DE10063624A1 - Electroplating system has anodes in the plating bath together with electrically conductive rollers as cathodes to move the workpieces forwards or backwards through the bath - Google Patents

Electroplating system has anodes in the plating bath together with electrically conductive rollers as cathodes to move the workpieces forwards or backwards through the bath

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DE10063624A1
DE10063624A1 DE2000163624 DE10063624A DE10063624A1 DE 10063624 A1 DE10063624 A1 DE 10063624A1 DE 2000163624 DE2000163624 DE 2000163624 DE 10063624 A DE10063624 A DE 10063624A DE 10063624 A1 DE10063624 A1 DE 10063624A1
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plating
electrically conductive
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rollers
workpieces
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Sakuji Hase
Tetsuji Hayakawa
Masumi Kumashiro
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    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/16Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
    • C25D17/28Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk with means for moving the objects individually through the apparatus during treatment

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Abstract

Electroplating system has a bath with an anode and a number of electrically conductive rollers to form the cathode within the bath, to move the workpieces through the bath for plating. The current supply carries the electrical current to the anodes and the rollers. The rollers can move the workpieces forwards or backwards through the plating bath.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft Systeme und Verfahren zum effizienten Plattieren eines Subjekts zum Plattieren (das hierin nachfolgend "Arbeitsstück(e)" genannt wird).The present invention relates to systems and methods for efficient plating of a subject for plating (hereinafter called "work (s)" becomes).

Ein herkömmlicher Prozeß zum Plattieren eines massiven leitenden Arbeitsstücks, wie beispielsweise eines plattenförmigen Metallstücks oder Magnetstücks, wird wie folgt durchgeführt: eine Vielzahl von solchen Arbeitsstücken wird in einer Trommel angeordnet, die eine polygonale, beispielsweise eine hexagonale, Konfiguration im Querschnitt hat und eine Vielzahl von Kommunikationsanschlüssen für eine Plattie­ rungslösung definiert; die Trommel wird dann in die in einem Plattierungsbad enthal­ tene Plattierungslösung eingetaucht; und ein Plattierungsstrom wird an eine im Plat­ tierungsbad angeordnete Anode und eine in der Trommel angeordneten Kathode angelegt, während die Trommel gedreht wird. Normalerweise werden mit der Katho­ de elektrisch verbundene Medien (Eisenkugeln) in die Trommel eingeführt, so daß der Plattierungsstrom einheitlich durch die Vielzahl von Arbeitsstücken laufen kann.A conventional process for plating a solid conductive work piece such as a plate-shaped metal piece or magnetic piece, is like follows: a large number of such workpieces is carried out in a drum arranged which has a polygonal, for example a hexagonal, configuration in the Cross section and a variety of communication connections for a platter solution defined; the drum is then contained in a plating bath immersed plating solution; and a plating stream is applied to one in the plat anode and a cathode arranged in the drum while the drum is rotating. Usually with the Katho de electrically connected media (iron balls) inserted into the drum, so that the plating stream can run uniformly through the plurality of workpieces.

Bei einem solchen herkömmlichen Plattierungsprozeß überlagern sich jedoch in der Trommel untergebrachte Arbeitsstücke einander, was zu einem Problem einer sehr niedrigen Plattierungseffizienz führt. In dem Fall, in welchem die Medien verwendet werden, werden die in die Trommel eingeführten Medien unvermeidbar plattiert, was in einer weiter erniedrigten Plattierungseffizienz resultiert. Zusätzlich veranlaßt eine Drehung der Trommel, daß die Arbeitsstücke miteinander kollidieren, was in einer Beschädigung eines spitzen bzw. eckigen Teils eines jeweiligen Arbeitsstücks resul­ tiert. In such a conventional plating process, however, overlap in the Drum housed work pieces, which becomes a problem of a very low plating efficiency. In the case where the media is used , the media inserted into the drum is inevitably plated, what results in a further reduced plating efficiency. In addition, a Rotation of the drum so that the work pieces collide with each other, what in one Damage to a pointed or angular part of a work piece animals.  

Die vorliegende Erfindung ist angesichts solcher Probleme gemacht, und demgemäß ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Plattierungssystem und ein Plat­ tierungsverfahren zur Verfügung zu stellen, die ein Plattieren mit einer höheren Plat­ tierungseffizienz erreichen können, während sie eine Beschädigung einzelner Ar­ beitsstücke verhindern.The present invention is made in view of such problems, and accordingly It is an object of the present invention to provide a plating system and a plat To provide a plating process that a plating with a higher plat tion efficiency while damaging individual ar prevent pieces of work.

Gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Plattierungssystem geschaffen, das folgendes aufweist: ein mit einer Anode versehenes Plattierungs­ bad; eine Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen, die eine Kathode bilden und im Plattierungsbad angeordnet sind, zum Weiterleiten von Arbeitsstücken als Subjekte zur Plattierung; und einen Plattierungsstrom-Zuführabschnitt zum Zuführen von Plat­ tierungsstrom zur Anode und zu den elektrisch leitenden Walzen, um zu veranlas­ sen, daß die Arbeitsstücke plattiert werden.According to a first aspect of the present invention is a plating system created which comprises: an anode plated plating bath; a variety of electrically conductive rollers that form a cathode and in Plating bath are arranged for routing workpieces as subjects for plating; and a plating stream supply section for supplying plat tation current to the anode and the electrically conductive rollers to cause sen that the work pieces are clad.

Das Plattierungssystem gemäß dem ersten Aspekt der Erfindung kann Arbeitsstücke plattieren, die getrennt voneinander auf den elektrisch leitenden Walzen angeordnet sind, während sie dieselben befördern bzw. weiterleiten, und demgemäß können die Arbeitsstücke ohne irgendeine Störung oder Kollision miteinander, und somit ohne irgendeine Beschädigung an einem jeweiligen Arbeitsstück, effizient plattiert werden.The plating system according to the first aspect of the invention can work pieces plating arranged separately on the electrically conductive rollers are while they convey or forward them, and accordingly Work pieces without any interference or collision with each other, and thus without any damage to a particular work piece can be plated efficiently.

Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel des obigen Plattierungssystems hat das Plattierungsbad eine Seitenwand zum Hineintragen, die einen Einlaß definiert, durch welchen die Arbeitsstücke auf die elektrisch leitenden Walzen im Plattierungsbad getragen werden, und eine Seitenwand zum Hinaustragen, die einen Auslaß defi­ niert, durch welchen die Arbeitsstücke, die plattiert worden sind, aus dem Bad hin­ ausgetragen werden, wobei jede der Seitenwand zum Hineintragen und der Seiten­ wand zum Hinaustragen mit einer Auslauf-Verhinderungseinrichtung versehen ist, um zu verhindern, daß eine Plattierungslösung im Plattierungsbad aus dem Bad fließt, während sie zuläßt, daß die Arbeitsstücke durch den Einlaß oder den Auslaß laufen.In a preferred embodiment of the above plating system Plating bath through a sidewall for entry defining an inlet which the work pieces on the electrically conductive rollers in the plating bath be carried, and a side wall to carry out, which defi an outlet through which the workpieces that have been clad come out of the bathroom are carried out with each of the side wall to be carried in and the sides wall is provided with a leakage prevention device for carrying out, to prevent a plating solution in the plating bath from leaving the bath flows while allowing the workpieces through the inlet or outlet to run.

Das Vorsehen des Einlasses und des Auslasses, die jeweils in der Seitenwand zum Hineintragen und der Seitenwand zum Hinaustragen definiert sind, des Plattierungs­ bads läßt zu, daß Arbeitsstücke durch den Einlaß in das Plattierungsbad hineinge­ tragen werden, und daß die Arbeitsstücke, die plattiert worden sind, durch den Aus­ laß aus dem Bad hinausgetragen werden. Dieses Merkmal ermöglicht, daß die Arbeitsstücke ruhig in das Plattierungsbad hineingetragen und aus dem Plattierungs­ bad hinausgetragen werden, wodurch die Produktivität verbessert wird. Zusätzlich ist es deshalb, weil die Auslauf-Verhinderungseinrichtung davon abhält oder verhindert, daß eine große Menge der Plattierungslösung durch den Einlaß oder den Auslaß ausläuft, wenn die Arbeitsstücke in das Plattierungsbad hinein- oder aus dem Plattie­ rungsbad hinausgetragen werden, möglich, die Plattierungslösung im Plattierungs­ bad effektiv zu nutzen, während ein Plattierungsfehler aufgrund eines solchen Aus­ laufens der Plattierungslösung vermieden wird.The provision of the inlet and the outlet, each in the side wall to the Enter and the side wall are defined to be carried out, the plating bads allows workpieces to enter the plating bath through the inlet and that the workpieces that have been clad by the end let be carried out of the bath. This feature allows the work pieces  carried calmly into and out of the plating bath be carried out, which improves productivity. In addition is it is because the leak preventing device prevents or prevents it, that a large amount of the plating solution through the inlet or the outlet leaks when the workpieces enter or leave the plating bath can be carried out, the plating solution in the plating bad to use effectively during a plating failure due to such an out is avoided while running the plating solution.

Ein weiteres bevorzugtes Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem ersten Aspekt der Erfindung weist weiterhin folgendes auf: eine Walzen- Antriebseinrichtung zum veranlassen, daß sich die elektrisch leitenden Walzen vor­ wärts und rückwärts drehen.Another preferred embodiment of the plating system according to the The first aspect of the invention also has the following: Drive device for causing the electrically conductive rollers in front turn backwards and forwards.

Das Vorsehen der Walzen-Antriebseinrichtung ermöglicht, daß sich die elektrisch leitenden Walzen vorwärts und rückwärts drehen. Eine Vorwärts- und Rückwärtsdre­ hung der elektrisch leitenden Walzen läßt zu, daß sich ein Bereich, in welchem Ar­ beitsstücke durch die elektrisch leitenden Walzen gegen die Anode abgeschirmt werden, für eine erwünschte Zeitperiode hin- und herbewegt, wodurch jedes Ar­ beitsstück mit einer Plattierungsschicht mit einer erwünschten Dicke einheitlich plat­ tiert werden kann. Weiterhin ist es deshalb, weil ein Plattieren an sich hin- und her­ bewegenden Arbeitsstücken erreicht werden kann, möglich, das Plattierungsbad kompakt auszubilden.The provision of the roller drive means allows the electrical turn the leading rollers back and forth. A forward and backward turn hung of the electrically conductive rollers allows an area in which Ar shielded by the electrically conductive rollers against the anode are reciprocated for a desired period of time, whereby each ar beitsstück with a plating layer with a desired thickness uniformly plat can be tiert. Furthermore, it is because plating back and forth moving workpieces can be reached, possible the plating bath to be compact.

Bei einem weiteren Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem ersten Aspekt der Erfindung weist die Anode eine untere Anode auf, die unter den elek­ trisch leitenden Walzen angeordnet ist, und eine obere Anode, die über den elek­ trisch leitenden Walzen angeordnet ist.In another embodiment of the plating system according to the first Aspect of the invention, the anode has a lower anode, which is among the elec trisch conductive rollers is arranged, and an upper anode, which over the elek trically conductive rollers is arranged.

Das Vorsehen der oberen und der unteren Anode läßt zu, daß die auf den elektrisch leitenden Walzen im Plattierungsbad angeordneten Arbeitsstücke von oben und von unten plattiert werden, wodurch es ermöglicht wird, eine Plattierungsschicht auf der oberen und der unteren Seite jedes Arbeitsstücks schnell auszubilden. Dies ist bei­ spielsweise besonders vorteilhaft, wo jedes Arbeitsstück flach oder plattenförmig ist. The provision of the upper and lower anode allows them to be electrically connected work rolls arranged in the plating bath from above and from be plated at the bottom, making it possible to have a plating layer on the bottom quickly form the upper and lower sides of each work piece. This is at particularly advantageous, for example, where each work piece is flat or plate-shaped.  

Ein weiteres Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem ersten Aspekt der Erfindung weist weiterhin ein Dummy- bzw. Blind- bzw. Schein- bzw. Er­ satz-Arbeitsstück auf, das benachbart zu jedem von gegenüberliegenden lateralen Rändern eines ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeordnet ist, der durch die elektrisch leitenden Walzen definiert ist, wobei das Ersatz-Arbeitsstück mit einer Kathodenseite des Plattierungsstrom-Zuführabschnitts elektrisch verbunden ist.Another embodiment of the plating system according to the first Aspect of the invention also has a dummy or dummy or Er set work piece that is adjacent to each of opposite lateral ones Edges of a work-carrying area is arranged through the electrically conductive rollers is defined, the replacement work piece with a Cathode side of the plating current supply section is electrically connected.

Das Vorsehen des Ersatz-Arbeitsstücks ermöglicht es, zu verhindern, daß sich ein Plattierungsstrom an einem spitzen bzw. eckigen Teil eines Arbeitsstücks konzen­ triert, das benachbart zu einem lateralen Rand bzw. einer lateralen Kante des ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeordnet ist, wodurch ein lokales Verdicken der resultierenden Plattierungsschicht vermieden wird, was sonst bei einem solchen spitzen Teil eines als solches angeordneten Arbeitsstücks wahrscheinlich wäre. Demgemäß kann die Ausbildung einer nicht einheitlichen Plattierungsschicht, was der Anordnung eines jeweiligen Arbeitsstücks in dem ein Arbeitsstück tragenden Be­ reich zuzuschreiben ist, verhindert werden.The provision of the replacement work piece makes it possible to prevent one Concentrate the plating current on a pointed or angular part of a work piece triert, which is adjacent to a lateral edge or a lateral edge of the Workpiece-carrying area is arranged, causing local thickening of the resulting plating layer is avoided, which is otherwise the case pointed part of a work piece arranged as such would be likely. Accordingly, the formation of a non-uniform plating layer can be what the arrangement of a respective work piece in the Be carrying a work piece is richly attributable to be prevented.

Gemäß einem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Plattierungssystem geschaffen, das folgendes aufweist: ein mit einer Anode versehenes Plattierungs­ bad; eine Arbeitsstück-Behältereinheit mit einer Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen zum Tragen von Arbeitsstücken als Subjekte zur Plattierung darauf, wobei die elektrisch leitenden Walzen eine Kathode bilden; und eine Walzen- Antriebseinrichtung zum Veranlassen, daß sich die elektrisch leitenden Walzen vor­ wärts und rückwärts drehen; eine Beförderungseinrichtung zum Befördern der Ar­ beitsstück-Behältereinheit und zum Einpassen bzw. Bringen der Arbeitsstück-Behäl­ tereinheit in das Plattierungsbad und zum Entfernen derselben daraus; und einen Plattierungsstrom-Zuführabschnitt zum Zuführen von Plattierungsstrom zur Anode und zu den elektrisch leitenden Walzen, um zu veranlassen, daß die Arbeitsstücke plattiert werden.According to a second aspect of the present invention is a plating system created which comprises: an anode plated plating bath; a work piece container unit with a variety of electrically conductive Rollers for carrying workpieces as subjects for plating thereon the electrically conductive rollers form a cathode; and a roller Drive device for causing the electrically conductive rollers in front turn backwards and forwards; a conveying device for conveying the ar beitsstück-container unit and for fitting or bringing the work piece container and to remove the plating bath therefrom; and one Plating current supply section for supplying plating current to the anode and to the electrically conductive rollers to cause the workpieces be plated.

Dieses Plattierungssystem gemäß dem zweiten Aspekt der Erfindung führt einen Plattierungsprozeß durch, bei welchem Arbeitsstücke auf den elektrisch leitenden Walzen getragen werden, und kann somit ein effizientes Plattieren realisieren, ohne die Arbeitsstücke zu beschädigen. Weiterhin können deshalb, weil die Arbeitsstück- Behältereinheit mit den elektrisch leitenden Walzen durch die Beförderungseinrich­ tung in das Plattierungsbad eingepaßt und von ihm entfernt werden kann, Arbeitsstücke auf einer Arbeitsstück-Behältereinheitenbasis behandelt werden. Somit ist das Plattierungssystem ausgezeichnet in bezug auf eine Handhabungseigenschaft und eine Betreibbarkeit. Beispielsweise können Behandlungen, die für den Plattie­ rungsprozeß nebensächlich sind, wie beispielsweise ein Waschen mit Säure und ein Waschen mit Wasser, auf einer Arbeitsstück-Behältereinheitenbasis erreicht werden. Weiterhin läßt das Vorsehen der Walzen-Antriebseinrichtung zu, daß ein Bereich, in welchem die Arbeitsstücke durch die elektrisch leitenden Walzen gegen die Anode abgeschirmt sind, für eine erwünschte Zeitperiode durch eine Vorwärts- und Rück­ wärts-Drehung der elektrisch leitenden Walzen hin- und herbewegt werden, wodurch jedes Arbeitsstück mit einer Plattierungsschicht mit einer gewünschten Dicke einheit­ lich plattiert werden kann. Weiterhin ist es deshalb, weil eine Plattierung an den Ar­ beitsstücken in einem Zustand einer Hin- und Herbewegung erreicht werden kann, möglich, die Arbeitsstück-Behältereinheit kompakt auszubilden.This plating system according to the second aspect of the invention introduces one Plating process by which workpieces on the electrically conductive Rollers are carried, and can thus realize an efficient plating without damage the work pieces. Furthermore, because the work piece Container unit with the electrically conductive rollers through the conveying device device can be fitted into and removed from the plating bath, workpieces  be handled on a work piece container unit basis. So is the plating system is excellent in handling property and operability. For example, treatments that are for the Plattie tion process, such as washing with acid and a Washing with water can be achieved on a work piece container unit basis. Furthermore, the provision of the roller drive means allows an area in which the workpieces against the anode by the electrically conductive rollers are shielded for a desired period of time by forward and backward backward rotation of the electrically conductive rollers are moved back and forth, whereby each work piece with a plating layer of a desired thickness can be plated. Furthermore, it is because plating on the Ar pieces can be achieved in a state of a reciprocating motion, possible to make the work piece container unit compact.

Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem zweiten Aspekt der Erfindung weist die Anode eine untere Anode auf, die unter den elektrisch leitenden Walzen angeordnet ist, und eine obere Anode, die über den elektrisch leitenden Walzen angeordnet ist; und weiterhin ist eine Verschiebeeinrich­ tung zum Verschieben der oberen Anode zu einer Stelle vorgesehen, bei welcher die obere Anode die Arbeitsstück-Behältereinheit nicht stört, wenn die Arbeitsstück- Behältereinheit in das Plattierungsbad einzupassen oder von ihm zu entfernen ist.In a preferred embodiment of the plating system according to the In the second aspect of the invention, the anode has a lower anode, which is located under the electrically conductive rollers is arranged, and an upper anode, which over the electrically conductive rollers is arranged; and furthermore is a shifting device device for moving the upper anode to a location where the upper anode does not interfere with the work piece container unit when the work piece Container unit is to be fitted into or removed from the plating bath.

Das Vorsehen der oberen Anode und der unteren Anode läßt zu, daß die auf den elektrisch leitenden Walzen angeordneten Arbeitsstücke von oben und von unten plattiert werden, wenn die Arbeitsstück-Behältereinheit im Plattierungsbad eingepaßt ist, wodurch es ermöglicht wird, eine Plattierungsschicht an der oberen und an der unteren Seite jedes Arbeitsstücks schnell auszubilden. Dies ist beispielsweise be­ sonders vorteilhaft, wo jedes Arbeitsstück flach oder plattenförmig ist. Weiterhin ist es möglich, zu verhindern, daß die obere Anode die Arbeitsstück-Behältereinheit stört, wenn die Arbeitsstück-Behältereinheit in das Plattierungsbad einzupassen ist.The provision of the upper anode and the lower anode allows that on the electrically conductive rollers arranged workpieces from above and below be plated when the work piece container unit fits in the plating bath which enables a plating layer on the top and on the quickly form the bottom of each work piece. This is for example be particularly advantageous where each work piece is flat or plate-shaped. Still is it is possible to prevent the upper anode from the work piece container unit bothers if the work piece container unit is to be fitted into the plating bath.

Ein weiteres Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem zweiten Aspekt der Erfindung weist weiterhin ein Ersatz-Arbeitsstück auf, das benachbart zu einem peripheren Rand eines ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeordnet ist, der durch die elektrisch leitenden Walzen definiert ist, wobei das Ersatz-Arbeitsstück mit einer Kathodenseite des Plattierungsstrom-Zuführabschnitts elektrisch verbun­ den ist.Another embodiment of the plating system according to the second Aspect of the invention further includes a replacement work piece that is adjacent to a peripheral edge of an area carrying a work piece is arranged, which is defined by the electrically conductive rollers, the replacement work piece  electrically connected to a cathode side of the plating current supply section that is.

Das Vorsehen des Ersatz-Arbeitsstücks ermöglicht es, zu verhindern, daß sich Plat­ tierungsstrom an einem eckigen Teil eines jeweiligen Arbeitsstücks konzentriert, das benachbart zum peripheren Rand des ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeord­ net ist, wodurch ein lokales Verdicken der resultierenden Plattierungsschicht vermie­ den wird, was sonst an einem eckigen Teil eines als solches angeordneten Arbeits­ stücks wahrscheinlich wäre. Demgemäß kann die Ausbildung einer nicht einheitli­ chen Plattierungsschicht, was der Anordnung eines jeweiligen Arbeitsstücks in ein Arbeitsstück tragenden Bereich zuzuschreiben ist, verhindert werden.The provision of the replacement work piece makes it possible to prevent plat tion stream concentrated on an angular part of a respective work piece, the adjacent to the peripheral edge of the work-carrying area net, thereby avoiding local thickening of the resulting plating layer what else on an angular part of a work arranged as such would probably be. Accordingly, the formation of a non-uniform Chen plating layer, which is the arrangement of a respective work piece in one Workpiece-carrying area is to be prevented.

Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel, das die obere und die untere Anode hat, des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung, kann der Plattierungsstrom-Zuführabschnitt einen oberen Anodenstrom- Steuerabschnitt zum Steuern eines zur oberen Anode zuzuführenden Plattie­ rungsstroms und einen unteren Anodenstrom-Steuerabschnitt zum Steuern eines zur unteren Anode zuzuführenden Plattierungsstroms enthalten.In the preferred embodiment, which has the upper and lower anode, the Plating system according to the first or the second aspect of the invention, the plating current supply section may have an upper anode current Control section for controlling a plate to be fed to the upper anode current and a lower anode current control section for controlling one lower anode to be supplied with plating current.

Durch das Vorsehen des oberen und des unteren Anodenstrom-Steuerabschnitts ist es möglich, die Stromdichte bei der unteren Anode, die durch die elektrisch leitenden Walzen abgeschirmt ist, verglichen mit der Stromdichte bei der oberen Anode zu erhöhen. Durch Erhöhen der Stromdichte bei der unteren Anode verglichen mit der­ jenigen bei der oberen Anode ist es möglich, die Plattierungsmenge an der unteren Seite jedes Arbeitsstücks zu erhöhen, das durch die elektrisch leitenden Walzen ab­ geschirmt ist und somit nicht einfach zu plattieren ist, wodurch eine verbesserte Plat­ tierungsschicht-Einheitlichkeit an der oberen und der unteren Seite jedes Arbeits­ stücks geschaffen wird.By providing the upper and lower anode current control sections it is possible to determine the current density at the lower anode through the electrically conductive Rolls is shielded compared to the current density at the top anode too increase. By increasing the current density at the bottom anode compared to that that of the upper anode, it is possible to determine the amount of plating on the lower one Increase side of each work piece by the electrically conductive rollers is shielded and therefore not easy to plate, which results in an improved plate Coating layer uniformity on the top and bottom of each work piece is created.

Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel, das die obere und die untere Anode hat, des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung können die elektrisch leitenden Walzen mit einer Walzenabdeckung versehen sein, die eine untere Seite davon gegen die untere Anode abschirmt.In the preferred embodiment, which has the upper and lower anode, the Plating system according to the first or second aspect of the invention the electrically conductive rollers can be provided with a roller cover, shields a lower side thereof from the lower anode.

Das Vorsehen der Walzenabdeckung ermöglicht es, eine Plattierungsschicht zu re­ duzieren, die durch die untere Anode unvermeidlich an Oberflächen der elektrisch leitenden Walzen ausgebildet wird. Somit kann für jede Walze verhindert werden, daß sie rauhe Oberflächen hat, welche sonst aufgrund der Ausbildung einer Plattie­ rungsschicht auf der Walze gebildet würden, wodurch die äußeren Peripherien bzw. Außenumfänge der Walzen einheitlich gehalten werden. Demgemäß ist es möglich, ein nicht einheitliches Plattieren zu reduzieren, was sonst aufgrund eines nicht ein­ heitlichen Kontakts zwischen den Arbeitsstücken und den Walzen wahrscheinlich wäre. Weiterhin kann ein Austausch der elektrisch leitenden Walzen, welcher dann notwendig wird, wenn die Menge an Plattierungsschicht auf jeder Walze eine vor­ bestimmte zulässige Grenze übersteigt, nach einem längeren Zeitintervall bewirkt werden, was in einer verbesserten Wartungsfähigkeit resultiert.The provision of the roller cover makes it possible to re-coat a plating layer induce by the lower anode inevitably on surfaces of the electrical  conductive rollers is formed. Thus, for each roller, it can be prevented that it has rough surfaces, which otherwise due to the formation of a platter would be formed on the roller, whereby the outer peripheries or Outer circumferences of the rollers are kept uniform. Accordingly, it is possible to reduce non-uniform plating, which is otherwise not due to a uniform contact between the workpieces and the rollers would. Furthermore, an exchange of the electrically conductive rollers, which then becomes necessary when the amount of plating layer on each roller is one exceeds a certain permissible limit after a longer time interval become what results in an improved maintainability.

Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung haben die elektrisch leitenden Wal­ zen jeweils einen Antriebswellenteil, der mit einem Antriebselement versehen ist, und einen ein Arbeitsstück tragenden Walzenteil, der am Antriebswellenteil entfernbar angebracht ist, zum Tragen der Werkstücke darauf.In a preferred embodiment of the plating system according to the First or second aspect of the invention have the electrically conductive whale zen each have a drive shaft part which is provided with a drive element, and a roller part carrying a work piece, which is removable on the drive shaft part is attached to carry the workpieces on it.

