DE10031952A1 - Mehrchip-Halbleitermodul und Herstellungsverfahren dafür - Google Patents
Mehrchip-Halbleitermodul und Herstellungsverfahren dafürInfo
- Publication number
- DE10031952A1 DE10031952A1 DE10031952A DE10031952A DE10031952A1 DE 10031952 A1 DE10031952 A1 DE 10031952A1 DE 10031952 A DE10031952 A DE 10031952A DE 10031952 A DE10031952 A DE 10031952A DE 10031952 A1 DE10031952 A1 DE 10031952A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- substrate
- semiconductor chip
- chip
- circuit arrangement
- electrically connected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
- H01L23/13—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the shape
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/52—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
- H01L23/538—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
- H01L23/5389—Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates the chips being integrally enclosed by the interconnect and support structures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L24/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/065—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L25/0657—Stacked arrangements of devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0556—Disposition
- H01L2224/05568—Disposition the whole external layer protruding from the surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05573—Single external layer
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/291—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof
- H01L2224/29101—Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron [B], silicon [Si], germanium [Ge], arsenic [As], antimony [Sb], tellurium [Te] and polonium [Po], and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of less than 400°C
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/28—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
- H01L2224/29—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/29001—Core members of the layer connector
- H01L2224/29099—Material
- H01L2224/2919—Material with a principal constituent of the material being a polymer, e.g. polyester, phenolic based polymer, epoxy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32135—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/32145—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
- H01L2224/491—Disposition
- H01L2224/49105—Connecting at different heights
- H01L2224/49109—Connecting at different heights outside the semiconductor or solid-state body
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
- H01L2224/73204—Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73253—Bump and layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8319—Arrangement of the layer connectors prior to mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/0651—Wire or wire-like electrical connections from device to substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06513—Bump or bump-like direct electrical connections between devices, e.g. flip-chip connection, solder bumps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06517—Bump or bump-like direct electrical connections from device to substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06541—Conductive via connections through the device, e.g. vertical interconnects, through silicon via [TSV]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06572—Auxiliary carrier between devices, the carrier having an electrical connection structure
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06582—Housing for the assembly, e.g. chip scale package [CSP]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06582—Housing for the assembly, e.g. chip scale package [CSP]
- H01L2225/06586—Housing with external bump or bump-like connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06589—Thermal management, e.g. cooling
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06596—Structural arrangements for testing
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/49—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01004—Beryllium [Be]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01047—Silver [Ag]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/06—Polymers
- H01L2924/0665—Epoxy resin
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/06—Polymers
- H01L2924/078—Adhesive characteristics other than chemical
- H01L2924/0781—Adhesive characteristics other than chemical being an ohmic electrical conductor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1532—Connection portion the connection portion being formed on the die mounting surface of the substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/156—Material
- H01L2924/15786—Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
- H01L2924/15787—Ceramics, e.g. crystalline carbides, nitrides or oxides
Abstract
Ein Mehrchip-Halbleitermodul weist auf: ein Chipmontageteil mit einem ersten und zweiten Substrat, wobei das erste Substrat hat: eine entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche, mehrere erste leitende Kontaktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberfläche erstrecken, und eine erste Schaltungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche strukturiert und mit den ersten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, wobei das zweite Substrat hat: eine entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche, mehrere zweite leitende Kontaktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberfläche des zweiten Substrats erstrecken, eine zweite Schaltungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats strukturiert und mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, und eine darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnung, wobei die erste Oberfläche des zweiten Substrats auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats verbunden ist, so daß die zweite Schaltungsanordnung mit der ersten Schaltungsanordnung über die ersten und zweiten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist; einen ersten Halbleiterchip, der in der ersten Chipaufnahmeöffnung angeordnet ist und eine auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats montierte erste Kontaktstellenfläche hat, wobei die erste Kontaktstellenfläche mit mehreren ersten Kontaktstellen ausgebildet ist; eine erste Leitereinrichtung zum elektrischen Verbinden der ersten Kontaktstelle mit der ersten ...
Description
Die Erfindung betrifft ein Mehrchip-Halbleitermodul und
ein Herstellungsverfahren dafür. Insbesondere betrifft die
Erfindung ein Herstellungsverfahren für ein Mehrchip-Halblei
termodul zum Erhöhen der Ausbeute des Mehrchipmoduls sowie
ein Mehrchip-Halbleitermodul zum Kombinieren unterschiedli
cher Funktionschips in einem Mehrchip-Halbleitermodul.
Tragbare elektronische Produkte sind eine Hauptentwick
lungsrichtung in der Halbleiterindustrie. Zur Verringerung
von Gesamtgröße und -gewicht eines elektronischen Produkts
muß zunächst die Größe einer Leiterplatte reduziert werden.
Vorgeschlagen wurde, Chips mit unterschiedlichen Funktionen
zu einem einzigen Halbleitermodul, d. h. zum Mehrchip-Halb
leitermodul, zu kombinieren.
Allerdings ist die schlechte Ausbeute des Mehrchip-Halb
leitermoduls immer noch ein Problem für die Massenherstel
lung. Ist einer der Chips im Modul defekt, beeinträchtigt
dies das gesamte Modul. Außerdem ist die Erkennung des defek
ten Chips sehr zeitraubend und kostspielig.
Folglich betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Her
stellung eines Mehrchip-Halbleitermoduls zum Erhöhen der Aus
beute des Mehrchip-Halbleitermoduls sowie eine Mehrchip-Halb
leitermodulstruktur zum Kombinieren von Chips mit unter
schiedlichen Funktionen in einem Mehrchip-Halbleitermodul.
Die Erfindung stellt ein Verfahren zur Herstellung eines
Mehrchip-Halbleitermoduls bereit, das die Ausbeute des Mehr
chip-Halbleitermoduls erhöhen kann, sowie eine Mehrchip-Halb
leitermodulstruktur zum Kombinieren von Chips mit unter
schiedlichen Funktionen in einem Mehrchip-Halbleitermodul.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung weist ein Verfahren zur
Herstellung eines Mehrchip-Halbleitermoduls die folgenden
Schritte auf: (a) Bereitstellen eines Chipmontageteils mit
einem ersten und zweiten Substrat, wobei das erste Substrat
hat: eine entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche, meh
rere erste leitende Kontaktlöcher, die sich durch die erste
und zweite Oberfläche erstrecken, eine erste Schaltungsanord
nung, die auf der zweiten Oberfläche strukturiert und mit den
ersten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, und
mehrere erste Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche an
geordnet und mit der ersten Schaltungsanordnung elektrisch
verbunden sind, wobei das zweite Substrat hat: eine entgegen
gesetzte erste und zweite Oberfläche, mehrere zweite leitende
Kontaktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberfläche
des zweiten Substrats erstrecken, eine zweite Schaltungsan
ordnung, die auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats
strukturiert und mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern
elektrisch verbunden ist, mehrere zweite Prüfpunkte, die auf
der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats angeordnet und
mit der zweiten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden
sind, und eine darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnung;
(b) Montieren einer ersten Kontaktstellenfläche eines ersten
Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des ersten Sub
strats und elektrisches Verbinden mehrerer erster Kontakt
stellen auf der ersten Kontaktstellenfläche mit der ersten
Schaltungsanordnung; (c) Prüfen des ersten Halbleiterchips
über die ersten Prüfpunkte des ersten Substrats, so daß ein
Austausch des ersten Halbleiterchips durchgeführt werden
kann, wenn festgestellt wird, daß der erste Halbleiterchip
defekt ist; (d) Verbinden der ersten Oberfläche des zweiten
Substrats auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats, so
daß der erste Halbleiterchip in der ersten Chipaufnahmeöff
nung angeordnet ist und so daß die zweite Schaltungsanordnung
mit der ersten Schaltungsanordnung über die ersten und zwei
ten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist; (e)
Montieren einer zweiten Kontaktstellenfläche eines zweiten
Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des zweiten Sub
strats und elektrisches Verbinden mehrerer zweiter Kontakt
stellen auf der zweiten Kontaktstellenfläche mit der zweiten
Schaltungsanordnung; und (f) Prüfen des zweiten Halbleiter
chips über die zweiten Prüfpunkte des zweiten Substrats, so
daß ein Austausch des zweiten Halbleiterchips durchgeführt
werden kann, wenn festgestellt wird, daß der zweite Halblei
terchip defekt ist.
Gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung weist ein Ver
fahren zur Herstellung eines Mehrchip-Halbleitermoduls die
folgenden Schritte auf: (a) Bereitstellen eines Chipmontage
teils mit einem ersten und zweiten Substrat, wobei das erste
Substrat hat: eine entgegengesetzte erste und zweite Oberflä
che, mehrere erste leitende Kontaktlöcher, die sich durch die
erste und zweite Oberfläche erstrecken, eine erste Schal
tungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche strukturiert
und mit den ersten leitenden Kontaktlöchern elektrisch ver
bunden ist, und mehrere erste Prüfpunkte, die auf der zweiten
Oberfläche angeordnet und mit der ersten Schaltungsanordnung
elektrisch verbunden sind, wobei das zweite Substrat hat: ei
ne entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche, mehrere
zweite leitende Kontaktlöcher, die sich durch die erste und
zweite Oberfläche des zweiten Substrats erstrecken, eine
zweite Schaltungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche
des zweiten Substrats strukturiert und mit den zweiten lei
tenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, mehrere zwei
te Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche des zweiten
Substrats angeordnet und mit der zweiten Schaltungsanordnung
elektrisch verbunden sind, und eine darin ausgebildete erste
Chipaufnahmeöffnung; wobei die erste Oberfläche des zweiten
Substrats auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats
verbunden ist, so daß die zweite Schaltungsanordnung mit der
ersten Schaltungsanordnung über die ersten und zweiten lei
tenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist und so daß das
zweite Substrat nicht die ersten Prüfpunkte abdeckt; (b) An
ordnen eines ersten Halbleiterchips in der ersten Chipaufnah
meöffnung, Montieren einer ersten Kontaktstellenfläche des
ersten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des ersten
Substrats und elektrisches Verbinden mehrerer erster Kontakt
stellen auf der ersten Kontaktstellenfläche mit der ersten
Schaltungsanordnung; (c) Prüfen des ersten Halbleiterchips
über die ersten Prüfpunkte des ersten Substrats, so daß ein
Austausch des ersten Halbleiterchips durchgeführt werden
kann, wenn festgestellt wird, daß der erste Halbleiterchip
defekt ist; (d) Montieren einer zweiten Kontaktstellenfläche
eines zweiten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des
zweiten Substrats und elektrisches Verbinden mehrerer zweiter
Kontaktstellen auf der zweiten Kontaktstellenfläche mit der
zweiten Schaltungsanordnung; und (e) Prüfen des zweiten Halb
leiterchips über die zweiten Prüfpunkte des zweiten Sub
strats, so daß ein Austausch des zweiten Halbleiterchips
durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird, daß der
zweite Halbleiterchip defekt ist.
