von Metallstützen 11B, 11B oder 11A, 11A in der y-Achsenrichtung beabstandet. Ein Paar der Metallstützen 11A, 11A ist mit der Kathodenseite einer DC- bzw. Gleichstrom-Versorgungsquelle elektrisch verbunden, während das andere Paar der Metallstützen 11B, 11B mit der Anoden­ seite der DC- bzw. Gleichstrom-Versorgungsquelle elektrisch verbunden ist.

Wie es in Fig. 5 gezeigt ist, enthält die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 einen Rah­ men bzw. ein Gestell 25, das einen rechteckigen oberen Rahmenteil 22 und einen identisch geformten unteren Rahmenteil 23 aufweist, die durch aufrechte Verstre­ bungselemente 24 miteinander verbunden sind, die an den vier Ecken angeordnet sind. Der untere Rahmenteil 23 weist ein Paar von unteren Längselementen 26A, 26B auf, die sich parallel in der x-Achsenrichtung erstrecken und um einen vorbe­ stimmten Abstand voneinander in der y-Achsenrichtung beabstandet sind, und ein Paar von unteren lateralen Elementen 27, 27, die sich von gegenüberliegenden En­ den von einem der unteren Längselemente 26A, 26B zu entsprechenden gegen­ überliegenden Enden der anderen parallel in der y-Achsenrichtung ausdehnen bzw. eine Überspannung bilden. Gleichermaßen weist der obere Rahmenteil 22 ein Paar von oberen Längselementen 28A, 28B und ein Paar von oberen lateralen Elementen 29, 29 auf. Dazwischenliegende laterale Elemente 31, 31, die sich in der y- Achsenrichtung parallel erstrecken, verbinden jeweils ein jeweiliges der Paare von vorderen und hinteren aufrechtstehenden Verstrebungselementen 24, 24, die in der y-Achsenrichtung beabstandet sind. Ein Paar von Stützwellen 32A, 32B erstreckt sich parallel in der x-Achsenrichtung mit einem vorbestimmten Abstand dazwischen in der y-Achsenrichtung, um die dazwischenliegenden lateralen Elemente 31, 31 zu überspannen. An einem dazwischenliegenden lateralen Element 31 auf der rechten Seite in der Zeichnung ist eine Motor-Montageplatte 33 angebracht. Der Rahmen 25 ist aus einem steifen synthetischen Harz hergestellt, wie beispielsweise aus steifem Vinyl-Chlorid, während die Stützwellen 32A, 32B aus einem metallischen Material hergestellt sind, das eine relativ hohe Festigkeit hat, wie beispielsweise aus rostfrei­ em Stahl oder aus Messing.

Wie es in Fig. 2 gezeigt ist, ist die Stützwelle 32A an der Vorderseite loslösbar bei den V-förmigen Nuten 12 des Paars von Metallstützen 11A, 11A gelagert bzw. ge­ stützt, die an der vorderen oberen Kante des Plattierungsbads 1 angeordnet sind, während die Stützwelle 32B an der Rückseite loslösbar an den V-förmigen Nuten 12 des Paars von Metallstützen 11B, 11B gestützt bzw. gelagert ist, die an der hinteren oberen Kante des Plattierungsbads 1 angeordnet sind. Wenn die Stützwellen 32A, 32B bei den V-förmigen Nuten 12 so gelagert sind, wird eine elektrische Verbindung zwischen den Metallstützen 11A, 11A und der Stützwelle 32A und zwischen den Metallstützen 11B, 11B und der Stützwelle bzw. Lagerwelle 32B hergestellt. Dem­ gemäß dienen die Metallstützen bzw. -lager und die Stütz- bzw. Lagerwellen auch als elektrische Kontakte.

An den oberen Längselementen 28A, 28B des oberen Rahmenteils 22 sind jeweils Hakenelemente 35 mit invertierter L-Form auf eine gegenüberliegende Weise ange­ bracht, die jeweils einen sich einwärts erstreckenden oberen Teil 36 haben, der eine V-förmige Ausbuchtung 37 definiert, die sich nach unten öffnet.

An dem Paar der unteren Längselemente 26A, 26B des unteren Rahmenteils 23 des Rahmens 25 ist eine Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen 41 angebracht, die sich entlang der y-Achse erstrecken und die in einer Reihe mit einem vorbestimmten Intervall in der x-Achsenrichtung angeordnet sind, um Arbeitsstücke W darauf zu tragen. Wie es in Fig. 6 gezeigt ist, weist das untere Längselement 26A auf der Vor­ derseite einen unteren Teil 38 und einen oberen Teil 39, der flüssigkeitsdicht mit dem unteren Teil 38 verbunden ist, auf, wobei bei der Schnittstelle von ihnen eine Reihe von Wellenaufnahmelöchern definiert ist, die jeweils den entsprechenden An­ triebswellenteil jeder elektrisch leitenden Walze 41 durch ein Paar von Lagern 43, 43 und ein Paar von Dichtungsringen 44, 44 für eine Vorwärts- und Rückwärtsdrehung aufnehmen. Gleichermaßen definiert auch das untere Längselement 26B eine Reihe von Wellenaufnahmelöchern, die jeweils das andere Ende einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 für eine Drehung aufnehmen.

Zwischen den Lagern 43, 43 ist ein Paar von oberen und unteren Elektrizitäts- Zuführelementen 45, 45 in Kontakt mit dem Antriebswellenteil 42 einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 angeordnet. Wie es in Fig. 8 gezeigt ist, weisen die Elektrizitäts-Zuführelemente 45, 45 jeweils einen Ausbuchtungsteil auf, der einen Radius hat, der etwas kleiner als derjenige des Antriebswellenteils 42 ist, und einen flachen Teil, die kontinuierlich zueinander sind und abwechselnd wiederholt werden. Diese Zuführelemente 45, 45 sind aneinander angepaßt, wobei ihre entsprechenden flachen Teile aneinanderstoßen, um die Wellenaufnahmelöcher zu definieren. Jedes Elektrizitäts-Zuführelement 45 ist aus einem elastischen leitenden Metallmaterial ausgebildet, wie beispielsweise aus einem Federmaterial einer Kupferlegierung. Die Elektrizitäts-Zuführelemente 45, 45 werden in einer Vertiefung aufgenommen, die sich in der Längs-(x-Achsen)Richtung erstrecken, die im Zentrum der Schnittstelle zwischen dem vorangehenden unteren Teil 38 und dem vorangehenden oberen Teil 39 definiert ist. Die Elektrizitäts-Zuführelemente 45, 45 sind durch einen Leitungs­ draht (nicht gezeigt) mit der Stützwelle 32A elektrisch verbunden, welche wiederum mit der Kathodenseite der DC- bzw. Gleichstrom-Versorgungsquelle zur Plattierung elektrisch verbunden ist. Der Leitungsdraht wird in einer Nut (nicht gezeigt) aufgenommen, die in den dazwischenliegenden lateralen Elementen 31 und den Ausbuch­ tungselementen 24 definiert ist, und ist darin mittels einer Isolierfüllung (nicht ge­ zeigt) fixiert, die die Nut füllt.

Wie es in Fig. 6 gezeigt ist, weist jede der elektrisch leitenden Walzen 41 den An­ triebswellenteil 42 auf, der durch das untere Längselement 26A an der Vorderseite drehbar gelagert ist und durch das Elektrizitäts-Zuführelement 45 kontaktiert ist, und einen ein Arbeitsstück tragenden Walzenteil 48, der mit dem hinteren Ende des An­ triebswellenteils 42 über ein Gewinde verbunden ist. Der Antriebswellenteil 42 ist an seinem vorderen Endteil mit einem Schneckenrad 47 versehen, das aus einer Inge­ nieur- bzw. Maschinenplastik hergestellt ist, und eine synthetische Buchse 53 ist über einem hinteren Endteil des Antriebswellenteils 42 vorgesehen, um zu verhin­ dern, daß der hintere Endteil plattiert wird. Der ein Arbeitsstück tragende Walzenteil 48 ist andererseits an seiner Rückseite mit einer Gleitbuchse 49 versehen, die aus synthetischem Harz mit einem niedrigen Reibkoeffizienten, wie beispielsweise aus Fluorplastik, hergestellt ist. Der mit der Buchse 49 versehene Rückseitenteil wird in einem jeweiligen Wellenaufnahmeloch des unteren Längselements 26B an der Rückseite drehbar gehalten. Der hintere Endteil des ein Arbeitsstück tragenden Wal­ zenteils 48 steht vom unteren Längselement 26B nach außen vor und definiert einen flachen Oberflächenteil, um zuzulassen, daß ein Werkzeug, wie beispielsweise ein Schraubenschlüssel, mit diesem hinteren Endteil in Eingriff gelangt. Durch Ergreifen des ein Arbeitsstück tragenden Walzenteils 48 an diesem flachen Oberflächenteil mit einem geeigneten Werkzeug und durch Drehen von ihm kann der ein Arbeitsstück tragende Walzenteil 48 auf einfache Weise vom Antriebswellenteil 42 gelöst bzw. entfernt werden. Da das Wellenaufnahmeloch derart bemaßt ist, daß es die Gleit­ buchse 49 aufnimmt, kann der ein Arbeitsstück tragende Walzenteil 48 selbst dann mit Leichtigkeit vom Loch entfernt werden, wenn es mit einer Plattierungsschicht plattiert ist.

Die elektrisch leitenden Walzen 41 sind jeweils aus einem Metallmaterial mit einer relativ hohen Festigkeit hergestellt, wie beispielsweise aus Messing oder rostfreiem Stahl, und sie haben jeweils den Antriebswellenteil 42 in Kontakt mit dem Elektrizi­ täts-Zuführelement 45, das mit der Kathodenseite der Plattierungs- Versorgungsquelle elektrisch verbunden ist, und somit funktionieren sie als Kathode. Wenn die elektrisch leitende Walze 41 zu dick ist, wird die untere Seite jedes Ar­ beitsstücks durch die Walze 41 zum großen Teil gegen die untere Anode 3 abgeschirmt, was in einer erniedrigten Plattierungseffizienz resultiert. Wenn die elektrisch leitende Walze 41 andererseits zu dünn ist, kann die Walze 41 aufgrund ihrer unzu­ reichenden Festigkeit gegenüber einigen Arten von Arbeitsstücken anfällig gegen­ über einem Deformieren werden oder kann aufgrund einer verringerten Reibung zwi­ schen der Oberfläche der Walze 41 und den Arbeitsstücken dabei Schwierigkeiten haben, zu veranlassen, daß sich die Arbeitsstücke bei ihrer Vorwärts- und Rück­ wärtsdrehung hin- und herbewegen. Angesichts dieser Tatsache wird der Außen­ durchmesser einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 gemäß der Art von Ar­ beitsstücken bestimmt. Wenn die zu plattierenden Arbeitsstücke jeweils beispiels­ weise ein relativ niedriges Gewicht haben, kann die Walze 41 einen Außendurch­ messer von etwa 2 bis 10 mm haben. Obwohl die Plattierungseffizienz verbessert wird, wenn der Abstand zwischen jedem Paar von benachbarten elektrisch leitenden Walzen 41 größer wird, wird bevorzugt, daß die durch wenigstens drei Walzen 41 definierte Länge, die mit einem bestimmten Intervall angeordnet sind, gleich der Länge eines jeweiligen Arbeitsstücks in der Bewegungsrichtung ist, um eine ruhige Bewegung der Arbeitsstücke sicherzustellen. Sonst wird der bevorzugte Abstand zwischen jedem Paar von benachbarten Walzen 41 so bestimmt, daß ein jeweiliges Arbeitsstück durch zwei Walzen 41 konstant getragen werden kann.