Das Merkmal, daß der ein Arbeitsstück tragende Walzenteil am Antriebswellenteil entfernbar angebracht ist, läßt zu, daß nur der ein Arbeitsstück tragende Teil jeder Walze durch ein neues zu ersetzen ist, wenn die Walze zu sehr plattiert ist, wodurch ein günstiger Kontakt zwischen der Walze und jedem Arbeitsstück beibehalten wird. Demgemäß gibt es keine Notwendigkeit, die gesamte elektrisch leitende Walze zu ersetzen, was in einer verbesserten Wartungsfähigkeit resultiert.The feature that the roller part carrying a work piece on the drive shaft part is removably attached, allows only the part carrying each work piece Replace the roller with a new one if the roller is too clad, causing favorable contact between the roller and each work piece is maintained. Accordingly, there is no need to remove the entire electrically conductive roller replace, which results in improved serviceability.

Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel, das die obere und die untere Anode hat, des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung, kann die obere Anode ein lösbares Elektrodenmaterial aufweisen, das mit einem Fortschreiten eines Plattierens lösbar ist, und kann ein Netzelement unter der oberen Anode vorgesehen sein, um zu verhindern, daß feine Partikel des lösbaren Elektro­ denmaterials, die aus einer Auflösung des lösbaren Elektrodenmaterials resultieren, während eines Plattierens auf die Arbeitsstücke fallen.In the preferred embodiment, which has the upper and lower anode, the Plating system according to the first or the second aspect of the invention, For example, the upper anode may have a detachable electrode material that is bonded to a Progress of plating is releasable, and can be a mesh element under the top Anode may be provided to prevent fine particles of the detachable electro the material resulting from the dissolution of the detachable electrode material, falling on the workpieces during plating.

Das Netzelement verhindert, daß solche feinen Partikel des lösbaren Elektrodenma­ terials, die während des Plattierungsprozesses erzeugt werden, an einer oberen Oberfläche eines jeweiligen Arbeitsstücks anhaften. Demgemäß gibt es keine Mög­ lichkeit, daß solche feinen Partikel als Kerne dienen, um zu veranlassen, daß eine Plattierungsschicht nicht einheitlich wächst, und somit kann eine Plattierungsschicht hoher Qualität mit einem günstigen Oberflächenprofil ausgebildet werden.The network element prevents such fine particles of the detachable electrode material terials created during the plating process on an upper one Adhere to the surface of each work piece. Accordingly, there is no possibility that such fine particles serve as nuclei to cause a  Plating layer does not grow uniformly, and thus a plating layer can high quality with a favorable surface profile.

Beim bevorzugten Ausführungsbeispiel, das die obere und die untere Anode hat, des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung, kann die obere Anode alternativ ein unlösbares Elektrodenmaterial aufweisen. In diesem Fall wird sich das Elektrodenmaterial der oberen Anode niemals im Plattie­ rungsprozeß auflösen, und somit niemals feine Partikel davon erzeugen, die in dem Fall eines lösbaren Elektrodenmaterials erzeugt werden würden. Somit kann eine Plattierungsschicht hoher Qualität ohne ein Auftreten eines nicht einheitlichen Wachstums erhalten werden.In the preferred embodiment, which has the upper and lower anode, the Plating system according to the first or the second aspect of the invention, the upper anode may alternatively have an insoluble electrode material. In In this case, the electrode material of the upper anode will never be in the plate dissolving process, and thus never produce fine particles of it, which in the Case would be generated a detachable electrode material. Thus a High quality plating layer without occurrence of non-uniform Growth can be obtained.

Bei einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems ge­ mäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung ist das Plattierungsbad mit einer Filtervorrichtung zum Filtern einer im Plattierungsbad enthaltenen Plattierungs­ lösung versehen, um darin enthaltene feine Verschmutzungen zu entfernen.In another preferred embodiment of the plating system According to the first or the second aspect of the invention, the plating bath is included a filter device for filtering a plating contained in the plating bath Solution to remove fine dirt contained therein.

Das Vorsehen der Filtervorrichtung ermöglicht es, feine Partikel eines lösbaren Elek­ trodenmaterials zu entfernen, die aufgrund einer Auflösung des lösbaren Elektro­ denmaterials erzeugt werden, und feine Verschmutzungen, wie beispielsweise Staub, die in der im Plattierungsbad enthaltenen Plattierungslösung enthalten sind. Demgemäß ist es möglich, eine Ausbildung einer nicht einheitlichen Plattierungs­ schicht aufgrund eines Anhaftens von solchen feinen Verschmutzungen an einem jeweiligen Arbeitsstück zu verhindern, wodurch eine Plattierungsschicht hoher Quali­ tät geschaffen wird.The provision of the filter device enables fine particles of a detachable elec to remove trode material due to a dissolution of the detachable electrical dermaterials are generated, and fine soiling, such as Dust contained in the plating solution contained in the plating bath. Accordingly, it is possible to form a non-uniform plating layer due to such fine dirt adhering to one prevent each work piece, creating a high quality plating layer activity is created.

Ein weiteres Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der Erfindung weist weiterhin eine Beförderungsführung auf, um zu verhindern, daß Arbeitsstücke, die auf den elektrisch leitenden Walzen an Stellen angeordnet sind, die benachbart zueinander entlang einer Achse einer jeweiligen der elektrisch leitenden Walzen sind, einander kontaktieren.Another embodiment of the plating system according to the first or The second aspect of the invention further includes a conveyance guide to to prevent workpieces from being placed on the electrically conductive rollers are arranged adjacent to each other along an axis of a respective one of the are electrically conductive rollers, contact each other.

Das Vorsehen der Beförderungsführung ermöglicht es, zuverlässig zu verhindern, daß Arbeitsstücke, die auf den elektrisch leitenden Walzen an Stellen angeordnet sind, die benachbart zueinander entlang einer Achse einer jeweiligen Walze sind, einander kontaktieren. Demgemäß ist es möglich, zuverlässig das Auftreten eines Plattierungsdefekts zu verhindern, der sonst bei möglichen Kontaktteilen von be­ nachbarten Arbeitsstücken wahrscheinlich wäre, wodurch eine Plattierungsschicht hoher Qualität an jedem Arbeitsstück sichergestellt wird.The provision of the transport routing makes it possible to reliably prevent that workpieces arranged on the electrically conductive rollers in places are adjacent to each other along an axis of a respective roller, contact each other. Accordingly, it is possible to reliably prevent the occurrence of a  Prevent plating defect that would otherwise occur with possible contact parts of be neighboring workpieces would be likely, creating a plating layer high quality is ensured on every work piece.

Ein weiteres Ausführungsbeispiel des Plattierungssystems gemäß dem ersten oder dem zweiten Aspekt der vorliegenden Erfindung weist weiterhin einen Beförderungs­ behälter auf, der auf den elektrisch leitenden Walzen anzuordnen und zu bewegen ist. Dieser Beförderungsbehälter definiert eine Vielzahl von Räumen zum Unterbrin­ gen von Arbeitsstücken, welche Räume sich jeweils durch den Behälter in seiner Dickenrichtung erstrecken, um ein jeweiliges der Arbeitsstücke einzeln unterzubrin­ gen.Another embodiment of the plating system according to the first or the second aspect of the present invention further includes a carriage container to arrange and move on the electrically conductive rollers is. This transport container defines a large number of rooms for accommodation of workpieces, which spaces each through the container in its Extend thickness direction to accommodate each of the workpieces individually gene.

Das Vorsehen des Beförderungsbehälters ermöglicht es, Arbeitsstücke zu bewegen oder zu befördern, die in jeweiligen Räumen zum Unterbringen von Arbeitsstücken des Beförderungsbehälters einzeln untergebracht sind, der auf den elektrisch leiten­ den Walzen angeordnet ist, wodurch ein gegenseitiger Kontakt zwischen Arbeits­ stücken gesichert verhindert wird, die benachbart zueinander in der Beförderungs­ richtung sowie entlang der Achse einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze ange­ ordnet sind. Demgemäß ist es möglich, einen wechselseitigen Kontakt zwischen Ar­ beitsstücken und einem Plattierungsdefekt aufgrund eines solchen wechselseitigen Kontakts zuverlässig zu verhindern, wodurch eine verbesserte Plattierungsqualität sichergestellt wird.The provision of the transport container enables work pieces to be moved or to transport that in respective rooms to accommodate work pieces of the transport container are individually housed, which conduct on the electrical the rollers is arranged, creating mutual contact between work pieces secured is prevented, which are adjacent to each other in the carriage direction and along the axis of a respective electrically conductive roller are arranged. Accordingly, it is possible to establish mutual contact between Ar pieces and a plating defect due to such a mutual To prevent contact reliably, resulting in improved plating quality is ensured.

Gemäß einem dritten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Plattierungsverfah­ ren geschaffen, das die folgenden Schritte aufweist: Vorsehen eines Plattierungs­ bads mit einer Anode und einer Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen zum Tragen von Arbeitsstücken als Subjekte zur Plattierung darauf, wobei die elektrisch leitenden Walzen eine Kathode bilden; Tragen von Arbeitsstücken hinein in das Plattierungs­ bad; Anordnen der Arbeitsstücke auf den elektrisch leitenden Walzen und Unterzie­ hen der Arbeitsstücke einem Plattieren, während dieselben durch Drehen der elek­ trisch leitenden Walzen auf den elektrisch leitenden Walzen bewegt werden; und Hinaustragen der so plattierten Arbeitsstücke aus dem Plattierungsbad.According to a third aspect of the present invention is a plating process created, comprising the steps of: providing a plating bads with an anode and a variety of electrically conductive rollers for carrying of workpieces as subjects for plating thereon, the electrically conductive Rollers form a cathode; Carrying work pieces into the plating bath; Arrange the workpieces on the electrically conductive rollers and undergarments hen the workpieces are plated, while the same by rotating the elec trically conductive rollers are moved on the electrically conductive rollers; and Removing the work pieces so plated from the plating bath.

Dieses Verfahren kann Arbeitsstücke effizient plattieren, ohne dieselben zu beschä­ digen. This method can plate workpieces efficiently without damaging them dig.  

Bei einem bevorzugten Ausführungsbeispiel dieses Plattierungsverfahrens werden die Arbeitsstücke einem Plattieren unterzogen, während sie auf den elektrisch lei­ tenden Walzen durch Drehen der elektrisch leitenden Walzen vorwärts und rück­ wärts hin- und herbewegt werden.In a preferred embodiment of this plating process subjecting the workpieces to plating while they are electrically conductive rolling forward and backward by rotating the electrically conductive rollers be moved back and forth.

Durch ein Hin- und Herbewegen der Arbeitsstücke auf den elektrisch leitenden Wal­ zen ist es möglich, die Plattierungszeitperiode wie gewünscht einzustellen und eine Plattierungsschicht mit einer gewünschten Dicke an einem jeweiligen Arbeitsstück auszubilden, und zwar ungeachtet der Länge des Plattierungsbads in der Beförde­ rungsrichtung.By moving the work pieces back and forth on the electrically conductive whale It is possible to set the plating time period as desired and one Plating layer with a desired thickness on a respective work piece regardless of the length of the plating bath in the vehicle direction.

Gemäß einem vierten Aspekt der vorliegenden Erfindung ist ein Plattierungsverfah­ ren geschaffen, das die folgenden Schritte aufweist: Vorsehen eines Plattierungs­ bads mit einer Anode und einer Arbeitsstück-Behältereinheit mit einer Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen, die eine Kathode bilden und Arbeitsstücke als Subjekte zur Plattierung darauf tragen; Einpassen der Arbeitsstück-Behältereinheit in das Plattierungsbad; Unterziehen der Arbeitsstücke einem Plattieren, während dieselben durch Drehen der elektrisch leitenden Walzen auf den elektrisch leitenden Walzen vorwärts und rückwärts hin- und herbewegt werden; und Hinaustragen der Arbeits­ stück-Behältereinheit, die die so plattierten Arbeitsstücke enthält, aus dem Plattie­ rungsbad.According to a fourth aspect of the present invention is a plating process created, comprising the steps of: providing a plating bads with an anode and a work piece container unit with a variety of electrically conductive rollers that form a cathode and workpieces as subjects wear on it for plating; Fit the work piece container unit into it Plating bath; Subjecting the workpieces to plating while the same by rotating the electrically conductive rollers on the electrically conductive rollers be moved back and forth; and carry out the work piece-container unit, which contains the work pieces thus plated, from the platter bath.

Dieses Verfahren kann die Plattierungszeitperiode wie gewünscht einstellen, um da­ durch eine Plattierungsschicht mit einer erwünschten Dicke an einem jeweiligen Ar­ beitsstück auszubilden, ohne das Arbeitsstück zu beschädigen. Weiterhin hat das Verfahren den Vorteil einer ausgezeichneten Handhabungseigenschaft und Betriebs­ fähigkeit, weil die Arbeitsstücke auf einer Arbeitsstück-Behältereinheitenbasis be­ handelt werden können.This method can set the plating time period as desired to do so by a plating layer of a desired thickness on a respective Ar form the work piece without damaging the work piece. Furthermore, that Process the advantage of excellent handling and operation ability because the work pieces are on a work piece container unit basis can be traded.

Die vorangehenden und andere Aufgaben, Merkmale und begleitende Vorteile der vorliegenden Erfindung werden beim Lesen der folgenden detaillierten Beschreibung in Zusammenhang mit den beigefügten Zeichnungen klar werden.The foregoing and other tasks, characteristics and accompanying advantages of present invention will become apparent upon reading the following detailed description become clear in connection with the accompanying drawings.

Fig. 1 ist eine Ansicht, die die Gesamtkonfiguration eines Plattierungssystems als erstes Ausführungsbeispiel der Erfindung darstellt; Fig. 1 is a view illustrating the overall configuration of a plating system as a first embodiment of the invention;

Fig. 2 ist eine teilweise abgeschnittene seitliche Aufrißansicht, die ein Plattie­ rungsbad in einem Zustand zeigt, in welchem eine Arbeitsstück- Behältereinheit im Plattierungssystem des ersten Ausführungsbeispiels aufgenommen wird; Fig. 2 is a partially cutaway side elevational view showing a plating bath in a state in which a work piece container unit is accommodated in the plating system of the first embodiment;

Fig. 3 ist eine teilweise abgeschnittene vordere Aufrißansicht des in Fig. 2 gezeigten Plattierungsbads; Fig. 3 is a partially cutaway front elevation of the plating bath shown in Fig. 2;

Fig. 4 ist eine seitliche Aufrißansicht, teilweise im Schnitt, des Plattierungs­ bads, wobei eine Verschiebungseinrichtung zum Verschieben einer oberen Anode gezeigt ist; Fig. 4 is a side elevational view, partly in section, of the plating bath, showing a shifting means for shifting an upper anode;

Fig. 5 ist eine diagrammäßige perspektivische Ansicht, die eine Rahmenstruk­ tur der Arbeitsstück-Behältereinheit zeigt; Fig. 5 is a diagrammatic perspective view showing a frame structure of the work piece container unit;

Fig. 6 ist eine Vorderansicht, teilweise im Schnitt, von elektrisch leitenden Walzen, die an einem unteren Rahmenteil drehbar angebracht sind; Fig. 6 is a front view, partly in section, of electrically conductive rollers rotatably attached to a lower frame member;

Fig. 7 ist eine fragmentarische Schnittansicht entlang der Linie A und gese­ hen in der Richtung, die durch den Pfeil in Fig. 6 angezeigt ist; Fig. 7 is a fragmentary sectional view taken along line A and seen in the direction indicated by the arrow in Fig. 6;

Fig. 8 ist eine perspektivische Ansicht, die einen Teil eines Elektrizitäts- Zuführelements zum Zuführen von Elektrizität zu den elektrisch leiten­ den Walzen zeigt; Fig. 8 is a perspective view showing part of an electricity supply member for supplying electricity to the electroconductive rollers;

Fig. 9 ist ein Blockdiagramm, das ein Steuersystem des Plattierungssystems gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel zeigt; Fig. 9 is a block diagram showing a control system of the plating system according to the first embodiment;

Fig. 10 ist eine Ansicht, die die Gesamtkonfiguration eines Plattierungssystems als zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung darstellt; Fig. 10 is a view illustrating the overall configuration of a plating system as a second embodiment of the invention;

Fig. 11 ist eine vertikale Schnittansicht entlang der Beförderungsrichtung eines Plattierungsbads im Plattierungssystem gemäß dem zweiten Ausfüh­ rungsbeispiel; Fig. 11 is a vertical sectional view taken along the direction of conveyance of a plating bath in the plating system according to the second example approximately exporting;

Fig. 12 ist eine perspektivische Ansicht, die eine Auslauf- Verhinderungsvorrichtung zeigt; Fig. 12 is a perspective view showing a leak prevention device;

Fig. 13 ist eine vertikale Schnittansicht eines zentralen Teils der Auslauf- Verhinderungsvorrichtung; Fig. 13 is a vertical sectional view of a central part of the leak prevention device;

Fig. 14 ist ein Blockdiagramm, das ein Steuersystem des Plattierungssystems gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel zeigt; Fig. 14 is a block diagram showing a control system of the plating system according to the second embodiment;

Fig. 15 ist eine seitliche Aufrißansicht, teilweise im Schnitt, des Plattierungs­ bads gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel, wobei die mit einem Netzelement versehene obere Anode gezeigt ist, und eine Filtervorrich­ tung im Blockdiagramm gezeigt ist; Fig. 15 is a side elevational view, partially shown in section, of the plating bath in accordance with processing the first embodiment, wherein the network element provided with an upper anode is shown, and a Filtervorrich in the block diagram;

Fig. 16 ist eine teilweise geschnittene Ansicht eines Beispiels einer Beförde­ rungsführung, die an einem unteren Rahmenteil angebracht ist; Fig. 16 is a partially sectioned view of an example of a conveyance guide attached to a lower frame part;

Fig. 17 ist eine teilweise geschnittene Ansicht entlang einer Linie A in Fig. 16 und gesehen in der Richtung, die durch den Pfeil in Fig. 16 angezeigt ist; Fig. 17 is a partially sectional view taken along a line A in Fig. 16 and viewed in the direction indicated by the arrow in Fig. 16;

Fig. 18 ist eine teilweise geschnittene Ansicht eines weiteren Beispiels einer Beförderungsführung, die am unteren Rahmenteil angebracht ist; Fig. 18 is a partially sectioned view of another example of a conveyance guide attached to the lower frame part;

Fig. 19 ist eine teilweise geschnittene Ansicht entlang einer Linie A in Fig. 18 und gesehen in der Richtung, die durch den Pfeil in Fig. 18 angezeigt ist; Fig. 19 is a partially sectional view taken along a line A in Fig. 18 and viewed in the direction indicated by the arrow in Fig. 18;

Fig. 20 ist eine Schnittansicht entlang der Y-Achse eines mit Ersatz- Arbeitsstücken versehenen unteren Rahmenteils und einer Beförde­ rungsführung; und Fig. 20 is a sectional view along the Y axis of a lower frame member provided with replacement work pieces and a conveyance guide; and

Fig. 21 ist eine Draufsicht eines Beförderungsbehälters. Figure 21 is a top view of a transport container.

Nun wird die vorliegende Erfindung detailliert anhand ihrer bevorzugten Ausfüh­ rungsbeispiele unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben. Now the present invention will be described in detail based on its preferred embodiment Example described with reference to the drawings.  

Zuerst wird unter Bezugnahme auf Fig. 1, die die Gesamtkonfiguration eines Plattie­ rungssystems als erstes Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung darstellt, kurz das gesamte Plattierungssystem beschrieben. Der angenehmen Darstellung halber wird gemäß dem Koordinatensystem in Fig. 1 die Richtung, in welcher sich ein Beförderungsträger 71 bewegt, "x-Achsenrichtung" oder "Längsrichtung" ge­ nannt, und wird die Richtung, die senkrecht zur Bewegungsrichtung des Beförde­ rungsträgers 71 in einer Längsebene einschließlich jener Bewegungsrichtung ist, "y- Achsenrichtung" oder "laterale Richtung" genannt.First, the entire plating system will be briefly described with reference to FIG. 1, which shows the overall configuration of a plating system as the first embodiment of the present invention. For convenience of illustration, according to the coordinate system in FIG. 1, the direction in which a carrier 71 moves is called "x-axis direction" or "longitudinal direction", and becomes the direction perpendicular to the direction of movement of the carrier 71 in one Longitudinal plane including that direction of movement is called "y-axis direction" or "lateral direction".

Das Plattierungssystem enthält eine Station 101 zum Hineintragen, ein Säure­ waschbad 102, ein erstes Wasserwaschbad 103, ein erstes Ultraschall- Wasserwaschbad 104, ein Plattierungsbad 1, ein zweites Wasserwaschbad 105, ein zweites Ultraschall-Wasserwaschbad 106, ein drittes Wasserwaschbad 107, eine Trocknungskammer 108 mit einer Vielzahl von Heißlufteinlässen, eine Station 109 zum Hinaustragen und ein Plattierungsschicht-Entfernungsbad 110, welche linear in der x-Achsenrichtung angeordnet sind. Die Bäder, einschließlich des Plattierungs­ bads 1 und des Säurewaschbads 102, werden manchmal gemeinsam ohne Unter­ scheidung "Behandlungsbäder" genannt. Eine Beförderungsschiene 70 überspannt diese Komponenten, und der Beförderungsträger 71 ist gleitbar auf der Beförde­ rungsschiene 70 angebracht. Der Beförderungsträger 71 ist mit einem Hebearm ver­ sehen, der zum Einpassen einer Arbeitsstück-Behältereinheit 21 in ein jeweiliges solcher Behandlungsbäder oder ähnlichem und zum Entfernen derselben aus die­ sem dient, indem sie nach oben und nach unten gehängt wird. Die Station 101 zum Hineintragen und die Station 109 zum Hinaustragen sind jeweils mit einer Plattform für die darauf anzuordnende Arbeitsstück-Behältereinheit 21 versehen.The plating system includes an entry station 101 , an acid wash bath 102 , a first water wash bath 103 , a first ultrasonic water wash bath 104 , a plating bath 1 , a second water wash bath 105 , a second ultrasonic water wash bath 106 , a third water wash bath 107 , a drying chamber 108 with a plurality of hot air inlets, a carry-out station 109 and a plating layer removal bath 110 which are linearly arranged in the x-axis direction. The baths, including the plating bath 1 and the acid wash bath 102 , are sometimes collectively called "treatment baths" without distinction. A transport rail 70 spans these components, and the transport carrier 71 is slidably mounted on the rail Beförde approximately 70th The carrier 71 is seen with a lifting arm ver, which is used to fit a work piece container unit 21 into a respective such treatment bath or the like and to remove the same from the sem by being hung up and down. The station 101 for carrying in and the station 109 for carrying out are each provided with a platform for the work piece container unit 21 to be arranged thereon.

Die Arbeitsstück-Behältereinheit 21, die die Arbeitsstücke enthält, wird von der Stati­ on 101 zum Hineintragen hochgehoben und zu jedem der Behandlungsbäder und einer Kammer befördert und in diese eingepaßt, und zwar in der Reihenfolge eines Säurewaschbads 102, eines ersten Wasserwaschbads 103, eines ersten Ultraschall- Wasserwaschbads 104, eines Plattierungsbads 1, eines zweiten Wasserwaschbads 105, eines zweiten Ultraschall-Wasserwaschbads 106, eines dritten Wasser­ waschbads 107 und einer Trocknungskammer 108, damit die Arbeitsstücke einer jeweiligen Behandlung unterzogen werden. Die Arbeitsstück-Behältereinheit 21, die die so behandelten Arbeitsstücke enthält, wird dann zur Station 109 zum Hinaustragen befördert. Der Hauptteil des Plattierungssystems gemäß diesem Ausführungs­ beispiel weist das Plattierungsbad 1, die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 und den Beförderungsträger 71 auf. Die Rolle des Plattierungsschicht-Entfernungsbads 110 wird später beschrieben werden. In Fig. 1 ist ein möglicher Fall weggelassen, bei welchem mehrere Arbeitsstück-Behältereinheiten 21 in die Behandlungsbäder und eine Kammer in einer Eins-zu-Eins-Beziehung eingepaßt werden.The work piece container unit 21 containing the work pieces is lifted up from the station 101 to be carried in and carried to and fitted into each of the treatment baths and a chamber in the order of an acid wash bath 102 , a first water wash bath 103 , a first Ultrasonic water wash bath 104 , a plating bath 1 , a second water wash bath 105 , a second ultrasonic water wash bath 106 , a third water wash bath 107 and a drying chamber 108 , so that the workpieces are subjected to a respective treatment. The work piece container unit 21 containing the work pieces thus treated is then conveyed to the station 109 for carrying out. The main part of the plating system according to this embodiment has the plating bath 1 , the work container unit 21 and the carrier 71 . The role of the plating layer removal bath 110 will be described later. In Fig. 1, a possible case is omitted in which a plurality of work piece container units 21 are fitted into the treatment baths and a chamber in a one-to-one relationship.

Der Hauptteil des Plattierungssystems gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel wird nachfolgend detailliert unter Bezugnahme auf die Fig. 2 und 3 beschrieben, die die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 in einem Zustand zeigen, in welchem sie im Plattie­ rungsbad 1 eingepaßt ist.The main part of the plating system according to the first embodiment will be described in detail below with reference to FIGS. 2 and 3, which show the work container unit 21 in a state in which it is fitted in the plating bath 1 .

Im Plattierungsbad 1, das eine Plattierungslösung enthält, sind eine obere Anode 2 und eine untere Anode 3 in einer gegenüberliegenden Beziehung zueinander ent­ lang der Höhe des Bads 1 angeordnet, zwischen welchen ein unterer Teil der Ar­ beitsstück-Behältereinheit 21 positioniert ist. Die untere Anode 3 ist am Boden des Plattierungsbads 1 in einem davon isolierten Zustand befestigt. Die obere und die untere Anode 2 und 3 weisen jeweils ein Gehäuse zum Unterbringen eines Elektro­ denmaterials und ein darin untergebrachtes Elektrodenmaterial auf, wobei das Ge­ häuse zum Unterbringen von Elektrodenmaterial eine Vielzahl von Kommunikations­ löchern zum Bereitstellen einer Kommunikation zwischen dem Elektrodenmaterial und einer im Plattierungsbad 1 enthaltenen Plattierungslösung definiert. Das Elek­ trodenmaterial kann entweder lösbares Elektrodenmaterial sein, das während des Plattierungsprozesses in der Plattierungslösung lösbar ist, oder unlösbares Elektro­ denmaterial, das in der Plattierungslösung unlösbar ist. Beispielsweise bei einem Nickel-Plattierungsprozeß kann eine Nickelplatte oder ein Nickelchip als das lösbare Elektrodenmaterial verwendet werden, während Platin, Titan oder Iridium als das unlösbare Elektrodenmaterial verwendet werden können. Das Gehäuse zum Unter­ bringen von Elektrodenmaterial ist andererseits aus unlösbarem Elektrodenmaterial gebildet, wie beispielsweise aus Titan. In dem Fall, in welchem ein geeignetes un­ lösbares Elektrodenmaterial, das in eine Platte oder ähnliches geformt ist, als die obere Anode 2 verwendet wird, ist das Gehäuse zum Unterbringen von Elektroden­ material nicht unbedingt erforderlich. In bezug auf die Plattierungslösung ist bei­ spielsweise das Watt-Bad bei einer Glanz- oder einer Semiglanzbadbehandlung bzw. -plattierung verfügbar. 1 in the plating bath containing a plating solution, an upper anode 2 and a lower anode 3 in an opposed relation to each other are arranged ent long the height of the bath 1, between which a lower part of Ar beitsstück tank unit 21 is positioned. The lower anode 3 is fixed to the bottom of the plating bath 1 in an isolated condition. The upper and lower anode 2 and 3 each have a housing for accommodating an electrode material and an electrode material housed therein, the housing for housing electrode material having a plurality of communication holes for providing communication between the electrode material and one in the plating bath 1 contained plating solution defined. The electrode material can be either releasable electrode material that is soluble in the plating solution during the plating process, or insoluble electrode material that is insoluble in the plating solution. For example, in a nickel plating process, a nickel plate or chip can be used as the releasable electrode material, while platinum, titanium or iridium can be used as the insoluble electrode material. The housing for housing electrode material, on the other hand, is formed from non-detachable electrode material, such as titanium. In the case where a suitable non-detachable electrode material molded into a plate or the like is used as the upper anode 2 , the housing for housing electrode material is not absolutely necessary. With regard to the plating solution, for example, the watt bath is available with a gloss or semi-gloss bath treatment or plating.