Gemäß noch einem weiteren Aspekt der Erfindung weist ein
Mehrchip-Halbleitermodul auf: ein Chipmontageteil mit einem
ersten und zweiten Substrat, wobei das erste Substrat hat:
eine entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche, mehrere
erste leitende Kontaktlöcher, die sich durch die erste und
zweite Oberfläche erstrecken, und eine erste Schaltungsanord
nung, die auf der zweiten Oberfläche strukturiert und mit den
ersten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, wo
bei das zweite Substrat hat: eine entgegengesetzte erste und
zweite Oberfläche, mehrere zweite leitende Kontaktlöcher, die
sich durch die erste und zweite Oberfläche des zweiten Sub
strats erstrecken, eine zweite Schaltungsanordnung, die auf
der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats strukturiert und
mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden
ist, und eine darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnung,
wobei die erste Oberfläche des zweiten Substrats auf der
zweiten Oberfläche des ersten Substrats verbunden ist, so daß
die zweite Schaltungsanordnung mit der ersten Schaltungsan
ordnung über die ersten und zweiten leitenden Kontaktlöcher
elektrisch verbunden ist; einen ersten Halbleiterchip, der in
der ersten Chipaufnahmeöffnung angeordnet ist und eine auf
der zweiten Oberfläche des ersten Substrats montierte erste
Kontaktstellenfläche hat, wobei die erste Kontaktstellenflä
che mit mehreren ersten Kontaktstellen ausgebildet ist; eine
erste Leitereinrichtung zum elektrischen Verbinden der ersten
Kontaktstellen mit der ersten Schaltungsanordnung; einen
zweiten Halbleiterchip mit einer auf der zweiten Oberfläche
des zweiten Substrats montierten zweiten Kontaktstellenflä
che, wobei die zweite Kontaktstellenfläche mit mehreren zwei
ten Kontaktstellen ausgebildet ist; und eine zweite Leiter
einrichtung zum elektrischen Verbinden der zweiten Kontakt
stellen mit der zweiten Schaltungsanordnung.
Gemäß noch einem weiteren Aspekt der Erfindung weist ein
Verfahren zur Herstellung eines Mehrchip-Halbleitermoduls die
folgenden Schritte auf: (a) Bereitstellen eines Chipmontage
teils mit einem ersten, zweiten und dritten Substrat, wobei
das erste Substrat eine entgegengesetzte erste und zweite
Oberfläche sowie mehrere erste leitende Kontaktlöcher hat,
die sich durch die erste und zweite Oberfläche erstrecken,
wobei das zweite Substrat hat: eine entgegengesetzte erste
und zweite Oberfläche, mehrere zweite leitende Kontaktlöcher,
die sich durch die erste und zweite Oberfläche des zweiten
Substrats erstrecken, eine erste Schaltungsanordnung, die auf
der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats strukturiert und
mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden
ist, mehrere erste Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche
des zweiten Substrats angeordnet und mit der ersten Schal
tungsanordnung elektrisch verbunden sind, und eine darin aus
gebildete erste Chipaufnahmeöffnung, wobei das dritte Sub
strat hat: eine entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche,
mehrere dritte leitende Kontaktlöcher, die sich durch die er
ste und zweite Oberfläche des dritten Substrats erstrecken,
eine zweite Schaltungsanordnung, die auf der zweiten Oberflä
che des dritten Substrats strukturiert und mit den dritten
leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, mehrere
zweite Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche des dritten
Substrats angeordnet und mit der zweiten Schaltungsanordnung
elektrisch verbunden sind, und eine darin ausgebildete zweite
Chipaufnahmeöffnung, die größer als die erste Chipaufnahme
öffnung ist; (b) Verbinden der ersten Oberfläche des zweiten
Substrats auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats, so
daß die erste Schaltungsanordnung mit den ersten leitenden
Kontaktlöchern über die zweiten leitenden Kontaktlöcher elek
trisch verbunden ist; (c) Anordnen eines ersten Halbleiter
chips in der ersten Chipaufnahmeöffnung, Montieren des ersten
Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des ersten Sub
strats und Drahtbonden mehrerer erster Kontaktstellen auf ei
ner Seite des ersten Halbleiterchips mit der ersten Schal
tungsanordnung; (d) Prüfen des ersten Halbleiterchips über
die ersten Prüfpunkte, so daß ein Austausch des ersten Halb
leiterchips durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird,
daß der erste Halbleiterchip defekt ist; (e) Verbinden der
ersten Oberfläche des dritten Substrats auf der zweiten Ober
fläche des zweiten Substrats, so daß die zweite Schaltungsan
ordnung mit der ersten Schaltungsanordnung über die zweiten
und dritten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist
und so daß die erste und zweite Chipaufnahmeöffnung auf einer
gemeinsamen senkrechten Achse angeordnet sind; (f) Anordnen
eines zweiten Halbleiterchips in der zweiten Chipaufnahmeöff
nung, Montieren des zweiten Halbleiterchips auf der einen
Seite des ersten Halbleiterchips über eine erste Klebe
schicht, so daß der zweite Halbleiterchip von der zweiten
Oberfläche des zweiten Substrats entlang der senkrechten Ach
se beabstandet ist, und Drahtbonden mehrerer zweiter Kontakt
stellen auf einer Seite des zweiten Halbleiterchips mit der
zweiten Schaltungsanordnung; und (g) Prüfen des zweiten Halb
leiterchips über die zweiten Prüfpunkte, so daß ein Austausch
des zweiten Halbleiterchips durchgeführt werden kann, wenn
festgestellt wird, daß der zweite Halbleiterchip defekt ist.
Gemäß noch einem weiteren Aspekt der Erfindung weist ein
Verfahren zur Herstellung eines Mehrchip-Halbleitermoduls die
folgenden Schritte auf: (a) Bereitstellen eines Chipmontage
teils mit einem ersten, zweiten und dritten Substrat, wobei
das erste Substrat eine entgegengesetzte erste und zweite
Oberfläche sowie mehrere erste leitende Kontaktlöcher hat,
die sich durch die erste und zweite Oberfläche erstrecken,
wobei das zweite Substrat hat: eine entgegengesetzte erste
und zweite Oberfläche, mehrere zweite leitende Kontaktlöcher,
die sich durch die erste und zweite Oberfläche des zweiten
Substrats erstrecken, eine erste Schaltungsanordnung, die auf
der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats strukturiert und
mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden
ist, mehrere erste Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche
des zweiten Substrats angeordnet und mit der ersten Schal
tungsanordnung elektrisch verbunden sind, und eine darin aus
gebildete erste Chipaufnahmeöffnung, wobei die erste Oberflä
che des zweiten Substrats auf der zweiten Oberfläche des er
sten Substrats verbunden ist, so daß die erste Schaltungsan
ordnung mit den ersten leitenden Kontaktlöchern über die
zweiten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist, wo
bei das dritte Substrat hat: eine entgegengesetzte erste und
zweite Oberfläche, mehrere dritte leitende Kontaktlöcher, die
sich durch die erste und zweite Oberfläche des dritten Sub
strats erstrecken, eine zweite Schaltungsanordnung, die auf
der zweiten Oberfläche des dritten Substrats strukturiert und
mit den dritten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden
ist, mehrere zweite Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberflä
che des dritten Substrats angeordnet und mit der zweiten
Schaltungsanordnung elektrisch verbunden sind, und eine darin
ausgebildete zweite Chipaufnahmeöffnung, die größer als die
erste Chipaufnahmeöffnung ist, wobei die erste Oberfläche des
dritten Substrats auf der zweiten Oberfläche des zweiten Sub
strats verbunden ist, so daß die zweite Schaltungsanordnung
mit der ersten Schaltungsanordnung über die zweiten und drit
ten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist, so daß
die erste und zweite Chipaufnahmeöffnung auf einer gemeinsa
men senkrechten Achse angeordnet sind und so daß das dritte
Substrat nicht die ersten Prüfpunkte abdeckt; (b) Anordnen
eines ersten Halbleiterchips in der ersten Chipaufnahmeöff
nung, Montieren des ersten Halbleiterchips auf der zweiten
Oberfläche des ersten Substrats und Drahtbonden mehrerer er
ster Kontaktstellen auf einer Seite des ersten Halbleiter
chips mit der ersten Schaltungsanordnung; (c) Prüfen des er
sten Halbleiterchips über die ersten Prüfpunkte, so daß ein
Austausch des ersten Halbleiterchips durchgeführt werden
kann, wenn festgestellt wird, daß der erste Halbleiterchip
defekt ist; (d) Anordnen eines zweiten Halbleiterchips in der
zweiten Chipaufnahmeöffnung, Montieren des zweiten Halblei
terchips auf der einen Seite des ersten Halbleiterchips über
eine erste Klebeschicht, so daß der zweite Halbleiterchip von
der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats entlang der
senkrechten Achse beabstandet ist, und Drahtbonden mehrerer
zweiter Kontaktstellen auf einer Seite des zweiten Halblei
terchips mit der zweiten Schaltungsanordnung; und (e) Prüfen
des zweiten Halbleiterchips über die zweiten Prüfpunkte, so
daß ein Austausch des zweiten Halbleiterchips durchgeführt
werden kann, wenn festgestellt wird, daß der zweite Halblei
terchip defekt ist.