Unter jeder elektrisch leitenden Walze 41 ist eine Walzenabdeckung 51 vorgesehen, um zu verhindern, daß die Walze 41 durch die untere Anode 3 plattiert wird. Diese Walzenabdeckung 51 wird bei U-förmigen Vertiefungen getragen und gestützt bzw. gelagert, die in Abdeckungshalterplatten 42 definiert sind, die jeweils an den Innen­ seiten der unteren Längselemente 26A, 26B angebracht sind. Das obere Ende jeder Walze 41, das ein jeweiliges Arbeitsstück W kontaktiert, ist um etwa 1 mm höher als das obere Ende der Walzenabdeckung 51, und ein geringer Freiraum von etwa 0,5 bis 1 mm ist zwischen der Innenfläche der Walzenabdeckung 51 und der Oberfläche der Walze 41 definiert. Die Walzenabdeckung kann nach Wunsch geformt sein, oh­ ne daß es eine besondere Beschränkung in bezug auf die U-Form gibt. Beispiels­ weise kann sie kreisförmig geformt sein, wobei ihr oberes Ende abgeschnitten ist.

Beim Plattieren der Arbeitsstücke W, die auf den elektrisch leitenden Walzen 41 ge­ tragen werden, die als Kathode dienen, ist es aufgrund des Vorhandenseins der Walzen 41 zwischen der unteren Anode 3 und den Arbeitsstücken W schwierig, die untere Seite eines jeweiligen Arbeitsstücks W zu plattieren. Aus diesem Grund ist es zum Sicherstellen einer zufriedenstellenden Plattierung auf der unteren Seite eines jeweiligen Arbeitsstücks effektiv, die untere Anode 3 näher zu den Walzen 41 zu positionieren oder die Plattierungsstromdichte an der unteren Anode 3 zu erhöhen. Solche Gegenmaßnahmen veranlassen jedoch, daß die elektrisch leitenden Walzen 41 auf einfache Weise plattiert werden, weil die Walzen 41 näher zu der unteren An­ ode 3 angeordnet sind als die Arbeitsstücke W. Ein solches Problem kann durch das Vorsehen der in Fig. 7 gezeigten Walzenabdeckung 51 gelöst werden, die eine Ausbildung einer Plattierungsschicht auf der Oberfläche einer jeweiligen Walze 41 verhindern kann. Demgemäß kann die Oberflächenglätte einer jeweiligen Walze 41 beibehalten werden. Obwohl eine jeweilige elektrisch leitende Walze 41 (der ein Ar­ beitsstück tragende Walzenteil 48) durch eine neue ersetzt werden muß, wenn die Walze 41 mit einer Plattierungsschicht in einer Menge plattiert ist, die die zulässige Grenze übersteigt, läßt der obige Aufbau zu, daß der Zyklus für einen solchen Aus­ tausch verlängert wird.

Wie es in Fig. 2 gezeigt ist, sind ein Motor 55 und eine Steuerbox 56 auf der Motor- Montageplatte 33 angebracht, die am dazwischenliegenden lateralen Element 31 auf der rechten Seite angebracht ist. Auf dem Verstrebungselement 24, das mit dem dazwischenliegenden lateralen Element 31 verbunden ist, ist eine Transmissions- bzw. Übertragungswelle 59 drehbar gelagert, deren gegenüberliegende Enden mit Kegelradgetrieben 58, 58 versehen sind. Am vorderen unteren Längselement 26A ist eine Schneckenwelle 61 drehbar gelagert, die in Eingriff mit dem Schneckenrad 41 jeder elektrisch leitenden Walze 41 ist und die an ihrem Ende auf der rechten Seite mit einem Kegelradgetriebe 60 versehen ist, wie es in Fig. 3 gezeigt ist. Das obere Kegelradgetriebe 58 ist in Eingriff mit einem Kegelradgetriebe 57, das mit der Aus­ gangswelle des Motors 55 gekoppelt ist, während das untere Kegelradgetriebe 58 der Transmissionswelle 59 in Eingriff mit dem Kegelradgetriebe 60 der Schnecken­ welle 61 ist. Demgemäß wird die Drehung der Ausgangswelle des Motors 55 zu jeder elektrisch leitenden Walze 41 über die Transmissionswelle 59 und die Schnecken­ welle 61 übertragen. Es sollte beachtet werden, daß der Motor 55, die Steuerbox 56, die Transmissionswelle 59, die Schneckenweile 61, das Schneckenrad 47 und ähnli­ che Teile die Walzenantriebseinrichtung zum Vorwärts- und Rückwärtsdrehen der elektrisch leitenden Walzen bilden.

Die Steuerbox 56 enthält eine Motorsteuerschaltung zum Veranlassen, daß sich der Motor 55 mit einem vorbestimmten Zyklus vorwärts und rückwärts dreht. Diese Steu­ erschaltung ist auf der Kathodenseite mit der Stützwelle 32A verbunden und mit der Stützwelle 32B, die mit der Anodenseite der Gleichstrom-Versorgungsquelle elek­ trisch verbunden ist. Somit wird dann, wenn die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 in das Plattierungsbad 1 eingepaßt ist, durch die Metallager 11B, 11B und die Stützwelle 32B Elektrizität an die Steuerschaltung angelegt, um den Motor 55 zu steuern.

Der Beförderungsträger 71 hat den Hebearm 72, der sich relativ zum Hauptkörper heben und senken kann, der auf der Beförderungsschiene 70 gleitbar angebracht ist. Der Hebearm 72 führt Hebe- und Senkbewegungen relativ zum Hauptkörper des Retraktionsträgers 71 beispielsweise durch Expansions- und Zurückziehbewegungen einer Kolbenstange durch, die durch einen Hydraulikzylinder verursacht werden, oder durch Aufwickel- und Entwickelbewegungen eines Drahtseils. Wie es in den Fig. 2 und 3 gezeigt ist, hat der Hebearm 72 einen unteren Endteil mit einem Paar von Hängewellen 74, 74 an den vorderen und hinteren Seiten in bezug auf die y- Achsenrichtung, wobei die Hängewellen 74, 74 mit dem Paar von Hakenelementen 35, 35 an ihren V-förmigen Ausbuchtungen in Eingriff gebracht werden können.

Der Hebearm 72 hebt und senkt sich zwischen einer unteren Grenzposition, bei wel­ cher jede Hängewelle 74 zwischen dem oberen Teil 36 eines jeweiligen Hakenele­ ments 35 und dem oberen Ende des oberen Rahmenteils 22 der Arbeitsstück- Behältereinheit 21 angeordnet ist, und einer oberen Grenzposition, bei welcher die Arbeitsstück-Behältereinheit 21, die durch die Hängewellen 74, 74 aufgehängt ist, die mit den Hakenelementen 35 bei ihren V-förmigen Ausbuchtungen 37 in Eingriff sind, das obere Ende einer weiteren Arbeitsstück-Behältereinheit 21 in einem derar­ tigen Zustand nicht stört, in welchem sie im Plattierungsbad 1 oder ähnlichem vorge­ sehen ist. Demgemäß kann sich der Hebearm 72 dann, wenn der Hebearm 72 bei der unteren Grenzposition angeordnet ist, bewegen, ohne die Arbeitsstück- Behältereinheit 21 zu stören, die im Plattierungsbad 1 oder ähnlichem vorgesehen ist. Weiterhin kann die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 angehoben werden, indem veranlaßt wird, daß der Hebearm 72 auf die Anpassungsposition der Arbeitsstück- Behältereinheit 21 ansteigt. Wenn der Hauptkörper des Beförderungsträgers 71 mit dem Hebearm 72, an dem die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 hängt, zu einer Ziel­ position bei der oberen Grenzposition bewegt wird, und der Hebearm 72 dann veran­ laßt wird, zur unteren Grenzposition abzufallen, kann die Arbeitsstück- Behältereinheit 21 in ein Ziel-Behandlungsbad oder eine Ziel-Kammer eingefügt werden. Es muß nicht gesagt werden, daß die Metallstützen, die zum Eingreifen und zum Lagern der Stützwellen 32A, 32B angepaßt sind, am obersten Teil des Ziel- Behandlungsbads oder der Ziel-Kammer vorgesehen sein müssen, bevor die Ar­ beitsstück-Behältereinheit 21 in das Behandlungsbad oder die Kammer eingefügt wird. Es ist hier zu beachten, daß der Beförderungsträger äquivalent zur Beförde­ rungseinrichtung der Erfindung ist.

Das Plattierungssystem ist mit einer Steuervorrichtung zum Steuern des gesamten Systems versehen. Wie es in Fig. 9 gezeigt ist, enthält die Steuervorrichtung eine Hauptsteuereinheit 81 mit einer CPU 82, einem ROM 83, einem RAM 84 und einer Steuer-Schnittstelle 85, wobei die Hauptsteuereinheit 81 mit einem Steuerpult 86 verbunden ist, um durch einen Bediener bedient zu werden. Der Bediener gibt Daten eines Plattierungsverfahrens über das Steuerpult 86 zur Hauptsteuereinheit 81 ein, und die so eingegebenen Daten werden im ROM 83 gespeichert, damit die CPU 82 Steuersignale ausgeben kann.

Mit der Hauptsteuereinheit 81 sind ein oberer Anodenstrom-Steuerabschnitt 81, ein unterer Anodenstrom-Steuerabschnitt 92, ein Beförderungsträger-Steuerabschnitt 93, ein Verschiebungs-Steuerabschnitt 94 zum Steuern der Verschiebung der obe­ ren Anode 2, ein Ultraschallreinigungs-Steuerabschnitt (nicht gezeigt) zum Steuern von Ultraschallreinigungsvorrichtungen, die in den Ultraschall-Wasserwaschbädern 104 bzw. 106 vorgesehen sind, und ein Trocknungs-Steuerabschnitt (nicht gezeigt) zum Steuern eines Warmluftgebläses, das zum Zuführen von Heißluft in die Trocknungskammer 108 angepaßt ist, verbunden. Jeder dieser Steuerabschnitte empfängt Steuersignale von der Hauptsteuereinheit 81. Zum oberen Anodenstrom- Steuerabschnitt 91 und zum unteren Anodenstrom-Steuerabschnitt 92 ist die Gleichstrom-Versorgungsquelle 90 zugeordnet, die zum Zuführen von Plattierungs- Gleichstrom geeignet ist. Die Gleichstrom-Versorgungsquelle 90 ist auf ihrer An­ odenseite auch mit den Metallstützen 11B, 11B verbunden, die als Anodenan­ schlußstücke zum Plattierungsbad 1 oder ähnliches dienen. Weiterhin ist die Gleichstrom-Versorgungsquelle 90 auf ihrer Kathodenseite mit der Kathodenseite von jeweils dem oberen Anodenstrom-Steuerabschnitt 91 und dem unteren An­ odenstrom-Steuerabschnitt 92 verbunden, und weiterhin mit den Metallstützen 11A, 11A, die als Kathodenanschlußstücke zum Plattierungsbad 1 oder ähnliches dienen.

Nachfolgend wird der durch das Plattierungssystem gemäß dem ersten Ausfüh­ rungsbeispiel durchgeführte Plattierungsprozeß beschrieben.

Zuerst werden Arbeitsstücke W auf den elektrisch leitenden Walzen 41 mit einem geeigneten Abstand zueinander in der Arbeitsstück-Behältereinheit 21 angeordnet. Die Arbeitsstück-Behältereinheit 21, die die Arbeitsstücke W enthält, wird auf der Station 101 zum Hineintragen angeordnet. Dann hebt der Beförderungsträger 71 die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 an, befördert sie zu einer Stelle über dem Säure- Waschbad 102 und veranlaßt, daß sich der Hebearm 72 absenkt, um die Arbeits­ stück-Behältereinheit 21 in das Bad 102 einzufügen. Nach einem Verstreichen einer vorbestimmten Zeitperiode veranlaßt der Beförderungsträger 71, daß der Hebearm 72 wieder anhebt, um dadurch die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 nach oben zu he­ ben, befördert sie zum ersten Wasserwaschbad 103 und fügt sie dort hinein ein. Während der Behandlung werden die elektrisch leitenden Walzen 41 vorwärts und rückwärts gedreht, um zu veranlassen, daß sich die Arbeitsstücke W in der x- Achsenrichtung hin- und herbewegen. Gleichermaßen, nachdem die Arbeitsstücke W einer Ultraschallreinigung zum Entfernen einer Verschmutzung, die an ihnen an­ haftet, im ersten Ultraschall-Wasserwaschbad 104 unterzogen worden sind, beför­ dert der Beförderungsträger 71 die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 zum Plattie­ rungsbad 1 und fügt sie dort hinein ein.