Das Plattierungsbad 1 ist an seinem oberen Teil mit einem Raum 5 zum Zurückzie­ hen einer Anode ausgebildet, um zuzulassen, daß die obere Anode 2 dort hinein zurückgezogen wird. Wie es in Fig. 4 gezeigt ist, liegt eine Verschiebungseinrichtung 6 über dem Raum 5 zum Zurückziehen einer Anode, um die obere Anode 2 zwi­ schen der Plattierungsposition und dem Raum 5 zum Zurückziehen einer Anode zu verschieben. Die Verschiebungseinrichtung 6 enthält eine Führung 7, die mit einem Anodenstützarm 8 versehen ist, der entlang der Führung 7 in der y-Achsenrichtung bewegbar ist. Der Anodenstützarm 8 hat einen vorderen Teil, der mit einer sich nach unten erstreckenden Anodenbefestigung 9 ausgebildet ist, die an ihrem unteren En­ de die obere Anode 2 in horizontaler Richtung stützt bzw. hält. Der Anodenstützarm 8 ist in Vorwärtsrichtung und Rückwärtsrichtung in der y-Achsenrichtung mittels einer Antriebseinrichtung, die nicht gezeigt ist, bewegbar, und somit ist die obere Anode 2 zwischen der Plattierungsposition gegenüber der unteren Anode 3 und dem Raum 5 zum Zurückziehen einer Anode bewegbar ausgebildet. Die Antriebseinrichtung kann beispielsweise einen pneumatischen Zylinder, einen Hydraulikzylinder, einen Zahn­ stangenmechanismus oder ähnliches aufweisen. Die Führung 7, der Anodenstütz­ arm 8, die Antriebseinrichtung und ähnliches bilden die Verschiebungseinrichtung 6.The plating bath 1 is formed at its upper part with a space 5 for withdrawing an anode to allow the upper anode 2 to be withdrawn therein. As shown in Fig. 4 is a shift device 6 to the chamber 5 for retracting an anode, Zvi around the upper anode 2 rule of Plattierungsposition and the space 5 to move to retract an anode. The displacement device 6 contains a guide 7 which is provided with an anode support arm 8 which is movable along the guide 7 in the y-axis direction. The anode support arm 8 has a front part which is formed with a downwardly extending anode fastening 9 which supports or holds the upper anode 2 in the horizontal direction at its lower end. The anode support arm 8 is movable in the forward and backward directions in the y-axis direction by means of a driving device, which is not shown, and thus the upper anode 2 is made movable between the plating position opposite the lower anode 3 and the space 5 for withdrawing an anode. The drive device can have, for example, a pneumatic cylinder, a hydraulic cylinder, a toothed rack mechanism or the like. The guide 7 , the anode support arm 8 , the drive device and the like form the displacement device 6 .

Das Plattierungsbad 1 hat gegenüberliegende obere Kanten, die sich in der x- Achsenrichtung erstrecken, an welchen vier Metallstützen 11A, 11A und 11B, 11B angebracht bzw. montiert sind, die jeweils eine V-förmige Nut zum Stützen bzw. La­ gern der Arbeitsstück-Behältereinheit 21 definieren, wie es besser in den Fig. 2 und 3 gezeigt ist. Diese Metallstützen bzw. -lager 11A, 11A und 11B, 11B, die je nach Fall allgemein mit einem Bezugszeichen 11 bezeichnet sein werden, sind vom Plat­ tierungsbad 1 isoliert. Die Metallstützen 11 sind jeweils aus einem metallischen Ma­ terial mit hoher elektrischer Leitfähigkeit ausgebildet, wie beispielsweise aus Kupfer oder einer Kupferlegierung, und ein Paar von Metallstützen 11A, 11A oder 11B, 11B ist jeweils in der x-Achsenrichtung voneinander beabstandet und um einen vorbe­ stimmten Abstand gegenüber dem anderen Paar von Metallstützen 11B, 11B oder 11A, 11A in der y-Achsenrichtung beabstandet. Ein Paar der Metallstützen 11A, 11A ist mit der Kathodenseite einer DC- bzw. Gleichstrom-Versorgungsquelle elektrisch verbunden, während das andere Paar der Metallstützen 11B, 11B mit der Anoden­ seite der DC- bzw. Gleichstrom-Versorgungsquelle elektrisch verbunden ist.The plating bath 1 has opposite upper edges which extend in the x-axis direction, on which four metal supports 11 A, 11 A and 11 B, 11 B are attached, which each have a V-shaped groove for supporting or La like to define the work piece container unit 21 , as better shown in FIGS. 2 and 3. These metal supports or bearings 11A, 11A and 11B, 11B, which, depending on the case, will be generally designated by a reference number 11 , are isolated from the plating bath 1 . The metal supports 11 are each formed of a metallic material with high electrical conductivity, such as copper or a copper alloy, and a pair of metal supports 11 A, 11 A or 11 B, 11 B are spaced from each other in the x-axis direction and spaced a predetermined distance from the other pair of metal supports 11 B, 11 B or 11 A, 11 A in the y-axis direction. A pair of metal supports 11 A, 11 A is electrically connected to the cathode side of a DC or DC supply source, while the other pair of metal supports 11 B, 11 B is electrically connected to the anode side of the DC or DC supply source .

Wie es in Fig. 5 gezeigt ist, enthält die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 einen Rah­ men bzw. ein Gestell 25, das einen rechteckigen oberen Rahmenteil 22 und einen identisch geformten unteren Rahmenteil 23 aufweist, die durch aufrechte Verstre­ bungselemente 24 miteinander verbunden sind, die an den vier Ecken angeordnet sind. Der untere Rahmenteil 23 weist ein Paar von unteren Längselementen 26A, 26B auf, die sich parallel in der x-Achsenrichtung erstrecken und um einen vorbe­ stimmten Abstand voneinander in der y-Achsenrichtung beabstandet sind, und ein Paar von unteren lateralen Elementen 27, 27, die sich von gegenüberliegenden En­ den von einem der unteren Längselemente 26A, 26B zu entsprechenden gegen­ überliegenden Enden der anderen parallel in der y-Achsenrichtung ausdehnen bzw. eine Überspannung bilden. Gleichermaßen weist der obere Rahmenteil 22 ein Paar von oberen Längselementen 28A, 28B und ein Paar von oberen lateralen Elementen 29, 29 auf. Dazwischenliegende laterale Elemente 31, 31, die sich in der y- Achsenrichtung parallel erstrecken, verbinden jeweils ein jeweiliges der Paare von vorderen und hinteren aufrechtstehenden Verstrebungselementen 24, 24, die in der y-Achsenrichtung beabstandet sind. Ein Paar von Stützwellen 32A, 32B erstreckt sich parallel in der x-Achsenrichtung mit einem vorbestimmten Abstand dazwischen in der y-Achsenrichtung, um die dazwischenliegenden lateralen Elemente 31, 31 zu überspannen. An einem dazwischenliegenden lateralen Element 31 auf der rechten Seite in der Zeichnung ist eine Motor-Montageplatte 33 angebracht. Der Rahmen 25 ist aus einem steifen synthetischen Harz hergestellt, wie beispielsweise aus steifem Vinyl-Chlorid, während die Stützwellen 32A, 32B aus einem metallischen Material hergestellt sind, das eine relativ hohe Festigkeit hat, wie beispielsweise aus rostfrei­ em Stahl oder aus Messing.As shown in Fig. 5, the work piece container unit 21 includes a frame men or a frame 25 which has a rectangular upper frame part 22 and an identically shaped lower frame part 23 , which are connected to each other by upright bracing elements 24 which are arranged at the four corners. The lower frame part 23 has a pair of lower longitudinal members 26 A, 26 B which extend in parallel in the x-axis direction and are spaced apart from each other in the y-axis direction by a predetermined distance, and a pair of lower lateral members 27 , 27 , which extend from opposite ends of one of the lower longitudinal elements 26 A, 26 B to corresponding opposite ends of the other in parallel in the y-axis direction or form an overvoltage. Similarly, the upper frame part 22 has a pair of upper longitudinal elements 28 A, 28 B and a pair of upper lateral elements 29 , 29 . Intermediate lateral members 31 , 31 that extend in parallel in the y-axis direction connect each of the pair of front and rear upstanding strut members 24 , 24 that are spaced in the y-axis direction. A pair of support shafts 32 A, 32 B extend in parallel in the x-axis direction with a predetermined interval therebetween in the y-axis direction to span the intermediate lateral members 31 , 31 . A motor mounting plate 33 is attached to an intermediate lateral member 31 on the right side in the drawing. The frame 25 is made of a stiff synthetic resin, such as stiff vinyl chloride, while the support shafts 32 A, 32 B are made of a metallic material that has a relatively high strength, such as stainless steel or brass .

Wie es in Fig. 2 gezeigt ist, ist die Stützwelle 32A an der Vorderseite loslösbar bei den V-förmigen Nuten 12 des Paars von Metallstützen 11A, 11A gelagert bzw. ge­ stützt, die an der vorderen oberen Kante des Plattierungsbads 1 angeordnet sind, während die Stützwelle 32B an der Rückseite loslösbar an den V-förmigen Nuten 12 des Paars von Metallstützen 11B, 11B gestützt bzw. gelagert ist, die an der hinteren oberen Kante des Plattierungsbads 1 angeordnet sind. Wenn die Stützwellen 32A, 32B bei den V-förmigen Nuten 12 so gelagert sind, wird eine elektrische Verbindung zwischen den Metallstützen 11A, 11A und der Stützwelle 32A und zwischen den Metallstützen 11B, 11B und der Stützwelle bzw. Lagerwelle 32B hergestellt. Dem­ gemäß dienen die Metallstützen bzw. -lager und die Stütz- bzw. Lagerwellen auch als elektrische Kontakte. As shown in FIG. 2, the support shaft 32 A is detachably supported at the front at the V-shaped grooves 12 of the pair of metal supports 11 A, 11 A, which are arranged on the front upper edge of the plating bath 1 are, while the support shaft 32 B is detachably supported at the rear on the V-shaped grooves 12 of the pair of metal supports 11 B, 11 B, which are arranged on the rear upper edge of the plating bath 1 . If the support shafts 32 A, 32 B are mounted in the V-shaped grooves 12 , an electrical connection between the metal supports 11 A, 11 A and the support shaft 32 A and between the metal supports 11 B, 11 B and the support shaft or Bearing shaft 32 B manufactured. Accordingly, the metal supports or bearings and the support or bearing shafts also serve as electrical contacts.

An den oberen Längselementen 28A, 28B des oberen Rahmenteils 22 sind jeweils Hakenelemente 35 mit invertierter L-Form auf eine gegenüberliegende Weise ange­ bracht, die jeweils einen sich einwärts erstreckenden oberen Teil 36 haben, der eine V-förmige Ausbuchtung 37 definiert, die sich nach unten öffnet.On the upper longitudinal elements 28 A, 28 B of the upper frame part 22 are hook elements 35 with inverted L-shape in an opposite manner, each having an inwardly extending upper part 36 , which defines a V-shaped bulge 37 which opens down.

An dem Paar der unteren Längselemente 26A, 26B des unteren Rahmenteils 23 des Rahmens 25 ist eine Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen 41 angebracht, die sich entlang der y-Achse erstrecken und die in einer Reihe mit einem vorbestimmten Intervall in der x-Achsenrichtung angeordnet sind, um Arbeitsstücke W darauf zu tragen. Wie es in Fig. 6 gezeigt ist, weist das untere Längselement 26A auf der Vor­ derseite einen unteren Teil 38 und einen oberen Teil 39, der flüssigkeitsdicht mit dem unteren Teil 38 verbunden ist, auf, wobei bei der Schnittstelle von ihnen eine Reihe von Wellenaufnahmelöchern definiert ist, die jeweils den entsprechenden An­ triebswellenteil jeder elektrisch leitenden Walze 41 durch ein Paar von Lagern 43, 43 und ein Paar von Dichtungsringen 44, 44 für eine Vorwärts- und Rückwärtsdrehung aufnehmen. Gleichermaßen definiert auch das untere Längselement 26B eine Reihe von Wellenaufnahmelöchern, die jeweils das andere Ende einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 für eine Drehung aufnehmen.On the pair of the lower longitudinal members 26 A, 26 B of the lower frame part 23 of the frame 25 , a plurality of electrically conductive rollers 41 are attached, which extend along the y-axis and which are in a row with a predetermined interval in the x-axis direction are arranged to carry workpieces W thereon. As shown in Fig. 6, the lower longitudinal member 26 A has on the front of the front a lower part 38 and an upper part 39 which is liquid-tightly connected to the lower part 38 , at the interface of which a number of Shaft receiving holes are defined, each receiving the corresponding drive shaft portion of each electrically conductive roller 41 through a pair of bearings 43 , 43 and a pair of seal rings 44 , 44 for forward and reverse rotation. Likewise, the lower longitudinal element 26 defines a number B of shaft receiving holes for respectively receiving the other end of a respective electrically conductive roller 41 for rotation.

Zwischen den Lagern 43, 43 ist ein Paar von oberen und unteren Elektrizitäts- Zuführelementen 45, 45 in Kontakt mit dem Antriebswellenteil 42 einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 angeordnet. Wie es in Fig. 8 gezeigt ist, weisen die Elektrizitäts-Zuführelemente 45, 45 jeweils einen Ausbuchtungsteil auf, der einen Radius hat, der etwas kleiner als derjenige des Antriebswellenteils 42 ist, und einen flachen Teil, die kontinuierlich zueinander sind und abwechselnd wiederholt werden. Diese Zuführelemente 45, 45 sind aneinander angepaßt, wobei ihre entsprechenden flachen Teile aneinanderstoßen, um die Wellenaufnahmelöcher zu definieren. Jedes Elektrizitäts-Zuführelement 45 ist aus einem elastischen leitenden Metallmaterial ausgebildet, wie beispielsweise aus einem Federmaterial einer Kupferlegierung. Die Elektrizitäts-Zuführelemente 45, 45 werden in einer Vertiefung aufgenommen, die sich in der Längs-(x-Achsen)Richtung erstrecken, die im Zentrum der Schnittstelle zwischen dem vorangehenden unteren Teil 38 und dem vorangehenden oberen Teil 39 definiert ist. Die Elektrizitäts-Zuführelemente 45, 45 sind durch einen Leitungs­ draht (nicht gezeigt) mit der Stützwelle 32A elektrisch verbunden, welche wiederum mit der Kathodenseite der DC- bzw. Gleichstrom-Versorgungsquelle zur Plattierung elektrisch verbunden ist. Der Leitungsdraht wird in einer Nut (nicht gezeigt) aufgenommen, die in den dazwischenliegenden lateralen Elementen 31 und den Ausbuch­ tungselementen 24 definiert ist, und ist darin mittels einer Isolierfüllung (nicht ge­ zeigt) fixiert, die die Nut füllt.Between the bearings 43 , 43 , a pair of upper and lower electricity supply members 45 , 45 are arranged in contact with the drive shaft part 42 of a respective electrically conductive roller 41 . As shown in Fig. 8, the electricity supply members 45 , 45 each have a bulge part that has a radius slightly smaller than that of the drive shaft part 42 and a flat part that are continuous with each other and repeated alternately . These feed members 45 , 45 are mated with one another with their respective flat portions abutting to define the shaft receiving holes. Each electricity supply member 45 is formed of an elastic conductive metal material, such as a spring material of a copper alloy. The electricity supply members 45 , 45 are received in a recess extending in the longitudinal (x-axis) direction defined at the center of the interface between the preceding lower part 38 and the preceding upper part 39 . The electricity supply elements 45 , 45 are electrically connected by a line wire (not shown) to the support shaft 32 A, which in turn is electrically connected to the cathode side of the DC or DC power supply for plating. The lead wire is received in a groove (not shown) defined in the intermediate lateral members 31 and the bulge members 24 and fixed therein by means of an insulating fill (not shown) which fills the groove.

Wie es in Fig. 6 gezeigt ist, weist jede der elektrisch leitenden Walzen 41 den An­ triebswellenteil 42 auf, der durch das untere Längselement 26A an der Vorderseite drehbar gelagert ist und durch das Elektrizitäts-Zuführelement 45 kontaktiert ist, und einen ein Arbeitsstück tragenden Walzenteil 48, der mit dem hinteren Ende des An­ triebswellenteils 42 über ein Gewinde verbunden ist. Der Antriebswellenteil 42 ist an seinem vorderen Endteil mit einem Schneckenrad 47 versehen, das aus einer Inge­ nieur- bzw. Maschinenplastik hergestellt ist, und eine synthetische Buchse 53 ist über einem hinteren Endteil des Antriebswellenteils 42 vorgesehen, um zu verhin­ dern, daß der hintere Endteil plattiert wird. Der ein Arbeitsstück tragende Walzenteil 48 ist andererseits an seiner Rückseite mit einer Gleitbuchse 49 versehen, die aus synthetischem Harz mit einem niedrigen Reibkoeffizienten, wie beispielsweise aus Fluorplastik, hergestellt ist. Der mit der Buchse 49 versehene Rückseitenteil wird in einem jeweiligen Wellenaufnahmeloch des unteren Längselements 26B an der Rückseite drehbar gehalten. Der hintere Endteil des ein Arbeitsstück tragenden Wal­ zenteils 48 steht vom unteren Längselement 26B nach außen vor und definiert einen flachen Oberflächenteil, um zuzulassen, daß ein Werkzeug, wie beispielsweise ein Schraubenschlüssel, mit diesem hinteren Endteil in Eingriff gelangt. Durch Ergreifen des ein Arbeitsstück tragenden Walzenteils 48 an diesem flachen Oberflächenteil mit einem geeigneten Werkzeug und durch Drehen von ihm kann der ein Arbeitsstück tragende Walzenteil 48 auf einfache Weise vom Antriebswellenteil 42 gelöst bzw. entfernt werden. Da das Wellenaufnahmeloch derart bemaßt ist, daß es die Gleit­ buchse 49 aufnimmt, kann der ein Arbeitsstück tragende Walzenteil 48 selbst dann mit Leichtigkeit vom Loch entfernt werden, wenn es mit einer Plattierungsschicht plattiert ist.As shown in Fig. 6, each of the electrically conductive rollers 41 to the drive shaft portion 42 , which is rotatably supported by the lower longitudinal member 26 A at the front and is contacted by the electricity supply member 45 , and a work piece carrying Roller part 48 which is connected to the rear end of the drive shaft part 42 via a thread. The drive shaft part 42 is provided at its front end part with a worm wheel 47 made of an engineering plastic, and a synthetic sleeve 53 is provided over a rear end part of the drive shaft part 42 to prevent the rear end part is plated. The roller part 48 carrying a work piece, on the other hand, is provided on its rear side with a sliding bush 49 , which is made of synthetic resin with a low coefficient of friction, such as fluoroplastic. The rear side part provided with the bushing 49 is rotatably held in a respective shaft receiving hole of the lower longitudinal element 26 B on the rear side. The rear end portion of a workpiece supporting Wal zenteils 48 projects from the lower longitudinal member 26 B to the outside and defines a flat surface portion, for allowing a tool such as a wrench, engages with this rear end portion in engagement. By gripping the roller part 48 carrying a work piece on this flat surface part with a suitable tool and by rotating it, the roller part 48 carrying a work piece can be easily detached or removed from the drive shaft part 42 . Since the shaft receiving hole is dimensioned such that it receives the sliding bush 49 , the roller part 48 carrying a work piece can be easily removed from the hole even if it is plated with a plating layer.

Die elektrisch leitenden Walzen 41 sind jeweils aus einem Metallmaterial mit einer relativ hohen Festigkeit hergestellt, wie beispielsweise aus Messing oder rostfreiem Stahl, und sie haben jeweils den Antriebswellenteil 42 in Kontakt mit dem Elektrizi­ täts-Zuführelement 45, das mit der Kathodenseite der Plattierungs- Versorgungsquelle elektrisch verbunden ist, und somit funktionieren sie als Kathode. Wenn die elektrisch leitende Walze 41 zu dick ist, wird die untere Seite jedes Ar­ beitsstücks durch die Walze 41 zum großen Teil gegen die untere Anode 3 abgeschirmt, was in einer erniedrigten Plattierungseffizienz resultiert. Wenn die elektrisch leitende Walze 41 andererseits zu dünn ist, kann die Walze 41 aufgrund ihrer unzu­ reichenden Festigkeit gegenüber einigen Arten von Arbeitsstücken anfällig gegen­ über einem Deformieren werden oder kann aufgrund einer verringerten Reibung zwi­ schen der Oberfläche der Walze 41 und den Arbeitsstücken dabei Schwierigkeiten haben, zu veranlassen, daß sich die Arbeitsstücke bei ihrer Vorwärts- und Rück­ wärtsdrehung hin- und herbewegen. Angesichts dieser Tatsache wird der Außen­ durchmesser einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 gemäß der Art von Ar­ beitsstücken bestimmt. Wenn die zu plattierenden Arbeitsstücke jeweils beispiels­ weise ein relativ niedriges Gewicht haben, kann die Walze 41 einen Außendurch­ messer von etwa 2 bis 10 mm haben. Obwohl die Plattierungseffizienz verbessert wird, wenn der Abstand zwischen jedem Paar von benachbarten elektrisch leitenden Walzen 41 größer wird, wird bevorzugt, daß die durch wenigstens drei Walzen 41 definierte Länge, die mit einem bestimmten Intervall angeordnet sind, gleich der Länge eines jeweiligen Arbeitsstücks in der Bewegungsrichtung ist, um eine ruhige Bewegung der Arbeitsstücke sicherzustellen. Sonst wird der bevorzugte Abstand zwischen jedem Paar von benachbarten Walzen 41 so bestimmt, daß ein jeweiliges Arbeitsstück durch zwei Walzen 41 konstant getragen werden kann.The electrically conductive rollers 41 are each made of a metal material having a relatively high strength, such as brass or stainless steel, and they each have the drive shaft part 42 in contact with the electricity supply member 45 which is connected to the cathode side of the plating supply source is electrically connected, and thus they function as a cathode. If the electroconductive roller 41 is too thick, the lower side of each work piece is largely shielded from the lower anode 3 by the roller 41 , resulting in reduced plating efficiency. On the other hand, if the electrically conductive roller 41 is too thin, the roller 41 may become susceptible to deformation due to its insufficient strength against some types of workpieces, or may experience difficulties due to reduced friction between the surface of the roller 41 and the workpieces to cause the work pieces to reciprocate as they rotate forward and backward. In view of this, the outer diameter of each electrically conductive roller 41 is determined according to the kind of work pieces. If the workpieces to be plated each have, for example, a relatively low weight, the roller 41 can have an outside diameter of about 2 to 10 mm. Although the plating efficiency is improved as the distance between each pair of adjacent electroconductive rollers 41 becomes larger, it is preferred that the length defined by at least three rollers 41 arranged with a certain interval be equal to the length of each work piece in the machine Direction of movement is to ensure a smooth movement of the work pieces. Otherwise, the preferred distance between each pair of adjacent rollers 41 is determined so that a respective work piece can be constantly carried by two rollers 41 .

Unter jeder elektrisch leitenden Walze 41 ist eine Walzenabdeckung 51 vorgesehen, um zu verhindern, daß die Walze 41 durch die untere Anode 3 plattiert wird. Diese Walzenabdeckung 51 wird bei U-förmigen Vertiefungen getragen und gestützt bzw. gelagert, die in Abdeckungshalterplatten 42 definiert sind, die jeweils an den Innen­ seiten der unteren Längselemente 26A, 26B angebracht sind. Das obere Ende jeder Walze 41, das ein jeweiliges Arbeitsstück W kontaktiert, ist um etwa 1 mm höher als das obere Ende der Walzenabdeckung 51, und ein geringer Freiraum von etwa 0,5 bis 1 mm ist zwischen der Innenfläche der Walzenabdeckung 51 und der Oberfläche der Walze 41 definiert. Die Walzenabdeckung kann nach Wunsch geformt sein, oh­ ne daß es eine besondere Beschränkung in bezug auf die U-Form gibt. Beispiels­ weise kann sie kreisförmig geformt sein, wobei ihr oberes Ende abgeschnitten ist.A roll cover 51 is provided under each electrically conductive roll 41 to prevent the roll 41 from being plated by the lower anode 3 . This roller cover 51 is supported and supported or supported at U-shaped recesses, which are defined in cover holder plates 42 , which are each attached to the inner sides of the lower longitudinal elements 26 A, 26 B. The upper end of each roller 41 contacting a respective work W is about 1 mm higher than the upper end of the roller cover 51 , and there is a small clearance of about 0.5 to 1 mm between the inner surface of the roller cover 51 and the surface the roller 41 defined. The roller cover may be shaped as desired, without any particular limitation on the U shape. For example, it can be circular in shape with its top end cut off.