Gemäß noch einem weiteren Aspekt der Erfindung weist ein
Mehrchip-Halbleitermodul auf: ein Chipmontageteil mit einem
ersten, zweiten und dritten Substrat, wobei das erste Sub
strat eine entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche und
mehrere erste leitende Kontaktlöcher hat, die sich durch die
erste und zweite Oberfläche erstrecken, wobei das zweite Sub
strat hat: eine entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche,
mehrere zweite leitende Kontaktlöcher, die sich durch die er
ste und zweite Oberfläche des zweiten Substrats erstrecken,
eine erste Schaltungsanordnung, die auf der zweiten Oberflä
che des zweiten Substrats strukturiert und mit den zweiten
leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, und eine
darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnung, wobei die erste
Oberfläche des zweiten Substrats auf der zweiten Oberfläche
des ersten Substrats verbunden ist, so daß die erste Schal
tungsanordnung mit den ersten leitenden Kontaktlöchern über
die zweiten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist,
wobei das dritte Substrat hat: eine entgegengesetzte erste
und zweite Oberfläche, mehrere dritte leitende Kontaktlöcher,
die sich durch die erste und zweite Oberfläche des dritten
Substrats erstrecken, eine zweite Schaltungsanordnung, die
auf der zweiten Oberfläche des dritten Substrats strukturiert
und mit den dritten leitenden Kontaktlöchern elektrisch ver
bunden ist, und eine darin ausgebildete zweite Chipaufnahme
öffnung, die größer als die erste Chipaufnahmeöffnung ist,
wobei die erste Oberfläche des dritten Substrats auf der
zweiten Oberfläche des zweiten Substrats verbunden ist, so
daß die zweite Schaltungsanordnung mit der ersten Schaltungs
anordnung über die zweiten und dritten leitenden Kontaktlö
cher elektrisch verbunden ist und so daß die erste und zweite
Chipaufnahmeöffnung auf einer gemeinsamen senkrechten Achse
angeordnet sind; einen ersten Halbleiterchip mit einer Seite,
die mit mehreren ersten Kontaktstellen versehen ist, wobei
der erste Halbleiterchip in der ersten Chipaufnahmeöffnung
angeordnet und auf der zweiten Oberfläche des ersten Sub
strats montiert ist, wobei die ersten Kontaktstellen mit der
ersten Schaltungsanordnung drahtgebondet sind; einen zweiten
Halbleiterchip mit einer Seite, die mit mehreren zweiten Kon
taktstellen versehen ist, wobei der zweite Halbleiterchip in
der zweiten Chipaufnahmeöffnung angeordnet ist, wobei die
zweiten Kontaktstellen mit der zweiten Schaltungsanordnung
drahtgebondet sind; und eine erste Klebeschicht zum Montieren
des zweiten Halbleiterchips auf der einen Seite des ersten
Halbleiterchips, so daß der zweite Halbleiterchip von der
zweiten Oberfläche des zweiten Substrats entlang der senk
rechten Achse beabstandet ist.
Verständlich sollte sein, daß die vorstehende allgemeine
Beschreibung und die folgende nähere Beschreibung als Bei
spiele dienen und eine nähere Erläuterung der beanspruchten
Erfindung geben sollen.
Die beigefügten Zeichnungen dienen zum besseren Ver
ständnis der Erfindung, sind in diese Beschreibung eingefügt
und bilden einen Teil von ihr. Die Zeichnungen veranschauli
chen bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung und dienen
zusammen mit der Beschreibung zur Erläuterung der Grundsätze
der Erfindung. Es zeigen:
Fig. 1 bis 7 schematische teilweise Querschnittansichten
eines Herstellungsverfahrens für ein Mehrchip-Halbleitermodul
gemäß einer ersten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 8 eine schematische teilweise Querschnittansicht
eines Mehrchip-Halbleitermoduls gemäß einer zweiten bevorzug
ten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 9 eine schematische Draufsicht auf eine bevorzugte
Ausführungsform einer Anordnung von Leiterbahnen auf einem
Substrat gemäß der Erfindung;
Fig. 10 eine schematische Perspektivansicht einer bevor
zugten Ausführungsform einer Klebeschicht gemäß der Erfin
dung;
Fig. 11 eine schematische Perspektivansicht einer alter
nativen Struktur der Klebeschicht von Fig. 10;
Fig. 12 eine schematische Perspektivansicht einer bevor
zugten Ausführungsform einer weiteren Klebeschicht gemäß der
Erfindung;
Fig. 13 eine schematische Perspektivansicht einer alter
nativen Struktur der Klebeschicht von Fig. 12;
Fig. 14 eine schematische teilweise Schnittansicht einer
bevorzugten Ausführungsform einer Struktur eines leitenden
Körpers zwischen einem Substrat und einem Chip gemäß der Er
findung;
Fig. 15 eine schematische teilweise Schnittansicht einer
alternativen Ausführungsform der Struktur eines leitenden
Körpers zwischen einem Substrat und einem Chip gemäß der Erfindung;
Fig. 16 bis 22 schematische teilweise Querschnittansich
ten eines Herstellungsverfahrens für ein Mehrchipmodul gemäß
einer dritten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 23 eine schematische teilweise Querschnittansicht
eines Mehrchipmoduls gemäß einer vierten bevorzugten Ausfüh
rungsform der Erfindung;
Fig. 24 eine schematische teilweise Querschnittansicht
eines Abschnitts eines Mehrchipmoduls gemäß einer fünften be
vorzugten Ausführungsform der Erfindung;
Fig. 25 eine schematische teilweise Querschnittansicht
eines Mehrchipmoduls gemäß einer sechsten bevorzugten Ausfüh
rungsform der Erfindung;
Fig. 26 eine schematische teilweise Querschnittansicht
eines Mehrchipmoduls gemäß einer siebenten bevorzugten Aus
führungsform der Erfindung;
Fig. 27 eine schematische teilweise Querschnittansicht
eines Mehrchipmoduls gemäß einer achten bevorzugten Ausfüh
rungsform der Erfindung;
Fig. 28 eine schematische teilweise Querschnittansicht
eines Mehrchipmoduls gemäß einer neunten bevorzugten Ausfüh
rungsform der Erfindung;
Fig. 29 eine schematische teilweise Querschnittansicht
eines Mehrchipmoduls gemäß einer zehnten bevorzugten Ausfüh
rungsform der Erfindung; und
Fig. 30 eine schematische teilweise Querschnittansicht
eines Mehrchipmoduls gemäß einer elften bevorzugten Ausfüh
rungsform der Erfindung.
Das Verfahren zur Herstellung eines Mehrchip-Halbleitex
moduls und seine Struktur gemäß der nachfolgenden Beschrei
bung stellen kein vollständiges Verfahren zu seiner Herstel
lung dar. Die Erfindung kann im Zusammenhang mit den derzeit
im Stand der Technik genutzten Verfahren praktiziert werden,
und es sind nur so viele der gewöhnlich praktizierten Verfah
rensschritte aufgenommen, die zum Verständnis der Erfindung
notwendig sind. Ferner kann bei der Herstellung des erfin
dungsgemäßen Mehrchip-Halbleitermoduls die Anzahl zusammenge
stellter Chips bei Bedarf abgewandelt sein. Zur Vereinfachung
der Darstellung der Ausführungsformen der Erfindung sind nur
fünf Chips im Mehrchip-Halbleitermodul der Erfindung vorhan
den. Ferner sind gleiche Elemente in der gesamten Beschrei
bung mit gleichen Bezugszahlen bezeichnet.
Fig. 1 bis 7 sind schematische teilweise Querschnittan
sichten eines Herstellungsverfahrens für ein Mehrchip-Halb
leitermodul gemäß einer ersten bevorzugten Ausführungsform
der Erfindung. Gemäß Fig. 1 wird zunächst ein erstes Substrat
1 bereitgestellt. Das erste Substrat 1 kann eine Leiterplat
te, eine mit einem Isoliermaterial abgedeckte Metallplatte
oder eine Keramikplatte sein. Das erste Substrat 1 hat eine
entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche 11 und 12, meh
rere erste leitende Kontaktlöcher 13, die sich durch die er
ste und zweite Oberfläche 11 und 12 erstrecken, eine erste
Schaltungsanordnung, die aus mehreren elektrischen Bahnen 14
(siehe Fig. 9) ausgebildet und auf der zweiten Oberfläche 12
strukturiert sowie mit den ersten leitenden Kontaktlöchern 13
elektrisch verbunden ist, und mehrere erste Prüfpunkte 15,
die auf der zweiten Oberfläche 12 angeordnet und mit der er
sten Schaltungsanordnung 14 elektrisch verbunden sind. Mehre
re Lötkugeln 10 sind auf der ersten Oberfläche 11 des ersten
Substrats 1 an Positionen angeordnet, die den ersten leiten
den Kontaktlöchern 13 entsprechen, so daß die Lötkugeln 10
jeweils mit den ersten leitenden Kontaktlöchern 13 elektrisch
verbunden sind.
Gemäß Fig. 2 wird ein zweites Substrat 2 mit einer klei
neren Größe als das erste Substrat 1 bereitgestellt. Das
zweite Substrat 2 hat eine entgegengesetzte erste und zweite
Oberfläche 21 und 22. Die erste Oberfläche 21 des zweiten
Substrats 2 ist auf der zweiten Oberfläche 12 des ersten Sub
strats 1 verbunden, ohne die Prüfpunkte 15 des ersten Sub
strats 1 abzudecken. Ähnlich kann das zweite Substrat 2 eine
Leiterplatte, eine mit einem Isoliermaterial abgedeckte Me
tallplatte oder eine Keramikplatte sein. Ferner hat das zwei
te Substrat 2 mehrere zweite leitende Kontaktlöcher 23, die
sich durch die erste und zweite Oberfläche 21 und 22 des
zweiten Substrats 2 erstrecken, und eine (nicht gezeigte)
zweite Schaltungsanordnung, die der ersten Schaltungsanord
nung 14 ähnelt und auf der zweiten Oberfläche 22 des zweiten
Substrats 2 strukturiert sowie mit den zweiten leitenden Kon
taktlöchern 23 elektrisch verbunden ist, so daß die zweite
Schaltungsanordnung mit der ersten Schaltungsanordnung über
die ersten und zweiten leitenden Kontaktlöcher 13 und 23
elektrisch verbunden ist, mehrere zweite Prüfpunkte 25, die
auf der zweiten Oberfläche 22 des zweiten Substrats 2 ange
ordnet und mit der zweiten Schaltungsanordnung elektrisch
verbunden sind, und eine darin ausgebildete erste Chipaufnah
meöffnung 26.