Während der Hebearm 72 des Beförderungsträgers 71 die Arbeitsstück- Behältereinheit 21 in das Plattierungsbad 1 einfügt, wird die obere Anode 2 in den Zurückziehraum 5 zurückgezogen. Nachdem diese Einfügungsoperation beendet worden ist, geht der Anodenstützarm 8 dazu über, vor einem Plattieren die obere Anode 2 zu einer Position zu bewegen, die der unteren Anode 3 gegenüberliegt. Beim Plattierungsprozeß wird veranlaßt, daß sich die auf den elektrisch leitenden Walzen 41 getragenen Arbeitsstücke W in der x-Achsenrichtung gemäß einer Vor­ wärts- und Rückwärtsdrehung der Walzen 41 hin- und herbewegen. In dem Fall, in welchem die Walzenabdeckung 51 vorgesehen ist, ist der Abstand einer solchen Hin- und Herbewegung der Arbeitsstücke W wenigstens im wesentlichen gleich der Breite der Walzenabdeckung 51. Jedoch dann, wenn der Abstand für eine Hin- und Herbewegung zu groß ist, wird die Anzahl von Arbeitsstücken W, die auf den elek­ trisch leitenden Walzen 41 angeordnet werden können, unerwünscht klein. In dem Fall, in welchem der Plattierungsprozeß durchgeführt wird, ohne die Walzenabdec­ kung 51 zu verwenden, ist der Abstand für eine Hin- und Herbewegung vorzugswei­ se im wesentlichen gleich dem Durchmesser einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41. Der Abstand für eine Hin- und Herbewegung wird durch Einstellen eines Vorwärts-Rückwärts-Umschaltzeitgebers gesteuert, der in der Motor-Steuerschaltung dieses Ausführungsbeispiels vorgesehen ist. Für jedes Arbeitsstück W, das mit einer Plattierungsschicht mit einer gleichmäßigen Dicke auf seiner oberen und seiner unte­ ren Seite zu plattieren ist, kann die Stromdichte bei jeder der oberen und der unteren Anode 2 und 3 gesteuert werden.

Nach einem Verstreichen einer vorbestimmten Behandlungszeitperiode wird der An­ odenstützarm 8 zurückbewegt, um die obere Anode 2 in den Zurückziehraum 5 zu­ rückzuziehen. Dann veranlaßt der Beförderungsträger 71, daß sich der Hebearm 77 anhebt, um dadurch die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 nach oben zu heben, und er befördert die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 jeweils aufeinanderfolgend zu dem zweiten Wasserwaschbad 104, dem zweiten Ultraschall-Wasserwaschbad 105, dem dritten Wasserwaschbad 107 und der Trocknungskammer 108 und fügt sie dort hin­ ein ein, damit die Arbeitsstücke W einer jeweiligen Behandlung unterzogen werden. Danach wird die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 zur Station 109 zum Hinaustragen befördert, und die Arbeitsstücke, die mit einer Plattierung fertig sind, werden aus der Arbeitsstück-Behältereinheit 21 entladen.

Wenn ein solcher Plattierungsprozeß wiederholt durchgeführt wird, wird unvermeid­ bar eine Plattierungsschicht in stärkerem Maße abgelagert und auf der Oberfläche einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 aufgewachsen. Wenn eine solche un­ vermeidbare Plattierungsschicht derart gewachsen ist, daß sie eine Dicke hat, die einen gegebenen Wert übersteigt, gelangt sie in Kontakt mit der Innenumfangsflä­ che der Walzenabdeckung 51 oder macht die Walzenoberfläche rauh, um die elek­ trische Leitfähigkeit über den Walzen 41 und den Arbeitsstücken W zu ändern, was zum Ergebnis hat, daß die Arbeitsstücke W nicht einheitlich plattiert werden. Ange­ sichts dieser Tatsache wird der ein Arbeitsstück tragende Walzenteil 48 jeder elek­ trisch leitenden Walze 41 durch einen neuen ersetzt, wenn die Dicke einer solchen Plattierungsschicht auf der Walzenoberfläche einen vorbestimmten Wert erreicht. Da das Plattierungssystem gemäß diesem Ausführungsbeispiel mit dem Plattierungs­ schicht-Entfernungsbad 110 zum Auflösen und zum Entfernen einer auf jeder elek­ trisch leitenden Walze 41 abgelagerten Plattierungsschicht versehen ist, kann eine solche Plattierungsschicht durch Eintauchen der Arbeitsstück-Behältereinheit 21 zu­ sammen mit den elektrisch leitenden Walzen 41 in das Plattierungsschicht- Entfernungsbad 110 entfernt werden. Dieses Merkmal ist insbesondere dort vorteilhaft, wo eine jeweilige elektrisch leitende Walze 41 von einem einstückigen Typ ist, der nicht geteilt werden kann.

Die vorliegende Erfindung ist nicht auf das vorangehende erste Ausführungsbeispiel beschränkt. Beispielsweise sind die folgenden Änderungen und Variationen möglich.

Obwohl beim ersten Ausführungsbeispiel die obere und die untere Anode 2 und 3 oberhalb und unterhalb der dazwischenliegenden elektrisch leitenden Walzen 41 angeordnet sind, um ein Plattieren durchzuführen, können diese Anoden an Seiten­ wänden des Plattierungsbads 1 angebracht sein oder können in eine Anode inte­ griert sein. Wenn die obere Anode 2, die beim ersten Ausführungsbeispiel verwendet wird, eliminiert wird, wird die Verschiebungseinrichtung zum Verschieben der oberen Anode 2 unnötig.

Weiterhin kann, obwohl das erste Ausführungsbeispiel den Beförderungsträger 71 als die Einrichtung zum Befördern der Arbeitsstück-Behältereinheit 21 zu einer jewei­ ligen Behandlungsstelle verwendet, eine geeignete alternative Einrichtung verwendet werden, wie beispielsweise ein Laufkran oder ein elektrisch angetriebener Hebezug.

Während das erste Ausführungsbeispiel den Zwischengetriebemechanismus als die Einrichtung für einen Rotationsantrieb der elektrisch leitenden Walzen 41 verwendet, kann eine derartige Anordnung angenommen werden, daß jede Walze 41 mit einem Zahnrad anstelle des Arbeitsstückrads 47 versehen ist und eine Kette um das Zahn­ rad gezogen ist, um es mittels des Motors vorwärts und rückwärts zu drehen.

Beim ersten Ausführungsbeispiel ist eine einzige Gleichstrom-Versorgungsquelle vorgesehen, die sowohl als Plattierungs-Versorgungsquelle als auch als Motorsteue­ rungs-Versorgungsquelle dient, und das Paar von Metallstützen 11A, 11A, die in der x-Achsenrichtung beabstandet sind, und das entsprechende Paar von Metallstützen 11B, 11B, die in der x-Achsenrichtung beabstandet sind, sind jeweils mit der Katho­ denseite und der Anodenseite der Gleichstrom-Versorgungsquelle elektrisch verbun­ den. Anstelle dieses Aufbaus kann eine Versorgungsquelle, die ausschließlich zur Motorsteuerung zu verwenden ist, separat vorgesehen sein. In diesem Fall kann ein derartiger Aufbau bzw. eine derartige Anordnung verwendet werden, daß das Plattie­ rungsbad 1 mit einem Paar von leitenden Stücken versehen ist, die mit der Anoden­ seite bzw. der Kathodenseite dieser Versorgungsquelle elektrisch verbunden sind, während die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 mit einem entsprechenden Paar von elektrischen Aufnahmestücken versehen ist, die in Kontakt mit den leitenden Stüc­ ken als Gegenstück gebracht werden, wenn die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 in das Plattierungsbad 1 eingefügt wird. In diesem Fall ist es möglich, eine Wechsel­ strom-Versorgungsquelle als die Motorsteuerungs-Versorgungsquelle zu verwenden.

Weiterhin kann die Anzahl von Behandlungsbädern, wie beispielsweise von Säure­ waschbädern und Wasserwaschbädern, die beim ersten Ausführungsbeispiel enthal­ ten ist, geeignet variiert werden. Beispielsweise kann eine Vielzahl von Plattierungs­ bädern verwendet werden, um einen Plattierungsprozeß am unteren Ende bzw. Bo­ den (eine Semiglanzplattierung) und einen Plattierungsprozeß am oberen Ende (eine Glanzplattierung) durchzuführen. Weiterhin können, obwohl das Plattierungssystem gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel konfiguriert ist, um eine Reihe von Behand­ lungen bei den Behandlungsbädern und der Kammer auf einer Arbeitsstück- Behälterbasis durchzuführen, die Vorplattierungsbehandlungen (ein Waschen mit Säure und ein Waschen mit Wasser) und die Nachplattierungsbehandlungen (ein Waschen mit Wasser und ein Trocknen) durch separate Systeme durchgeführt wer­ den.

Nun wird ein Plattierungssystem als zweites Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung beschrieben.

Fig. 10 stellt die Gesamtkonfiguration des Plattierungssystems gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung dar. Der angenehmeren Darstellung halber wird gemäß dem Koordinatensystem in Fig. 10 die Richtung, in welcher Ar­ beitsstücke W befördert werden, "x-Achsenrichtung" oder "Längsrichtung" genannt werden und wird die Richtung, die senkrecht zur Beförderungsrichtung in einer hori­ zontalen Ebene einschließlich der Beförderungsrichtung ist, "y-Achsenrichtung" oder "Lateralrichtung" genannt werden.

Das Plattierungssystem enthält ein Plattierungsbad 201, das einen Hauptteil des Plattierungssystems bildet, eine Wasserwaschkammer 291 mit einer Vielzahl von Duschdüsen, eine Luftgebläsekammer 292 mit einer Vielzahl von Luftdüsen, eine Trocknungskammer 293 mit einer Vielzahl von Heißlufteinlässen und eine Behälter­ box 294 zum Unterbringen der Arbeitsstücke W, die einer Reihe von Behandlungen unterzogen worden sind, welche in linearer Richtung in der x-Achsenrichtung angeordnet sind. Der angenehmeren Darstellung halber werden die Kammern einschließ­ lich der Wasserwaschkammer 291, der Luftgebläsekammer 292 und der Trocknungskammer 293 manchmal gemeinsam ohne Unterscheidung "Behandlungskammer(n)" genannt werden.

Wie es in Fig. 11 gezeigt ist, enthält das Plattierungssystem das Plattierungsbad 201, das eine Plattierungslösung enthält. Das Plattierungsbad 201 ist mit einer Viel­ zahl von elektrisch leitenden Walzen 41 zum Befördern der Arbeitsstücke W verse­ hen. Diese elektrisch leitenden Walzen 41 haben jeweils eine Achse, die sich in der y-Achsenrichtung erstreckt, und sind in einer Reihe mit einem vorbestimmten Inter­ vall in der x-Achsenrichtung angeordnet. Die Walzen 41 werden in die Plattierungs­ lösung eingetaucht. Gleich denjenigen, die in Fig. 6 gezeigt sind, sind die elektrisch leitenden Walzen 41 durch ein Paar von Längselementen (entsprechend den Ele­ menten 26A, 26B in Fig. 5) gestützt bzw. gelagert, die sich parallel in der x- Achsenrichtung mit einem vorbestimmten Abstand dazwischen in der y- Achsenrichtung für eine Vorwärts- und Rückwärtsdrehung erstrecken und sind mit der Kathodenseite einer Plattierungs-Versorgungsquelle durch ein Elektrizitäts- Zuführelement (entsprechend den Elementen 45, 45 in Fig. 6) elektrisch verbunden, das innerhalb des vorderen Längselements (entsprechend Fig. 26A) vorgesehen ist. Die Längselemente sind an ihren gegenüberliegenden Enden und Mittelteilen durch laterale Elemente (entsprechend den Elementen 27 in Fig. 5) miteinander verbun­ den. Diese lateralen Elemente sind so angeordnet, daß ihr oberes Ende niedriger als die Arbeitsstück tragende (oder Arbeitsstück befördernde) Ebene ist, die durch die elektrisch leitenden Walzen 41 definiert ist, wodurch die lateralen Elemente die durch die Walzen 41 beförderten Arbeitsstücke nicht stören.