Beim Plattieren der Arbeitsstücke W, die auf den elektrisch leitenden Walzen 41 ge­ tragen werden, die als Kathode dienen, ist es aufgrund des Vorhandenseins der Walzen 41 zwischen der unteren Anode 3 und den Arbeitsstücken W schwierig, die untere Seite eines jeweiligen Arbeitsstücks W zu plattieren. Aus diesem Grund ist es zum Sicherstellen einer zufriedenstellenden Plattierung auf der unteren Seite eines jeweiligen Arbeitsstücks effektiv, die untere Anode 3 näher zu den Walzen 41 zu positionieren oder die Plattierungsstromdichte an der unteren Anode 3 zu erhöhen. Solche Gegenmaßnahmen veranlassen jedoch, daß die elektrisch leitenden Walzen 41 auf einfache Weise plattiert werden, weil die Walzen 41 näher zu der unteren An­ ode 3 angeordnet sind als die Arbeitsstücke W. Ein solches Problem kann durch das Vorsehen der in Fig. 7 gezeigten Walzenabdeckung 51 gelöst werden, die eine Ausbildung einer Plattierungsschicht auf der Oberfläche einer jeweiligen Walze 41 verhindern kann. Demgemäß kann die Oberflächenglätte einer jeweiligen Walze 41 beibehalten werden. Obwohl eine jeweilige elektrisch leitende Walze 41 (der ein Ar­ beitsstück tragende Walzenteil 48) durch eine neue ersetzt werden muß, wenn die Walze 41 mit einer Plattierungsschicht in einer Menge plattiert ist, die die zulässige Grenze übersteigt, läßt der obige Aufbau zu, daß der Zyklus für einen solchen Aus­ tausch verlängert wird.When plating the workpieces W which will be carried on the electroconductive rollers 41 serving as the cathode, it is difficult to plate the lower side of each workpiece W due to the presence of the rollers 41 between the lower anode 3 and the workpieces W. . For this reason, to ensure satisfactory plating on the lower side of each work, it is effective to position the lower anode 3 closer to the rollers 41 or to increase the plating current density at the lower anode 3 . Such countermeasures, however, cause the electrically conductive rollers 41 to be plated in a simple manner because the rollers 41 are arranged closer to the lower electrode 3 than the workpieces W. Such a problem can be provided by the roller cover 51 shown in FIG. 7 can be solved, which can prevent the formation of a plating layer on the surface of each roller 41 . Accordingly, the surface smoothness of each roller 41 can be maintained. Although a respective electroconductive roller 41 (the roller member 48 supporting a work piece) needs to be replaced with a new one when the roller 41 is plated with a plating layer in an amount exceeding the allowable limit, the above structure allows the Cycle for such an exchange is extended.

Wie es in Fig. 2 gezeigt ist, sind ein Motor 55 und eine Steuerbox 56 auf der Motor- Montageplatte 33 angebracht, die am dazwischenliegenden lateralen Element 31 auf der rechten Seite angebracht ist. Auf dem Verstrebungselement 24, das mit dem dazwischenliegenden lateralen Element 31 verbunden ist, ist eine Transmissions- bzw. Übertragungswelle 59 drehbar gelagert, deren gegenüberliegende Enden mit Kegelradgetrieben 58, 58 versehen sind. Am vorderen unteren Längselement 26A ist eine Schneckenwelle 61 drehbar gelagert, die in Eingriff mit dem Schneckenrad 41 jeder elektrisch leitenden Walze 41 ist und die an ihrem Ende auf der rechten Seite mit einem Kegelradgetriebe 60 versehen ist, wie es in Fig. 3 gezeigt ist. Das obere Kegelradgetriebe 58 ist in Eingriff mit einem Kegelradgetriebe 57, das mit der Aus­ gangswelle des Motors 55 gekoppelt ist, während das untere Kegelradgetriebe 58 der Transmissionswelle 59 in Eingriff mit dem Kegelradgetriebe 60 der Schnecken­ welle 61 ist. Demgemäß wird die Drehung der Ausgangswelle des Motors 55 zu jeder elektrisch leitenden Walze 41 über die Transmissionswelle 59 und die Schnecken­ welle 61 übertragen. Es sollte beachtet werden, daß der Motor 55, die Steuerbox 56, die Transmissionswelle 59, die Schneckenweile 61, das Schneckenrad 47 und ähnli­ che Teile die Walzenantriebseinrichtung zum Vorwärts- und Rückwärtsdrehen der elektrisch leitenden Walzen bilden.As shown in Fig. 2, a motor 55 and a control box 56 are mounted on the motor mounting plate 33 which is attached to the intermediate lateral member 31 on the right side. On the strut element 24 , which is connected to the intermediate lateral element 31 , a transmission or transmission shaft 59 is rotatably mounted, the opposite ends of which are provided with bevel gear drives 58 , 58 . On the lower front longitudinal element 26 A, a worm shaft 61 is rotatably mounted, which is in engagement with the worm wheel 41 of each electrically conductive roller 41 and which is provided at its end on the right side with a bevel gear 60 , as shown in FIG. 3 . The upper bevel gear 58 is in engagement with a bevel gear 57 , which is coupled to the output shaft of the motor 55 , while the lower bevel gear 58 of the transmission shaft 59 is in engagement with the bevel gear 60 of the worm shaft 61 . Accordingly, the rotation of the output shaft of the motor 55 is transmitted to each electrically conductive roller 41 via the transmission shaft 59 and the worm shaft 61 . It should be noted that the motor 55 , the control box 56 , the transmission shaft 59 , the worm shaft 61 , the worm wheel 47 and the like parts constitute the roller drive means for rotating the electrically conductive rollers back and forth.

Die Steuerbox 56 enthält eine Motorsteuerschaltung zum Veranlassen, daß sich der Motor 55 mit einem vorbestimmten Zyklus vorwärts und rückwärts dreht. Diese Steu­ erschaltung ist auf der Kathodenseite mit der Stützwelle 32A verbunden und mit der Stützwelle 32B, die mit der Anodenseite der Gleichstrom-Versorgungsquelle elek­ trisch verbunden ist. Somit wird dann, wenn die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 in das Plattierungsbad 1 eingepaßt ist, durch die Metallager 11B, 11B und die Stützwelle 32B Elektrizität an die Steuerschaltung angelegt, um den Motor 55 zu steuern.The control box 56 includes a motor control circuit for causing the motor 55 to rotate back and forth at a predetermined cycle. This control circuit is connected to the support shaft 32 A on the cathode side and to the support shaft 32 B, which is electrically connected to the anode side of the direct current supply source. Thus, through the metal bearings 11 B, 11 B and the support shaft is then when the work piece tank unit 21 is fitted in the plating bath 1, 32 B applied electricity to the control circuit to control the motor 55th

Der Beförderungsträger 71 hat den Hebearm 72, der sich relativ zum Hauptkörper heben und senken kann, der auf der Beförderungsschiene 70 gleitbar angebracht ist. Der Hebearm 72 führt Hebe- und Senkbewegungen relativ zum Hauptkörper des Retraktionsträgers 71 beispielsweise durch Expansions- und Zurückziehbewegungen einer Kolbenstange durch, die durch einen Hydraulikzylinder verursacht werden, oder durch Aufwickel- und Entwickelbewegungen eines Drahtseils. Wie es in den Fig. 2 und 3 gezeigt ist, hat der Hebearm 72 einen unteren Endteil mit einem Paar von Hängewellen 74, 74 an den vorderen und hinteren Seiten in bezug auf die y- Achsenrichtung, wobei die Hängewellen 74, 74 mit dem Paar von Hakenelementen 35, 35 an ihren V-förmigen Ausbuchtungen in Eingriff gebracht werden können.The carrier 71 has the lifting arm 72 , which can raise and lower relative to the main body, which is slidably mounted on the carrier rail 70 . The lifting arm 72 performs lifting and lowering movements relative to the main body of the retraction beam 71, for example, by expansion and retraction movements of a piston rod, which are caused by a hydraulic cylinder, or by winding and developing movements of a wire rope. As shown in Figs. 2 and 3, the lifting arm 72 has a lower end part with a pair of hanging shafts 74 , 74 on the front and rear sides with respect to the y-axis direction, the hanging shafts 74 , 74 with the pair of hook elements 35 , 35 can be brought into engagement at their V-shaped bulges.

Der Hebearm 72 hebt und senkt sich zwischen einer unteren Grenzposition, bei wel­ cher jede Hängewelle 74 zwischen dem oberen Teil 36 eines jeweiligen Hakenele­ ments 35 und dem oberen Ende des oberen Rahmenteils 22 der Arbeitsstück- Behältereinheit 21 angeordnet ist, und einer oberen Grenzposition, bei welcher die Arbeitsstück-Behältereinheit 21, die durch die Hängewellen 74, 74 aufgehängt ist, die mit den Hakenelementen 35 bei ihren V-förmigen Ausbuchtungen 37 in Eingriff sind, das obere Ende einer weiteren Arbeitsstück-Behältereinheit 21 in einem derar­ tigen Zustand nicht stört, in welchem sie im Plattierungsbad 1 oder ähnlichem vorge­ sehen ist. Demgemäß kann sich der Hebearm 72 dann, wenn der Hebearm 72 bei der unteren Grenzposition angeordnet ist, bewegen, ohne die Arbeitsstück- Behältereinheit 21 zu stören, die im Plattierungsbad 1 oder ähnlichem vorgesehen ist. Weiterhin kann die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 angehoben werden, indem veranlaßt wird, daß der Hebearm 72 auf die Anpassungsposition der Arbeitsstück- Behältereinheit 21 ansteigt. Wenn der Hauptkörper des Beförderungsträgers 71 mit dem Hebearm 72, an dem die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 hängt, zu einer Ziel­ position bei der oberen Grenzposition bewegt wird, und der Hebearm 72 dann veran­ laßt wird, zur unteren Grenzposition abzufallen, kann die Arbeitsstück- Behältereinheit 21 in ein Ziel-Behandlungsbad oder eine Ziel-Kammer eingefügt werden. Es muß nicht gesagt werden, daß die Metallstützen, die zum Eingreifen und zum Lagern der Stützwellen 32A, 32B angepaßt sind, am obersten Teil des Ziel- Behandlungsbads oder der Ziel-Kammer vorgesehen sein müssen, bevor die Ar­ beitsstück-Behältereinheit 21 in das Behandlungsbad oder die Kammer eingefügt wird. Es ist hier zu beachten, daß der Beförderungsträger äquivalent zur Beförde­ rungseinrichtung der Erfindung ist.The lifting arm 72 rises and falls between a lower limit position, at which each suspension shaft 74 is arranged between the upper part 36 of a respective hook element 35 and the upper end of the upper frame part 22 of the work piece container unit 21 , and an upper limit position which the work piece container unit 21 , which is suspended by the hanging shafts 74 , 74 , which are engaged with the hook elements 35 in their V-shaped bulges 37 , does not disturb the upper end of another work piece container unit 21 in such a state, in which it is seen in the plating bath 1 or the like. Accordingly, the lifting arm 72 can, when the lifting arm is located at the lower limit position 72, move without the Arbeitsstück- container unit to disturb 21 which is provided like in the plating bath or 1. Furthermore, the workpiece holder unit 21 can be raised by causing the lifting arm 72 to rise to the fitting position of the workpiece holder unit 21 . When the main body of the carrier 71 is moved to a target position at the upper limit position with the lift arm 72 on which the work piece container unit 21 is suspended, and the lift arm 72 is then caused to drop to the lower limit position, the work piece container unit can 21 can be inserted into a target treatment bath or chamber. It need not be said that the metal supports, which are adapted to engage and support the support shafts 32 A, 32 B, must be provided at the top of the target treatment bath or chamber before the Ar work piece container unit 21 in the treatment bath or chamber is inserted. It should be noted here that the carrier is equivalent to the conveyor of the invention.

Das Plattierungssystem ist mit einer Steuervorrichtung zum Steuern des gesamten Systems versehen. Wie es in Fig. 9 gezeigt ist, enthält die Steuervorrichtung eine Hauptsteuereinheit 81 mit einer CPU 82, einem ROM 83, einem RAM 84 und einer Steuer-Schnittstelle 85, wobei die Hauptsteuereinheit 81 mit einem Steuerpult 86 verbunden ist, um durch einen Bediener bedient zu werden. Der Bediener gibt Daten eines Plattierungsverfahrens über das Steuerpult 86 zur Hauptsteuereinheit 81 ein, und die so eingegebenen Daten werden im ROM 83 gespeichert, damit die CPU 82 Steuersignale ausgeben kann.The plating system is provided with a control device for controlling the entire system. As shown in FIG. 9, the control device includes a main control unit 81 having a CPU 82 , a ROM 83 , a RAM 84 and a control interface 85 , the main control unit 81 being connected to a control panel 86 to be operated by an operator to become. The operator inputs data of a plating process to the main control unit 81 via the control panel 86 , and the data thus input is stored in the ROM 83 so that the CPU 82 can output control signals.

Mit der Hauptsteuereinheit 81 sind ein oberer Anodenstrom-Steuerabschnitt 81, ein unterer Anodenstrom-Steuerabschnitt 92, ein Beförderungsträger-Steuerabschnitt 93, ein Verschiebungs-Steuerabschnitt 94 zum Steuern der Verschiebung der obe­ ren Anode 2, ein Ultraschallreinigungs-Steuerabschnitt (nicht gezeigt) zum Steuern von Ultraschallreinigungsvorrichtungen, die in den Ultraschall-Wasserwaschbädern 104 bzw. 106 vorgesehen sind, und ein Trocknungs-Steuerabschnitt (nicht gezeigt) zum Steuern eines Warmluftgebläses, das zum Zuführen von Heißluft in die Trocknungskammer 108 angepaßt ist, verbunden. Jeder dieser Steuerabschnitte empfängt Steuersignale von der Hauptsteuereinheit 81. Zum oberen Anodenstrom- Steuerabschnitt 91 und zum unteren Anodenstrom-Steuerabschnitt 92 ist die Gleichstrom-Versorgungsquelle 90 zugeordnet, die zum Zuführen von Plattierungs- Gleichstrom geeignet ist. Die Gleichstrom-Versorgungsquelle 90 ist auf ihrer An­ odenseite auch mit den Metallstützen 11B, 11B verbunden, die als Anodenan­ schlußstücke zum Plattierungsbad 1 oder ähnliches dienen. Weiterhin ist die Gleichstrom-Versorgungsquelle 90 auf ihrer Kathodenseite mit der Kathodenseite von jeweils dem oberen Anodenstrom-Steuerabschnitt 91 und dem unteren An­ odenstrom-Steuerabschnitt 92 verbunden, und weiterhin mit den Metallstützen 11A, 11A, die als Kathodenanschlußstücke zum Plattierungsbad 1 oder ähnliches dienen.With the main control unit 81 are an upper anode current control section 81 , a lower anode current control section 92 , a carrier control section 93 , a displacement control section 94 for controlling the displacement of the upper anode 2 , an ultrasonic cleaning control section (not shown) for control ultrasonic cleaning devices provided in the ultrasonic water washing baths 104 and 106 , respectively, and a drying control section (not shown) for controlling a hot air blower adapted to supply hot air into the drying chamber 108 . Each of these control sections receives control signals from the main control unit 81 . Direct current supply source 90 , which is suitable for supplying direct current plating, is assigned to upper anode current control section 91 and lower anode current control section 92 . The DC power supply 90 is on its odode side also connected to the metal supports 11 B, 11 B, which serve as anode con nections to the plating bath 1 or the like. Furthermore, the DC power supply 90 is connected on its cathode side to the cathode side of the upper anode current control section 91 and the lower anode current control section 92 , respectively, and further to the metal supports 11 A, 11 A, which act as cathode fittings for the plating bath 1 or the like serve.

Nachfolgend wird der durch das Plattierungssystem gemäß dem ersten Ausfüh­ rungsbeispiel durchgeführte Plattierungsprozeß beschrieben. Subsequently, that by the plating system according to the first embodiment Example performed plating process described.  

Zuerst werden Arbeitsstücke W auf den elektrisch leitenden Walzen 41 mit einem geeigneten Abstand zueinander in der Arbeitsstück-Behältereinheit 21 angeordnet. Die Arbeitsstück-Behältereinheit 21, die die Arbeitsstücke W enthält, wird auf der Station 101 zum Hineintragen angeordnet. Dann hebt der Beförderungsträger 71 die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 an, befördert sie zu einer Stelle über dem Säure- Waschbad 102 und veranlaßt, daß sich der Hebearm 72 absenkt, um die Arbeits­ stück-Behältereinheit 21 in das Bad 102 einzufügen. Nach einem Verstreichen einer vorbestimmten Zeitperiode veranlaßt der Beförderungsträger 71, daß der Hebearm 72 wieder anhebt, um dadurch die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 nach oben zu he­ ben, befördert sie zum ersten Wasserwaschbad 103 und fügt sie dort hinein ein. Während der Behandlung werden die elektrisch leitenden Walzen 41 vorwärts und rückwärts gedreht, um zu veranlassen, daß sich die Arbeitsstücke W in der x- Achsenrichtung hin- und herbewegen. Gleichermaßen, nachdem die Arbeitsstücke W einer Ultraschallreinigung zum Entfernen einer Verschmutzung, die an ihnen an­ haftet, im ersten Ultraschall-Wasserwaschbad 104 unterzogen worden sind, beför­ dert der Beförderungsträger 71 die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 zum Plattie­ rungsbad 1 und fügt sie dort hinein ein.First, workpieces W are placed on the electrically conductive rollers 41 at a suitable distance from each other in the workpiece container unit 21 . The work piece container unit 21 containing the work pieces W is placed on the station 101 for carrying in. Then the carrier 71 lifts the work piece container unit 21 , conveys it to a place above the acid washing bath 102, and causes the lifting arm 72 to lower to insert the work piece container unit 21 into the bath 102 . After a lapse of a predetermined period of time, the carrier 71 causes the lifting arm 72 to raise again to thereby lift the work container unit 21 upward, conveys it to the first water washing bath 103, and inserts it therein. During the treatment, the electroconductive rollers 41 are rotated back and forth to cause the workpieces W to reciprocate in the x-axis direction. Likewise, after the workpieces W have been subjected to ultrasonic cleaning for removing contamination attached to them in the first ultrasonic water washing bath 104 , the carrier 71 transfers the working piece container unit 21 to the plating bath 1 and inserts them therein.

Während der Hebearm 72 des Beförderungsträgers 71 die Arbeitsstück- Behältereinheit 21 in das Plattierungsbad 1 einfügt, wird die obere Anode 2 in den Zurückziehraum 5 zurückgezogen. Nachdem diese Einfügungsoperation beendet worden ist, geht der Anodenstützarm 8 dazu über, vor einem Plattieren die obere Anode 2 zu einer Position zu bewegen, die der unteren Anode 3 gegenüberliegt. Beim Plattierungsprozeß wird veranlaßt, daß sich die auf den elektrisch leitenden Walzen 41 getragenen Arbeitsstücke W in der x-Achsenrichtung gemäß einer Vor­ wärts- und Rückwärtsdrehung der Walzen 41 hin- und herbewegen. In dem Fall, in welchem die Walzenabdeckung 51 vorgesehen ist, ist der Abstand einer solchen Hin- und Herbewegung der Arbeitsstücke W wenigstens im wesentlichen gleich der Breite der Walzenabdeckung 51. Jedoch dann, wenn der Abstand für eine Hin- und Herbewegung zu groß ist, wird die Anzahl von Arbeitsstücken W, die auf den elek­ trisch leitenden Walzen 41 angeordnet werden können, unerwünscht klein. In dem Fall, in welchem der Plattierungsprozeß durchgeführt wird, ohne die Walzenabdec­ kung 51 zu verwenden, ist der Abstand für eine Hin- und Herbewegung vorzugswei­ se im wesentlichen gleich dem Durchmesser einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41. Der Abstand für eine Hin- und Herbewegung wird durch Einstellen eines Vorwärts-Rückwärts-Umschaltzeitgebers gesteuert, der in der Motor-Steuerschaltung dieses Ausführungsbeispiels vorgesehen ist. Für jedes Arbeitsstück W, das mit einer Plattierungsschicht mit einer gleichmäßigen Dicke auf seiner oberen und seiner unte­ ren Seite zu plattieren ist, kann die Stromdichte bei jeder der oberen und der unteren Anode 2 und 3 gesteuert werden.While the lifting arm 72 of the carrier 71 inserts the work piece container unit 21 into the plating bath 1 , the upper anode 2 is withdrawn into the retraction space 5 . After this insertion operation is completed, the anode support arm 8 proceeds to move the upper anode 2 to a position opposite to the lower anode 3 before plating. In the plating process, the work pieces W carried on the electroconductive rollers 41 are caused to reciprocate in the x-axis direction according to a forward and backward rotation of the rollers 41 . In the case where the roller cover 51 is provided, the distance of such reciprocation of the work pieces W is at least substantially the same as the width of the roller cover 51 . However, if the distance for reciprocation is too large, the number of workpieces W that can be placed on the electrically conductive rollers 41 becomes undesirably small. In the case where the plating process is carried out without using the roll cover 51 , the distance for a reciprocating movement is preferably the same as the diameter of each electrically conductive roll 41 . The reciprocation distance is controlled by setting a forward-reverse switching timer provided in the motor control circuit of this embodiment. For each work piece W to be plated with a plating layer having a uniform thickness on its upper and lower sides, the current density at each of the upper and lower anodes 2 and 3 can be controlled.

Nach einem Verstreichen einer vorbestimmten Behandlungszeitperiode wird der An­ odenstützarm 8 zurückbewegt, um die obere Anode 2 in den Zurückziehraum 5 zu­ rückzuziehen. Dann veranlaßt der Beförderungsträger 71, daß sich der Hebearm 77 anhebt, um dadurch die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 nach oben zu heben, und er befördert die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 jeweils aufeinanderfolgend zu dem zweiten Wasserwaschbad 104, dem zweiten Ultraschall-Wasserwaschbad 105, dem dritten Wasserwaschbad 107 und der Trocknungskammer 108 und fügt sie dort hin­ ein ein, damit die Arbeitsstücke W einer jeweiligen Behandlung unterzogen werden. Danach wird die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 zur Station 109 zum Hinaustragen befördert, und die Arbeitsstücke, die mit einer Plattierung fertig sind, werden aus der Arbeitsstück-Behältereinheit 21 entladen.After a predetermined treatment period has elapsed, the anode support arm 8 is moved back in order to retract the upper anode 2 into the retraction space 5 . Then, the carrier 71 causes the lifting arm 77 to raise, thereby lifting the work piece container unit 21 upward, and conveys the work piece container unit 21 to the second water wash bath 104 , the second ultrasonic water wash bath 105 , and the third one at a time Water wash bath 107 and the drying chamber 108 and inserts them there so that the workpieces W are subjected to a respective treatment. Thereafter, the work piece container unit 21 is conveyed to the station 109 for carrying out, and the work pieces that are finished with plating are unloaded from the work piece container unit 21 .

Wenn ein solcher Plattierungsprozeß wiederholt durchgeführt wird, wird unvermeid­ bar eine Plattierungsschicht in stärkerem Maße abgelagert und auf der Oberfläche einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 aufgewachsen. Wenn eine solche un­ vermeidbare Plattierungsschicht derart gewachsen ist, daß sie eine Dicke hat, die einen gegebenen Wert übersteigt, gelangt sie in Kontakt mit der Innenumfangsflä­ che der Walzenabdeckung 51 oder macht die Walzenoberfläche rauh, um die elek­ trische Leitfähigkeit über den Walzen 41 und den Arbeitsstücken W zu ändern, was zum Ergebnis hat, daß die Arbeitsstücke W nicht einheitlich plattiert werden. Ange­ sichts dieser Tatsache wird der ein Arbeitsstück tragende Walzenteil 48 jeder elek­ trisch leitenden Walze 41 durch einen neuen ersetzt, wenn die Dicke einer solchen Plattierungsschicht auf der Walzenoberfläche einen vorbestimmten Wert erreicht. Da das Plattierungssystem gemäß diesem Ausführungsbeispiel mit dem Plattierungs­ schicht-Entfernungsbad 110 zum Auflösen und zum Entfernen einer auf jeder elek­ trisch leitenden Walze 41 abgelagerten Plattierungsschicht versehen ist, kann eine solche Plattierungsschicht durch Eintauchen der Arbeitsstück-Behältereinheit 21 zu­ sammen mit den elektrisch leitenden Walzen 41 in das Plattierungsschicht- Entfernungsbad 110 entfernt werden. Dieses Merkmal ist insbesondere dort vorteilhaft, wo eine jeweilige elektrisch leitende Walze 41 von einem einstückigen Typ ist, der nicht geteilt werden kann.If such a plating process is repeated, a plating layer is inevitably deposited to a greater extent and grown on the surface of each electrically conductive roller 41 . When such an unavoidable plating layer is grown to have a thickness exceeding a given value, it comes into contact with the inner peripheral surface of the roller cover 51 or roughenes the roller surface to provide the electrical conductivity over the rollers 41 and To change workpieces W, with the result that the workpieces W are not plated uniformly. In view of this, the work-carrying roller portion 48 of each electrically conductive roller 41 is replaced with a new one when the thickness of such a plating layer on the roller surface reaches a predetermined value. Since the plating system according to this embodiment is provided with the plating layer removing bath 110 for dissolving and removing a plating layer deposited on each electrically conductive roller 41 , such a plating layer can be plunged together with the electrically conductive rollers 41 by immersing the workpiece holder unit 21 into the plating layer removal bath 110 . This feature is particularly advantageous where a respective electrically conductive roller 41 is of a one-piece type that cannot be split.

Die vorliegende Erfindung ist nicht auf das vorangehende erste Ausführungsbeispiel beschränkt. Beispielsweise sind die folgenden Änderungen und Variationen möglich.The present invention is not based on the foregoing first embodiment limited. For example, the following changes and variations are possible.

Obwohl beim ersten Ausführungsbeispiel die obere und die untere Anode 2 und 3 oberhalb und unterhalb der dazwischenliegenden elektrisch leitenden Walzen 41 angeordnet sind, um ein Plattieren durchzuführen, können diese Anoden an Seiten­ wänden des Plattierungsbads 1 angebracht sein oder können in eine Anode inte­ griert sein. Wenn die obere Anode 2, die beim ersten Ausführungsbeispiel verwendet wird, eliminiert wird, wird die Verschiebungseinrichtung zum Verschieben der oberen Anode 2 unnötig.Although in the first embodiment, the upper and lower anode 2 and 3 are arranged above and below the intermediate electrically conductive rollers 41 to perform plating, these anodes may be attached to side walls of the plating bath 1 or may be integrated in an anode. If the upper anode 2 used in the first embodiment is eliminated, the shifting means for shifting the upper anode 2 becomes unnecessary.