Gemäß Fig. 2 und 10 wird eine erste Klebeschicht 27 mit
einer entgegengesetzten ersten und zweiten Klebefläche 271
und 272 und mehreren Fenstern 273 bereitgestellt, die sich
durch die erste und zweite Klebefläche 271 und 272 erstrec
ken. Die erste Klebefläche 271 der ersten Klebeschicht 27
wird an die zweite Oberfläche 12 des ersten Substrats 1 ge
klebt, so daß die Fenster 273 der ersten Klebeschicht 27 den
Zugang zur ersten Schaltungsanordnung von der zweiten Klebe
fläche 272 der ersten Klebeschicht 27 ermöglichen.
Ein erster Halbleiterchip 20 mit einer ersten Kontakt
stellenfläche 201, auf der mehrere erste Kontaktstellen 202
ausgebildet sind, wird in der ersten Chipaufnahmeöffnung 26
angeordnet. Die erste Kontaktstellenfläche 201 des ersten
Halbleiterchips 20 wird an die zweite Klebefläche 272 der er
sten Klebeschicht 27 geklebt.
Ein erster leitender Körper 28 wird in jedem der Fenster
273 der ersten Klebeschicht 27 so plaziert, daß die ersten
Kontaktstellen 202 des ersten Halbleiterchips 20 jeweils mit
den leitenden Körpern 28 in den Fenstern 273 elektrisch ver
bunden sind, um eine elektrische Verbindung mit der ersten
Schaltungsanordnung herzustellen. Eine wärmeableitende Me
tallplatte 204 wird auf der Oberfläche 203 des ersten Halb
leiterchips 20 entgegengesetzt zur ersten Kontaktstellenflä
che 201 des ersten Halbleiterchips 20 montiert.
Gemäß Fig. 14 besteht jeder der leitenden Körper 28 aus
einem leitenden Kleber 282, der mit der ersten Kontaktstelle
202 des ersten Halbleiterchips 20 elektrisch verbunden ist,
und einer metallischen Kugel 281, die mit der ersten Schal
tungsanordnung des ersten Substrats 1 elektrisch verbunden
ist, wobei der leitende Kleber 282 ein leitender Silberkleber
oder eine Lötpaste sein kann und die metallische Kugel 281
eine Lötkugel oder eine leitende metallische Kugel sein kann.
Zu beachten ist, daß der leitende Kleber 282 auch mit Gold,
Kupfer, Eisen oder einem anderen leitenden metallischen Mate
rial dotiert sein kann.
Gemäß Fig. 15 kann der leitende Kleber 282 auch mit der
ersten Schaltungsanordnung des ersten Substrats 1 elektrisch
verbunden sein, und die metallische Kugel 281 kann mit der
ersten Kontaktstelle 202 des ersten Halbleiterchips 20 elek
trisch verbunden sein.
Zu beachten ist, daß der erste Halbleiterchip 20 über
die ersten Prüfpunkte 15 des ersten Substrats 1 in dieser
Stufe geprüft wird, so daß ein Austausch des ersten Halblei
terchips 20 durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird,
daß der erste Halbleiterchip 20 defekt ist. Zu beachten ist
auch, daß eine Prüfung des ersten Halbleiterchips 20 durchge
führt werden könnte, bevor das zweite Substrat 2 mit dem er
sten Substrat 1 verbunden wird.
Gemäß Fig. 11 kann ein rechtwinkliger Schlitz 273a die
Fenster 273 der ersten Klebeschicht 27 entlang einer Längs
achse ersetzen.
Gemäß Fig. 3 wird ein drittes Substrat 3 mit einer klei
neren Größe als das zweite Substrat 2 bereitgestellt. Das
dritte Substrat 3 hat eine entgegengesetzte erste und zweite
Oberfläche 31 und 32. Die erste Oberfläche 31 des dritten
Substrats 3 wird auf der zweiten Oberfläche 22 des zweiten
Substrats 2 verbunden, ohne die Prüfpunkte 25 des zweiten
Substrats 2 abzudecken. Ähnlich kann das dritte Substrat 3
eine Leiterplatte, eine mit einem Isoliermaterial abgedeckte
Metallplatte oder eine Keramikplatte sein. Ferner hat das
dritte Substrat 3 mehrere leitende Kontaktlöcher 33, die sich
durch die erste und zweite Oberfläche 31 und 32 des dritten
Substrats 3 erstrecken, eine (nicht gezeigte) dritte Schal
tungsanordnung, die der ersten Schaltungsanordnung 14 ähnelt
und die auf der zweiten Oberfläche 32 des dritten Substrats 3
strukturiert sowie mit den dritten leitenden Kontaktlöchern
33 elektrisch verbunden ist, so daß die dritte Schaltungsan
ordnung mit der zweiten Schaltungsanordnung über die zweiten
und dritten leitenden Kontaktlöcher 23 und 33 elektrisch ver
bunden ist, mehrere dritte Prüfpunkte 35, die auf der zweiten
Oberfläche 32 des dritten Substrats 3 angeordnet und mit der
dritten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden sind, und
eine darin ausgebildete zweite Chipaufnahmeöffnung 36, die
größer als die erste Chipaufnahmeöffnung 26 ist.
Gemäß Fig. 3 und 12 hat eine zweite Klebeschicht 37 eine
erste Klebefläche 371, die an die zweite Oberfläche 22 des
zweiten Substrats 2 geklebt ist, und eine zweite Klebefläche
372 entgegengesetzt zur ersten Klebefläche 371. Ferner hat
die zweite Klebeschicht 37 ein Durchgangsloch 374, das sich
durch ihre erste und zweite Klebefläche 371 und 372 erstreckt
und das sich mit der ersten Chipaufnahmeöffnung 26 in Deckung
befindet, sowie mehrere Fenster 373, die sich durch ihre er
ste und zweite Klebefläche 371 und 372 erstrecken und die den
Zugang zur zweiten Schaltungsanordnung des zweiten Substrats
2 von ihrer ersten Klebefläche 372 ermöglichen.
Ein zweiter Halbleiterchip 30 mit einer zweiten Kontakt
stellenfläche 301, auf der mehrere zweite Kontaktstellen 302
ausgebildet sind, wird in der zweiten Chipaufnahmeöffnung 36
so angeordnet, daß der erste und zweite Halbleiterchip 20 und
30 auf einer gemeinsamen senkrechten Achse angeordnet sind.
Die zweite Kontaktstellenfläche 301 des zweiten Halbleiter
chips 30 wird an die zweite Klebefläche 372 der zweiten Kle
beschicht 37 so geklebt, daß die zweiten Kontaktstellen 302
um die erste Chipaufnahmeöffnung 26 des zweiten Substrats 2
angeordnet sind.
Ein zweiter leitender Körper 38 wird in jedem der Fen
ster 373 der zweiten Klebeschicht 37 so plaziert, daß die
zweiten Kontaktstellen 302 des zweiten Halbleiterchips 30 je
weils mit den zweiten leitenden Körpern 38 in den Fenstern
373 elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung
mit der zweiten Schaltungsanordnung des zweiten Substrats 2
herzustellen. Da die Struktur des zweiten leitenden Körpers
38 der des ersten leitenden Körpers 28 ähnelt, entfällt ihre
nähere Beschreibung hier. Eine wärmeableitende Metallplatte
304 wird auf der Oberfläche 303 des zweiten Halbleiterchips
30 entgegengesetzt zur zweiten Kontaktstellenfläche 301 des
zweiten Halbleiterchips 30 montiert. Die zweite Kontaktstel
lenfläche 301 des zweiten Halbleiterchips 30 hat einen kon
taktlosen Abschnitt, der an die wärmeableitende Platte 204
auf dem ersten Halbleiterchip 20 anstößt.
Zu beachten ist, daß der zweite Halbleiterchip 30 über
die zweiten Prüfpunkte 25 des zweiten Substrats 2 in dieser
Stufe geprüft wird, so daß ein Austausch des zweiten Halblei
terchips 30 erfolgen kann, wenn festgestellt wird, daß der
zweite Halbleiterchip 30 defekt ist. Zudem ist zu beachten,
daß eine Prüfung des zweiten Halbleiterchips 30 durchgeführt
werden könnte, bevor das dritte Substrat 3 mit dem zweiten
Substrat 2 verbunden wird.
Gemäß Fig. 13 kann ein rechtwinkliger Schlitz 373a die
Fenster 373 der zweiten Klebeschicht 37 entlang einer Längs
achse ersetzen.
Gemäß Fig. 4 wird ein viertes Substrat 4 mit einer klei
neren Größe als das dritte Substrat 3 bereitgestellt. Das
vierte Substrat 4 hat eine entgegengesetzte erste und zweite
Oberfläche 41 und 42. Die erste Oberfläche 41 des vierten
Substrats 4 wird auf der zweiten Oberfläche 32 des dritten
Substrats 3 verbunden, ohne die Prüfpunkte 35 des dritten
Substrats 3 abzudecken. Ähnlich kann das vierte Substrat 4
eine Leiterplatte, eine mit einem Isoliermaterial abgedeckte
Metallplatte oder eine Keramikplatte sein. Ferner hat das
vierte Substrat 4 mehrere vierte leitende Kontaktlöcher 43,
die sich durch die erste und zweite Oberfläche 41 und 42 des
vierten Substrats 4 erstrecken, eine (nicht gezeigte) vierte
Schaltungsanordnung, die der ersten Schaltungsanordnung 14
ähnelt und die auf der zweiten Oberfläche 42 des vierten Sub
strats 4 strukturiert sowie mit den vierten leitenden Kon
taktlöchern 43 elektrisch verbunden wird, so daß die vierte
Schaltungsanordnung mit der dritten Schaltungsanordnung über
die dritten und vierten leitenden Kontaktlöcher 33 und 43
verbunden ist, mehrere vierte Prüfpunkte 45, die auf der
zweiten Oberfläche 42 des vierten Substrats 4 angeordnet und
mit der vierten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden
sind, und eine darin ausgebildete dritte Chipaufnahmeöffnung
46, die größer als die zweite Chipaufnahmeöffnung 36 ist.