Die elektrisch leitenden Walzen 41 werden durch einen Walzenantriebsmotor (nicht gezeigt), der außerhalb des Plattierungsbads 201 angeordnet ist, über einen geeig­ neten Transmissionsmechanismus angetrieben. Da jede elektrisch leitende Walze dieselbe Konfiguration wie diejenige hat, die beim ersten Ausführungsbeispiel ver­ wendet wird, wird ein gleiches Bezugszeichen wie beim ersten Ausführungsbeispiel zum Bezeichnen von ihr verwendet.

Eine obere und eine untere Anode 202 und 203 sind entfernbar am Plattierungsbad 201 an Stellen oberhalb und unterhalb der elektrisch leitenden Walzen 41 angebracht. Die obere und die untere Anode 202 und 203 haben dieselben Konfiguratio­ nen wie diejenigen, die beim ersten Ausführungsbeispiel verwendet werden.

Das Plattierungsbad 201 hat eins Seitenwand 211 zum Hineintragen auf einer stromaufwärtigen Seite in der Beförderungsrichtung, wobei die Seitenwand 211 zum Hineintragen einen Einlaß 212 definiert, der eine Höhe hat, um zuzulassen, daß ein flaches Arbeitsstück W dort hindurch läuft, und eine Breite, die im wesentlichen gleich der Länge jeder Walze 41 ist. Eine Seitenwand 213 zum Hinaustragen des Plattierungsbads 201 auf einer stromabwärtigen Seite in der Beförderungsrichtung definiert einen Auslaß 214 derselben Konfiguration wie derjenigen des Einlasses 212. Die Seitenwand 211 zum Hineintragen und die Seitenwand 214 zum Hinaustra­ gen sind mit jeweiligen Auslauf-Verhinderungsvorrichtungen 221 und 222 versehen, um zu verhindern, daß die Plattierungslösung im Plattierungsbad 201 aus dem Bad 201 durch den Einlaß 212 oder den Auslaß 214 ausläuft, wenn die durch die elek­ trisch leitenden Walzen 41 beförderten Arbeitsstücke W durch den Einlaß 212 oder den Auslaß 214 laufen.

Wie es in den Fig. 11 bis 13 gezeigt ist, weisen die Auslauf- Verhinderungsvorrichtungen 221 und 222 jeweils ein Paar von oberen und unteren Leck-Verhinderungswalzen 224 und 225 auf, die über der Arbeitsstück befördernden Ebene der elektrisch leitenden Walzen 41 einander gegenüberstehen und parallel positioniert sind, so daß ihre jeweiligen Außenumfangsflächen aneinanderstoßen. Die Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 sind durch Seitenwandteile 227, 227 eines Rahmenelements 226 drehbar gelagert, das aus einem steifen synthetischen Harz hergestellt ist. Die untere Leck-Verhinderungswalze 225 hat eine Walzenwelle 231, von welcher ein Ende mit einem ersten Getriebe 232 versehen ist, das mit einem Motor (nicht gezeigt) zum verriegelten Antreiben der Leck-Verhinderungswalzen ge­ koppelt ist, und von welcher das andere Ende mit einem zweiten Getriebe 233 ver­ sehen ist. Die obere Leck-Verhinderungswalze 224 hat eine Walzenwelle 231, von welcher ein Ende mit einem angetriebenen Getriebe 234 versehen ist, das gleich dem zweiten Getriebe 233 in bezug auf eine Anzahl von Zähnen und einen Ab­ standsdurchmesser ist und in Eingriff mit dem zweiten Getriebe 233 ist. Demgemäß dreht sich dann, wenn sich die untere Leck-Verhinderungswalze 225 in einer Rich­ tung dreht, um die Arbeitsstücke W in Richtung zur stromabwärtigen Seite (in der Beförderungsrichtung) zu befördern, auch die obere Leck-Verhinderungswalze 224 in der Beförderungsrichtung mit einer Geschwindigkeit, die gleich der Drehgeschwindigkeit der unteren Walze 225 ist. Die Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 haben jeweils eine flexible Schicht 236, die um die jeweilige Walzenwelle 231 aus­ gebildet ist, wobei die flexible Schicht 236 aus einem flexiblen Material ausgebildet ist, wie beispielsweise einem geschäumten synthetischen Harz, wie beispielsweise einem geschäumten Urethangummi oder einem geschäumten Silikongummi, wel­ ches gemäß dem Profil eines jeweiligen Arbeitsstücks W an den Kontaktteilen der Walzen 224 und 225 elastisch deformierbar ist.

Das Rahmenelement 226 hat weiterhin eine obere Wand 228 und eine untere Wand 229, die jeweils mit Dichtungselementen 238 und 239 versehen sind, die jeweils an die Außenumfangsfläche einer jeweiligen Walze 224 oder 225 stoßen, um ein Aus­ fließen einer Flüssigkeit zu verhindern. Eine Schicht (nicht gezeigt) aus Harz mit ei­ nem niedrigen Reibkoeffizienten, wie beispielsweise aus Fluorplastik, ist an einer Innenfläche eines jeweiligen der Dichtungselemente 238, 239 befestigt, die an die Walzen 224, 225 stoßen, und an einer Innenfläche eines jeweiligen der Seitenwand­ teile 227, 227, um dadurch den Reibwiderstand an den Anstoßteilen zu reduzieren und somit eine Abnutzung daran zu verlangsamen.

Wie es in Fig. 11 gezeigt ist, ist das Plattierungsbad 201 weiterhin mit einer Zirkulati­ onseinrichtung zum Sammeln von Teilen der Plattierungslösung versehen, die un­ vermeidbar abgegeben werden, wenn die Arbeitsstücke W durch die Auslauf-Ver­ hinderungsvorrichtung 221 oder 222 laufen, und zum Zirkulieren von ihnen zurück zum Plattierungsbad 201. Die Zirkulationseinrichtung weist Zusatztanks 216, 217 auf, die jeweils an der Seitenwand 211 zum Hineintragen und der Seitenwand 213 zum Hinaustragen angebracht sind, um unvermeidbar ausgeschlossene Teile der Plattierungslösung zur temporären Speicherung aufzunehmen, und eine Rückfluß­ pumpe 219, die in Kommunikationsverbindung mit dem Boden jedes Zusatztanks 216 oder 217 verbunden ist, um die in den Zusatztanks 216, 217 gespeicherte Plat­ tierungslösung zum Plattierungsbad 1 durch ein Rückflußrohr 218 zurückzubringen.

Geht man zurück zur Fig. 10, hat jede der Behandlungskammern einschließlich der Wasserwaschkammer 291 eine Seitenwand zum Hineintragen auf der stromaufwär­ tigen Seite in der Beförderungsrichtung und eine Seitenwand zum Hinaustragen auf der stromabwärtigen Seite. Die Seitenwand zum Hineintragen und die Seitenwand zum Hinaustragen definieren jeweils einen Einlaß und einen Auslaß, wie den Einlaß 212 und den Auslaß 214 des Plattierungsbads 201. Zwischen dem Einlaß und dem Auslaß ist eine Vielzahl von Beförderungswalzen 241 zum Befördern der Arbeits­ stücke W angeordnet, die durch den Einlaß in Richtung zum Auslaß in die Kammer hineingetragen werden. Ebenso sind zwischen benachbarten Behandlungsstellen, wie beispielsweise zwischen dem Plattierungsbad 201 und der Wasserwaschkam­ mer 291 und auf der Seite zum Hinaustragen der Trocknungskammer 293 Beförde­ rungswalzen 242 zum Befördern der Arbeitsstücke W in Richtung zur stromabwärti­ gen Seite angeordnet. Diese Beförderungswalzen 241, 242 werden durch einen Be­ förderungswalzen-Antriebsmotor (nicht gezeigt) angetrieben. Weiterhin sind auf der Seite zum Hineintragen des Plattierungsbads 201 Walzen 243 zum Hineintragen, die durch einen Motor zum Antreiben von Walzen zum Hineintragen (nicht gezeigt) an­ getrieben werden, zum Befördern der Arbeitsstücke W in das Plattierungsbad 201 angeordnet.

Das Plattierungssystem gemäß diesem Ausführungsbeispiel ist mit einer Steuervor­ richtung zum Steuern des gesamten Plattierungssystems versehen. Wie es in Fig. 14 gezeigt ist, enthält die Steuervorrichtung eine Hauptsteuereinheit 251 mit einer CPU, einem ROM, einem RAM und einer Steuerungs-Schnittstelle und ist mit einem Steuerpult 252 verbunden, das durch einen Bediener zu bedienen ist.

Mit der Hauptsteuereinheit 251 verbunden sind ein oberer Anodenstrom- Steuerabschnitt 254, ein unterer Anodenstrom-Steuerabschnitt 255, ein Motor- Steuerabschnitt 257 für ein Antreiben von Walzen zum Hineintragen, ein Motor- Steuerabschnitt 258 für ein Antreiben von Leck-Verhinderungswalzen auf der Seite zum Hineintragen, ein Motor-Steuerabschnitt 259 für ein Antreiben von elektrisch leitenden Walzen, ein Motor-Steuerabschnitt 260 für ein Antreiben von Leck- Verhinderungswalzen auf der Seite zum Hinaustragen, ein Beförderungswalzen- Antriebsmotor-Steuerabschnitt 261, ein Rückflußpumpen-Steuerabschnitt 262 zum Betätigen der Rückflußpumpe 219, wenn eine vorbestimmte Menge einer Plattie­ rungslösung in den Zusatztanks 216, 217 angesammelt ist, ein Waschwasser- Steuerabschnitt (nicht gezeigt) zum Steuern eines elektromagnetischen Ventils, das ein Zuführen von Waschwasser zu Sprühdüsen der Wasserwaschkammer 291 durchführt und stoppt, ein Luft-Steuerabschnitt (nicht gezeigt) zum Steuern eines elektrischen Ventils, das ein Zuführen von Luft zu den Luftdüsen der Luftgebläse­ kammer 292 durchführt und stoppt, und ein Trocknungs-Steuerabschnitt (nicht ge­ zeigt) zum Steuern des Heißluftgebläses, das zum Zuführen von heißer Luft zur Trocknungskammer 293 geeignet ist. Diese Steuerabschnitte empfangen Steuersignale von der Hauptsteuereinheit 251. Dem oberen Anodenstrom-Steuerabschnitt 254 und dem unteren Anodenstrom-Steuerabschnitt 255 ist eine Gleichstrom- Versorgungsquelle 270 zum Zuführen eines Plattierungs-Gleichstroms zu ihnen zu­ geordnet. Die Kathodenseite dieser Gleichstrom-Versorgungsquelle 270 ist mit den Kathodenseiten des oberen Anodenstrom-Steuerabschnitts 254 und des unteren Anodenstrom-Steuerabschnitts 255 verbunden, welche wiederum mit dem Elektrizi­ täts-Zuführelement 45 in Kontakt mit dem Antriebswellenteil 42 einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 elektrisch verbunden sind.

Der Plattierungsprozeß wird durch das Plattierungssystem gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel auf die folgende Weise durchgeführt.

Zuerst werden die Walzen 243 zum Hineintragen, die elektrisch leitenden Walzen 41 und die Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 der Auslauf-Verhinderungsvorrichtung 221 auf der Seite zum Hineintragen angetrieben, um sich in der Beförderungsrich­ tung zu drehen. Daraufhin werden Arbeitsstücke W, deren Oberflächen durch Waschbehandlungen, wie beispielsweise durch ein Waschen mit Säure, gereinigt worden sind, auf den Beförderungswalzen 243 angeordnet und dann durch die Kontaktteile der Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 sequentiell zu den elektrisch leitenden Walzen 41 im Plattierungsbad 201 befördert, wie es in Fig. 11 gezeigt ist. Wenn einmal eine vorbestimmte Anzahl von Arbeitsstücken W auf den elektrisch leitenden Walzen 41 im Plattierungsbad 41 angeordnet ist, wird veranlaßt, daß die Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 und die Beförderungswalzen 234 aufhören sich zu drehen, um ein Befördern von Arbeitsstücken W in das Plattierungsbad 201 zu stoppen. Dann werden die Arbeitsstücke W einem Plattieren unterzogen, während die elektrisch leitenden Walzen 41 im Plattierungsbad 201 auf abwechselnde Weise vorwärts und rückwärts gedreht werden, um die Arbeitsstücke W auf den elektrisch leitenden Walzen 41 in der Beförderungsrichtung hin- und herzubewegen. Wie beim ersten Ausführungsbeispiel ist der Abstand einer solchen Hin- und Herbewegung der Arbeitsstücke W vorzugsweise im wesentlichen gleich der Breite der Walzenabdec­ kung, wenn sie verwendet wird, oder im wesentlichen gleich dem Durchmesser jeder elektrisch leitenden Walze 41, wenn die Walzenabdeckung nicht verwendet wird. Für jedes Arbeitsstück W, das mit einer Plattierungsschicht mit einer gleichmäßigen Dic­ ke auf seiner oberen Seite und seiner unteren Seite zu plattieren ist, ist bevorzugt, daß die Stromdichte bei jeder der oberen und der unteren Anode 202 und 203 ge­ steuert wird, wie es erforderlich ist.