Weiterhin kann, obwohl das erste Ausführungsbeispiel den Beförderungsträger 71 als die Einrichtung zum Befördern der Arbeitsstück-Behältereinheit 21 zu einer jewei­ ligen Behandlungsstelle verwendet, eine geeignete alternative Einrichtung verwendet werden, wie beispielsweise ein Laufkran oder ein elektrisch angetriebener Hebezug.Further, although the first embodiment uses the carrier 71 as the means for conveying the work container unit 21 to a respective treatment site, any suitable alternative means such as an overhead crane or an electric hoist can be used.

Während das erste Ausführungsbeispiel den Zwischengetriebemechanismus als die Einrichtung für einen Rotationsantrieb der elektrisch leitenden Walzen 41 verwendet, kann eine derartige Anordnung angenommen werden, daß jede Walze 41 mit einem Zahnrad anstelle des Arbeitsstückrads 47 versehen ist und eine Kette um das Zahn­ rad gezogen ist, um es mittels des Motors vorwärts und rückwärts zu drehen.While the first embodiment uses the intermediate gear mechanism as the means for rotationally driving the electroconductive rollers 41 , such an arrangement can be adopted that each roller 41 is provided with a gear instead of the work gear 47 and a chain around the gear is pulled around to turn it back and forth by means of the motor.

Beim ersten Ausführungsbeispiel ist eine einzige Gleichstrom-Versorgungsquelle vorgesehen, die sowohl als Plattierungs-Versorgungsquelle als auch als Motorsteue­ rungs-Versorgungsquelle dient, und das Paar von Metallstützen 11A, 11A, die in der x-Achsenrichtung beabstandet sind, und das entsprechende Paar von Metallstützen 11B, 11B, die in der x-Achsenrichtung beabstandet sind, sind jeweils mit der Katho­ denseite und der Anodenseite der Gleichstrom-Versorgungsquelle elektrisch verbun­ den. Anstelle dieses Aufbaus kann eine Versorgungsquelle, die ausschließlich zur Motorsteuerung zu verwenden ist, separat vorgesehen sein. In diesem Fall kann ein derartiger Aufbau bzw. eine derartige Anordnung verwendet werden, daß das Plattie­ rungsbad 1 mit einem Paar von leitenden Stücken versehen ist, die mit der Anoden­ seite bzw. der Kathodenseite dieser Versorgungsquelle elektrisch verbunden sind, während die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 mit einem entsprechenden Paar von elektrischen Aufnahmestücken versehen ist, die in Kontakt mit den leitenden Stüc­ ken als Gegenstück gebracht werden, wenn die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 in das Plattierungsbad 1 eingefügt wird. In diesem Fall ist es möglich, eine Wechsel­ strom-Versorgungsquelle als die Motorsteuerungs-Versorgungsquelle zu verwenden.In the first embodiment, a single DC power supply source is provided, supply source plating also serves both as a Motorsteue approximately supply source, and the pair of metal supports 11 A, 11 A, which are spaced apart in the x-axis direction, and the corresponding pair of metal supports 11 B, 11 B, which are spaced in the x-axis direction, are electrically connected to the cathode side and the anode side of the DC power source, respectively. Instead of this structure, a supply source that is to be used exclusively for motor control can be provided separately. In this case, such a structure or arrangement can be used that the plating bath 1 is provided with a pair of conductive pieces that are electrically connected to the anode side and the cathode side of this supply source, respectively, while the work piece container unit 21st is provided with a corresponding pair of electrical receptacles which are brought into contact with the conductive pieces as a counterpart when the work piece container unit 21 is inserted into the plating bath 1 . In this case, it is possible to use an AC power source as the motor control power source.

Weiterhin kann die Anzahl von Behandlungsbädern, wie beispielsweise von Säure­ waschbädern und Wasserwaschbädern, die beim ersten Ausführungsbeispiel enthal­ ten ist, geeignet variiert werden. Beispielsweise kann eine Vielzahl von Plattierungs­ bädern verwendet werden, um einen Plattierungsprozeß am unteren Ende bzw. Bo­ den (eine Semiglanzplattierung) und einen Plattierungsprozeß am oberen Ende (eine Glanzplattierung) durchzuführen. Weiterhin können, obwohl das Plattierungssystem gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel konfiguriert ist, um eine Reihe von Behand­ lungen bei den Behandlungsbädern und der Kammer auf einer Arbeitsstück- Behälterbasis durchzuführen, die Vorplattierungsbehandlungen (ein Waschen mit Säure und ein Waschen mit Wasser) und die Nachplattierungsbehandlungen (ein Waschen mit Wasser und ein Trocknen) durch separate Systeme durchgeführt wer­ den.Furthermore, the number of treatment baths, such as acid wash baths and water wash baths, which contain the first embodiment is suitable to be varied. For example, a variety of plating baths are used to perform a lower end plating process or Bo den (a semi-gloss plating) and a top-end plating process (a Gloss plating). Furthermore, although the plating system according to the first embodiment is configured to a number of treatments lungs in the treatment baths and the chamber on a work piece Container base to perform the pre-plating treatments (a wash with Acid and a wash with water) and post-plating treatments (a Washing with water and drying) carried out by separate systems the.

Nun wird ein Plattierungssystem als zweites Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung beschrieben.Now, a plating system as the second embodiment of the present Invention described.

Fig. 10 stellt die Gesamtkonfiguration des Plattierungssystems gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung dar. Der angenehmeren Darstellung halber wird gemäß dem Koordinatensystem in Fig. 10 die Richtung, in welcher Ar­ beitsstücke W befördert werden, "x-Achsenrichtung" oder "Längsrichtung" genannt werden und wird die Richtung, die senkrecht zur Beförderungsrichtung in einer hori­ zontalen Ebene einschließlich der Beförderungsrichtung ist, "y-Achsenrichtung" oder "Lateralrichtung" genannt werden. Fig. 10 shows the overall configuration of the plating system according to the second embodiment of the present invention. For the convenience of illustration, according to the coordinate system in Fig. 10, the direction in which work pieces W are conveyed is called "x-axis direction" or "longitudinal direction" the direction perpendicular to the conveying direction in a horizontal plane including the conveying direction will be called "y-axis direction" or "lateral direction".

Das Plattierungssystem enthält ein Plattierungsbad 201, das einen Hauptteil des Plattierungssystems bildet, eine Wasserwaschkammer 291 mit einer Vielzahl von Duschdüsen, eine Luftgebläsekammer 292 mit einer Vielzahl von Luftdüsen, eine Trocknungskammer 293 mit einer Vielzahl von Heißlufteinlässen und eine Behälter­ box 294 zum Unterbringen der Arbeitsstücke W, die einer Reihe von Behandlungen unterzogen worden sind, welche in linearer Richtung in der x-Achsenrichtung angeordnet sind. Der angenehmeren Darstellung halber werden die Kammern einschließ­ lich der Wasserwaschkammer 291, der Luftgebläsekammer 292 und der Trocknungskammer 293 manchmal gemeinsam ohne Unterscheidung "Behandlungskammer(n)" genannt werden.The plating system includes a plating bath 201 which forms a main part of the plating system, a water washing chamber 291 with a plurality of shower nozzles, an air blower chamber 292 with a plurality of air nozzles, a drying chamber 293 with a plurality of hot air inlets and a container box 294 for accommodating the workpieces W. which have undergone a series of treatments arranged in the linear direction in the x-axis direction. For the sake of convenience, the chambers including the water wash chamber 291 , air blower chamber 292 and drying chamber 293 will sometimes be referred to collectively as "treatment chamber (s)" without distinction.

Wie es in Fig. 11 gezeigt ist, enthält das Plattierungssystem das Plattierungsbad 201, das eine Plattierungslösung enthält. Das Plattierungsbad 201 ist mit einer Viel­ zahl von elektrisch leitenden Walzen 41 zum Befördern der Arbeitsstücke W verse­ hen. Diese elektrisch leitenden Walzen 41 haben jeweils eine Achse, die sich in der y-Achsenrichtung erstreckt, und sind in einer Reihe mit einem vorbestimmten Inter­ vall in der x-Achsenrichtung angeordnet. Die Walzen 41 werden in die Plattierungs­ lösung eingetaucht. Gleich denjenigen, die in Fig. 6 gezeigt sind, sind die elektrisch leitenden Walzen 41 durch ein Paar von Längselementen (entsprechend den Ele­ menten 26A, 26B in Fig. 5) gestützt bzw. gelagert, die sich parallel in der x- Achsenrichtung mit einem vorbestimmten Abstand dazwischen in der y- Achsenrichtung für eine Vorwärts- und Rückwärtsdrehung erstrecken und sind mit der Kathodenseite einer Plattierungs-Versorgungsquelle durch ein Elektrizitäts- Zuführelement (entsprechend den Elementen 45, 45 in Fig. 6) elektrisch verbunden, das innerhalb des vorderen Längselements (entsprechend Fig. 26A) vorgesehen ist. Die Längselemente sind an ihren gegenüberliegenden Enden und Mittelteilen durch laterale Elemente (entsprechend den Elementen 27 in Fig. 5) miteinander verbun­ den. Diese lateralen Elemente sind so angeordnet, daß ihr oberes Ende niedriger als die Arbeitsstück tragende (oder Arbeitsstück befördernde) Ebene ist, die durch die elektrisch leitenden Walzen 41 definiert ist, wodurch die lateralen Elemente die durch die Walzen 41 beförderten Arbeitsstücke nicht stören.As shown in Fig. 11, the plating system includes the plating bath 201 which contains a plating solution. The plating bath 201 is hen with a lot of number of electrically conductive rollers 41 for conveying the workpieces W hen. These electrically conductive rollers 41 each have an axis extending in the y-axis direction, and are arranged in a row with a predetermined interval in the x-axis direction. The rollers 41 are immersed in the plating solution. Like those shown in Fig. 6, the electrically conductive rollers 41 are supported by a pair of longitudinal members (corresponding to the elements 26 A, 26 B in Fig. 5) which are parallel in the x-axis direction extend a predetermined distance therebetween in the y-axis direction for forward and backward rotation and are electrically connected to the cathode side of a plating supply source through an electricity supply member (corresponding to members 45 , 45 in Fig. 6) which is inside the front Longitudinal elements (corresponding to Fig. 26A) is provided. The longitudinal elements are connected to one another at their opposite ends and middle parts by lateral elements (corresponding to elements 27 in FIG. 5). These lateral elements are arranged so that their upper end is lower than the workpiece carrying (or workpiece conveying) plane defined by the electrically conductive rollers 41 , whereby the lateral elements do not interfere with the workpiece conveyed by the rollers 41 .

Die elektrisch leitenden Walzen 41 werden durch einen Walzenantriebsmotor (nicht gezeigt), der außerhalb des Plattierungsbads 201 angeordnet ist, über einen geeig­ neten Transmissionsmechanismus angetrieben. Da jede elektrisch leitende Walze dieselbe Konfiguration wie diejenige hat, die beim ersten Ausführungsbeispiel ver­ wendet wird, wird ein gleiches Bezugszeichen wie beim ersten Ausführungsbeispiel zum Bezeichnen von ihr verwendet.The electroconductive rollers 41 are driven by a roller drive motor (not shown) located outside the plating bath 201 via a suitable transmission mechanism. Since each electrically conductive roller has the same configuration as that used in the first embodiment, the same reference numeral as in the first embodiment is used to designate it.

Eine obere und eine untere Anode 202 und 203 sind entfernbar am Plattierungsbad 201 an Stellen oberhalb und unterhalb der elektrisch leitenden Walzen 41 angebracht. Die obere und die untere Anode 202 und 203 haben dieselben Konfiguratio­ nen wie diejenigen, die beim ersten Ausführungsbeispiel verwendet werden.Upper and lower anodes 202 and 203 are removably attached to the plating bath 201 at locations above and below the electrically conductive rollers 41 . The upper and lower anodes 202 and 203 have the same configurations as those used in the first embodiment.

Das Plattierungsbad 201 hat eins Seitenwand 211 zum Hineintragen auf einer stromaufwärtigen Seite in der Beförderungsrichtung, wobei die Seitenwand 211 zum Hineintragen einen Einlaß 212 definiert, der eine Höhe hat, um zuzulassen, daß ein flaches Arbeitsstück W dort hindurch läuft, und eine Breite, die im wesentlichen gleich der Länge jeder Walze 41 ist. Eine Seitenwand 213 zum Hinaustragen des Plattierungsbads 201 auf einer stromabwärtigen Seite in der Beförderungsrichtung definiert einen Auslaß 214 derselben Konfiguration wie derjenigen des Einlasses 212. Die Seitenwand 211 zum Hineintragen und die Seitenwand 214 zum Hinaustra­ gen sind mit jeweiligen Auslauf-Verhinderungsvorrichtungen 221 und 222 versehen, um zu verhindern, daß die Plattierungslösung im Plattierungsbad 201 aus dem Bad 201 durch den Einlaß 212 oder den Auslaß 214 ausläuft, wenn die durch die elek­ trisch leitenden Walzen 41 beförderten Arbeitsstücke W durch den Einlaß 212 oder den Auslaß 214 laufen.The plating bath 201 has a side wall 211 for carrying in on an upstream side in the conveying direction, the side wall 211 for carrying in defining an inlet 212 which has a height to allow a flat work piece W to pass therethrough and a width which is substantially equal to the length of each roller 41 . A side wall 213 for carrying out the plating bath 201 on a downstream side in the conveying direction defines an outlet 214 of the same configuration as that of the inlet 212 . The side wall 211 is provided for carrying in and the side wall are gene to Hinaustra 214 with respective leak-prevention devices 221 and 222 to prevent the plating solution in the plating bath 201 runs out of the bath 201 through the inlet 212 or the outlet 214 when the by the electrically conductive rollers 41 conveyed workpieces W run through the inlet 212 or the outlet 214 .

Wie es in den Fig. 11 bis 13 gezeigt ist, weisen die Auslauf- Verhinderungsvorrichtungen 221 und 222 jeweils ein Paar von oberen und unteren Leck-Verhinderungswalzen 224 und 225 auf, die über der Arbeitsstück befördernden Ebene der elektrisch leitenden Walzen 41 einander gegenüberstehen und parallel positioniert sind, so daß ihre jeweiligen Außenumfangsflächen aneinanderstoßen. Die Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 sind durch Seitenwandteile 227, 227 eines Rahmenelements 226 drehbar gelagert, das aus einem steifen synthetischen Harz hergestellt ist. Die untere Leck-Verhinderungswalze 225 hat eine Walzenwelle 231, von welcher ein Ende mit einem ersten Getriebe 232 versehen ist, das mit einem Motor (nicht gezeigt) zum verriegelten Antreiben der Leck-Verhinderungswalzen ge­ koppelt ist, und von welcher das andere Ende mit einem zweiten Getriebe 233 ver­ sehen ist. Die obere Leck-Verhinderungswalze 224 hat eine Walzenwelle 231, von welcher ein Ende mit einem angetriebenen Getriebe 234 versehen ist, das gleich dem zweiten Getriebe 233 in bezug auf eine Anzahl von Zähnen und einen Ab­ standsdurchmesser ist und in Eingriff mit dem zweiten Getriebe 233 ist. Demgemäß dreht sich dann, wenn sich die untere Leck-Verhinderungswalze 225 in einer Rich­ tung dreht, um die Arbeitsstücke W in Richtung zur stromabwärtigen Seite (in der Beförderungsrichtung) zu befördern, auch die obere Leck-Verhinderungswalze 224 in der Beförderungsrichtung mit einer Geschwindigkeit, die gleich der Drehgeschwindigkeit der unteren Walze 225 ist. Die Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 haben jeweils eine flexible Schicht 236, die um die jeweilige Walzenwelle 231 aus­ gebildet ist, wobei die flexible Schicht 236 aus einem flexiblen Material ausgebildet ist, wie beispielsweise einem geschäumten synthetischen Harz, wie beispielsweise einem geschäumten Urethangummi oder einem geschäumten Silikongummi, wel­ ches gemäß dem Profil eines jeweiligen Arbeitsstücks W an den Kontaktteilen der Walzen 224 und 225 elastisch deformierbar ist.As shown in Figs. 11 to 13, the leak preventive devices 221 and 222 each have a pair of upper and lower leak preventive rollers 224 and 225 which face each other and in parallel over the work-conveying plane of the electroconductive rollers 41 are positioned so that their respective outer peripheral surfaces abut each other. The leak prevention rollers 224 , 225 are rotatably supported by side wall parts 227 , 227 of a frame member 226 made of a rigid synthetic resin. The lower leak prevention roller 225 has a roller shaft 231 , one end of which is provided with a first gear 232 which is coupled to a motor (not shown) for lockingly driving the leak prevention rollers, and the other end of which is coupled to one second gear 233 is seen ver. The upper leak prevention roller 224 has a roller shaft 231 , one end of which is provided with a driven gear 234 that is the same as the second gear 233 in terms of a number of teeth and a pitch diameter and is engaged with the second gear 233 . Accordingly, when the lower leak prevention roller 225 rotates in one direction to convey the workpieces W toward the downstream side (in the conveying direction), the upper leak prevention roller 224 also rotates in the conveying direction at a speed of which is equal to the speed of rotation of the lower roller 225 . The leak prevention rollers 224 , 225 each have a flexible layer 236 formed around the respective roller shaft 231 , the flexible layer 236 being formed from a flexible material such as a foamed synthetic resin such as a foamed urethane rubber or a foamed silicone rubber, which is elastically deformable according to the profile of a respective work piece W on the contact parts of the rollers 224 and 225 .

Das Rahmenelement 226 hat weiterhin eine obere Wand 228 und eine untere Wand 229, die jeweils mit Dichtungselementen 238 und 239 versehen sind, die jeweils an die Außenumfangsfläche einer jeweiligen Walze 224 oder 225 stoßen, um ein Aus­ fließen einer Flüssigkeit zu verhindern. Eine Schicht (nicht gezeigt) aus Harz mit ei­ nem niedrigen Reibkoeffizienten, wie beispielsweise aus Fluorplastik, ist an einer Innenfläche eines jeweiligen der Dichtungselemente 238, 239 befestigt, die an die Walzen 224, 225 stoßen, und an einer Innenfläche eines jeweiligen der Seitenwand­ teile 227, 227, um dadurch den Reibwiderstand an den Anstoßteilen zu reduzieren und somit eine Abnutzung daran zu verlangsamen.The frame member 226 further has an upper wall 228 and a lower wall 229 , each provided with sealing members 238 and 239 , each abutting the outer peripheral surface of a respective roller 224 or 225 to prevent a liquid from flowing out. A layer (not shown) of resin having a low coefficient of friction, such as fluoroplastic, is attached to an inner surface of each of the sealing members 238 , 239 that abut the rollers 224 , 225 and share on an inner surface of a respective one of the side walls 227 , 227 , thereby reducing the frictional resistance on the abutment parts and thus slowing down wear on them.

Wie es in Fig. 11 gezeigt ist, ist das Plattierungsbad 201 weiterhin mit einer Zirkulati­ onseinrichtung zum Sammeln von Teilen der Plattierungslösung versehen, die un­ vermeidbar abgegeben werden, wenn die Arbeitsstücke W durch die Auslauf-Ver­ hinderungsvorrichtung 221 oder 222 laufen, und zum Zirkulieren von ihnen zurück zum Plattierungsbad 201. Die Zirkulationseinrichtung weist Zusatztanks 216, 217 auf, die jeweils an der Seitenwand 211 zum Hineintragen und der Seitenwand 213 zum Hinaustragen angebracht sind, um unvermeidbar ausgeschlossene Teile der Plattierungslösung zur temporären Speicherung aufzunehmen, und eine Rückfluß­ pumpe 219, die in Kommunikationsverbindung mit dem Boden jedes Zusatztanks 216 oder 217 verbunden ist, um die in den Zusatztanks 216, 217 gespeicherte Plat­ tierungslösung zum Plattierungsbad 1 durch ein Rückflußrohr 218 zurückzubringen.As shown in FIG. 11, the plating bath 201 is further provided with a circulation device for collecting parts of the plating solution that are unavoidably discharged when the workpieces W pass through the leak preventing device 221 or 222 and for circulating from them back to plating bath 201 . The circulating means includes auxiliary tanks 216, 217 on which the side wall are provided at the side wall 211 for carrying in and attached 213 to carry out to accommodate unavoidable excluded parts of the plating solution for temporary storage, and a reflux pump 219, which each in communication with the ground Auxiliary tanks 216 or 217 is connected to return the plating solution stored in the auxiliary tanks 216 , 217 to the plating bath 1 through a reflux pipe 218 .

Geht man zurück zur Fig. 10, hat jede der Behandlungskammern einschließlich der Wasserwaschkammer 291 eine Seitenwand zum Hineintragen auf der stromaufwär­ tigen Seite in der Beförderungsrichtung und eine Seitenwand zum Hinaustragen auf der stromabwärtigen Seite. Die Seitenwand zum Hineintragen und die Seitenwand zum Hinaustragen definieren jeweils einen Einlaß und einen Auslaß, wie den Einlaß 212 und den Auslaß 214 des Plattierungsbads 201. Zwischen dem Einlaß und dem Auslaß ist eine Vielzahl von Beförderungswalzen 241 zum Befördern der Arbeits­ stücke W angeordnet, die durch den Einlaß in Richtung zum Auslaß in die Kammer hineingetragen werden. Ebenso sind zwischen benachbarten Behandlungsstellen, wie beispielsweise zwischen dem Plattierungsbad 201 und der Wasserwaschkam­ mer 291 und auf der Seite zum Hinaustragen der Trocknungskammer 293 Beförde­ rungswalzen 242 zum Befördern der Arbeitsstücke W in Richtung zur stromabwärti­ gen Seite angeordnet. Diese Beförderungswalzen 241, 242 werden durch einen Be­ förderungswalzen-Antriebsmotor (nicht gezeigt) angetrieben. Weiterhin sind auf der Seite zum Hineintragen des Plattierungsbads 201 Walzen 243 zum Hineintragen, die durch einen Motor zum Antreiben von Walzen zum Hineintragen (nicht gezeigt) an­ getrieben werden, zum Befördern der Arbeitsstücke W in das Plattierungsbad 201 angeordnet.Returning to Fig. 10, each of the treatment chambers including the water washing chamber 291 has a side wall to be carried in on the upstream side in the conveying direction and a side wall to be carried out in the downstream side. The carry-in sidewall and carry-out sidewall each define an inlet and an outlet, such as inlet 212 and outlet 214 of plating bath 201 . Between the inlet and the outlet, a plurality of conveying rollers 241 for conveying the work pieces W are arranged, which are carried through the inlet towards the outlet into the chamber. Also between adjacent treatment sites, such as between the plating bath 201 and the Wasserwaschkam mer 291 and on the side for carrying out the drying chamber 293, conveying rollers 242 for conveying the workpieces W are arranged in the direction of the downstream side. These conveying rollers 241 , 242 are driven by a conveying roller drive motor (not shown). Further, on the side for carrying in the plating bath 201, there are arranged rollers 243 for carrying in, which are driven by a motor for driving rollers for carrying in (not shown), for conveying the workpieces W into the plating bath 201 .

Das Plattierungssystem gemäß diesem Ausführungsbeispiel ist mit einer Steuervor­ richtung zum Steuern des gesamten Plattierungssystems versehen. Wie es in Fig. 14 gezeigt ist, enthält die Steuervorrichtung eine Hauptsteuereinheit 251 mit einer CPU, einem ROM, einem RAM und einer Steuerungs-Schnittstelle und ist mit einem Steuerpult 252 verbunden, das durch einen Bediener zu bedienen ist.The plating system according to this embodiment is provided with a control device for controlling the entire plating system. As shown in Fig. 14, the control device includes a main control unit 251 having a CPU, a ROM, a RAM and a control interface and is connected to a control panel 252 which is to be operated by an operator.

Mit der Hauptsteuereinheit 251 verbunden sind ein oberer Anodenstrom- Steuerabschnitt 254, ein unterer Anodenstrom-Steuerabschnitt 255, ein Motor- Steuerabschnitt 257 für ein Antreiben von Walzen zum Hineintragen, ein Motor- Steuerabschnitt 258 für ein Antreiben von Leck-Verhinderungswalzen auf der Seite zum Hineintragen, ein Motor-Steuerabschnitt 259 für ein Antreiben von elektrisch leitenden Walzen, ein Motor-Steuerabschnitt 260 für ein Antreiben von Leck- Verhinderungswalzen auf der Seite zum Hinaustragen, ein Beförderungswalzen- Antriebsmotor-Steuerabschnitt 261, ein Rückflußpumpen-Steuerabschnitt 262 zum Betätigen der Rückflußpumpe 219, wenn eine vorbestimmte Menge einer Plattie­ rungslösung in den Zusatztanks 216, 217 angesammelt ist, ein Waschwasser- Steuerabschnitt (nicht gezeigt) zum Steuern eines elektromagnetischen Ventils, das ein Zuführen von Waschwasser zu Sprühdüsen der Wasserwaschkammer 291 durchführt und stoppt, ein Luft-Steuerabschnitt (nicht gezeigt) zum Steuern eines elektrischen Ventils, das ein Zuführen von Luft zu den Luftdüsen der Luftgebläse­ kammer 292 durchführt und stoppt, und ein Trocknungs-Steuerabschnitt (nicht ge­ zeigt) zum Steuern des Heißluftgebläses, das zum Zuführen von heißer Luft zur Trocknungskammer 293 geeignet ist. Diese Steuerabschnitte empfangen Steuersignale von der Hauptsteuereinheit 251. Dem oberen Anodenstrom-Steuerabschnitt 254 und dem unteren Anodenstrom-Steuerabschnitt 255 ist eine Gleichstrom- Versorgungsquelle 270 zum Zuführen eines Plattierungs-Gleichstroms zu ihnen zu­ geordnet. Die Kathodenseite dieser Gleichstrom-Versorgungsquelle 270 ist mit den Kathodenseiten des oberen Anodenstrom-Steuerabschnitts 254 und des unteren Anodenstrom-Steuerabschnitts 255 verbunden, welche wiederum mit dem Elektrizi­ täts-Zuführelement 45 in Kontakt mit dem Antriebswellenteil 42 einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 elektrisch verbunden sind.Connected to the main control unit 251 are an upper anode current control section 254 , a lower anode current control section 255 , a motor control section 257 for driving rollers for in-feed, a motor control section 258 for driving leak prevention rollers on the in-feed side , a motor control section 259 for driving electroconductive rollers, a motor control section 260 for driving leak prevention rollers on the discharge side, a conveying roller drive motor control section 261 , a reflux pump control section 262 for operating the reflux pump 219 when a predetermined amount of plating solution is accumulated in the auxiliary tanks 216 , 217 , a wash water control section (not shown) for controlling an electromagnetic valve that performs and stops supplying wash water to spray nozzles of the water wash chamber 291 , an air control section ( not shown t) for controlling an electric valve that performs and stops supplying air to the air nozzles of the air blower chamber 292 , and a drying control section (not shown) for controlling the hot air blower capable of supplying hot air to the drying chamber 293 . These control sections receive control signals from the main control unit 251 . A DC supply source 270 is assigned to the upper anode current control section 254 and the lower anode current control section 255 for supplying a plating DC current to them. The cathode side of this DC power supply 270 is connected to the cathode sides of the upper anode current control section 254 and the lower anode current control section 255 , which in turn are electrically connected to the electricity supply member 45 in contact with the drive shaft part 42 of a respective electrically conductive roller 41 .