Ein dritter Halbleiterchip 40 wird in der dritten Chip
aufnahmeöffnung 46 so angeordnet, daß der zweite und dritte
Halbleiterchip 30 und 40 auf einer gemeinsamen senkrechten
Achse angeordnet sind. Da der dritte Halbleiterchip 40 auf
dem dritten Substrat 3 ähnlich wie bei der Montage des zwei
ten Halbleiterchips 30 auf dem zweiten Substrat durch eine
dritte Klebeschicht 47 mit ähnlicher Struktur wie die Struk
tur der zweiten Klebeschicht 37 montiert wird, entfällt eine
nähere Beschreibung hier.
Ein dritter leitender Körper 48 wird in jedem der Fen
ster 473 der dritten Klebeschicht 47 so plaziert, daß die
dritten Kontaktstellen 402 des dritten Halbleiterchips 40 je
weils mit den dritten leitenden Körpern 48 in den Fenstern
473 elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung
mit der dritten Schaltungsanordnung des dritten Substrats 3
herzustellen. Da die Struktur des dritten leitenden Körpers
48 der des ersten leitenden Körpers 28 ähnelt, wird auf eine
nähere Beschreibung hier verzichtet. Eine wärmeableitende Me
tallplatte 404 wird auf der Oberfläche 403 des dritten Halb
leiterchips 40 entgegengesetzt zur dritten Kontaktstellenflä
che 401 des dritten Halbleiterchips 40 montiert. Die dritte
Kontaktstellenfläche 401 des dritten Halbleiterchips 40 hat
einen kontaktlosen Abschnitt, der an die wärmeableitende
Platte 304 auf dem zweiten Halbleiterchip 30 anstößt.
Zu beachten ist, daß der dritte Halbleiterchip 40 über
die dritten Prüfpunkte 35 des dritten Substrats 3 in dieser
Stufe geprüft wird, so daß ein Austausch des dritten Halblei
terchips 40 durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird,
daß der dritte Halbleiterchip 40 defekt ist. Zudem ist zu be
achten, daß eine Prüfung des dritten Halbleiterchips 40
durchgeführt werden könnte, bevor das vierte Substrat 4 mit
dem dritten Substrat 3 verbunden wird.
Gemäß Fig. 5 wird ein fünftes Substrat 5 mit einer klei
neren Größe als das vierte Substrat 4 bereitgestellt. Das er
ste bis fünfte Substrat 1 bis 5 bilden zusammenwirkend ein
Chipmontageteil. Das fünfte Substrat 5 hat eine entgegenge
setzte erste und zweite Oberfläche 51 und 52. Die erste Ober
fläche 51 des fünften Substrats 5 ist auf der zweiten Ober
fläche 42 des vierten Substrats 4 verbunden, ohne die Prüf
punkte 45 des vierten Substrats 4 abzudecken. Ähnlich kann
das fünfte Substrat 5 eine Leiterplatte, eine mit einem Iso
liermaterial abgedeckte Metallplatte oder eine Keramikplatte
sein. Ferner hat das fünfte Substrat 5 mehrere fünfte leiten
de Kontaktlöcher 53, die sich durch die erste und zweite
Oberfläche 51 und 52 des fünften Substrats 5 erstrecken, eine
(nicht gezeigte) fünfte Schaltungsanordnung, die der ersten
Schaltungsanordnung 14 ähnelt und die auf der zweiten Ober
fläche 52 des fünften Substrats 5 strukturiert sowie mit den
fünften leitenden Kontaktlöchern 53 so elektrisch verbunden
ist, daß die fünfte Schaltungsanordnung mit der vierten
Schaltungsanordnung über die vierten und fünften leitenden
Kontaktlöcher 43 und 53 verbunden ist, mehrere fünfte Prüf
punkte 55, die auf der zweiten Oberfläche 52 des fünften Sub
strats 5 angeordnet und mit der fünften Schaltungsanordnung
elektrisch verbunden sind, und eine darin ausgebildete vierte
Chipaufnahmeöffnung 56, die größer als die dritte Chipaufnah
meöffnung 46 ist.
Ein vierter Halbleiterchip 50 wird in der vierten Chip
aufnahmeöffnung 56 so angeordnet, daß der dritte und vierte
Halbleiterchip 40 und 50 auf einer gemeinsamen senkrechten
Achse angeordnet sind. Da der vierte Halbleiterchip 50 auf
dem vierten Substrat 4 wie bei der Montage des zweiten Halb
leiterchips 30 auf dem zweiten Substrat durch eine vierte
Klebeschicht 57 mit ähnlicher Struktur wie die Struktur der
zweiten Klebeschicht 37 montiert wird, entfällt eine nähere
Beschreibung hier.
Ein vierter leitender Körper 58 wird in jedem der Fen
ster 573 der vierten Klebeschicht 57 so plaziert, daß die
vierten Kontaktstellen 502 des vierten Halbleiterchips 50 je
weils mit den vierten leitenden Körpern 58 in den Fenstern
573 elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung
mit der vierten Schaltungsanordnung des vierten Substrats 4
herzustellen. Da die Struktur des vierten leitenden Körpers
58 der des ersten leitenden Körpers 28 ähnelt, wird auf eine
nähere Beschreibung hier verzichtet. Eine wärmeableitende Me
tallplatte 504 wird auf der Oberfläche 503 des vierten Halb
leiterchips 50 entgegengesetzt zur vierten Kontaktstellenflä
che 501 des vierten Halbleiterchips 50 montiert. Die vierte
Kontaktstellenfläche 501 des vierten Halbleiterchips 50 hat
einen kontaktlosen Abschnitt, der an die wärmeableitende
Platte 404 auf dem dritten Halbleiterchip 40 anstößt.
Zu beachten ist, daß der vierte Halbleiterchip 50 über
die vierten Prüfpunkte 45 des vierten Substrats 4 in dieser
Stufe geprüft wird, so daß ein Austausch des vierten Halblei
terchips 50 durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird,
daß der vierte Halbleiterchip 50 defekt ist. Zudem ist zu be
achten, daß eine Prüfung des vierten Halbleiterchips 50 er
folgen könnte, bevor das fünfte Substrat 5 mit dem vierten
Substrat 4 verbunden wird.
Gemäß Fig. 6 wird ein fünfter Halbleiterchip 60 auf der
zweiten Oberfläche 52 des fünften Substrats 5 wie bei der
Montage des zweiten Halbleiterchips 30 auf dem zweiten Sub
strat 2 durch eine fünfte Klebeschicht 67 mit einer Struktur
montiert, die der Struktur der zweiten Klebeschicht 37 äh
nelt.
Ein fünfter leitender Körper 68 wird in jedem der Fen
ster 673 der fünften Klebeschicht 67 so plaziert, daß die
fünften Kontaktstellen 602 des fünften Halbleiterchips 60 je
weils mit den, fünften leitenden Körpern 68 in den Fenstern
673 elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung
mit der fünften Schaltungsanordnung des fünften Substrats 5
herzustellen. Da die Struktur des fünften leitenden Körpers
68 der des ersten leitenden Körpers 28 ähnelt, entfällt eine
nähere Beschreibung hier. Eine wärmeableitende Metallplatte
604 wird auf der Oberfläche 603 des fünften Halbleiterchips
60 entgegengesetzt zur fünften Kontaktstellenfläche 601 des
fünften Halbleiterchips 60 montiert. Die fünfte Kontaktstel
lenfläche 601 des fünften Halbleiterchips 60 hat einen kon
taktlosen Abschnitt, der an die wärmeableitende Platte 504
auf dem vierten Halbleiterchip 50 anstößt.
Zu beachten ist, daß der fünfte Halbleiterchip 60 über
die fünften Prüfpunkte 55 des fünften Substrats 5 in dieser
Stufe geprüft wird, so daß ein Austausch des fünften Halblei
terchips 60 durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird,
daß der fünfte Halbleiterchip 60 defekt ist.
Eine Verkapselungsschicht 69 wird auf der zweiten Ober
fläche 52 des fünften Substrats 5 um den fünften Halbleiter
chip 60 zum Schutz gegen Krafteinwirkung von außen und Umge
bungsfeuchtigkeit angeordnet. In dieser bevorzugten Ausfüh
rungsform ist die Verkapselungsschicht 69 aus einem metalli
schen Material hergestellt. Alternativ kann die Verkapse
lungsschicht 69 aus Epoxidharz hergestellt sein. Zu beachten
ist, daß bei Herstellung der Verkapselungsschicht aus Epoxid
harz Abschnitte der Chipaufnahmeöffnungen 26, 36, 46, 56, die
nicht von den entsprechenden Halbleiterchips 20, 30, 40, 50
belegt sind, mit Epoxidharz gefüllt sind.
Gemäß Fig. 7 werden das erste bis fünfte Substrat 1 bis
5 abschließend beschnitten, um das erste bis fünfte Substrat
1 bis 5 mit gemeinsamen senkrechten Kanten auszubilden.
Zu beachten ist, daß die Halbleiterchips 20 bis 60 un
terschiedliche Funktionen haben können. Beispielsweise kann
der erste Halbleiterchip 20 ein Speicher sein, der zweite
Halbleiterchip 30 kann eine Eingabe/Ausgabe-Steuereinheit
sein, der dritte Halbleiterchip 40 kann eine Grafiksteuerein
heit sein, der vierte Halbleiterchip 50 kann eine Chipsatz
einheit sein, und der fünfte Halbleiterchip 60 kann eine Zen
traleinheit (CPU) sein.
Gemäß der vorstehenden Beschreibung der bevorzugten Aus
führungsform der Erfindung kombiniert das Verfahren zur Her
stellung eines Mehrchip-Halbleitermoduls ein Prüfverfahren.
Daher kann die Ausbeuterate für die Herstellung des Mehrchip-
Halbleitermoduls nahezu 100% erreichen, was die Reparaturko
sten für defekte Halbleitermodule senkt. Dadurch lassen sich
die Gesamtherstellungskosten reduzieren.
In Fig. 8 ist eine zweite Ausführungsform der Erfindung
dargestellt. Anders als in der ersten Ausführungsform weist
das Chipmontageteil des Mehrchip-Halbleitermoduls dieser Aus
führungsform ferner ein sechstes Substrat 6 mit einer entge
gengesetzten ersten und zweiten Oberfläche 61 und 62 sowie
eine darin ausgebildete fünfte Chipaufnahmeöffnung 66 auf.