Wenn ein Plattieren im Plattierungsbad 201 einmal beendet worden ist, werden die elektrisch leitenden Walzen 41, die Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 der Auslauf- Verhinderungsvorrichtung 222 auf der Seite zum Hinaustragen und die Beförde­ rungswalzen 241, 242 angetrieben, um sich in der Beförderungsrichtung zu drehen, damit die so plattierten Arbeitsstücke W vom Plattierungsbad 201 in Richtung zu den darauffolgenden Behandlungskammern, wie beispielsweise der Wasserwaschkam­ mer 291, auf der stromabwärtigen Seite befördert werden. Gleichzeitig werden die Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 auf der Seite zum Hineintragen und die Walzen 243 zum Hineintragen angetrieben, um sich wieder zu drehen, um eine weitere Gruppe von zu plattierenden Arbeitsstücken W in das Plattierungsbad 201 zu beför­ dern. Nachdem eine vorbestimmte Anzahl von zu plattierenden Arbeitsstücken W in das Plattierungsbad 201 befördert worden ist, werden diese Arbeitsstücke W einem Plattieren unterzogen, während sie in der Beförderungsrichtung hin- und herbewegt werden, wie es zuvor beschrieben ist. Andererseits wird die Gruppe von plattierten Arbeitsstücken W mit Wasser in der Wasserwaschkammer 291 gewaschen, in die Luftgebläsekammer 292 befördert, wo eine Wassermasse der Arbeitsstücke W durch einen Luftstrom abgetropft wird, durch Heißluft in der Trocknungskammer 293 getrocknet, und in die Behälterbox 294 befördert und dort gespeichert bzw. gelagert. Wenn einmal das letzte Arbeitsstück W aus einer jeweiligen Behandlungskammer hinausgetragen worden ist, wird die Behandlungsoperation darin, beispielsweise eine Zufuhr von Waschwasser zur Wasserwaschkammer 291, gestoppt. Die Beförde­ rungswalzen 241, 242 werden auch gestoppt, wenn alle Arbeitsstücke W in einer Gruppe aus der Trocknungskammer 293 hinausgetragen worden sind.

Das Plattierungssystem gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel ist für die vorlie­ gende Erfindung nicht beschränkend gedacht. Beispielsweise sind die folgenden Änderungen und Variationen möglich.

Wie bei einer Variation des ersten Ausführungsbeispiels kann das zweite Ausfüh­ rungsbeispiel so variiert werden, daß die Anoden an den Seitenwänden des Plattie­ rungsbads 201 angebracht sind. Weiterhin kann die Transmissionseinrichtung zum Übertragen von Rotationsleistung zu jeder elektrisch leitenden Walze 41 eine Kette aufweisen.

Obwohl beim zweiten Ausführungsbeispiel die Auslauf-Verhinderungsvorrichtungen 221, 222 jeweils an den Außenseiten der Seitenwand 211 zum Hineintragen und der Seitenwand 213 zum Hinaustragen angeordnet sind, können sie jeweils an den In­ nenseiten dieser Seitenwände 211, 213 angeordnet sein. Weiterhin können diese Auslauf-Verhinderungsvorrichtungen 221, 222 eliminiert werden. In diesem Fall sind der Einlaß 212 und der Auslaß 214 wünschenswertenrweise so klein wie möglich ausgebildet und so nahe wie möglich zum Flüssigkeitspegel angeordnet. Anstelle der Zusatztanks 216, 217, die an der Seitenwand 211 zum Hineintragen und der Seiten­ wand 213 zum Hinaustragen des Plattierungsbads 201 angebracht sind, ist es mög­ lich, einen Tank zu verwenden, um das gesamte Plattierungsbad 201 aufzunehmen.

Beim zweiten Ausführungsbeispiel wird ein Plattieren durchgeführt, während eine Gruppe von Arbeitsstücken W im Plattierungsbad 201 in der Beförderungsrichtung hin- und herbewegt wird, indem die elektrisch leitenden Walzen 41 im Plattierungs­ bad 201 vorwärts und rückwärts gedreht werden. Jedoch ist ein derartiger alternati­ ver Aufbau möglich, daß veranlaßt wird, daß sich die Walzen 243 zum Hineintragen, die elektrisch leitenden Walzen 41 und die Beförderungswalzen 241, 242 aufeinan­ derfolgend drehen, um Arbeitsstücke W von den Walzen 243 zum Hineintragen kon­ tinuierlich zu einer Reihe eines Behandlungsbads und von Behandlungskammern zu befördern, ohne zu veranlassen, daß sich die elektrisch leitenden Walzen 241 vor­ wärts und rückwärts drehen, um dadurch die Plattierungsbehandlung, die Wasser­ waschbehandlung, die Luftgebläsebehandlung und die Trocknungsbehandlung kon­ tinuierlich durchzuführen.

Obwohl die Beförderungswalzen 241, 242 beim zweiten Ausführungsbeispiel als Ganzes gesteuert werden, können die Beförderungswalzen 241 in jeder Behand­ lungskammer und die Beförderungskammer 242, die direkt stromaufwärts von jener Behandlungskammer angeordnet sind, als Paar gesteuert werden. In diesem Fall kann das Paar von Beförderungswalzen 241, 242 in und stromaufwärts von jeder Behandlungskammer gestoppt werden, wenn alle Arbeitsstücke W in einer Gruppe aus jener Kammer hinausgeführt worden sind. 31408 00070 552 001000280000000200012000285913129700040 0002010063624 00004 31289

Weiterhin kann das Plattierungssystem gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel als Ersatz für die Wasserwaschkammer 291 ein Wasserwaschbad von im wesentlichen derselben Konfiguration wie das Plattierungsbad 201 verwenden. In diesem Fall kann eine Beförderungswalze vom einstückigen Typ anstelle einer elektrisch leitenden Walze vom zusammengebauten Typ, die mit dem Elektrizitäts-Zuführelement 45 versehen ist, verwendet werden. Auf der stromaufwärtigen Seite des Plattierungs­ bads 201 kann ein solches Wasserwaschbad oder ein solches Säurewaschbad der­ selben Konfiguration wie der des Wasserwaschbads vorgesehen sein. Weiterhin können die Behandlungen (Waschen mit Wasser und Trocknen), die dem Plattie­ rungsprozeß folgen, durch separate Behandlungssysteme durchgeführt werden.

Bei dem Plattierungssystem gemäß irgendeinem von dem ersten und dem zweiten Ausführungsbeispiel kann die Plattierungsqualität aufgrund einiger Ursachen ver­ schlechtert werden, die nachfolgend beschrieben werden. Daher kann das Plattie­ rungssystem der Erfindung mit zusätzlichen Strukturen (die später zu beschreiben sind), zum Eliminieren von solchen qualitätsverschlechternden Gründen und zum Verbessern der Plattierungsqualität versehen werden.

Beim Plattieren von Arbeitsstücken W, die auf den elektrisch leitenden Walzen 41 angeordnet sind, fallen feine Verschmutzungen in der Plattierungslösung, die im Plattierungsbad 1 oder 201 enthalten sind, auf die obere Seite jedes Arbeitsstücks W und haften daran an. Wenn solche feinen Verschmutzungen selbst in Spuren an ei­ ner Oberfläche eines jeweiligen Arbeitsstücks anhaften, wächst eine Plattierungs­ schicht um solche feinen Verschmutzungen, die als Kerne dienen, und somit resul­ tiert eine Ungleichmäßigkeit auf der Plattierungsschicht, die die Oberseite des Ar­ beitsstücks bedeckt, wodurch die Oberfläche rauh gemacht wird. Eine solche rauhe Oberfläche beeinträchtigt nicht nur das Aussehen eines fertiggestellten Produkts, sondern fängt durch seine Ungleichmäßigkeit auch feine Verschmutzungen ein. Es kann einen Fall geben, bei welchem solche feinen Verschmutzungen, die durch eine rauhe Oberfläche eingefangen werden, durch die Nachplattierungsbehandlungen nicht auf geeignete Weise entfernt werden. Wenn ein solcher unzufriedenstellend plattierter Artikel in einer elektronischen Vorrichtung enthalten ist, dienen die auf der Oberfläche des plattierten Artikels gelassenen feinen Verschmutzungen als Kontaminierungen, die die Leistungsfähigkeit der elektronischen Vorrichtung ver­ schlechtern.

Solche feinen Verschmutzungen enthalten feine Partikel eines lösbaren Elektroden­ materials, das zum Bilden der oberen Anode verwendet wird, welche als das lösbare Elektrodenmaterial erzeugt werden, das sich während eines Plattierens auflöst, und Staub, der in der Plattierungslösung enthalten ist, aus der Luft von außerhalb. Insbesondere beim ersten Ausführungsbeispiel, bei welchem die Arbeitsstück- Behältereinheit 21 in das Plattierungsbad 1 eingefügt und daraus entfernt wird, hat das Plattierungsbad 1 unvermeidbar ein offenes oberes Ende, das zuläßt, daß Staub in der darin enthaltenen Plattierungslösung enthalten ist.

Die Außenumfangsfläche jeder elektrisch leitenden Walze 41 oder die untere Ober­ fläche jedes Arbeitsstücks wird in unterschiedlichen Zuständen plattiert. Aus diesem Grund können dann, wenn eine Anzahl von Arbeitsstücken W auf den elektrisch lei­ tenden Walzen 41 angeordnet wird, die Arbeitsstücke, die durch die Walzen 41 be­ fördert oder hin- und herbewegt werden, entlang der Walzenachse (y-Achse) ver­ setzt werden, um einander zu kontaktieren. Dies veranlaßt, daß ein solcher kontak­ tierter Teil eines jeweiligen Arbeitsstücks mit einer dünneren Plattierungsschicht plat­ tiert wird oder möglicherweise nicht plattiert wird, was in einer verschlechterten Plat­ tierungsqualität resultiert.

Weiterhin neigen Arbeitsstücke, die benachbart zu einem peripheren Rand des durch die elektrisch leitende Walze 41 definierten ein Arbeitsstück tragenden Be­ reichs angeordnet sind, jeweils dazu, an einem Eckteil von ihm, der näher zum peri­ pheren Rand angeordnet ist, mit einer dickeren Plattierungsschicht plattiert zu wer­ den. Insbesondere konzentriert sich ein Plattierungsstrom wahrscheinlich bei einem Eckteil E eines jeden von Arbeitsstücken W, die benachbart zu irgendeinem der un­ teren Längselemente 26A, 26B und der unteren lateralen Elemente 27, 27 (siehe Fig. 5) des unteren Rahmenteils 23 angeordnet sind, wie es in Fig. 20 gezeigt ist, wobei der Eckteil E einem solchen Längselement oder einem solchen lateralen Ele­ ment gegenübersteht. Demgemäß wird der Eckteil E mit einer besonders verdickten Plattierungsschicht plattiert. Auf diese Weise wird die Ausbildung einer Plattierungs­ schicht aufgrund unterschiedlicher Anordnungen von Arbeitsstücken im tragenden Bereich uneinheitlich.