Der Plattierungsprozeß wird durch das Plattierungssystem gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel auf die folgende Weise durchgeführt.The plating process is carried out by the plating system according to the second Embodiment performed in the following manner.

Zuerst werden die Walzen 243 zum Hineintragen, die elektrisch leitenden Walzen 41 und die Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 der Auslauf-Verhinderungsvorrichtung 221 auf der Seite zum Hineintragen angetrieben, um sich in der Beförderungsrich­ tung zu drehen. Daraufhin werden Arbeitsstücke W, deren Oberflächen durch Waschbehandlungen, wie beispielsweise durch ein Waschen mit Säure, gereinigt worden sind, auf den Beförderungswalzen 243 angeordnet und dann durch die Kontaktteile der Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 sequentiell zu den elektrisch leitenden Walzen 41 im Plattierungsbad 201 befördert, wie es in Fig. 11 gezeigt ist. Wenn einmal eine vorbestimmte Anzahl von Arbeitsstücken W auf den elektrisch leitenden Walzen 41 im Plattierungsbad 41 angeordnet ist, wird veranlaßt, daß die Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 und die Beförderungswalzen 234 aufhören sich zu drehen, um ein Befördern von Arbeitsstücken W in das Plattierungsbad 201 zu stoppen. Dann werden die Arbeitsstücke W einem Plattieren unterzogen, während die elektrisch leitenden Walzen 41 im Plattierungsbad 201 auf abwechselnde Weise vorwärts und rückwärts gedreht werden, um die Arbeitsstücke W auf den elektrisch leitenden Walzen 41 in der Beförderungsrichtung hin- und herzubewegen. Wie beim ersten Ausführungsbeispiel ist der Abstand einer solchen Hin- und Herbewegung der Arbeitsstücke W vorzugsweise im wesentlichen gleich der Breite der Walzenabdec­ kung, wenn sie verwendet wird, oder im wesentlichen gleich dem Durchmesser jeder elektrisch leitenden Walze 41, wenn die Walzenabdeckung nicht verwendet wird. Für jedes Arbeitsstück W, das mit einer Plattierungsschicht mit einer gleichmäßigen Dic­ ke auf seiner oberen Seite und seiner unteren Seite zu plattieren ist, ist bevorzugt, daß die Stromdichte bei jeder der oberen und der unteren Anode 202 und 203 ge­ steuert wird, wie es erforderlich ist. First, the feed rollers 243 , the electroconductive rollers 41, and the leak prevention rollers 224 , 225 of the leak prevention device 221 on the carry-in side are driven to rotate in the conveying direction. Then, workpieces W, the surfaces of which have been cleaned by washing treatments such as acid washing, are placed on the conveying rollers 243 and then sequentially conveyed through the contact parts of the leak preventing rollers 224 , 225 to the electrically conductive rollers 41 in the plating bath 201 as shown in Fig. 11. Once a predetermined number of workpieces W are placed on the electroconductive rollers 41 in the plating bath 41 , the leak prevention rollers 224 , 225 and the conveying rollers 234 are made to stop rotating to feed workpieces W into the plating bath 201 to stop. Then, the work pieces W are subjected to plating while the electroconductive rollers 41 are alternately rotated back and forth in the plating bath 201 to reciprocate the work pieces W on the electroconductive rollers 41 in the conveying direction. As in the first embodiment, the distance of such reciprocation of the workpieces W is preferably substantially equal to the width of the roll cover when used, or substantially equal to the diameter of each electrically conductive roll 41 when the roll cover is not used. For each work piece W to be plated with a plating layer having a uniform thickness on its upper side and lower side, it is preferable that the current density at each of the upper and lower anodes 202 and 203 be controlled as required is.

Wenn ein Plattieren im Plattierungsbad 201 einmal beendet worden ist, werden die elektrisch leitenden Walzen 41, die Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 der Auslauf- Verhinderungsvorrichtung 222 auf der Seite zum Hinaustragen und die Beförde­ rungswalzen 241, 242 angetrieben, um sich in der Beförderungsrichtung zu drehen, damit die so plattierten Arbeitsstücke W vom Plattierungsbad 201 in Richtung zu den darauffolgenden Behandlungskammern, wie beispielsweise der Wasserwaschkam­ mer 291, auf der stromabwärtigen Seite befördert werden. Gleichzeitig werden die Leck-Verhinderungswalzen 224, 225 auf der Seite zum Hineintragen und die Walzen 243 zum Hineintragen angetrieben, um sich wieder zu drehen, um eine weitere Gruppe von zu plattierenden Arbeitsstücken W in das Plattierungsbad 201 zu beför­ dern. Nachdem eine vorbestimmte Anzahl von zu plattierenden Arbeitsstücken W in das Plattierungsbad 201 befördert worden ist, werden diese Arbeitsstücke W einem Plattieren unterzogen, während sie in der Beförderungsrichtung hin- und herbewegt werden, wie es zuvor beschrieben ist. Andererseits wird die Gruppe von plattierten Arbeitsstücken W mit Wasser in der Wasserwaschkammer 291 gewaschen, in die Luftgebläsekammer 292 befördert, wo eine Wassermasse der Arbeitsstücke W durch einen Luftstrom abgetropft wird, durch Heißluft in der Trocknungskammer 293 getrocknet, und in die Behälterbox 294 befördert und dort gespeichert bzw. gelagert. Wenn einmal das letzte Arbeitsstück W aus einer jeweiligen Behandlungskammer hinausgetragen worden ist, wird die Behandlungsoperation darin, beispielsweise eine Zufuhr von Waschwasser zur Wasserwaschkammer 291, gestoppt. Die Beförde­ rungswalzen 241, 242 werden auch gestoppt, wenn alle Arbeitsstücke W in einer Gruppe aus der Trocknungskammer 293 hinausgetragen worden sind.Once plating in the plating bath 201 has been completed, the electroconductive rollers 41 , the leak prevention rollers 224 , 225 of the leak prevention device 222 on the discharge side, and the conveyance rollers 241 , 242 are driven to move in the conveying direction rotate so that the work pieces W thus plated are conveyed from the plating bath 201 toward the subsequent treatment chambers, such as the water washing chamber 291 , on the downstream side. At the same time, the leak preventive rollers 224 , 225 on the carry-in side and the carry-in rollers 243 are driven to rotate again to feed another group of workpieces W to be plated into the plating bath 201 . After a predetermined number of workpieces W to be plated are fed into the plating bath 201 , these workpieces W are subjected to plating while being reciprocated in the conveying direction as described above. On the other hand, the group of plated workpieces W is washed with water in the water washing chamber 291 , carried into the air blowing chamber 292 where a water mass of the workpieces W is drained by an air flow, dried by hot air in the drying chamber 293 , and conveyed into the container box 294 and there saved or stored. Once the last work W has been carried out of each treatment chamber, the treatment operation therein, for example, supplying washing water to the water washing chamber 291 , is stopped. The conveying rollers 241 , 242 are also stopped when all workpieces W in one group have been carried out of the drying chamber 293 .

Das Plattierungssystem gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel ist für die vorlie­ gende Erfindung nicht beschränkend gedacht. Beispielsweise sind die folgenden Änderungen und Variationen möglich.The plating system according to the second embodiment is for the present not intended limiting invention. For example, the following are Changes and variations possible.

Wie bei einer Variation des ersten Ausführungsbeispiels kann das zweite Ausfüh­ rungsbeispiel so variiert werden, daß die Anoden an den Seitenwänden des Plattie­ rungsbads 201 angebracht sind. Weiterhin kann die Transmissionseinrichtung zum Übertragen von Rotationsleistung zu jeder elektrisch leitenden Walze 41 eine Kette aufweisen. As with a variation of the first embodiment, the second embodiment can be varied so that the anodes are attached to the side walls of the plating bath 201 . Furthermore, the transmission device for transmitting rotational power to each electrically conductive roller 41 can have a chain.

Obwohl beim zweiten Ausführungsbeispiel die Auslauf-Verhinderungsvorrichtungen 221, 222 jeweils an den Außenseiten der Seitenwand 211 zum Hineintragen und der Seitenwand 213 zum Hinaustragen angeordnet sind, können sie jeweils an den In­ nenseiten dieser Seitenwände 211, 213 angeordnet sein. Weiterhin können diese Auslauf-Verhinderungsvorrichtungen 221, 222 eliminiert werden. In diesem Fall sind der Einlaß 212 und der Auslaß 214 wünschenswertenrweise so klein wie möglich ausgebildet und so nahe wie möglich zum Flüssigkeitspegel angeordnet. Anstelle der Zusatztanks 216, 217, die an der Seitenwand 211 zum Hineintragen und der Seiten­ wand 213 zum Hinaustragen des Plattierungsbads 201 angebracht sind, ist es mög­ lich, einen Tank zu verwenden, um das gesamte Plattierungsbad 201 aufzunehmen.Although the leakage prevention devices 221 , 222 are respectively arranged on the outer sides of the side wall 211 for carrying in and the side wall 213 for carrying out in the second exemplary embodiment, they can each be arranged on the inner sides of these side walls 211 , 213 . Furthermore, these leakage prevention devices 221 , 222 can be eliminated. In this case, inlet 212 and outlet 214 are desirably made as small as possible and as close as possible to the liquid level. Instead of the auxiliary tanks 216 , 217 which are attached to the side wall 211 for carrying in and the side wall 213 for carrying out the plating bath 201 , it is possible to use a tank to hold the entire plating bath 201 .

Beim zweiten Ausführungsbeispiel wird ein Plattieren durchgeführt, während eine Gruppe von Arbeitsstücken W im Plattierungsbad 201 in der Beförderungsrichtung hin- und herbewegt wird, indem die elektrisch leitenden Walzen 41 im Plattierungs­ bad 201 vorwärts und rückwärts gedreht werden. Jedoch ist ein derartiger alternati­ ver Aufbau möglich, daß veranlaßt wird, daß sich die Walzen 243 zum Hineintragen, die elektrisch leitenden Walzen 41 und die Beförderungswalzen 241, 242 aufeinan­ derfolgend drehen, um Arbeitsstücke W von den Walzen 243 zum Hineintragen kon­ tinuierlich zu einer Reihe eines Behandlungsbads und von Behandlungskammern zu befördern, ohne zu veranlassen, daß sich die elektrisch leitenden Walzen 241 vor­ wärts und rückwärts drehen, um dadurch die Plattierungsbehandlung, die Wasser­ waschbehandlung, die Luftgebläsebehandlung und die Trocknungsbehandlung kon­ tinuierlich durchzuführen.In the second embodiment, plating is performed, while a group of workpieces W in the plating bath back 201 in the conveying direction and is reciprocated by the electrically conductive rollers 41 in the plating bath 201 forward and reversely rotated. However, such an alternate structure is possible that the rollers 243 for carrying in are caused to rotate, the electroconductive rollers 41 and the conveying rollers 241 , 242 in succession to continuously work pieces W from the rollers 243 for carrying in to a row a treatment bath and treatment chambers without causing the electroconductive rollers 241 to rotate forward and backward, thereby continuously performing the plating treatment, the water washing treatment, the air blowing treatment, and the drying treatment.

Obwohl die Beförderungswalzen 241, 242 beim zweiten Ausführungsbeispiel als Ganzes gesteuert werden, können die Beförderungswalzen 241 in jeder Behand­ lungskammer und die Beförderungskammer 242, die direkt stromaufwärts von jener Behandlungskammer angeordnet sind, als Paar gesteuert werden. In diesem Fall kann das Paar von Beförderungswalzen 241, 242 in und stromaufwärts von jeder Behandlungskammer gestoppt werden, wenn alle Arbeitsstücke W in einer Gruppe aus jener Kammer hinausgeführt worden sind. 31408 00070 552 001000280000000200012000285913129700040 0002010063624 00004 31289Although the conveying rollers 241 , 242 are controlled as a whole in the second embodiment, the conveying rollers 241 in each treatment chamber and the conveying chamber 242 located directly upstream of that treatment chamber can be controlled as a pair. In this case, the pair of conveying rollers 241 , 242 can be stopped in and upstream of each treatment chamber when all the workpieces W in a group have been led out of that chamber. 31408 00070 552 001000280000000200012000285913129700040 0002010063624 00004 31289

Weiterhin kann das Plattierungssystem gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel als Ersatz für die Wasserwaschkammer 291 ein Wasserwaschbad von im wesentlichen derselben Konfiguration wie das Plattierungsbad 201 verwenden. In diesem Fall kann eine Beförderungswalze vom einstückigen Typ anstelle einer elektrisch leitenden Walze vom zusammengebauten Typ, die mit dem Elektrizitäts-Zuführelement 45 versehen ist, verwendet werden. Auf der stromaufwärtigen Seite des Plattierungs­ bads 201 kann ein solches Wasserwaschbad oder ein solches Säurewaschbad der­ selben Konfiguration wie der des Wasserwaschbads vorgesehen sein. Weiterhin können die Behandlungen (Waschen mit Wasser und Trocknen), die dem Plattie­ rungsprozeß folgen, durch separate Behandlungssysteme durchgeführt werden.Furthermore, the plating system according to the second embodiment can use a water washing bath of substantially the same configuration as the plating bath 201 as a replacement for the water washing chamber 291 . In this case, a one-piece type conveying roller may be used in place of an assembled type electroconductive roller provided with the electricity supply member 45 . On the upstream side of the plating bath 201 , such a water wash bath or acid wash bath of the same configuration as that of the water wash bath may be provided. Furthermore, the treatments (washing with water and drying) following the plating process can be carried out by separate treatment systems.

Bei dem Plattierungssystem gemäß irgendeinem von dem ersten und dem zweiten Ausführungsbeispiel kann die Plattierungsqualität aufgrund einiger Ursachen ver­ schlechtert werden, die nachfolgend beschrieben werden. Daher kann das Plattie­ rungssystem der Erfindung mit zusätzlichen Strukturen (die später zu beschreiben sind), zum Eliminieren von solchen qualitätsverschlechternden Gründen und zum Verbessern der Plattierungsqualität versehen werden.In the plating system according to any one of the first and second Embodiment can reduce the plating quality due to some causes which are described below. Therefore, the platter system of the invention with additional structures (to be described later ) to eliminate such quality deteriorating reasons and Improve the plating quality.

Beim Plattieren von Arbeitsstücken W, die auf den elektrisch leitenden Walzen 41 angeordnet sind, fallen feine Verschmutzungen in der Plattierungslösung, die im Plattierungsbad 1 oder 201 enthalten sind, auf die obere Seite jedes Arbeitsstücks W und haften daran an. Wenn solche feinen Verschmutzungen selbst in Spuren an ei­ ner Oberfläche eines jeweiligen Arbeitsstücks anhaften, wächst eine Plattierungs­ schicht um solche feinen Verschmutzungen, die als Kerne dienen, und somit resul­ tiert eine Ungleichmäßigkeit auf der Plattierungsschicht, die die Oberseite des Ar­ beitsstücks bedeckt, wodurch die Oberfläche rauh gemacht wird. Eine solche rauhe Oberfläche beeinträchtigt nicht nur das Aussehen eines fertiggestellten Produkts, sondern fängt durch seine Ungleichmäßigkeit auch feine Verschmutzungen ein. Es kann einen Fall geben, bei welchem solche feinen Verschmutzungen, die durch eine rauhe Oberfläche eingefangen werden, durch die Nachplattierungsbehandlungen nicht auf geeignete Weise entfernt werden. Wenn ein solcher unzufriedenstellend plattierter Artikel in einer elektronischen Vorrichtung enthalten ist, dienen die auf der Oberfläche des plattierten Artikels gelassenen feinen Verschmutzungen als Kontaminierungen, die die Leistungsfähigkeit der elektronischen Vorrichtung ver­ schlechtern.When plating workpieces W arranged on the electroconductive rollers 41 , fine dirt in the plating solution contained in the plating bath 1 or 201 falls on and adheres to the upper side of each workpiece W. If such fine dirt adheres even in traces to a surface of a respective work piece, a plating layer grows around such fine dirt serving as cores, and thus non-uniformity results on the plating layer covering the top of the work piece, thereby causing the Surface is made rough. Such a rough surface not only affects the appearance of a finished product, but also traps fine dirt due to its unevenness. There may be a case where such fine stains trapped by a rough surface are not appropriately removed by the post-plating treatments. When such an unsatisfactorily plated article is contained in an electronic device, the fine stains left on the surface of the plated article serve as contaminants which deteriorate the performance of the electronic device.

Solche feinen Verschmutzungen enthalten feine Partikel eines lösbaren Elektroden­ materials, das zum Bilden der oberen Anode verwendet wird, welche als das lösbare Elektrodenmaterial erzeugt werden, das sich während eines Plattierens auflöst, und Staub, der in der Plattierungslösung enthalten ist, aus der Luft von außerhalb. Insbesondere beim ersten Ausführungsbeispiel, bei welchem die Arbeitsstück- Behältereinheit 21 in das Plattierungsbad 1 eingefügt und daraus entfernt wird, hat das Plattierungsbad 1 unvermeidbar ein offenes oberes Ende, das zuläßt, daß Staub in der darin enthaltenen Plattierungslösung enthalten ist.Such fine contaminants contain fine particles of a releasable electrode material used to form the upper anode, which are generated as the releasable electrode material that dissolves during plating, and dust contained in the plating solution from the outside air . Arbeitsstück- the container unit 21 inserted in particular in the first embodiment, wherein in the plating bath 1 and is removed therefrom, the plating bath 1 inevitably has an open upper end which permits that dust is contained in the plating solution contained therein.

Die Außenumfangsfläche jeder elektrisch leitenden Walze 41 oder die untere Ober­ fläche jedes Arbeitsstücks wird in unterschiedlichen Zuständen plattiert. Aus diesem Grund können dann, wenn eine Anzahl von Arbeitsstücken W auf den elektrisch lei­ tenden Walzen 41 angeordnet wird, die Arbeitsstücke, die durch die Walzen 41 be­ fördert oder hin- und herbewegt werden, entlang der Walzenachse (y-Achse) ver­ setzt werden, um einander zu kontaktieren. Dies veranlaßt, daß ein solcher kontak­ tierter Teil eines jeweiligen Arbeitsstücks mit einer dünneren Plattierungsschicht plat­ tiert wird oder möglicherweise nicht plattiert wird, was in einer verschlechterten Plat­ tierungsqualität resultiert.The outer peripheral surface of each electrically conductive roller 41 or the lower upper surface of each work piece is plated in different states. For this reason, when a number of workpieces W are arranged on the electrically conductive rollers 41 , the workpieces conveyed or reciprocated by the rollers 41 can be set along the roller axis (y-axis) to contact each other. This causes such a contacted part of a respective work piece to be plated with a thinner plating layer or may not be plated, resulting in deteriorated plating quality.

Weiterhin neigen Arbeitsstücke, die benachbart zu einem peripheren Rand des durch die elektrisch leitende Walze 41 definierten ein Arbeitsstück tragenden Be­ reichs angeordnet sind, jeweils dazu, an einem Eckteil von ihm, der näher zum peri­ pheren Rand angeordnet ist, mit einer dickeren Plattierungsschicht plattiert zu wer­ den. Insbesondere konzentriert sich ein Plattierungsstrom wahrscheinlich bei einem Eckteil E eines jeden von Arbeitsstücken W, die benachbart zu irgendeinem der un­ teren Längselemente 26A, 26B und der unteren lateralen Elemente 27, 27 (siehe Fig. 5) des unteren Rahmenteils 23 angeordnet sind, wie es in Fig. 20 gezeigt ist, wobei der Eckteil E einem solchen Längselement oder einem solchen lateralen Ele­ ment gegenübersteht. Demgemäß wird der Eckteil E mit einer besonders verdickten Plattierungsschicht plattiert. Auf diese Weise wird die Ausbildung einer Plattierungs­ schicht aufgrund unterschiedlicher Anordnungen von Arbeitsstücken im tragenden Bereich uneinheitlich.Furthermore, workpieces that are arranged adjacent to a peripheral edge of the work piece-carrying region defined by the electroconductive roller 41 each tend to be plated with a thicker plating layer at a corner portion thereof closer to the peripheral edge become. In particular, a plating current probably of each concentrated at a corner portion E of workpieces W that are arranged adjacent to any one of the un direct longitudinal members 26 A, 26 B and the lower lateral elements 27, 27 (see Fig. 5) of the lower frame part 23, as shown in Fig. 20, wherein the corner part E is opposed to such a longitudinal element or such a lateral element. Accordingly, the corner part E is plated with a particularly thickened plating layer. In this way, the formation of a plating layer is inconsistent due to different arrangements of workpieces in the supporting area.

Zusätzliche Strukturen zum Verhindern einer Verschlechterung in bezug auf eine Plattierungsqualität aufgrund von feinen Verschmutzungen, die an einem jeweiligen Arbeitsstück anhaften, um eine verbesserte Plattierungsqualität sicherzustellen, wer­ den nachfolgend anhand des ersten Ausführungsbeispiels beschrieben. Eine solche zusätzliche Struktur, die vorgesehen sein kann, weist ein Netzelement 301 auf, das angeordnet ist, um die untere Seite der oberen Anode 2 abzudecken, wie es in Fig. 15 gezeigt ist, um dadurch zu verhindern, daß seine Partikel des lösbaren Elektrodenmaterials von der oberen Anode 2 auf Arbeitsstücke fallen. Diese Netzelement 301 ist am Gehäuse zum Unterbringen von Elektrodenmaterial der oberen Anode 2 mittels Befestigungen 302 angebracht.Additional structures for preventing deterioration in plating quality due to fine dirt adhering to each work piece to ensure an improved plating quality, which will be described below with reference to the first embodiment. Such an additional structure, which may be provided, has a mesh member 301 arranged to cover the lower side of the upper anode 2 , as shown in Fig. 15, to thereby prevent its particles from the detachable electrode material drop from the upper anode 2 onto workpieces. This network element 301 is attached to the housing for accommodating electrode material of the upper anode 2 by means of fasteners 302 .

Das Netzelement 301 hat eine Maschengröße, um zuzulassen, daß ein Plattie­ rungsmetallion durchgeht, das aber feine Partikel des Elektrodenmaterials blockiert, die aus einer Auflösung des lösbaren Elektrodenmaterials der oberen Anode 2 resul­ tieren. Das Netzelement 301 kann ein poröses Material aufweisen, wie beispielswei­ se ein Netz, eine gewebte Faser oder eine nicht gewebte Faser, mit einer Maschen­ größe von beispielsweise mehreren Mikrometern oder darunter. Ein solches poröses Material kann aus einem synthetischen Harz mit einer überlegeneren Korrosionsfe­ stigkeit und Wärmebeständigkeit ausgebildet sein, wie beispielsweise aus Fluorpla­ stik, einem flüchtigen korrosionswiderständigen Metallmaterial, wie beispielsweise einem rostfreien Stahl oder einer Nickellegierung, oder einem nicht lösbaren Elektro­ denmaterial, wie beispielsweise Platin oder Titan. In dem Fall, in welchem das porö­ se Material aus Metallmaterial ausgebildet ist, das während eines Plattierens lösbar ist, wie beispielsweise aus rostfreiem Stahl, sind die Befestigungen 302 aus Isolier­ material ausgebildet, wie beispielsweise aus synthetischem Harz.The mesh member 301 has a mesh size to allow a plating metal ion to pass through but which blocks fine particles of the electrode material resulting from dissolution of the detachable electrode material of the upper anode 2 . The mesh element 301 can have a porous material, such as, for example, a mesh, a woven fiber or a non-woven fiber, with a mesh size of, for example, several micrometers or less. Such a porous material may be formed from a synthetic resin having a superior corrosion resistance and heat resistance such as fluoroplastic, a volatile corrosion-resistant metal material such as a stainless steel or a nickel alloy, or a non-detachable electrode material such as platinum or Titanium. In the case where the porous material is made of metal material that is releasable during plating, such as stainless steel, the fasteners 302 are made of insulating material, such as synthetic resin.

Obwohl das gezeigte Netzelement 301 unterhalb der oberen Elektrode 2 mittels der Befestigungen 302 angebracht ist, kann das Netzelement am Boden des Gehäuses zum Unterbringen von Elektrodenmaterial der oberen Anode 2 angeordnet sein. Auch in diesem Fall weist das Netzelement poröses Material auf, das aus syntheti­ schem Harz gebildet ist, oder unlösbares Elektrodenmaterial.Although the mesh element 301 shown is attached below the upper electrode 2 by means of the fasteners 302 , the mesh element can be arranged on the bottom of the housing for accommodating electrode material of the upper anode 2 . In this case, too, the mesh element has porous material which is formed from synthetic resin, or insoluble electrode material.

Natürlich gibt es keine Notwendigkeit zum Vorsehen des Netzelements 302, wenn das Elektrodenmaterial der oberen Anode 2 unlösbares Material, wie beispielsweise Platin, Titan oder Iridium ist, das sich nicht auflösen wird und somit keine feinen Par­ tikel von ihm erzeugen werden.Of course, there is no need to provide the mesh element 302 if the electrode material of the upper anode 2 is insoluble material, such as platinum, titanium or iridium, which will not dissolve and thus will not produce fine particles from it.

In diesem Fall variiert die Plattierungsmetallionenkonzentration der Plattierungslö­ sung beim Plattierungsprozeß. Aus diesem Grund ist es wünschenswert, daß eine chemische Auffüllvorrichtung vorgesehen ist, um ein geeignetes Mittel für eine Ver­ ringerung in bezug auf ein Plattierungsmetallion zu haben. Wie es in Fig. 15 gezeigt ist, enthält eine solche chemische Auffüllvorrichtung 304 einen Konzentrationsdetek­ tor 305 zum Erfassen der Plattierungsmetallionenkonzentration und ein Durchflußsteuerungsventil 306 zum Zuführen einer chemischen Flüssigkeit mit einer hohen Plattierungsmetallionenkonzentration von einem chemischen Tank (nicht gezeigt) zum Plattierungsbad 1. Der Fluß der chemischen Flüssigkeit durch das Durchfluß­ steuerungsventil 306 wird durch eine Ventilsteuerung so geregelt, daß die durch den Konzentrationsdetektor 305 erfaßte Konzentration konstant einen vorbestimmten Wert annimmt.In this case, the plating metal ion concentration of the plating solution varies in the plating process. For this reason, it is desirable that a chemical replenisher be provided to have an appropriate means for reducing plating metal ion. As shown in FIG. 15, such a chemical replenisher 304 includes a concentration detector 305 for detecting the plating metal ion concentration and a flow control valve 306 for supplying a chemical liquid having a high plating metal ion concentration from a chemical tank (not shown) to the plating bath 1 . The flow of chemical liquid through the flow control valve 306 is controlled by a valve controller so that the concentration detected by the concentration detector 305 constantly takes a predetermined value.