Die erste Oberfläche 61 des sechsten Substrats 6 ist auf der
zweiten Oberfläche 52 des fünften Substrats 5 so verbunden,
daß der fünfte Halbleiterchip 60 in der fünften Chipaufnahme
öffnung 66 angeordnet ist, die eine kleinere Größe als das
fünfte Substrat 5 hat. Zu beachten ist, daß die Verkapse
lungsschicht 69 in dieser bevorzugten Ausführungsform aus
Epoxidharz hergestellt ist, so daß Abschnitte der Chipaufnah
meöffnungen 26, 36, 46, 56, die nicht von den entsprechenden
Halbleiterchips 20, 30, 40, 50 belegt sind, auch mit Epoxid
harz gefüllt sind.
In Fig. 16 bis 22 ist das Verfahren zur Herstellung ei
nes Mehrchip-Halbleitermoduls gemäß einer dritten bevorzugten
Ausführungsform der Erfindung dargestellt.
Gemäß Fig. 16 wird ein Chipmontageteil bereitgestellt.
Das Chipmontageteil weist ein erstes bis fünftes Substrat 1
bis 5 auf. Da die Strukturen des ersten bis fünften Substrats
1 bis 5 dieser Ausführungsform denen der ersten Ausführungs
form ähneln, entfällt ihre nähere Beschreibung hier.
Nunmehr wird auf Fig. 17 Bezug genommen. Eine erste Kle
beschicht 27 mit einer ähnlichen Struktur wie in den vorste
henden Ausführungsformen wird bereitgestellt. Die erste Kle
befläche 271 der ersten Klebeschicht 27 wird an die zweite
Oberfläche 12 des ersten Substrats 1 so geklebt, daß die Fen
ster 273 der ersten Klebeschicht 27 den Zugang zur ersten
Schaltungsanordnung von der zweiten Klebefläche 272 der er
sten Klebeschicht 27 ermöglichen.
Ein erster Halbleiterchip 20 mit einer ersten Kontakt
stellenfläche 201, auf der mehrere erste Kontaktstellen 202
ausgebildet sind, wird in der ersten Chipaufnahmeöffnung 26
des zweiten Substrats 2 angeordnet. Die erste Kontaktstellen
fläche 201 des ersten Halbleiterchips 20 wird an die zweite
Klebefläche 272 der ersten Klebeschicht 27 geklebt.
Ein erster leitender Körper 28 mit einer ähnlichen
Struktur wie in den vorstehenden Ausführungsformen wird in
jedem der Fenster 273 der ersten Klebeschicht 27 so plaziert,
daß die ersten Kontaktstellen 202 des ersten Halbleiterchips
20 jeweils mit den leitenden Körpern 28 in den Fenstern 273
elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung mit
der ersten Schaltungsanordnung herzustellen. Eine wärmeablei
tende Metallplatte 204 wird auf der Oberfläche 203 des ersten
Halbleiterchips 20 entgegengesetzt zur ersten Kontaktstellen
fläche 201 des ersten Halbleiterchips 20 montiert.
Zu beachten ist, daß der erste Halbleiterchip 20 über
die ersten Prüfpunkte 15 des ersten Substrats 1 in dieser
Stufe geprüft wird, so daß ein Austausch des ersten Halblei
terchips 20 durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird,
daß der erste Halbleiterchip 20 defekt ist.
Gemäß Fig. 18 wird eine zweite Klebeschicht 37 mit einer
ähnlichen Struktur wie in der ersten Ausführungsform bereit
gestellt. Die erste Klebefläche 371 der zweiten Klebeschicht
37 wird an die zweite Oberfläche 22 des zweiten Substrats 2
geklebt.
Ein zweiter Halbleiterchip 30 mit einer zweiten Kontakt
stellenfläche 301, auf der mehrere zweite Kontaktstellen 302
ausgebildet sind, wird in der zweiten Chipaufnahmeöffnung 36
des dritten Substrats 3 so angeordnet, daß der erste und
zweite Halbleiterchip 208496 00070 552 001000280000000200012000285912838500040 0002010031952 00004 28377OL< und 30 auf einer gemeinsamen senk
rechten Achse angeordnet sind. Die zweite Kontaktstellenflä
che 301 des zweiten Halbleiterchips 30 wird an die zweite
Klebefläche 372 der zweiten Klebeschicht 37 geklebt.
Ein zweiter leitender Körper 38 wird in jedem der Fen
ster 373 der zweiten Klebeschicht 37 so plaziert, daß die
zweiten Kontaktstellen 302 des zweiten Halbleiterchips 30 je
weils mit den zweiten leitenden Körpern 38 in den Fenstern
373 elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung
mit der zweiten Schaltungsanordnung des zweiten Substrats 2
herzustellen. Eine wärmeableitende Metallplatte 304 wird auf
der Oberfläche 303 des zweiten Halbleiterchips 30 entgegenge
setzt zur zweiten Kontaktstellenfläche 301 des zweiten Halb
leiterchips 30 montiert. Die zweite Kontaktstellenfläche 301
des zweiten Halbleiterchips 30 hat einen kontaktlosen Ab
schnitt, der an die wärmeableitende Platte 204 auf dem ersten
Halbleiterchip 20 anstößt.
Zu beachten ist, daß der zweite Halbleiterchip 30 über
die zweiten Prüfpunkte 25 des zweiten Substrats 2 in dieser
Stufe geprüft wird, so daß ein Austausch des zweiten Halblei
terchips 30 durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird,
daß der zweite Halbleiterchip 30 defekt ist.
Gemäß Fig. 19 wird ein dritter Halbleiterchip 40 in der
dritten Chipaufnahmeöffnung 46 des vierten Substrats 4 so an
geordnet, daß der zweite und dritte Halbleiterchip 30 und 40
auf einer gemeinsamen senkrechten Achse angeordnet sind. Da
der dritte Halbleiterchip 40 auf dem dritten Substrat 3 wie
bei der Montage des zweiten Halbleiterchips 30 auf dem zwei
ten Substrat durch eine dritte Klebeschicht 47 mit einer ähn
lichen Struktur wie die Struktur der zweiten Klebeschicht 37
montiert wird, entfällt eine nähere Beschreibung hier.
Ein dritter leitender Körper 48 wird in jedem der Fen
ster 473 der dritten Klebeschicht 47 so plaziert, daß die
dritten Kontaktstellen 402 des dritten Halbleiterchips 40 je
weils mit den dritten leitenden Körpern 48 in den Fenstern
473 elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung
mit der dritten Schaltungsanordnung des dritten Substrats 3
herzustellen. Eine wärmeableitende Metallplatte 404 wird auf
der Oberfläche 403 des dritten Halbleiterchips 40 entgegenge
setzt zur dritten Kontaktstellenfläche 401 des dritten Halb
leiterchips 40 montiert. Die dritte Kontaktstellenfläche 401
des dritten Halbleiterchips 40 hat einen kontaktlosen Ab
schnitt, der an die wärmeableitende Platte 304 auf dem zwei
ten Halbleiterchip 30 anstößt.
Zu beachten ist, daß der dritte Halbleiterchip 40 über
die dritten Prüfpunkte 35 des dritten Substrats 3 in dieser
Stufe geprüft wird, so daß ein Austausch des dritten Halblei
terchips 40 durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird,
daß der dritte Halbleiterchip 40 defekt ist.
Gemäß Fig. 20 wird ein vierter Halbleiterchip 50 in der
vierten Chipaufnahmeöffnung 56 des fünften Substrats 5 so an
geordnet, daß der dritte und vierte Halbleiterchip 40 und 50
auf einer gemeinsamen senkrechten Achse angeordnet sind. Der
vierte Halbleiterchip 50 wird auf dem vierten Substrat 4 wie
bei der Montage des zweiten Halbleiterchips 30 auf dem zwei
ten Substrat durch eine vierte Klebeschicht 57 mit einer ähn
lichen Struktur wie die Struktur der zweiten Klebeschicht 37
montiert.
Ein vierter leitender Körper 58 wird in jedem der Fen
ster 573 der vierten Klebeschicht 57 so plaziert, daß die
vierten Kontaktstellen 502 des vierten Halbleiterchips 50 je
weils mit den vierten leitenden Körpern 58 in den Fenstern
573 elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung
mit der vierten Schaltungsanordnung des vierten Substrats 4
herzustellen. Eine wärmeableitende Metallplatte 504 wird auf
der Oberfläche 503 des vierten Halbleiterchips 50 entgegenge
setzt zur vierten Kontaktstellenfläche 501 des vierten Halb
leiterchips 50 montiert. Die vierte Kontaktstellenfläche 501
des vierten Halbleiterchips 50 hat einen kontaktlosen Ab
schnitt, der an die wärmeableitende Platte 404 auf dem drit
ten Halbleiterchip 40 anstößt.
Zu beachten ist, daß der vierte Halbleiterchip 50 über
die vierten Prüfpunkte 45 des vierten Substrats 4 in dieser
Stufe geprüft wird, so daß ein Austausch des vierten Halblei
terchips 50 durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird,
daß der vierte Halbleiterchip 50 defekt ist.
Gemäß Fig. 21 wird ein fünfter Halbleiterchip 60 auf der
zweiten Oberfläche des fünften Substrats 5 wie bei der Monta
ge des zweiten Halbleiterchips 30 auf dem zweiten Substrat 2
durch eine fünfte Klebeschicht 67 mit einer ähnlichen Struk
tur wie die Struktur der zweiten Klebeschicht 37 montiert.
Ein fünfter leitender Körper 68 wird in jedem der Fen
ster 673 der fünften Klebeschicht 67 so plaziert, daß die
fünften Kontaktstellen 602 des fünften Halbleiterchips 60 je
weils mit den fünften leitenden Körpern 68 in den Fenstern
673 elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung
mit der fünften Schaltungsanordnung des fünften Substrats 5
herzustellen. Eine wärmeableitende Metallplatte 604 wird auf
der Oberfläche 603 des fünften Halbleiterchips 60 entgegenge
setzt zur fünften Kontaktstellenfläche 601 des fünften Halb
leiterchips 60 montiert. Die fünfte Kontaktstellenfläche 601
des fünften Halbleiterchips 60 hat einen kontaktlosen Ab
schnitt, der an die wärmeableitende Platte 504 auf dem vier
ten Halbleiterchip 50 anstößt.