Zusätzliche Strukturen zum Verhindern einer Verschlechterung in bezug auf eine Plattierungsqualität aufgrund von feinen Verschmutzungen, die an einem jeweiligen Arbeitsstück anhaften, um eine verbesserte Plattierungsqualität sicherzustellen, wer­ den nachfolgend anhand des ersten Ausführungsbeispiels beschrieben. Eine solche zusätzliche Struktur, die vorgesehen sein kann, weist ein Netzelement 301 auf, das angeordnet ist, um die untere Seite der oberen Anode 2 abzudecken, wie es in Fig. 15 gezeigt ist, um dadurch zu verhindern, daß seine Partikel des lösbaren Elektrodenmaterials von der oberen Anode 2 auf Arbeitsstücke fallen. Diese Netzelement 301 ist am Gehäuse zum Unterbringen von Elektrodenmaterial der oberen Anode 2 mittels Befestigungen 302 angebracht.

Das Netzelement 301 hat eine Maschengröße, um zuzulassen, daß ein Plattie­ rungsmetallion durchgeht, das aber feine Partikel des Elektrodenmaterials blockiert, die aus einer Auflösung des lösbaren Elektrodenmaterials der oberen Anode 2 resul­ tieren. Das Netzelement 301 kann ein poröses Material aufweisen, wie beispielswei­ se ein Netz, eine gewebte Faser oder eine nicht gewebte Faser, mit einer Maschen­ größe von beispielsweise mehreren Mikrometern oder darunter. Ein solches poröses Material kann aus einem synthetischen Harz mit einer überlegeneren Korrosionsfe­ stigkeit und Wärmebeständigkeit ausgebildet sein, wie beispielsweise aus Fluorpla­ stik, einem flüchtigen korrosionswiderständigen Metallmaterial, wie beispielsweise einem rostfreien Stahl oder einer Nickellegierung, oder einem nicht lösbaren Elektro­ denmaterial, wie beispielsweise Platin oder Titan. In dem Fall, in welchem das porö­ se Material aus Metallmaterial ausgebildet ist, das während eines Plattierens lösbar ist, wie beispielsweise aus rostfreiem Stahl, sind die Befestigungen 302 aus Isolier­ material ausgebildet, wie beispielsweise aus synthetischem Harz.

Obwohl das gezeigte Netzelement 301 unterhalb der oberen Elektrode 2 mittels der Befestigungen 302 angebracht ist, kann das Netzelement am Boden des Gehäuses zum Unterbringen von Elektrodenmaterial der oberen Anode 2 angeordnet sein. Auch in diesem Fall weist das Netzelement poröses Material auf, das aus syntheti­ schem Harz gebildet ist, oder unlösbares Elektrodenmaterial.

Natürlich gibt es keine Notwendigkeit zum Vorsehen des Netzelements 302, wenn das Elektrodenmaterial der oberen Anode 2 unlösbares Material, wie beispielsweise Platin, Titan oder Iridium ist, das sich nicht auflösen wird und somit keine feinen Par­ tikel von ihm erzeugen werden.

In diesem Fall variiert die Plattierungsmetallionenkonzentration der Plattierungslö­ sung beim Plattierungsprozeß. Aus diesem Grund ist es wünschenswert, daß eine chemische Auffüllvorrichtung vorgesehen ist, um ein geeignetes Mittel für eine Ver­ ringerung in bezug auf ein Plattierungsmetallion zu haben. Wie es in Fig. 15 gezeigt ist, enthält eine solche chemische Auffüllvorrichtung 304 einen Konzentrationsdetek­ tor 305 zum Erfassen der Plattierungsmetallionenkonzentration und ein Durchflußsteuerungsventil 306 zum Zuführen einer chemischen Flüssigkeit mit einer hohen Plattierungsmetallionenkonzentration von einem chemischen Tank (nicht gezeigt) zum Plattierungsbad 1. Der Fluß der chemischen Flüssigkeit durch das Durchfluß­ steuerungsventil 306 wird durch eine Ventilsteuerung so geregelt, daß die durch den Konzentrationsdetektor 305 erfaßte Konzentration konstant einen vorbestimmten Wert annimmt.

Eine weitere zusätzliche Struktur, die allein oder in Kombination mit dem Netzele­ ment 301 zum Verbessern der Plattierungsqualität vorgesehen sein kann, weist eine Filtervorrichtung 311 zum Filtern der im Plattierungsbad 1 enthaltenen Plattierungs­ lösung auf, wie es in Fig. 15 gezeigt ist.

Die Filtervorrichtung 311 weist einen Zirkulationskanal 312 auf, der einen Einflußan­ schluß, der in einem Bodenteil des Plattierungsbads definiert ist, und einen Ausfluß­ anschluß, der in einem oberen Teil einer Seitenwand des Plattierungsbads definiert ist, verbindet, um für eine Kommunikationsverbindung dazwischen zu sorgen, eine Pumpe 313, die zum Zirkulationskanal 312 gehört, und ein Filter 315, das im Kanal 312 vorgesehen ist. Der Zirkulationskanal 312 ist mit einem Heizer 314 zum Erhitzen der Plattierungslösung an einer Stelle stromab der Pumpe 313 versehen. Das Filter 315 ist stromab vom Heizer 314 angeordnet.

Das Filter 315 dient zum Entfernen feiner Partikel des Elektrodenmaterials und feiner Verschmutzungen, die in der Plattierungslösung enthalten sind, und hat somit eine Maschengröße von einigen Mikrometern oder darunter, und vorzugsweise von einem Mikrometer oder darunter.

Es wird empfohlen, daß der Ausflußanschluß in Kommunikationsverbindung mit dem Zirkulationskanal 312 über Arbeitsstücken angeordnet ist, die auf den elektrisch lei­ tenden Walzen 41 der Arbeitsstück-Behältereinheit 21 angeordnet sind. Der so an­ geordnete Ausflußanschluß läßt zu, daß die Plattierungslösung, die mittels des Fil­ ters 315 durch Entfernen von Verschmutzungen daraus gereinigt ist, von einer Stelle oberhalb der Arbeitsstücke in das Plattierungsbad 1 fließt, um dadurch einen Teil der Plattierungslösung zu rühren, der oberhalb der Arbeitsstücke vorhanden ist, um da­ durch effektiver zu verhindern, daß feine Verschmutzungen an der oberen Seite ei­ nes jeweiligen Arbeitsstücks anhaften.

Die Ausgabe des Heizers 316 wird in Antwort auf Temperatursignale von einem Lö­ sungstemperatursensor 318 gesteuert, der im Plattierungsbad 1 vorgesehen ist, so daß die Temperatur der Plattierungslösung eine Solltemperatur annimmt, die durch eine Temperatureinstelleinheit (nicht gezeigt) eingestellt ist.

Nachfolgend ist eine weitere zusätzliche Struktur beschrieben, die zum Verhindern einer Verschlechterung in bezug auf eine Plattierungsqualität aufgrund eines wech­ selseitigen Kontakts zwischen Arbeitsstücken vorgesehen sein kann, um dadurch eine verbesserte Plattierungsqualität sicherzustellen.

Eine solche zusätzliche Struktur weist eine Beförderungsführung auf, die am unteren Rahmenteil 23 entfernbar angebracht ist, um zu verhindern, daß durch die elektrisch leitenden Walzen 41 in der x-Achsenrichtung bewegte Arbeitsstücke entlang der Achse einer jeweiligen Walze 41 versetzt werden, um dadurch zu verhindern, daß benachbarte Arbeitsstücke einander kontaktieren. Diese zusätzliche Struktur kann einen wechselseitigen Kontakt zwischen Arbeitsstücken verhindern, und somit einen Plattierungsdefekt aufgrund eines solchen wechselseitigen Kontakts.

Ein Beispiel einer solchen Beförderungsführung ist in den Fig. 16 und 17 dargestellt. Diese Beförderungsführung 321 weist eine Vielzahl von Stützelementen 322 auf, die sich zwischen den unteren Längselementen 26A und 26B des unteren Rahmenteils 23 des Rahmens 25, der die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 bildet, ausdehnen, und eine Vielzahl von Führungsplatten 322, die an der unteren Seite der Stützelemente 322 angebracht sind, wie sie sich in der x-Achsenrichtung zwischen den unteren la­ teralen Elementen 27, 27 erstrecken (siehe Fig. 5). Jedes der Stützelemente 322 hat gegenüberliegende Enden, an denen jeweils ein Positionierelement 324 angebracht ist, das mit der Innenfläche eines jeweiligen der unteren Längselemente 26A, 26B bei einer Stelle benachbart zum oberen Ende davon in Eingriff ist.

Die Führungsplatten 322 haben jeweils eine untere Kante, die niedriger als das obe­ re Ende einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 positioniert ist und mit spitzen Ausbuchtungen an Teilen ausgebildet ist, die die entsprechende der Walzen 41 schneidet. Der Innenumfang jeder spitzen Ausbuchtung und der Außenumfang der entsprechenden Walze 41 definieren dazwischen einen Freiraum, der kleiner als die Dicke eines jeweiligen Arbeitsstücks W ist.

Die Stützelemente 322 und die Positionierelemente 324 sind vorzugsweise aus ei­ nem äußerst festen und korrosionsbeständigen synthetischen Harz hergestellt, wie beispielsweise aus steifem Vinylchloridharz. Die Führungsplatten 323 sind vorzugs­ weise aus synthetischem Harz hergestellt, wie beispielsweise aus Fluorplastik, mit einem niedrigen Reibkoeffizienten sowie den vorangehenden Eigenschaften, die für die Stützelemente 322 erforderlich sind.

Obwohl die gezeigte Führungsplatte 323 eine Vielzahl von Ausbuchtungen zum Vermeiden einer Interferenz mit der entsprechenden Walze 41 hat, ist es möglich, eine Führungsplatte zu verwenden, die nicht mit solchen Ausbuchtungen ausgebildet ist, und die einen unteren Rand hat, der mit einem Freiraum, der kleiner als die Dicke eines jeweiligen Arbeitsstücks W ist, gegenüber dem oberen Ende der entsprechen­ den Walze 41 beabstandet ist.

Ein weiteres Beispiel einer Beförderungsführung ist in den Fig. 18 und 19 dargestellt. Diese Beförderungsführung 321A weist eine Vielzahl von Stützelementen 322 auf, die sich zwischen den unteren Längselementen 26A und 26B des unteren Rahmen­ teils 23 des Rahmens 25 erstrecken bzw. spannen, eine Vielzahl von Montageplat­ ten 326, die an der unteren Seite der Stützelemente 322 angebracht sind, wie sie sich in der x-Achsensrichtung zwischen den unteren lateralen Elementen 27, 27 er­ strecken (siehe Fig. 5), und eine Vielzahl von Führungswalzen 327, die an der unte­ ren Seite der Montageplatten 326 angebracht sind. Jedes der Stützelemente 322 hat gegenüberliegende Enden, an denen jeweils ein Positionierelement 324 zum Errei­ chen einer Positionierung von Arbeitsstücken W entlang der Achse einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 angebracht ist. Gleiche Bezugszeichen, wie sie zum Bestimmen von Teilen der Beförderungsführung 321 verwendet sind, bezeichnen gleiche oder entsprechende Teile der Beförderungsführung 321A.

Die Führungswalzen 327 sind jeweils zwischen benachbarten elektrisch leitenden Walzen 41 angeordnet und weisen jeweils eine Walzenwelle 328 auf, die an der ent­ sprechenden der Montageplatten 326 angebracht ist, wobei sich ihre zentrale Achse von der Platte 326 aus nach unten erstreckt, und einen Walzenkörper 329, der an der Walzenwelle 328 drehbar montiert ist und ein unteres Ende hat, das niedriger als das obere Ende einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 positioniert ist. Die Walzenwelle 328 ist aus korrosionsbeständigem Material hergestellt, wie beispiels­ weise aus rostfreiem Stahl, während der Walzenkörper 329 vorzugsweise aus synthetischem Harz mit einem niedrigen Reibkoeffizienten hergestellt ist, wie beispiels­ weise aus Fluoroplastik.

Diese Beförderungsführung 321A kann verhindern, daß Arbeitsstücke W, die be­ nachbart zueinander entlang der Achse einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 angeordnet sind, einander kontaktieren, wobei jede Führungswalze 327 davon in einen bloßen Punktkontakt mit einem jeweiligen Arbeitsstück W gelangt, wenn dies der Fall ist. Die Beförderungsführung 321A hat einen weiteren Vorteil, daß ein Plat­ tieren an Seitenflächen von Arbeitsstücken W, die zwischen benachbarten Füh­ rungswalzen 327 liegen, nicht behindert wird.