Eine weitere zusätzliche Struktur, die allein oder in Kombination mit dem Netzele­ ment 301 zum Verbessern der Plattierungsqualität vorgesehen sein kann, weist eine Filtervorrichtung 311 zum Filtern der im Plattierungsbad 1 enthaltenen Plattierungs­ lösung auf, wie es in Fig. 15 gezeigt ist.Another additional structure, which may be provided alone or in combination with the network element 301 to improve the plating quality, has a filter device 311 for filtering the plating solution contained in the plating bath 1 , as shown in FIG. 15.

Die Filtervorrichtung 311 weist einen Zirkulationskanal 312 auf, der einen Einflußan­ schluß, der in einem Bodenteil des Plattierungsbads definiert ist, und einen Ausfluß­ anschluß, der in einem oberen Teil einer Seitenwand des Plattierungsbads definiert ist, verbindet, um für eine Kommunikationsverbindung dazwischen zu sorgen, eine Pumpe 313, die zum Zirkulationskanal 312 gehört, und ein Filter 315, das im Kanal 312 vorgesehen ist. Der Zirkulationskanal 312 ist mit einem Heizer 314 zum Erhitzen der Plattierungslösung an einer Stelle stromab der Pumpe 313 versehen. Das Filter 315 ist stromab vom Heizer 314 angeordnet.The filter device 311 has a circulation channel 312 , which connects an inflow connection, which is defined in a bottom part of the plating bath, and an outflow connection, which is defined in an upper part of a side wall of the plating bath, in order to provide a communication connection therebetween. a pump 313 which is part of the circulation channel 312, and a filter 315 which is provided in the channel 312th The circulation channel 312 is provided with a heater 314 for heating the plating solution at a location downstream of the pump 313 . The filter 315 is arranged downstream of the heater 314 .

Das Filter 315 dient zum Entfernen feiner Partikel des Elektrodenmaterials und feiner Verschmutzungen, die in der Plattierungslösung enthalten sind, und hat somit eine Maschengröße von einigen Mikrometern oder darunter, und vorzugsweise von einem Mikrometer oder darunter.The filter 315 serves to remove fine particles of the electrode material and fine contaminants contained in the plating solution, and thus has a mesh size of a few micrometers or less, and preferably one micrometer or less.

Es wird empfohlen, daß der Ausflußanschluß in Kommunikationsverbindung mit dem Zirkulationskanal 312 über Arbeitsstücken angeordnet ist, die auf den elektrisch lei­ tenden Walzen 41 der Arbeitsstück-Behältereinheit 21 angeordnet sind. Der so an­ geordnete Ausflußanschluß läßt zu, daß die Plattierungslösung, die mittels des Fil­ ters 315 durch Entfernen von Verschmutzungen daraus gereinigt ist, von einer Stelle oberhalb der Arbeitsstücke in das Plattierungsbad 1 fließt, um dadurch einen Teil der Plattierungslösung zu rühren, der oberhalb der Arbeitsstücke vorhanden ist, um da­ durch effektiver zu verhindern, daß feine Verschmutzungen an der oberen Seite ei­ nes jeweiligen Arbeitsstücks anhaften. It is recommended that the outflow port be in communication with the circulation channel 312 over work pieces arranged on the electrically conductive rollers 41 of the work piece container unit 21 . The outflow port thus arranged permits the plating solution, which is cleaned by the filter 315 by removing contaminants therefrom, to flow into the plating bath 1 from a position above the work pieces, to thereby stir a part of the plating solution which is above the Workpieces are present in order to effectively prevent fine dirt from adhering to the upper side of a respective workpiece.

Die Ausgabe des Heizers 316 wird in Antwort auf Temperatursignale von einem Lö­ sungstemperatursensor 318 gesteuert, der im Plattierungsbad 1 vorgesehen ist, so daß die Temperatur der Plattierungslösung eine Solltemperatur annimmt, die durch eine Temperatureinstelleinheit (nicht gezeigt) eingestellt ist.The output of the heater 316 is controlled in response to temperature signals from a solution temperature sensor 318 provided in the plating bath 1 so that the temperature of the plating solution becomes a target temperature set by a temperature setting unit (not shown).

Nachfolgend ist eine weitere zusätzliche Struktur beschrieben, die zum Verhindern einer Verschlechterung in bezug auf eine Plattierungsqualität aufgrund eines wech­ selseitigen Kontakts zwischen Arbeitsstücken vorgesehen sein kann, um dadurch eine verbesserte Plattierungsqualität sicherzustellen.Another additional structure for preventing is described below deterioration in plating quality due to a change mutual contact between workpieces can be provided to thereby ensure improved plating quality.

Eine solche zusätzliche Struktur weist eine Beförderungsführung auf, die am unteren Rahmenteil 23 entfernbar angebracht ist, um zu verhindern, daß durch die elektrisch leitenden Walzen 41 in der x-Achsenrichtung bewegte Arbeitsstücke entlang der Achse einer jeweiligen Walze 41 versetzt werden, um dadurch zu verhindern, daß benachbarte Arbeitsstücke einander kontaktieren. Diese zusätzliche Struktur kann einen wechselseitigen Kontakt zwischen Arbeitsstücken verhindern, und somit einen Plattierungsdefekt aufgrund eines solchen wechselseitigen Kontakts.Such additional structure has a conveyance guide that is removably mounted on the lower frame part 23 to prevent moving through the electrically conductive rollers 41 in the x-axis direction of the working pieces are displaced along the axis of a respective roller 41, thereby preventing that neighboring work pieces contact each other. This additional structure can prevent mutual contact between workpieces, and thus a plating defect due to such mutual contact.

Ein Beispiel einer solchen Beförderungsführung ist in den Fig. 16 und 17 dargestellt. Diese Beförderungsführung 321 weist eine Vielzahl von Stützelementen 322 auf, die sich zwischen den unteren Längselementen 26A und 26B des unteren Rahmenteils 23 des Rahmens 25, der die Arbeitsstück-Behältereinheit 21 bildet, ausdehnen, und eine Vielzahl von Führungsplatten 322, die an der unteren Seite der Stützelemente 322 angebracht sind, wie sie sich in der x-Achsenrichtung zwischen den unteren la­ teralen Elementen 27, 27 erstrecken (siehe Fig. 5). Jedes der Stützelemente 322 hat gegenüberliegende Enden, an denen jeweils ein Positionierelement 324 angebracht ist, das mit der Innenfläche eines jeweiligen der unteren Längselemente 26A, 26B bei einer Stelle benachbart zum oberen Ende davon in Eingriff ist.An example of such a transportation guide is shown in FIGS. 16 and 17. This conveyor guide 321 has a plurality of support members 322 which extend between the lower longitudinal members 26 A and 26 B of the lower frame part 23 of the frame 25 which forms the work piece container unit 21 , and a plurality of guide plates 322 which on the are attached to the lower side of the support members 322 as they extend in the x-axis direction between the lower la teral elements 27 , 27 (see FIG. 5). Each of the support members 322 has opposite ends to which a positioning member 324 is attached, which engages with the inner surface of a respective one of the lower longitudinal members 26 A, 26 B at a location adjacent to the upper end thereof.

Die Führungsplatten 322 haben jeweils eine untere Kante, die niedriger als das obe­ re Ende einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 positioniert ist und mit spitzen Ausbuchtungen an Teilen ausgebildet ist, die die entsprechende der Walzen 41 schneidet. Der Innenumfang jeder spitzen Ausbuchtung und der Außenumfang der entsprechenden Walze 41 definieren dazwischen einen Freiraum, der kleiner als die Dicke eines jeweiligen Arbeitsstücks W ist. The guide plates 322 each have a lower edge that is positioned lower than the upper end of a respective electrically conductive roller 41 and is formed with pointed bulges on parts that the corresponding one of the rollers 41 intersects. The inner periphery of each pointed bulge and the outer periphery of the corresponding roller 41 define a clearance therebetween that is smaller than the thickness of a respective work piece W.

Die Stützelemente 322 und die Positionierelemente 324 sind vorzugsweise aus ei­ nem äußerst festen und korrosionsbeständigen synthetischen Harz hergestellt, wie beispielsweise aus steifem Vinylchloridharz. Die Führungsplatten 323 sind vorzugs­ weise aus synthetischem Harz hergestellt, wie beispielsweise aus Fluorplastik, mit einem niedrigen Reibkoeffizienten sowie den vorangehenden Eigenschaften, die für die Stützelemente 322 erforderlich sind.The support members 322 and the positioning members 324 are preferably made of an extremely strong and corrosion-resistant synthetic resin, such as rigid vinyl chloride resin. The guide plates 323 are preferably made of synthetic resin, such as fluoroplastic, with a low coefficient of friction and the foregoing properties required for the support members 322 .

Obwohl die gezeigte Führungsplatte 323 eine Vielzahl von Ausbuchtungen zum Vermeiden einer Interferenz mit der entsprechenden Walze 41 hat, ist es möglich, eine Führungsplatte zu verwenden, die nicht mit solchen Ausbuchtungen ausgebildet ist, und die einen unteren Rand hat, der mit einem Freiraum, der kleiner als die Dicke eines jeweiligen Arbeitsstücks W ist, gegenüber dem oberen Ende der entsprechen­ den Walze 41 beabstandet ist.Although the shown guide plate 323 has a plurality of protrusions to avoid interference with the corresponding roller 41 , it is possible to use a guide plate which is not formed with such protrusions and which has a lower edge which is in contact with a free space is smaller than the thickness of a respective work piece W, is spaced from the upper end of the corresponding roller 41 .

Ein weiteres Beispiel einer Beförderungsführung ist in den Fig. 18 und 19 dargestellt. Diese Beförderungsführung 321A weist eine Vielzahl von Stützelementen 322 auf, die sich zwischen den unteren Längselementen 26A und 26B des unteren Rahmen­ teils 23 des Rahmens 25 erstrecken bzw. spannen, eine Vielzahl von Montageplat­ ten 326, die an der unteren Seite der Stützelemente 322 angebracht sind, wie sie sich in der x-Achsensrichtung zwischen den unteren lateralen Elementen 27, 27 er­ strecken (siehe Fig. 5), und eine Vielzahl von Führungswalzen 327, die an der unte­ ren Seite der Montageplatten 326 angebracht sind. Jedes der Stützelemente 322 hat gegenüberliegende Enden, an denen jeweils ein Positionierelement 324 zum Errei­ chen einer Positionierung von Arbeitsstücken W entlang der Achse einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 angebracht ist. Gleiche Bezugszeichen, wie sie zum Bestimmen von Teilen der Beförderungsführung 321 verwendet sind, bezeichnen gleiche oder entsprechende Teile der Beförderungsführung 321A.Another example of a transportation guide is shown in FIGS. 18 and 19. This transport guide 321 A has a plurality of support elements 322 , which extend or stretch between the lower longitudinal elements 26 A and 26 B of the lower frame part 23 of the frame 25 , a plurality of mounting plates 326 , which on the lower side of the support elements 322 are attached, as they extend in the x-axis direction between the lower lateral elements 27 , 27 (see FIG. 5), and a plurality of guide rollers 327 , which are attached to the underside of the mounting plates 326 . Each of the support members 322 has opposite ends, at each of which a positioning element 324 for achieving a positioning of workpieces W is attached along the axis of a respective electrically conductive roller 41 . The same reference numerals as used to determine parts of the conveyor 321 denote the same or corresponding parts of the conveyor 321 A.

Die Führungswalzen 327 sind jeweils zwischen benachbarten elektrisch leitenden Walzen 41 angeordnet und weisen jeweils eine Walzenwelle 328 auf, die an der ent­ sprechenden der Montageplatten 326 angebracht ist, wobei sich ihre zentrale Achse von der Platte 326 aus nach unten erstreckt, und einen Walzenkörper 329, der an der Walzenwelle 328 drehbar montiert ist und ein unteres Ende hat, das niedriger als das obere Ende einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 positioniert ist. Die Walzenwelle 328 ist aus korrosionsbeständigem Material hergestellt, wie beispiels­ weise aus rostfreiem Stahl, während der Walzenkörper 329 vorzugsweise aus synthetischem Harz mit einem niedrigen Reibkoeffizienten hergestellt ist, wie beispiels­ weise aus Fluoroplastik.The guide rollers 327 are each arranged between adjacent electrically conductive rollers 41 and each have a roller shaft 328 which is attached to the corresponding one of the mounting plates 326 , with its central axis extending downward from the plate 326 , and a roller body 329 , which is rotatably mounted on the roller shaft 328 and has a lower end which is positioned lower than the upper end of a respective electrically conductive roller 41 . The roller shaft 328 is made of corrosion-resistant material, such as stainless steel, while the roller body 329 is preferably made of synthetic resin with a low coefficient of friction, such as fluoroplastic.

Diese Beförderungsführung 321A kann verhindern, daß Arbeitsstücke W, die be­ nachbart zueinander entlang der Achse einer jeweiligen elektrisch leitenden Walze 41 angeordnet sind, einander kontaktieren, wobei jede Führungswalze 327 davon in einen bloßen Punktkontakt mit einem jeweiligen Arbeitsstück W gelangt, wenn dies der Fall ist. Die Beförderungsführung 321A hat einen weiteren Vorteil, daß ein Plat­ tieren an Seitenflächen von Arbeitsstücken W, die zwischen benachbarten Füh­ rungswalzen 327 liegen, nicht behindert wird.This conveyance guide 321 A can prevent workpieces W which are adjacent to each other along the axis of a respective electroconductive roller 41 from contacting each other, each guide roller 327 thereof coming into mere point contact with a respective workpiece W if so is. The conveyance guide 321 A has another advantage that a plat animals on side surfaces of workpieces W, which are between adjacent Füh approximately rollers 327 , is not hindered.

Obwohl die dargestellten Führungswalzen 329, die jeweils den Walzenkörper 329 haben, an den Montageplatten 326 drehbar montiert sind, ist es möglich, anstelle der Führungswalzen 329 Führungswellen, die jeweils frei von einem solchen Walzenkör­ per sind, an den Montageplatten 326 zu montieren. fn diesem Fall ist eine jeweilige Führungswelle vorzugsweise aus synthetischem Harz mit einer überlegeneren Kor­ rosionsfestigkeit und einem niedrigen Reibkoeffizienten ausgebildet, wie beispiels­ weise aus Fluoroplastik.Although the illustrated guide rollers 329 , each having the roller body 329 , are rotatably mounted on the mounting plates 326 , it is possible, instead of the guide rollers 329 , to mount guide shafts, which are each free of such a roller body, on the mounting plates 326 . In this case, a respective guide shaft is preferably made of synthetic resin with a superior corrosion resistance and a low coefficient of friction, such as fluoroplastic.

Das folgende beschreibt eine weitere zusätzliche Struktur, die zum Verhindern der Ausbildung einer nicht einheitlichen Plattierungsschicht vorgesehen sein kann, die der Stelle jedes Arbeitsstücks auf den elektrisch leitenden Walzen zuzuschreiben ist, anhand des ersten Ausführungsbeispiels. Wie es in Fig. 20 gezeigt ist, weist eine solche zusätzliche Struktur Ersatz-Arbeitsstücke 331 auf, die mit der Kathodenseite der Plattierungs-Gleichstrom-Versorgungsquelle elektrisch verbunden sind und an Innenseiten der unteren Längselemente 26A, 26B und der unteren lateralen Elemen­ te 27, 27 des unteren Rahmenteils 23 angeordnet sind.The following describes another additional structure that may be provided to prevent the formation of a non-uniform plating layer attributable to the location of each work on the electrically conductive rollers, based on the first embodiment. As shown in Fig. 20, has such an additional structure replacement work pieces 331, which with the cathode side of the plating DC power supply source are electrically connected to inner sides of the lower longitudinal members 26 A, 26 B and the lower lateral elemene te 27 , 27 of the lower frame part 23 are arranged.

Das Vorsehen der Ersatz-Arbeitsstücke 331 macht es möglich, einen Plattie­ rungsstrom zu verursachen, der sich sonst bei dem Eckteil E eines Arbeitsstücks W konzentrieren würde, das benachbart zu einem Umfangsrand des ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeordnet ist, der durch die elektrisch leitenden Walzen 41 de­ finiert ist, um teilweise in Richtung zu den Ersatz-Arbeitsstücken 331 zu entweichen, um dadurch zu verhindern, daß sich ein Plattierungsstrom am Eckteil E konzentriert. Demgemäß können die Arbeitsstücke W ungeachtet der Anordnung eines jeweiligen Arbeitsstücks auf den elektrisch leitenden Walzen 41 einheitlich plattiert werden. The provision of the replacement workpieces 331 makes it possible to cause a plating current which would otherwise concentrate at the corner part E of a work piece W which is located adjacent to a peripheral edge of the work piece supporting portion which is passed through the electrically conductive rollers 41 is defined to partially escape toward the replacement workpieces 331 , thereby preventing a plating stream from being concentrated at the corner part E. Accordingly, the work pieces W can be plated uniformly regardless of the arrangement of each work piece on the electrically conductive rollers 41 .

Maßnahmen zum Verhindern der Ausbildung einer nicht einheitlichen Plattierungs­ schicht können genauso gut wie das Vorsehen der Ersatz-Arbeitsstücke 331 eine Anordnung enthalten, bei welcher die obere Anode 2 gekrümmt ist, um von den elektrisch leitenden Walzen 41 bei einer peripheren Stelle mehr beabstandet zu sein als bei einer zentralen Stelle im ein Arbeitsstück tragenden Bereich. Alternativ dazu kann das Gehäuse zum Unterbringen von Elektrodenmaterial der oberen Anode 2 eine geringere Menge an Elektrodenmaterial in einem Teil unterbringen, der näher zu einem jeweiligen peripheren Rand des ein Arbeitsstück tragenden Bereichs ist, als in einem Teil, der näher zum Zentrum des ein Arbeitsstück tragenden Bereichs ist. Von diesen Maßnahmen ist das Vorsehen der Ersatz-Arbeitsstücke zu empfeh­ len, weil es bequemer als andere Maßnahmen ist und es auf einfache Weise den Plattierungszustand optimieren kann, indem die Ersatz-Arbeitsstücke durch geeigne­ te alternative Ersatz-Arbeitsstücke ausgetauscht werden, die unterschiedlich von den ersteren in bezug auf die Größe und die Form sind.Measures to prevent the formation of a non-uniform plating layer may as well as the provision of the replacement workpieces 331 include an arrangement in which the upper anode 2 is curved to be more distant from the electrically conductive rollers 41 at a peripheral location than at a central location in the work-carrying area. Alternatively, the housing for housing electrode material of the upper anode 2 can accommodate a smaller amount of electrode material in a part closer to a respective peripheral edge of the work-carrying area than in a part closer to the center of the work-carrying area Area is. Of these measures, the provision of the replacement work pieces is recommended because it is more convenient than other measures and it can easily optimize the plating condition by replacing the replacement work pieces with suitable alternative replacement work pieces different from those the former in terms of size and shape.

Die Beförderungsführung (321A in der Zeichnung), die in der in Fig. 20 gezeigten Struktur vorgesehen ist, ist nicht notwendigerweise erforderlich. In dem Fall, in wel­ chem eine Beförderungsführung vorgesehen ist, können die Führungswalzen 327 oder die Führungsplatten 322 derart angeordnet sein, daß sie zwischen einer Reihe von Ersatz-Arbeitsstücken 331 an einem jeweiligen der unteren Längselemente 26A, 26B und Arbeitsstücken W, die benachbart zu einem jeweiligen der unteren Längse­ lemente 26A, 26B angeordnet sind, angeordnet sind.The conveyance guide (321A in the drawing) provided in the structure shown in Fig. 20 is not necessarily required. In the case where a conveyance guide is provided, the guide rollers 327 or the guide plates 322 may be arranged so that they are between a series of replacement workpieces 331 on a respective one of the lower longitudinal members 26 A, 26 B and work pieces W which are arranged adjacent to a respective one of the lower longitudinal elements 26 A, 26 B.

Die folgende Beschreibung betrifft eine zusätzliche Struktur, die vorgesehen sein kann, um einen wechselseitigen Kontakt zwischen Arbeitsstücken zu verhindern, die benachbart zueinander in der Beförderungsrichtung angeordnet sind, sowie entlang der Achse einer jeweiligen Walze 41, um dadurch eine Verschlechterung in bezug auf eine Plattierungsqualität aufgrund eines solchen wechselseitigen Kontakts von benachbarten Arbeitsstücken zu verhindern. Diese Struktur ist insbesondere dort vorteilhaft, wo ein jeweiliges Arbeitsstück flach ist, und klein oder asymmetrisch in bezug auf die Beförderungsrichtung.The following description relates to an additional structure that may be provided to prevent mutual contact between workpieces located adjacent to each other in the conveying direction and along the axis of each roller 41 , thereby causing deterioration in plating quality to prevent such mutual contact of neighboring workpieces. This structure is particularly advantageous where a particular work piece is flat and small or asymmetrical with respect to the direction of conveyance.

Fig. 21 zeigt einen Beförderungsbehälter 341 als Beispiel für eine solche zusätzliche Struktur, welcher einen flachen Boden hat und welcher auf den elektrisch leitenden Walzen 41 getragen und durch Drehen der Walzen 41 bewegt werden kann. Der Beförderungsbehälter 341 weist einen rechteckförmigen Außenrahmen 342 und ein Gitter auf, das innerhalb des Außenrahmens 342 ausgebildet ist, wobei das Gitter longitudinale Querstücke 343 aufweist, die sich in der Beförderungsrichtung erstrec­ ken, und laterale Querstücke 344, die die longitudinalen Querstücke 343 in senk­ rechter Richtung schneiden. Die longitudinalen und die lateralen Querstücke 343 und 344 dienen als Abteilungen, die eine Vielzahl von Räumen 345 zum Unterbringen von Arbeitsstücken definieren, von welchen jeder in einer Draufsicht rechteckförmig ist und sich durch den Beförderungsbehälter 341 in seiner Dickenrichtung erstreckt. Die Räume 345 zum Unterbringen von Arbeitsstücken sind jeweils angepaßt, um ein jeweiliges Arbeitsstück W einzeln unterzubringen, und sind jeweils derart bemaßt, daß sie einen geeigneten Abstand zwischen dem Außenumfang des darin unterge­ brachten Arbeitsstücks W und den Innenflächen der longitudinalen und der lateralen Querstücke 343 und 344 haben, die einen jeweiligen Raum 345 zum Unterbringen von Arbeitsstücken definieren. Obwohl ein jeweiliger der gezeigten Räume 345 zum Unterbringen von Arbeitsstücken rechteckförmig ist, kann er in irgendeiner geeigne­ ten Form konfiguriert sein, wie beispielsweise in einer kreisförmigen Form. Fig. 21 shows a carrying case 341 as an example of such an additional structure, which has a flat bottom and which can be carried on the electrically conductive rollers 41 and moved by rotating the rollers 41 . The transport container 341 has a rectangular outer frame 342 and a grid which is formed within the outer frame 342 , the grid having longitudinal cross pieces 343 which extend in the direction of transport, and lateral cross pieces 344 which the longitudinal cross pieces 343 in a vertical direction Cut direction. The longitudinal and lateral cross pieces 343 and 344 serve as compartments defining a plurality of work piece spaces 345 , each of which is rectangular in plan view and extends through the transport container 341 in its thickness direction. The work piece accommodating spaces 345 are each adapted to house a respective work piece W individually, and are each dimensioned such that they have an appropriate distance between the outer periphery of the work piece W housed therein and the inner surfaces of the longitudinal and lateral cross pieces 343 and 344 that define a respective space 345 for accommodating workpieces. Although each of the work space shown 345 is rectangular, it may be configured in any suitable shape, such as a circular shape.

Die laterale Breite des Beförderungsbehälters 341 in der Richtung, in welcher sich die lateralen Querstücke 344 erstrecken, stimmt im wesentlichen mit der inneren Breite des unteren Rahmenteils 23 in der y-Achsenrichtung überein, während die longitudinale Breite des Beförderungsbehälters 341 in der Richtung, in welcher sich die longitudinalen Querstücke 343 erstrecken, derart ist, um zuzulassen, daß sich der Behälter 341 innerhalb des unteren Rahmenteils 23 in der Beförderungsrichtung hin- und herbewegt. Die Dicke des Beförderungsbehälters 341 ist nicht kleiner als etwa einige Millimeter und nicht größer als etwa das Zweifache der Dicke eines je­ weiligen Arbeitsstücks W. Vorzugsweise ist die Dicke des Beförderungsbehälters 341 im wesentlichen gleich derjenigen eines jeweiligen Arbeitsstücks W. Der Beför­ derungsbehälter 341 ist normalerweise aus synthetischem Harz mit zufriedenstellen­ der Korrosionsfestigkeit und Wärmebeständigkeit hergestellt, wie beispielsweise aus steifem Vinylchlorid, kann aber aus einem Metallmaterial hergestellt sein, wie bei­ spielsweise aus Messing oder aus rostfreiem Stahl. Im letzteren Fall sind die Boden­ fläche des Beförderungsbehälters 341 und die Innenflächen der longitudinalen und der lateralen Querstücke 343 und 344 mit einem Isoliermaterial überzogen, wie bei­ spielsweise mit synthetischem Harz. The lateral width of the transport container 341 in the direction in which the lateral cross pieces 344 extend substantially coincides with the inner width of the lower frame part 23 in the y-axis direction, while the longitudinal width of the transport container 341 in the direction in which the longitudinal cross pieces 343 extend to allow the container 341 to reciprocate within the lower frame member 23 in the direction of travel. The thickness of the transport container 341 is not less than about a few millimeters and not more than about twice the thickness of a respective workpiece W. Preferably, the thickness of the transport container 341 is substantially the same as that of a respective workpiece W. The transport container 341 is normally made of synthetic resin with satisfactory corrosion resistance and heat resistance, such as stiff vinyl chloride, but can be made of a metal material such as brass or stainless steel. In the latter case, the bottom surface of the transport container 341 and the inner surfaces of the longitudinal and lateral cross pieces 343 and 344 are covered with an insulating material, such as with synthetic resin.