Zu beachten ist, daß der fünfte Halbleiterchip 60 über
die fünften Prüfpunkte 55 des fünften Substrats 5 in dieser
Stufe geprüft wird, so daß ein Austausch des fünften Halblei
terchips 60 erfolgen kann, wenn festgestellt wird, daß der
fünfte Halbleiterchip 60 defekt ist.
Eine aus metallischem Material hergestellte Verkapse
lungsschicht 69 wird auf der zweiten Oberfläche 52 des fünf
ten Substrats 5 um den fünften Halbleiterchip 60 zum Schutz
gegen äußere Krafteinwirkung und Umgebungsfeuchtigkeit ange
ordnet.
Gemäß Fig. 22 werden das erste bis fünfte Substrat 1 bis
5 abschließend beschnitten, um das erste bis fünfte Substrat
1 bis 5 mit gemeinsamen senkrechten Kanten auszubilden.
Fig. 23 zeigt ein Mehrchip-Halbleitermodul gemäß einer
vierten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung.
Das Chipmontageteil dieser Ausführungsform weist ein er
stes bis viertes Substrat 1 bis 4 auf. Das erste Substrat 1
hat eine entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche 11 und
12, mehrere erste leitende Kontaktlöcher 13, die sich durch
die erste und zweite Oberfläche 11 und 12 erstrecken, und
mehrere Lötkugeln 10, die auf der ersten Oberfläche 11 des
ersten Substrats 1 an Positionen angeordnet sind, die den er
sten leitenden Kontaktlöchern 13 entsprechen, so daß die Löt
kugeln 10 jeweils mit den ersten leitenden Kontaktlöchern 13
elektrisch verbunden sind.
Das zweite Substrat 2 hat eine entgegengesetzte erste
und zweite Oberfläche 21 und 22, mehrere zweite leitende Kon
taktlöcher 23, die sich durch die erste und zweite Oberfläche
21 und 22 des zweiten Substrats 2 erstrecken, ein erstes
Schaltungsmuster, das auf der zweiten Oberfläche 22 des zwei
ten Substrats 2 strukturiert und mit den zweiten leitenden
Kontaktlöchern 23 elektrisch verbunden ist, mehrere erste
Prüfpunkte 25, die auf der zweiten Oberfläche 22 des zweiten
Substrats 2 angeordnet und mit der ersten Schaltungsanordnung
elektrisch verbunden sind, und eine darin ausgebildete erste
Chipaufnahmeöffnung 26. Die erste Schaltungsanordnung ähnelt
der der zuvor genannten Ausführungsform, weshalb sie in die
ser Ausführungsform nicht dargestellt ist. Die erste Oberflä
che 21 des zweiten Substrats ist auf der zweiten Oberfläche
12 des ersten Substrats 1 so verbunden, daß sie erste Schal
tungsanordnung mit den ersten leitenden Kontaktlöchern 13
über die zweiten leitenden Kontaktlöcher 23 elektrisch ver
bunden ist.
Das dritte Substrat 3 hat eine entgegengesetzte erste
und zweite Oberfläche 31 und 32, mehrere dritte leitende Kon
taktlöcher 33, die sich durch die erste und zweite Oberfläche
31 und 32 des dritten Substrats 3 erstrecken, eine zweite
Schaltungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche 32 des
dritten Substrats 3 strukturiert und mit den dritten leiten
den Kontaktlöchern 33 elektrisch verbunden ist, mehrere Prüf
punkte 35, die auf der zweiten Oberfläche 32 des dritten Sub
strats 3 angeordnet und mit der zweiten Schaltungsanordnung
elektrisch verbunden sind, und eine darin ausgebildete zweite
Chipaufnahmeöffnung 36, die größer als die erste Chipaufnah
meöffnung 26 ist. Die zweite Schaltungsanordnung ähnelt der
ersten Schaltungsanordnung dieser Ausführungsform. Die erste
Oberfläche 31 des dritten Substrats 3 ist auf der zweiten
Oberfläche 22 des zweiten Substrats 2 so verbunden, daß die
zweite Schaltungsanordnung mit der ersten Schaltungsanordnung
über die zweiten und dritten leitenden Kontaktlöcher 23 und
33 elektrisch verbunden ist, so daß die erste und zweite
Chipaufnahmeöffnung 26 und 36 auf einer gemeinsamen senkrech
ten Achse angeordnet sind und so daß das dritte Substrat 3
nicht die ersten Prüfpunkte 25 abdeckt.
Das vierte Substrat 4 hat eine ähnliche Struktur wie das
dritte Substrat 3 und ist auf dem dritten Substrat 3 wie bei
der Montage des dritten Substrats 3 auf dem zweiten Substrat
2 montiert, so daß eine nähere Beschreibung hierin entfällt.
Ein erster Halbleiterchip 20 mit einer Seite 201, auf
der mehrere erste Kontaktstellen 202 ausgebildet sind, ist in
der ersten Chipaufnahmeöffnung 26 angeordnet und auf der
zweiten Oberfläche 12 des ersten Substrats 1 durch eine Kle
beschicht 27a montiert. Die ersten Kontaktstellen 202 des er
sten Halbleiterchips 20 sind mit der ersten Schaltungsanord
nung des zweiten Substrats 2 unter Verwendung von Drähten w2
drahtgebondet.
Der erste Halbleiterchip 20 wird über die ersten Prüf
punkte 25 in dieser Stufe geprüft, so daß ein Austausch des
ersten Halbleiterchips 20 erfolgen kann, wenn festgestellt
wird, daß der erste Halbleiterchip 20 defekt ist.
Ein zweiter Halbleiterchip 30 mit einer Seite 301, die
mit mehreren zweiten Kontaktstellen 302 versehen ist, ist in
der zweiten Chipaufnahmeöffnung 36 angeordnet und auf der
Seite 201 des ersten Halbleiterchips 20 durch eine Klebe
schicht 37a so montiert, daß der zweite Halbleiterchip 30 von
der zweiten Oberfläche 22 des zweiten Substrats 2 entlang der
senkrechten Achse beabstandet ist. Die zweiten Kontaktstellen
302 des zweiten Halbleiterchips 30 sind mit der zweiten
Schaltungsanordnung des dritten Substrats 3 unter Verwendung
von Drähten w3 drahtgebondet.
Der zweite Halbleiterchip 30 wird über die zweiten Prüf
punkte 35 des dritten Substrats 3 in dieser Stufe geprüft, so
daß ein Austausch des zweiten Halbleiterchips 30 durchgeführt
werden kann, wenn festgestellt wird, daß der zweite Halblei
terchip 30 defekt ist.
Ein dritter Halbleiterchip 40 mit einer Seite 401, die
mit mehreren dritten Kontaktstellen 402 versehen ist, ist in
der dritten Chipaufnahmeöffnung 46 angeordnet und auf der
Seite 301 des zweiten Halbleiterchips 30 durch eine Klebe
schicht 47a so montiert, daß der dritte Halbleiterchip 40 von
der zweiten Oberfläche 32 des dritten Substrats 3 entlang der
senkrechten Achse beabstandet ist. Die dritten Kontaktstellen
402 des dritten Halbleiterchips 40 sind mit der dritten
Schaltungsanordnung des vierten Substrats 4 unter Verwendung
von Drähten w4 drahtgebondet.
Der dritte Halbleiterchip 40 wird über die dritten Prüf
punkte 45 in dieser Stufe geprüft, so daß ein Austausch des
dritten Halbleiterchips 40 erfolgen kann, wenn festgestellt
wird, daß der dritte Halbleiterchip 40 defekt ist.
Ein vierter Halbleiterchip 50 ist auf der zweiten Ober
fläche 42 des vierten Substrats 4 wie bei der Montage des
zweiten Halbleiterchips der ersten bevorzugten Ausführungs
form auf dem zweiten Substrat durch eine Klebeschicht 57 mon
tiert, die eine ähnliche Struktur wie die zweite Klebeschicht
37 der ersten bevorzugten Ausführungsform hat.
Ein leitender Körper 58 ist in jedem der Fenster 573 der
Klebeschicht 57 so plaziert, daß die vierten Kontaktstellen
502 des vierten Halbleiterchips 50 jeweils mit den leitenden
Körpern 58 in den Fenstern 573 elektrisch verbunden sind, um
eine elektrische Verbindung mit der dritten Schaltungsanord
nung des vierten Substrats 4 herzustellen. Eine wärmeablei
tende Metallplatte 504 ist auf der Oberfläche 503 des vierten
Halbleiterchips 50 entgegengesetzt zur vierten Kontaktstel
lenfläche 501 des vierten Halbleiterchips 50 montiert. Die
vierte Kontaktstellenfläche 501 des vierten Halbleiterchips
50 hat einen kontaktlosen Abschnitt, an den eine Klebefläche
einer Klebeschicht 57a geklebt ist. Die andere Klebefläche
der Klebeschicht 57a ist an die Seite 401 des dritten Halb
leiterchips 40 geklebt.
Auch der vierte Halbleiterchip 50 kann über die dritten
Prüfpunkte 45 des vierten Substrats 4 in dieser Stufe geprüft
werden, so daß ein Austausch des vierten Halbleiterchips 50
durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird, daß der
vierte Halbleiterchip 50 defekt ist.
Eine aus metallischem Material hergestellte Verkapse
lungsschicht 59 ist auf der zweiten Oberfläche 42 des vierten
Substrats 4 um den vierten Halbleiterchip 50 zum Schutz gegen
äußere Krafteinwirkung und Umgebungsfeuchtigkeit angeordnet.
Zu beachten ist, daß das erste bis vierte Substrat 1 bis
4 abschließend beschnitten werden, um das erste bis vierte
Substrat 1 bis 4 mit gemeinsamen senkrechten Kanten zu bil
den.