Obwohl die dargestellten Führungswalzen 329, die jeweils den Walzenkörper 329 haben, an den Montageplatten 326 drehbar montiert sind, ist es möglich, anstelle der Führungswalzen 329 Führungswellen, die jeweils frei von einem solchen Walzenkör­ per sind, an den Montageplatten 326 zu montieren. fn diesem Fall ist eine jeweilige Führungswelle vorzugsweise aus synthetischem Harz mit einer überlegeneren Kor­ rosionsfestigkeit und einem niedrigen Reibkoeffizienten ausgebildet, wie beispiels­ weise aus Fluoroplastik.

Das folgende beschreibt eine weitere zusätzliche Struktur, die zum Verhindern der Ausbildung einer nicht einheitlichen Plattierungsschicht vorgesehen sein kann, die der Stelle jedes Arbeitsstücks auf den elektrisch leitenden Walzen zuzuschreiben ist, anhand des ersten Ausführungsbeispiels. Wie es in Fig. 20 gezeigt ist, weist eine solche zusätzliche Struktur Ersatz-Arbeitsstücke 331 auf, die mit der Kathodenseite der Plattierungs-Gleichstrom-Versorgungsquelle elektrisch verbunden sind und an Innenseiten der unteren Längselemente 26A, 26B und der unteren lateralen Elemen­ te 27, 27 des unteren Rahmenteils 23 angeordnet sind.

Das Vorsehen der Ersatz-Arbeitsstücke 331 macht es möglich, einen Plattie­ rungsstrom zu verursachen, der sich sonst bei dem Eckteil E eines Arbeitsstücks W konzentrieren würde, das benachbart zu einem Umfangsrand des ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeordnet ist, der durch die elektrisch leitenden Walzen 41 de­ finiert ist, um teilweise in Richtung zu den Ersatz-Arbeitsstücken 331 zu entweichen, um dadurch zu verhindern, daß sich ein Plattierungsstrom am Eckteil E konzentriert. Demgemäß können die Arbeitsstücke W ungeachtet der Anordnung eines jeweiligen Arbeitsstücks auf den elektrisch leitenden Walzen 41 einheitlich plattiert werden.

Maßnahmen zum Verhindern der Ausbildung einer nicht einheitlichen Plattierungs­ schicht können genauso gut wie das Vorsehen der Ersatz-Arbeitsstücke 331 eine Anordnung enthalten, bei welcher die obere Anode 2 gekrümmt ist, um von den elektrisch leitenden Walzen 41 bei einer peripheren Stelle mehr beabstandet zu sein als bei einer zentralen Stelle im ein Arbeitsstück tragenden Bereich. Alternativ dazu kann das Gehäuse zum Unterbringen von Elektrodenmaterial der oberen Anode 2 eine geringere Menge an Elektrodenmaterial in einem Teil unterbringen, der näher zu einem jeweiligen peripheren Rand des ein Arbeitsstück tragenden Bereichs ist, als in einem Teil, der näher zum Zentrum des ein Arbeitsstück tragenden Bereichs ist. Von diesen Maßnahmen ist das Vorsehen der Ersatz-Arbeitsstücke zu empfeh­ len, weil es bequemer als andere Maßnahmen ist und es auf einfache Weise den Plattierungszustand optimieren kann, indem die Ersatz-Arbeitsstücke durch geeigne­ te alternative Ersatz-Arbeitsstücke ausgetauscht werden, die unterschiedlich von den ersteren in bezug auf die Größe und die Form sind.

Die Beförderungsführung (321A in der Zeichnung), die in der in Fig. 20 gezeigten Struktur vorgesehen ist, ist nicht notwendigerweise erforderlich. In dem Fall, in wel­ chem eine Beförderungsführung vorgesehen ist, können die Führungswalzen 327 oder die Führungsplatten 322 derart angeordnet sein, daß sie zwischen einer Reihe von Ersatz-Arbeitsstücken 331 an einem jeweiligen der unteren Längselemente 26A, 26B und Arbeitsstücken W, die benachbart zu einem jeweiligen der unteren Längse­ lemente 26A, 26B angeordnet sind, angeordnet sind.

Die folgende Beschreibung betrifft eine zusätzliche Struktur, die vorgesehen sein kann, um einen wechselseitigen Kontakt zwischen Arbeitsstücken zu verhindern, die benachbart zueinander in der Beförderungsrichtung angeordnet sind, sowie entlang der Achse einer jeweiligen Walze 41, um dadurch eine Verschlechterung in bezug auf eine Plattierungsqualität aufgrund eines solchen wechselseitigen Kontakts von benachbarten Arbeitsstücken zu verhindern. Diese Struktur ist insbesondere dort vorteilhaft, wo ein jeweiliges Arbeitsstück flach ist, und klein oder asymmetrisch in bezug auf die Beförderungsrichtung.

Fig. 21 zeigt einen Beförderungsbehälter 341 als Beispiel für eine solche zusätzliche Struktur, welcher einen flachen Boden hat und welcher auf den elektrisch leitenden Walzen 41 getragen und durch Drehen der Walzen 41 bewegt werden kann. Der Beförderungsbehälter 341 weist einen rechteckförmigen Außenrahmen 342 und ein Gitter auf, das innerhalb des Außenrahmens 342 ausgebildet ist, wobei das Gitter longitudinale Querstücke 343 aufweist, die sich in der Beförderungsrichtung erstrec­ ken, und laterale Querstücke 344, die die longitudinalen Querstücke 343 in senk­ rechter Richtung schneiden. Die longitudinalen und die lateralen Querstücke 343 und 344 dienen als Abteilungen, die eine Vielzahl von Räumen 345 zum Unterbringen von Arbeitsstücken definieren, von welchen jeder in einer Draufsicht rechteckförmig ist und sich durch den Beförderungsbehälter 341 in seiner Dickenrichtung erstreckt. Die Räume 345 zum Unterbringen von Arbeitsstücken sind jeweils angepaßt, um ein jeweiliges Arbeitsstück W einzeln unterzubringen, und sind jeweils derart bemaßt, daß sie einen geeigneten Abstand zwischen dem Außenumfang des darin unterge­ brachten Arbeitsstücks W und den Innenflächen der longitudinalen und der lateralen Querstücke 343 und 344 haben, die einen jeweiligen Raum 345 zum Unterbringen von Arbeitsstücken definieren. Obwohl ein jeweiliger der gezeigten Räume 345 zum Unterbringen von Arbeitsstücken rechteckförmig ist, kann er in irgendeiner geeigne­ ten Form konfiguriert sein, wie beispielsweise in einer kreisförmigen Form.

Die laterale Breite des Beförderungsbehälters 341 in der Richtung, in welcher sich die lateralen Querstücke 344 erstrecken, stimmt im wesentlichen mit der inneren Breite des unteren Rahmenteils 23 in der y-Achsenrichtung überein, während die longitudinale Breite des Beförderungsbehälters 341 in der Richtung, in welcher sich die longitudinalen Querstücke 343 erstrecken, derart ist, um zuzulassen, daß sich der Behälter 341 innerhalb des unteren Rahmenteils 23 in der Beförderungsrichtung hin- und herbewegt. Die Dicke des Beförderungsbehälters 341 ist nicht kleiner als etwa einige Millimeter und nicht größer als etwa das Zweifache der Dicke eines je­ weiligen Arbeitsstücks W. Vorzugsweise ist die Dicke des Beförderungsbehälters 341 im wesentlichen gleich derjenigen eines jeweiligen Arbeitsstücks W. Der Beför­ derungsbehälter 341 ist normalerweise aus synthetischem Harz mit zufriedenstellen­ der Korrosionsfestigkeit und Wärmebeständigkeit hergestellt, wie beispielsweise aus steifem Vinylchlorid, kann aber aus einem Metallmaterial hergestellt sein, wie bei­ spielsweise aus Messing oder aus rostfreiem Stahl. Im letzteren Fall sind die Boden­ fläche des Beförderungsbehälters 341 und die Innenflächen der longitudinalen und der lateralen Querstücke 343 und 344 mit einem Isoliermaterial überzogen, wie bei­ spielsweise mit synthetischem Harz.

Beim Betrieb wird der Beförderungsbehälter 341 auf den elektrisch leitenden Walzen 41 angeordnet, und dann werden Arbeitsstücke W auf den elektrisch leitenden Wal­ zen 41 angeordnet, so daß sie einzeln in jeweiligen Räumen 345 zum Unterbringen von Arbeitsstücken untergebracht werden. Darauffolgend werden die elektrisch lei­ tenden Walzen 41 gedreht, um den Beförderungsbehälter 341 zusammen mit den darin untergebrachten Arbeitsstücken W zu bewegen. Selbst wenn es einen Unter­ schied in bezug auf eine Bewegungsgeschwindigkeit zwischen den Arbeitsstücken W gibt, können die longitudinalen Querstücke 343 und die lateralen Querstücke 344 gesichert verhindern, daß sich die Arbeitsstücke W einander kontaktieren, während die Bewegung oder die Beförderung der Arbeitsstücke W stabilisiert wird. Somit macht es das Vorsehen des Beförderungsbehälters 341 möglich, eine Verschlechte­ rung in bezug auf eine Plattierungsqualität zu verhindern, und es stabilisiert die Plat­ tierungsqualität.

Wie das Plattierungssystem gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel kann das Plat­ tierungssystem gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel mit einer zusätzlichen Struktur zum Verbessern der Plattierungsqualität versehen sein, zum Beispiel mit dem Netzelement 301, das an der oberen Anode 202 angebracht ist, oder der zu dem Plattierungsbad 201 gehörenden Filtervorrichtung 311, wie es in Fig. 15 gezeigt ist. Ebenso kann das zweite Ausführungsbeispiel mit der Beförderungsführung 321 oder 321A versehen sein, die in den Fig. 16 bis 19 gezeigt ist. Weiterhin können die in Fig. 20 gezeigten Ersatz-Arbeitsstücke 331 beim zweiten Ausführungsbeispiel vor­ gesehen sein. In diesem Fall sind die Ersatz-Arbeitsstücke 331 nur bei gegenüber­ liegenden lateralen Rändern des ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeordnet, der durch die elektrisch leitenden Walzen 41 definiert ist, nämlich bei den Längsele­ menten (äquivalent den Elementen 26A, 26B in Fig. 5), weil es die Beschränkung gibt, daß es erforderlich ist, daß die lateralen Elemente (äquivalent den Elementen 27 in Fig. 5) so anzuordnen, daß ihre oberen Enden niedriger als die ein Arbeitsstück tragende Ebene positioniert sind, die durch die elektrisch leitenden Walzen 41 defi­ niert ist.

Weiterhin kann das zweite Ausführungsbeispiel den in Fig. 21 gezeigten Beförde­ rungsbehälter 341 verwenden. In diesem Fall verläuft die Plattierungsoperation wie folgt: der Beförderungsbehälter 341 wird auf den Walzen 243 zum Hineintragen an­ geordnet; Arbeitsstücke W werden auf den Walzen 243 zum Hineintragen angeord­ net, um einzeln in jeweiligen Räumen 245 zum Unterbringen von Arbeitsstücken des Beförderungsbehälters 341 untergebracht zu werden; der Beförderungsbehälter 341 zusammen mit den darin untergebrachten Arbeitsstücken W wird durch die Auslauf- Verhinderungsvorrichtung 221 auf der Seite zum Hineintragen und den Einlaß 212 in das Plattierungsbad 201 hineingetragen; und nach einem Plattieren werden sie in Richtung durch den Auslaß 214 und die Auslauf-Verhinderungsvorrichtung 222 zur stromabwärtigen Seite befördert.