Beim Betrieb wird der Beförderungsbehälter 341 auf den elektrisch leitenden Walzen 41 angeordnet, und dann werden Arbeitsstücke W auf den elektrisch leitenden Wal­ zen 41 angeordnet, so daß sie einzeln in jeweiligen Räumen 345 zum Unterbringen von Arbeitsstücken untergebracht werden. Darauffolgend werden die elektrisch lei­ tenden Walzen 41 gedreht, um den Beförderungsbehälter 341 zusammen mit den darin untergebrachten Arbeitsstücken W zu bewegen. Selbst wenn es einen Unter­ schied in bezug auf eine Bewegungsgeschwindigkeit zwischen den Arbeitsstücken W gibt, können die longitudinalen Querstücke 343 und die lateralen Querstücke 344 gesichert verhindern, daß sich die Arbeitsstücke W einander kontaktieren, während die Bewegung oder die Beförderung der Arbeitsstücke W stabilisiert wird. Somit macht es das Vorsehen des Beförderungsbehälters 341 möglich, eine Verschlechte­ rung in bezug auf eine Plattierungsqualität zu verhindern, und es stabilisiert die Plat­ tierungsqualität.During operation of the transport container is placed 341 on the electrically conductive rollers 41, and then the working pieces W are zen on the electrically conductive Wal 41 disposed so as to be individually in respective spaces 345 housed for accommodating work pieces. Subsequently, the electrically conductive rollers 41 are rotated to move the transport container 341 together with the work pieces W housed therein. Even if there is a difference in a moving speed between the workpieces W, the longitudinal crosspieces 343 and the lateral crosspieces 344 can surely prevent the workpieces W from contacting each other while the movement or the conveyance of the workpieces W is stabilized. Thus, the provision of the carrying case 341 makes it possible to prevent deterioration in plating quality and stabilizes the plating quality.

Wie das Plattierungssystem gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel kann das Plat­ tierungssystem gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel mit einer zusätzlichen Struktur zum Verbessern der Plattierungsqualität versehen sein, zum Beispiel mit dem Netzelement 301, das an der oberen Anode 202 angebracht ist, oder der zu dem Plattierungsbad 201 gehörenden Filtervorrichtung 311, wie es in Fig. 15 gezeigt ist. Ebenso kann das zweite Ausführungsbeispiel mit der Beförderungsführung 321 oder 321A versehen sein, die in den Fig. 16 bis 19 gezeigt ist. Weiterhin können die in Fig. 20 gezeigten Ersatz-Arbeitsstücke 331 beim zweiten Ausführungsbeispiel vor­ gesehen sein. In diesem Fall sind die Ersatz-Arbeitsstücke 331 nur bei gegenüber­ liegenden lateralen Rändern des ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeordnet, der durch die elektrisch leitenden Walzen 41 definiert ist, nämlich bei den Längsele­ menten (äquivalent den Elementen 26A, 26B in Fig. 5), weil es die Beschränkung gibt, daß es erforderlich ist, daß die lateralen Elemente (äquivalent den Elementen 27 in Fig. 5) so anzuordnen, daß ihre oberen Enden niedriger als die ein Arbeitsstück tragende Ebene positioniert sind, die durch die elektrisch leitenden Walzen 41 defi­ niert ist.Like the plating system according to the first embodiment, the plating system according to the second embodiment can be provided with an additional structure for improving the plating quality, for example with the mesh element 301 , which is attached to the upper anode 202 , or the filter device belonging to the plating bath 201 311 as shown in FIG. 15. Likewise, the second embodiment can be provided with the conveyance guide 321 or 321 A shown in Figs. 16 to 19. Furthermore, the replacement workpieces 331 shown in FIG. 20 can be seen in the second embodiment. In this case, the replacement workpieces 331 are only arranged at opposite lateral edges of the region carrying a workpiece, which is defined by the electrically conductive rollers 41 , namely the longitudinal elements (equivalent to the elements 26 A, 26 B in FIG. 5 ) because there is a limitation that the lateral elements (equivalent to elements 27 in Fig. 5) are required to be arranged so that their upper ends are positioned lower than the plane carrying a work piece by the electrically conductive rollers 41 is defined.

Weiterhin kann das zweite Ausführungsbeispiel den in Fig. 21 gezeigten Beförde­ rungsbehälter 341 verwenden. In diesem Fall verläuft die Plattierungsoperation wie folgt: der Beförderungsbehälter 341 wird auf den Walzen 243 zum Hineintragen an­ geordnet; Arbeitsstücke W werden auf den Walzen 243 zum Hineintragen angeord­ net, um einzeln in jeweiligen Räumen 245 zum Unterbringen von Arbeitsstücken des Beförderungsbehälters 341 untergebracht zu werden; der Beförderungsbehälter 341 zusammen mit den darin untergebrachten Arbeitsstücken W wird durch die Auslauf- Verhinderungsvorrichtung 221 auf der Seite zum Hineintragen und den Einlaß 212 in das Plattierungsbad 201 hineingetragen; und nach einem Plattieren werden sie in Richtung durch den Auslaß 214 und die Auslauf-Verhinderungsvorrichtung 222 zur stromabwärtigen Seite befördert.Furthermore, the second embodiment may use the conveyance container 341 shown in FIG. 21. In this case, the plating operation is as follows: the carrying case 341 is placed on the rollers 243 for carrying in; Workpieces W are arranged on the rollers 243 for carrying in to be individually accommodated in respective rooms 245 for accommodating workpieces of the transport container 341 ; the carrying case 341 together with the work pieces W accommodated therein is carried in by the leak preventing device 221 on the side and the inlet 212 is carried into the plating bath 201 ; and after plating, they are conveyed toward the downstream side through the outlet 214 and the leak preventing device 222 .

In dem Fall, in welchem das Plattierungsbad nicht mit dem Einlaß 212 oder dem Auslaß 214 versehen ist, ist ein solcher Aufbau möglich, daß ein Roboter zum Hin­ eintragen benachbart zur Seitenwand zum Hineintragen des Plattierungsbads vorge­ sehen ist, um den Beförderungsbehälter 341 und Arbeitsstücke loslösbar zu halten, die positioniert sind, um in jeweiligen Räumen 345 zum Unterbringen von Arbeits­ stücken des Beförderungsbehälters 341 einzeln untergebracht zu werden, und um sie auf den elektrisch leitenden Walzen 41 anzuordnen, während ein Roboter zum Hinaustragen benachbart zur Seitenwand zum Hinaustragen des Plattierungsbads vorgesehen ist, um den Beförderungsbehälter 341 und die Arbeitsstücke loslösbar zu halten, die auf den elektrisch leitenden Walzen 41 angeordnet sind, und um sie aus dem Plattierungsbad hinauszutragen. In diesem Fall ist die obere Elektrode 202, wenn sie vorgesehen ist, so angeordnet, daß sie den Beförderungsbehälter 341 und die Arbeitsstücke, die in das Plattierungsbad hinein und aus diesem hinaus getragen werden, nicht stören.In the case where the plating bath is not provided with the inlet 212 or the outlet 214 , such a construction is possible that a robot for feeding in there is provided adjacent to the side wall for carrying in the plating bath to detachably the carrying container 341 and work pieces to hold, which are positioned to be accommodated individually in respective spaces 345 for accommodating work pieces of the transport container 341 , and to be arranged on the electrically conductive rollers 41 , while a robot for carrying out is provided adjacent to the side wall for carrying out the plating bath to detachably hold the transport container 341 and the work pieces arranged on the electroconductive rollers 41 and to carry them out of the plating bath. In this case, the upper electrode 202 , if provided, is arranged so as not to interfere with the carrying case 341 and the work pieces carried in and out of the plating bath.

Gemäß der vorliegenden Erfindung werden Arbeitsstücke einem Plattieren unterzo­ gen, während sie auf den elektrisch leitenden Walzen befördert werden oder hin- und herbewegt werden, wenn sich die Walzen vorwärts und rückwärts drehen. Somit können die Arbeitsstücke mit einer höheren Plattierungseffizienz und einer höheren Produktivität plattiert werden, und ohne irgendeine Beschädigung aufgrund einer wechselseitigen Störung zwischen benachbarten Arbeitsstücken. Mittels dieser Vor­ teile ist die vorliegende Erfindung vorteilhaft auf die Plattierung von relativ klein be­ maßten plattenförmigen oder flachen elektronischen Teilen, mechanischen Teilen oder ähnlichen Artikeln anwendbar.According to the present invention, workpieces are subjected to plating conditions while they are being transported on the electrically conductive rollers or and be moved as the reels rotate forward and backward. Consequently can work pieces with higher plating efficiency and higher Productivity can be plated and without any damage due to any mutual interference between neighboring workpieces. By means of this before parts, the present invention is advantageous to the plating of relatively small measured plate-shaped or flat electronic parts, mechanical parts or similar articles applicable.

Während nur bestimmte gegenwärtig bevorzugte Ausführungsbeispiele der vorlie­ genden Erfindung detailliert beschrieben worden sind, können, wie es Fachleuten auf dem Gebiet offensichtlich sein wird, bestimmte Änderungen und Modifikationen in bezug auf ein Ausführungsbeispiel durchgeführt werden, ohne vom Schutzumfang der Erfindung abzuweichen, wie er durch die folgenden Ansprüche definiert ist.While only certain currently preferred embodiments of the present ing invention have been described in detail, as those skilled in the art in the field it will be obvious certain changes and modifications  be carried out with respect to an embodiment without departing from the scope depart from the invention as defined by the following claims.

Claims (19)

1. Plattierungssystem, das folgendes aufweist:
ein Plattierungsbad (1; 201), das mit einer Anode (2, 3; 202, 203) versehen ist;
eine Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen (41), die eine Kathode bilden und die im Plattierungsbad (1; 201) angeordnet sind, zum Befördern von Ar­ beitsstücken (W) als Subjekte zur Plattierung; und
einen Plattierungsstrom-Zuführabschnitt (45) zum Zuführen von Plattie­ rungsstrom zur Anode (2, 3; 202, 203) und zu den elektrisch leitenden Walzen (41), um zu veranlassen, daß die Arbeitsstücke (W) plattiert werden.
1. A plating system comprising:
a plating bath ( 1 ; 201 ) provided with an anode ( 2 , 3 ; 202 , 203 );
a plurality of electrically conductive rollers ( 41 ) forming a cathode and arranged in the plating bath ( 1 ; 201 ) for conveying work pieces (W) as subjects for plating; and
a plating current supply section ( 45 ) for supplying plating current to the anode ( 2 , 3 ; 202 , 203 ) and to the electrically conductive rollers ( 41 ) to cause the workpieces (W) to be plated.
2. Plattierungssystem nach Anspruch 1, wobei das Plattierungsbad (201) eine Seitenwand (211) zum Hineintragen hat, die einen Einlaß (212) definiert, durch welchen die Arbeitsstücke (W) auf die elektrisch leitenden Walzen (41) im Plat­ tierungsbad (201) getragen werden, und eine Seitenwand (213) zum Hin­ austragen, die einen Auslaß (214) definiert, durch welchen die Arbeitsstücke (W), die plattiert worden sind, aus dem Bad hinausgetragen werden, wobei eine jeweilige der Seitenwand (211) zum Hineintragen und der Seitenwand (213) zum Hinaustragen mit einer Auslauf-Verhinderungseinrichtung (221, 222) ver­ sehen ist, um zu verhindern, daß eine Plattierungslösung im Plattierungsbad (201) aus dem Bad ausläuft, während zugelassen wird, daß die Arbeitsstücke (W) durch den Einlaß (212) oder den Auslaß (214) laufen.2. Plating system according to claim 1, wherein the plating bath ( 201 ) has a side wall ( 211 ) for carrying in, which defines an inlet ( 212 ) through which the workpieces (W) on the electrically conductive rollers ( 41 ) in the plating bath ( 201 ) and a side wall ( 213 ) for the outward direction defining an outlet ( 214 ) through which the workpieces (W) that have been plated are carried out of the bath, a respective one of the side wall ( 211 ) for In and the side wall ( 213 ) for carrying out is provided with a leak preventing device ( 221 , 222 ) to prevent a plating solution in the plating bath ( 201 ) from leaking out of the bath while allowing the workpieces (W) run through the inlet ( 212 ) or outlet ( 214 ). 3. Plattierungssystem nach Anspruch 1, das weiterhin eine Walzenantriebseinrich­ tung (42, 55, 56, 59, 61, 47) aufweist, um zu veranlassen, daß sich die elek­ trisch leitenden Walzen (41) in Vorwärtsrichtung und in Rückwärtsrichtung dre­ hen. 3. The plating system of claim 1, further comprising a roller drive means ( 42 , 55 , 56 , 59 , 61 , 47 ) for causing the electrically conductive rollers ( 41 ) to rotate in the forward and reverse directions. 4. Plattierungssystem nach Anspruch 1, wobei die Anode (2, 3) eine untere Anode (3) aufweist, die unterhalb der elektrisch leitenden Walzen (41) angeordnet ist, und eine obere Anode (2), die oberhalb der elektrisch leitenden Walzen (41) angeordnet ist.4. The plating system according to claim 1, wherein the anode ( 2 , 3 ) has a lower anode ( 3 ) which is arranged below the electrically conductive rollers ( 41 ), and an upper anode ( 2 ) which is above the electrically conductive rollers ( 41 ) is arranged. 5. Plattierungssystem nach Anspruch 5, das weiterhin ein Ersatz-Arbeitsstück (331) aufweist, das benachbart zu einem jeweiligen von gegenüberliegenden lateralen Rändern eines ein Arbeitsstück tragenden Bereichs angeordnet ist, der durch die elektrisch leitenden Walzen (41) definiert ist, wobei das Ersatz- Arbeitsstück (331) mit einer Kathodenseite des Plattierungsstrom- Zuführabschnitts (45) elektrisch verbunden ist.The plating system of claim 5, further comprising a replacement work piece ( 331 ) disposed adjacent to respective one of opposite lateral edges of a work piece supporting area defined by the electrically conductive rollers ( 41 ), the replacement - Workpiece ( 331 ) is electrically connected to a cathode side of the plating current supply section ( 45 ). 6. Plattierungssystem, das folgendes aufweist:
ein Plattierungsbad (201), das mit einer Anode (202, 203) versehen ist;
eine Arbeitsstück-Behältereinheit (21) mit einer Vielzahl von elektrisch lei­ tenden Walzen (41) zum Tragen von Arbeitsstücken (W) als Subjekte zur Plat­ tierung darauf, wobei die elektrisch leitenden Walzen (41) eine Kathode bilden, und einer Walzen-Antriebseinrichtung (42) zum Veranlassen, daß sich die elektrisch leitenden Walzen (41) in Vorwärtsrichtung und in Rückwärtsrichtung drehen;
eine Beförderungseinrichtung (243) zum Befördern der Arbeitsstück- Behältereinheit (21) und zum Einfügen der Arbeitsstück-Behältereinheit (21) in das Plattierungsbad (201) und zum Entfernen derselben daraus; und
einen Plattierungsstrom-Zuführabschnitt (270) zum Zuführen von Plattie­ rungsstrom zur Anode (202, 203) und zu den elektrisch leitenden Walzen (41), um zu veranlassen, daß die Arbeitsstücke (W) plattiert werden.
6. A plating system comprising:
a plating bath ( 201 ) provided with an anode ( 202 , 203 );
a work piece container unit ( 21 ) having a plurality of electrically conductive rollers ( 41 ) for carrying work pieces (W) as subjects for plating thereon, the electrically conductive rollers ( 41 ) forming a cathode, and a roller drive device ( 42 ) for causing the electrically conductive rollers ( 41 ) to rotate in the forward and reverse directions;
conveying means ( 243 ) for conveying the work piece container unit ( 21 ) and inserting the work piece container unit ( 21 ) into and removing the plating bath ( 201 ); and
a plating current supply section ( 270 ) for supplying plating current to the anode ( 202 , 203 ) and the electrically conductive rollers ( 41 ) to cause the workpieces (W) to be plated.
7. Plattierungssystem nach Anspruch 6, wobei die Anode (202, 203) eine untere Anode (203) aufweist, die unterhalb der elektrisch leitenden Walzen (41) ange­ ordnet ist, und eine obere Anode (202), die oberhalb der elektrisch leitenden Walzen (41) angeordnet ist, und wobei weiterhin eine Verschiebungseinrich­ tung (6) vorgesehen ist, um die obere Anode zu einer Stelle zu verschieben, bei welcher die obere Anode (202) die Arbeitsstück-Behältereinheit (21) nicht stört, wenn die Arbeitsstück-Behältereinheit (21) in das Plattierungsbad (201) einge­ fügt oder daraus entfernt wird. 7. The plating system according to claim 6, wherein the anode ( 202 , 203 ) has a lower anode ( 203 ), which is arranged below the electrically conductive rollers ( 41 ), and an upper anode ( 202 ), which is above the electrically conductive rollers ( 41 ) is arranged, and wherein further a displacement device ( 6 ) is provided in order to shift the upper anode to a position at which the upper anode ( 202 ) does not disturb the work piece container unit ( 21 ) when the work piece Container unit ( 21 ) in the plating bath ( 201 ) is inserted or removed therefrom. 8. Plattierungssystem nach Anspruch 7, das weiterhin ein Ersatz-Arbeitsstück (331) aufweist, das benachbart zu einem peripheren Rand eines ein Arbeits­ stück tragenden Bereichs angeordnet ist, der durch die elektrisch leitenden Walzen (41) definiert ist, wobei das Ersatz-Arbeitsstück (331) mit einer Katho­ denseite des Plattierungsstrom-Zuführabschnitts (270) elektrisch verbunden ist.8. The plating system of claim 7, further comprising a replacement work piece ( 331 ) disposed adjacent a peripheral edge of a work piece supporting region defined by the electrically conductive rollers ( 41 ), the replacement work piece ( 331 ) is electrically connected to a cathode side of the plating current supply section ( 270 ). 9. Plattierungssystem nach Anspruch 4 oder 7, wobei der Plattierungsstrom- Zuführabschnitt (270) einen oberen Anodenstrom-Steuerabschnitt (254) zum Steuern eines zur oberen Anode (202) zuzuführenden Plattierungsstroms und einen unteren Anodenstrom-Steuerabschnitt (255) zum Steuern eines zur unte­ ren Anode (203) zuzuführenden Plattierungsstroms enthält.The plating system according to claim 4 or 7, wherein the plating current supply section ( 270 ) has an upper anode current control section ( 254 ) for controlling a plating current to be supplied to the upper anode ( 202 ) and a lower anode current control section ( 255 ) for controlling a lower one ren anode ( 203 ) to be supplied plating current. 10. Plattierungssystem nach Anspruch 4 oder 7, wobei die elektrisch leitenden Walzen (41) jeweils mit einer Walzenabdeckung (51) versehen sind, die eine untere Seite davon gegen die untere Anode (3; 203) abschirmt.10. The plating system according to claim 4 or 7, wherein the electrically conductive rollers ( 41 ) are each provided with a roller cover ( 51 ) shielding a lower side thereof from the lower anode ( 3 ; 203 ). 11. Plattierungssystem nach Anspruch 1 oder 6, wobei die elektrisch leitenden Walzen (41) jeweils einen Antriebswellenteil (42) haben, der mit einem Antrieb­ selement (55) versehen ist, und einen ein Arbeitsstück tragenden Walzenteil (48), der an dem Antriebswellenteil (42) entfernbar angebracht ist, zum Tragen der Arbeitsstücke (W) darauf.11. The plating system according to claim 1 or 6, wherein the electrically conductive rollers ( 41 ) each have a drive shaft part ( 42 ) which is provided with a drive element ( 55 ), and a work piece-bearing roller part ( 48 ) which is attached to the drive shaft part ( 42 ) is removably attached to carry the workpieces (W) thereon. 12. Plattierungssystem nach Anspruch 4 oder 7, wobei die obere Anode (2, 202) ein lösbares Elektrodenmaterial aufweist, welches mit dem Fortschreiten einer Plattierung lösbar ist; und ein Netzelement (301) unterhalb der oberen Anode (2; 202) vorgesehen ist, um zu verhindern, daß feine Partikel des lösbaren Elektrodenmaterials, die aus einer Auflösung des lösbaren Elektrodenmaterials während eines Plattierens resultieren, auf die Arbeitsstücke (W) fallen.12. The plating system of claim 4 or 7, wherein the upper anode ( 2 , 202 ) comprises a releasable electrode material that is releasable as plating progresses; and a mesh member ( 301 ) is provided below the upper anode ( 2 ; 202 ) to prevent fine particles of the releasable electrode material resulting from dissolution of the releasable electrode material during plating from falling on the workpieces (W). 13. Plattierungssystem nach Anspruch 4 oder 7, wobei die obere Anode (2; 202) ein unlösbares Elektrodenmaterial aufweist.13. The plating system according to claim 4 or 7, wherein the upper anode ( 2 ; 202 ) comprises an insoluble electrode material. 14. Plattierungssystem nach Anspruch 1 oder 6, wobei das Plattierungsbad (1; 201) mit einer Filtervorrichtung (311) zum Filtern einer im Plattierungsbad (1,; 201) enthaltenen Plattierungslösung versehen ist, um darin enthaltene feine Verschmutzungen zu entfernen.14. The plating system according to claim 1 or 6, wherein the plating bath ( 1 ; 201 ) is provided with a filter device ( 311 ) for filtering a plating solution contained in the plating bath (1 ,; 201) to remove fine dirt contained therein. 15. Plattierungssystem nach Anspruch 1 oder 6, das weiterhin eine Beförderungs­ führung (321) aufweist, um zu verhindern, daß auf den elektrisch leitenden Walzen (41) bei Stellen benachbart zueinander entlang einer Achse einer je­ weiligen der elektrisch leitenden Walzen (41) angeordnete Arbeitsstücke (W) einander kontaktieren.15. A plating system according to claim 1 or 6, further comprising a conveying guide ( 321 ) to prevent that on the electrically conductive rollers ( 41 ) at locations adjacent to each other along an axis of a respective one of the electrically conductive rollers ( 41 ) arranged Work pieces (W) contact each other. 16. Plattierungssystem nach Anspruch 1 oder 6, das weiterhin einen Beförde­ rungsbehälter (341) aufweist, der auf den elektrisch leitenden Walzen (41) an­ zuordnen und zu bewegen ist, wobei der Beförderungsbehälter (341) eine Viel­ zahl von Räumen (345) zum Unterbringen von Arbeitsstücken (W) definiert, die sich jeweils durch den Behälter in seiner Dickenrichtung erstrecken, um jeweili­ ge Arbeitsstücke (W) einzeln unterzubringen.Comprises 16. The plating system of claim 1 or 6, further comprising a Beförde approximately container (341), which is assigned to the electrically conductive rollers (41) and to move, with the conveying container (341) a plurality of spaces (345) for Housing workpieces (W) defined, each extending through the container in its thickness direction to accommodate respective ge workpieces (W) individually. 17. Plattierungsverfahren, das die folgenden Schritte aufweist:
Vorsehen eines Plattierungsbads (1) mit einer Anode (2, 3) und einer Viel­ zahl von elektrisch leitenden Walzen (41) zum Tragen von Arbeitsstücken (W) als Subjekte zur Plattierung darauf, wobei die elektrisch leitenden Walzen (41) eine Kathode bilden;
Hineintragen der Arbeitsstücke (W) in das Plattierungsbad (1);
Anordnen der Arbeitsstücke (W) auf den elektrisch leitenden Walzen (41) und Unterziehen der Arbeitsstücke (W) einer Plattierung, während dieselben auf den elektrisch leitenden Walzen (41) durch Drehen der elektrisch leitenden Walzen bewegt werden; und
Hinaustragen der so plattierten Arbeitsstücke (W) aus dem Plattierungsbad (1).
17. A plating process comprising the following steps:
Providing a plating bath ( 1 ) with an anode ( 2 , 3 ) and a plurality of electrically conductive rollers ( 41 ) for supporting workpieces (W) as subjects for plating thereon, the electrically conductive rollers ( 41 ) forming a cathode;
Carrying the workpieces (W) into the plating bath ( 1 );
Placing the workpieces (W) on the electroconductive rollers ( 41 ) and subjecting the workpieces (W) to plating while moving them on the electroconductive rollers ( 41 ) by rotating the electroconductive rollers; and
Removing the work pieces (W) thus plated from the plating bath ( 1 ).
18. Plattierungsverfahren nach Anspruch 17, wobei die Arbeitsstücke (W) einem Plattieren unterzogen werden, während sie auf den elektrisch leitenden Walzen (41) durch Drehen der elektrisch leitenden Walzen (41) in Vorwärtsrichtung und Rückwärtsrichtung hin- und herbewegt werden.The plating method according to claim 17, wherein the work pieces (W) are subjected to plating while being reciprocated on the electroconductive rollers ( 41 ) by rotating the electroconductive rollers ( 41 ) in the forward and backward directions. 19. Plattierungsverfahren, das die folgenden Schritte aufweist:
Vorsehen eines Plattierungsbads (201) mit einer Anode (202, 203) und ei­ ner Arbeitsstück-Behältereinheit (21) mit einer Vielzahl von elektrisch leitenden Walzen (41), die eine Kathode bilden und die Arbeitsstücke (41) als Subjekte zur Plattierung darauf tragen;
Einführen der Arbeitsstück-Behältereinheit (21) in das Plattierungsbad (201);
Unterziehen der Arbeitsstücke (W) einer Plattierung, während dieselben auf den elektrisch leitenden Walzen (41) durch Drehen der elektrisch leitenden Walzen (41) in Vorwärtsrichtung und Rückwärtsrichtung hin- und herbewegt werden; und
Hinaustragen der Arbeitsstück-Behältereinheit (21), die die so plattierten Arbeitsstücke (W) enthält, aus dem Plattierungsbad (201).
19. A plating process comprising the following steps:
Providing a plating bath ( 201 ) with an anode ( 202 , 203 ) and a work piece container unit ( 21 ) with a plurality of electrically conductive rollers ( 41 ) which form a cathode and carry the work pieces ( 41 ) as subjects for plating thereon ;
Inserting the work piece container unit ( 21 ) into the plating bath ( 201 );
Subjecting the workpieces (W) to plating while reciprocating them on the electroconductive rollers ( 41 ) by rotating the electroconductive rollers ( 41 ) in the forward and backward directions; and
Removing the work piece container unit ( 21 ) containing the work pieces (W) thus plated from the plating bath ( 201 ).
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