In dem Fall, in welchem das Plattierungsbad nicht mit dem Einlaß 212 oder dem Auslaß 214 versehen ist, ist ein solcher Aufbau möglich, daß ein Roboter zum Hin­ eintragen benachbart zur Seitenwand zum Hineintragen des Plattierungsbads vorge­ sehen ist, um den Beförderungsbehälter 341 und Arbeitsstücke loslösbar zu halten, die positioniert sind, um in jeweiligen Räumen 345 zum Unterbringen von Arbeits­ stücken des Beförderungsbehälters 341 einzeln untergebracht zu werden, und um sie auf den elektrisch leitenden Walzen 41 anzuordnen, während ein Roboter zum Hinaustragen benachbart zur Seitenwand zum Hinaustragen des Plattierungsbads vorgesehen ist, um den Beförderungsbehälter 341 und die Arbeitsstücke loslösbar zu halten, die auf den elektrisch leitenden Walzen 41 angeordnet sind, und um sie aus dem Plattierungsbad hinauszutragen. In diesem Fall ist die obere Elektrode 202, wenn sie vorgesehen ist, so angeordnet, daß sie den Beförderungsbehälter 341 und die Arbeitsstücke, die in das Plattierungsbad hinein und aus diesem hinaus getragen werden, nicht stören.

Gemäß der vorliegenden Erfindung werden Arbeitsstücke einem Plattieren unterzo­ gen, während sie auf den elektrisch leitenden Walzen befördert werden oder hin- und herbewegt werden, wenn sich die Walzen vorwärts und rückwärts drehen. Somit können die Arbeitsstücke mit einer höheren Plattierungseffizienz und einer höheren Produktivität plattiert werden, und ohne irgendeine Beschädigung aufgrund einer wechselseitigen Störung zwischen benachbarten Arbeitsstücken. Mittels dieser Vor­ teile ist die vorliegende Erfindung vorteilhaft auf die Plattierung von relativ klein be­ maßten plattenförmigen oder flachen elektronischen Teilen, mechanischen Teilen oder ähnlichen Artikeln anwendbar.

Während nur bestimmte gegenwärtig bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorlie­ genden Erfindung detailliert beschrieben worden sind, können, wie es Fachleuten auf dem Gebiet offensichtlich sein wird, bestimmte Änderungen und Modifikationen in bezug auf ein Ausführungsbeispiel durchgeführt werden, ohne vom Schutzumfang der Erfindung abzuweichen, wie er durch die folgenden Ansprüche definiert ist.

Claims (19)

1. Plattierungssystem, das folgendes aufweist:
ein Plattierungsbad (1; 201), das mit einer Anode (2, 3; 202, 203) versehen ist;
eine Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen (41), die eine Kathode bilden und die im Plattierungsbad (1; 201) angeordnet sind, zum Befördern von Ar­ beitsstücken (W) als Subjekte zur Plattierung; und
einen Plattierungsstrom-Zuführabschnitt (45) zum Zuführen von Plattie­ rungsstrom zur Anode (2, 3; 202, 203) und zu den elektrisch leitenden Walzen (41), um zu veranlassen, daß die Arbeitsstücke (W) plattiert werden.

2. Plattierungssystem nach Anspruch 1, wobei das Plattierungsbad (201) eine Seitenwand (211) zum Hineintragen hat, die einen Einlaß (212) definiert, durch welchen die Arbeitsstücke (W) auf die elektrisch leitenden Walzen (41) im Plat­ tierungsbad (201) getragen werden, und eine Seitenwand (213) zum Hin­ austragen, die einen Auslaß (214) definiert, durch welchen die Arbeitsstücke (W), die plattiert worden sind, aus dem Bad hinausgetragen werden, wobei eine jeweilige der Seitenwand (211) zum Hineintragen und der Seitenwand (213) zum Hinaustragen mit einer Auslauf-Verhinderungseinrichtung (221, 222) ver­ sehen ist, um zu verhindern, daß eine Plattierungslösung im Plattierungsbad (201) aus dem Bad ausläuft, während zugelassen wird, daß die Arbeitsstücke (W) durch den Einlaß (212) oder den Auslaß (214) laufen.

3. Plattierungssystem nach Anspruch 1, das weiterhin eine Walzenantriebseinrich­ tung (42, 55, 56, 59, 61, 47) aufweist, um zu veranlassen, daß sich die elek­ trisch leitenden Walzen (41) in Vorwärtsrichtung und in Rückwärtsrichtung dre­ hen.

4. Plattierungssystem nach Anspruch 1, wobei die Anode (2, 3) eine untere Anode (3) aufweist, die unterhalb der elektrisch leitenden Walzen (41) angeordnet ist, und eine obere Anode (2), die oberhalb der elektrisch leitenden Walzen (41) angeordnet ist.

5. Plattierungssystem nach Anspruch 5, das weiterhin ein Ersatz-Arbeitsstück (331) aufweist, das benachbart zu einem jeweiligen von gegenüberliegenden lateralen Rändern eines ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeordnet ist, der durch die elektrisch leitenden Walzen (41) definiert ist, wobei das Ersatz- Arbeitsstück (331) mit einer Kathodenseite des Plattierungsstrom- Zuführabschnitts (45) elektrisch verbunden ist.

6. Plattierungssystem, das folgendes aufweist:
ein Plattierungsbad (201), das mit einer Anode (202, 203) versehen ist;
eine Arbeitsstück-Behältereinheit (21) mit einer Vielzahl von elektrisch lei­ tenden Walzen (41) zum Tragen von Arbeitsstücken (W) als Subjekte zur Plat­ tierung darauf, wobei die elektrisch leitenden Walzen (41) eine Kathode bilden, und einer Walzen-Antriebseinrichtung (42) zum Veranlassen, daß sich die elektrisch leitenden Walzen (41) in Vorwärtsrichtung und in Rückwärtsrichtung drehen;
eine Beförderungseinrichtung (243) zum Befördern der Arbeitsstück- Behältereinheit (21) und zum Einfügen der Arbeitsstück-Behältereinheit (21) in das Plattierungsbad (201) und zum Entfernen derselben daraus; und
einen Plattierungsstrom-Zuführabschnitt (270) zum Zuführen von Plattie­ rungsstrom zur Anode (202, 203) und zu den elektrisch leitenden Walzen (41), um zu veranlassen, daß die Arbeitsstücke (W) plattiert werden.

7. Plattierungssystem nach Anspruch 6, wobei die Anode (202, 203) eine untere Anode (203) aufweist, die unterhalb der elektrisch leitenden Walzen (41) ange­ ordnet ist, und eine obere Anode (202), die oberhalb der elektrisch leitenden Walzen (41) angeordnet ist, und wobei weiterhin eine Verschiebungseinrich­ tung (6) vorgesehen ist, um die obere Anode zu einer Stelle zu verschieben, bei welcher die obere Anode (202) die Arbeitsstück-Behältereinheit (21) nicht stört, wenn die Arbeitsstück-Behältereinheit (21) in das Plattierungsbad (201) einge­ fügt oder daraus entfernt wird.

8. Plattierungssystem nach Anspruch 7, das weiterhin ein Ersatz-Arbeitsstück (331) aufweist, das benachbart zu einem peripheren Rand eines ein Arbeits­ stück tragenden Bereichs angeordnet ist, der durch die elektrisch leitenden Walzen (41) definiert ist, wobei das Ersatz-Arbeitsstück (331) mit einer Katho­ denseite des Plattierungsstrom-Zuführabschnitts (270) elektrisch verbunden ist.

9. Plattierungssystem nach Anspruch 4 oder 7, wobei der Plattierungsstrom- Zuführabschnitt (270) einen oberen Anodenstrom-Steuerabschnitt (254) zum Steuern eines zur oberen Anode (202) zuzuführenden Plattierungsstroms und einen unteren Anodenstrom-Steuerabschnitt (255) zum Steuern eines zur unte­ ren Anode (203) zuzuführenden Plattierungsstroms enthält.

10. Plattierungssystem nach Anspruch 4 oder 7, wobei die elektrisch leitenden Walzen (41) jeweils mit einer Walzenabdeckung (51) versehen sind, die eine untere Seite davon gegen die untere Anode (3; 203) abschirmt.

11. Plattierungssystem nach Anspruch 1 oder 6, wobei die elektrisch leitenden Walzen (41) jeweils einen Antriebswellenteil (42) haben, der mit einem Antrieb­ selement (55) versehen ist, und einen ein Arbeitsstück tragenden Walzenteil (48), der an dem Antriebswellenteil (42) entfernbar angebracht ist, zum Tragen der Arbeitsstücke (W) darauf.

12. Plattierungssystem nach Anspruch 4 oder 7, wobei die obere Anode (2, 202) ein lösbares Elektrodenmaterial aufweist, welches mit dem Fortschreiten einer Plattierung lösbar ist; und ein Netzelement (301) unterhalb der oberen Anode (2; 202) vorgesehen ist, um zu verhindern, daß feine Partikel des lösbaren Elektrodenmaterials, die aus einer Auflösung des lösbaren Elektrodenmaterials während eines Plattierens resultieren, auf die Arbeitsstücke (W) fallen.

13. Plattierungssystem nach Anspruch 4 oder 7, wobei die obere Anode (2; 202) ein unlösbares Elektrodenmaterial aufweist.

14. Plattierungssystem nach Anspruch 1 oder 6, wobei das Plattierungsbad (1; 201) mit einer Filtervorrichtung (311) zum Filtern einer im Plattierungsbad (1,; 201) enthaltenen Plattierungslösung versehen ist, um darin enthaltene feine Verschmutzungen zu entfernen.

15. Plattierungssystem nach Anspruch 1 oder 6, das weiterhin eine Beförderungs­ führung (321) aufweist, um zu verhindern, daß auf den elektrisch leitenden Walzen (41) bei Stellen benachbart zueinander entlang einer Achse einer je­ weiligen der elektrisch leitenden Walzen (41) angeordnete Arbeitsstücke (W) einander kontaktieren.

16. Plattierungssystem nach Anspruch 1 oder 6, das weiterhin einen Beförde­ rungsbehälter (341) aufweist, der auf den elektrisch leitenden Walzen (41) an­ zuordnen und zu bewegen ist, wobei der Beförderungsbehälter (341) eine Viel­ zahl von Räumen (345) zum Unterbringen von Arbeitsstücken (W) definiert, die sich jeweils durch den Behälter in seiner Dickenrichtung erstrecken, um jeweili­ ge Arbeitsstücke (W) einzeln unterzubringen.

17. Plattierungsverfahren, das die folgenden Schritte aufweist:
Vorsehen eines Plattierungsbads (1) mit einer Anode (2, 3) und einer Viel­ zahl von elektrisch leitenden Walzen (41) zum Tragen von Arbeitsstücken (W) als Subjekte zur Plattierung darauf, wobei die elektrisch leitenden Walzen (41) eine Kathode bilden;
Hineintragen der Arbeitsstücke (W) in das Plattierungsbad (1);
Anordnen der Arbeitsstücke (W) auf den elektrisch leitenden Walzen (41) und Unterziehen der Arbeitsstücke (W) einer Plattierung, während dieselben auf den elektrisch leitenden Walzen (41) durch Drehen der elektrisch leitenden Walzen bewegt werden; und
Hinaustragen der so plattierten Arbeitsstücke (W) aus dem Plattierungsbad (1).

18. Plattierungsverfahren nach Anspruch 17, wobei die Arbeitsstücke (W) einem Plattieren unterzogen werden, während sie auf den elektrisch leitenden Walzen (41) durch Drehen der elektrisch leitenden Walzen (41) in Vorwärtsrichtung und Rückwärtsrichtung hin- und herbewegt werden.

19. Plattierungsverfahren, das die folgenden Schritte aufweist:
Vorsehen eines Plattierungsbads (201) mit einer Anode (202, 203) und ei­ ner Arbeitsstück-Behältereinheit (21) mit einer Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen (41), die eine Kathode bilden und die Arbeitsstücke (41) als Subjekte zur Plattierung darauf tragen;
Einführen der Arbeitsstück-Behältereinheit (21) in das Plattierungsbad (201);
Unterziehen der Arbeitsstücke (W) einer Plattierung, während dieselben auf den elektrisch leitenden Walzen (41) durch Drehen der elektrisch leitenden Walzen (41) in Vorwärtsrichtung und Rückwärtsrichtung hin- und herbewegt werden; und
Hinaustragen der Arbeitsstück-Behältereinheit (21), die die so plattierten Arbeitsstücke (W) enthält, aus dem Plattierungsbad (201).