In Fig. 24 ist ein Abschnitt eines Mehrchip-Halbleiter
moduls gemäß einer fünften bevorzugten Ausführungsform der
Erfindung dargestellt. In dieser Ausführungsform weist das
Chipmontageteil ein erstes, zweites und drittes Substrat 1, 2
und 3 auf. Da die Strukturen des ersten bis dritten Substrats
1 bis 3 denen der ersten Ausführungsform mit der Ausnahme äh
neln, daß die zweite Chipaufnahmeöffnung 36 nicht größer als
die erste Chipaufnahmeöffnung 26 ist und daß die erste und
zweite Chipaufnahmeöffnung 26 und 36 nicht auf einer gemein
samen senkrechten Achse angeordnet sind, erübrigt sich eine
nähere Beschreibung hier.
Ein erster Halbleiterchip 20 ist in der ersten Chipauf
nahmeöffnung 26 angeordnet und auf der zweiten Oberfläche 12
des ersten Substrats 1 wie in der ersten bevorzugten Ausfüh
rungsform durch eine erste Klebeschicht 27 montiert, die eine
ähnliche Struktur wie die erste Klebeschicht der ersten be
vorzugten Ausführungsform hat.
Ein erster leitender Körper 28 ist in jedem der Fenster
273 der ersten Klebeschicht 27 so plaziert, daß die ersten
Kontaktstellen 202 des ersten Halbleiterchips 20 jeweils mit
den leitenden Körpern 28 in den Fenstern 273 elektrisch ver
bunden sind, um eine elektrische Verbindung mit der ersten
Schaltungsanordnung des ersten Substrats 1 herzustellen. Eine
wärmeableitende Metallplatte 204 ist auf der Oberfläche 203
des ersten Halbleiterchips 20 entgegengesetzt zur ersten Kon
taktstellenfläche 201 des ersten Halbleiterchips 20 montiert.
Zu beachten ist, daß der erste Halbleiterchip 20 über
die (nicht gezeigten) ersten Prüfpunkte des ersten Substrats
1 geprüft wird, bevor das zweite Substrat 2 mit dem ersten
Substrat 1 verbunden wird. Zudem ist zu beachten, daß ein
nicht vom ersten Halbleiterchip 20 belegter Abschnitt der er
sten Chipaufnahmeöffnung 26 z. B. mit Epoxidharz 29 zum
Feuchtigkeitsschutz des ersten Halbleiterchips 20 gefüllt
ist.
Ein zweiter Halbleiterchip 30 ist in der zweiten Chip
aufnahmeöffnung 36 angeordnet und auf der zweiten Oberfläche
22 des zweiten Substrats 2 wie bei der Montage des ersten
Halbleiterchips 20 auf der zweiten Oberfläche 12 des ersten
Substrats 1 dieser Ausführungsform durch eine zweite Klebe
schicht 37b montiert, die eine ähnliche Struktur wie die er
ste Klebeschicht dieser Ausführungsform hat.
Ein zweiter leitender Körper 38 ist in jedem der Fenster
373 der zweiten Klebeschicht 37b so plaziert, daß die zweiten
Kontaktstellen 302 des zweiten Halbleiterchips 30 jeweils mit
den leitenden Körpern 38 in den Fenstern 373 elektrisch ver
bunden sind, um eine elektrische Verbindung mit der zweiten
Schaltungsanordnung des zweiten Substrats 2 herzustellen. Ei
ne wärmeableitende Metallplatte 304 ist auf der Oberfläche
303 des zweiten Halbleiterchips 30 entgegengesetzt zur zwei
ten Kontaktstellenfläche 301 des zweiten Halbleiterchips 30
montiert.
Zu beachten ist, daß der zweite Halbleiterchip 30 über
die (nicht gezeigten) zweiten Prüfpunkte des zweiten Sub
strats 2 in dieser Stufe geprüft wird, so daß ein Austausch
des zweiten Halbleiterchips 30 vorgenommen werden kann, wenn
festgestellt wird, daß der zweite Halbleiterchip 30 defekt
ist. Außerdem ist zu beachten, daß ein Abschnitt der zweiten
Chipaufnahmeöffnung 36, der nicht vom zweiten Halbleiterchip
30 belegt ist, z. B. mit Epoxidharz 39 zum Feuchtigkeits
schutz des zweiten Halbleiterchips 30 gefüllt ist.
Ein dritter Halbleiterchip 40 ist auf dem dritten Sub
strat 3 wie bei der Montage des zweiten Halbleiterchips auf
dem zweiten Substrat der ersten bevorzugten Ausführungsform
durch eine dritte Klebeschicht 47 montiert, die eine ähnliche
Struktur wie die zweite Klebeschicht der bevorzugten Ausfüh
rungsform hat.
Ein dritter leitender Körper 48 ist in jedem der Fenster
473 der dritten Klebeschicht 47 so plaziert, daß die dritten
Kontaktstellen 402 des dritten Halbleiterchips 40 jeweils mit
den leitenden Körpern 48 in den Fenstern 473 elektrisch ver
bunden sind, um eine elektrische Verbindung mit der dritten
Schaltungsanordnung des dritten Substrats 3 herzustellen. Ei
ne wärmeableitende Metallplatte 404 ist auf der Oberfläche
403 des dritten Halbleiterchips 40 entgegengesetzt zur drit
ten Kontaktstellenfläche 401 des dritten Halbleiterchips 40
montiert. Die dritte Kontaktstellenfläche 401 des dritten
Halbleiterchips 40 hat einen kontaktlosen Abschnitt, der an
die wärmeableitende Platte 304 auf dem zweiten Halbleiterchip
30 anstößt.
In dieser Ausführungsform sind auf der zweiten Oberflä
che 32 des dritten Substrats 3 ein vierter Halbleiterchip 50
und ein fünfter Halbleiterchip 60 vorgesehen. Der vierte und
fünfte Halbleiterchip 50 und 60 sind auf dem dritten Substrat
3 wie bei der Montage des ersten Halbleiterchips 20 auf dem
ersten Substrat 1 dieser Ausführungsform durch eine vierte
Klebeschicht 57 bzw. eine fünfte Klebeschicht 67 montiert,
die ähnliche Strukturen wie die erste Klebeschicht 27 dieser
Ausführungsform haben.
Verkapselungsschichten 49, 59 und 69 sind auf der zwei
ten Oberfläche 42 des vierten Substrats 4 um den dritten,
vierten und fünften Halbleiterchip 40, 50 und 60 zum Schutz
vor äußerer Krafteinwirkung und Umgebungsfeuchtigkeit ange
ordnet.
Der dritte bis fünfte Halbleiterchip 40 bis 60 werden
über die (nicht gezeigten) dritten Prüfpunkte des dritten
Substrats 3 geprüft, so daß ein Austausch eines der Halblei
terchips 40, 50, 60 erfolgen kann, wenn festgestellt wird,
daß einer der Halbleiterchips 40, 50, 60 defekt ist.
Fig. 25 zeigt einen Abschnitt eines Mehrchip-Halbleiter
moduls gemäß einer sechsten bevorzugten Ausführungsform der
Erfindung.
Gemäß Fig. 25 weist das Chipmontageteil dieser Ausfüh
rungsform ein erstes bis viertes Substrat 1 bis 4 auf. Da die
Strukturen des ersten bis vierten Substrats 1 bis 4 denen des
ersten bis vierten Substrats der ersten bevorzugten Ausfüh
rungsform mit der Ausnahme ähneln, daß das zweite Substrat 2
zwei darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnungen 26 hat,
erübrigt sich ihre nähere Beschreibung hierin.
In dieser Ausführungsform sind der erste und zweite
Halbleiterchip 20 und 30 jeweils in einer entsprechenden der
ersten Chipaufnahmeöffnungen 26 angeordnet und auf dem ersten
Substrat 1 durch Klebeschichten 27, 37 montiert, die ähnliche
Strukturen wie die ersten Klebeschicht der ersten bevorzugten
Ausführungsform haben. Ein dritter und vierter Halbleiterchip
40 und 50 sind in der zweiten Chipaufnahmeöffnung 36 angeord
net und auf dem zweiten Substrat 2 durch Klebeschichten 47,
57 montiert, die ähnliche Strukturen wie die zweiten Klebe
schicht der ersten bevorzugten Ausführungsform haben. Ein
fünfter Halbleiterchip 60 ist in der dritten Chipaufnahmeöff
nung 46 angeordnet und auf dem dritten Substrat 3 durch eine
Klebeschicht 67 montiert, die eine ähnliche Struktur wie die
zweite Klebeschicht der ersten bevorzugten Ausführungsform
hat.
Fig. 26 zeigt ein Mehrchip-Halbleitermodul gemäß einer
siebenten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung. Anders
als in der ersten bevorzugten Ausführungsform sind die Lötku
geln 10 auf der zweiten Oberfläche 52 des fünften Substrats 5
an Positionen angeordnet, die den fünften leitenden Kontakt
löchern 53 entsprechen, und jeweils mit den fünften leitenden
Kontaktlöchern 53 elektrisch verbunden.
Fig. 27 zeigt ein Mehrchip-Halbleitermodul gemäß einer
achten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung. Anders als
in der zweiten bevorzugten Ausführungsform sind die Lötkugeln
10 auf der zweiten Oberfläche 62 des sechsten Substrats 6 an
Positionen angeordnet, die den sechsten leitenden Kontaktlö
chern 63 entsprechen, und jeweils mit den sechsten leitenden
Kontaktlöchern 63 elektrisch verbunden.
Fig. 28 zeigt ein Mehrchip-Halbleitermodul gemäß einer
neunten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung. Anders als
in der vierten bevorzugten Ausführungsform sind die Lötkugeln
10 auf der zweiten Oberfläche 42 des vierten Substrats 4 an
Positionen angeordnet, die den vierten leitenden Kontaktlö
chern 43 entsprechen, und jeweils mit den vierten leitenden
Kontaktlöchern 43 elektrisch verbunden.
Fig. 29 zeigt ein Mehrchip-Halbleitermodul gemäß einer
zehnten bevorzugten Ausführungsform der Erfindung. Anders als
in der fünften bevorzugten Ausführungsform sind die Lötkugeln
10 auf der zweiten Oberfläche 32 des dritten Substrats 3 an
Positionen angeordnet, die den dritten leitenden Kontaktlö
chern 33 entsprechen, und jeweils mit den dritten leitenden
Kontaktlöchern 33 elektrisch verbunden.
Fig. 30 zeigt ein Mehrchip-Halbleitermodul gemäß einer
elften bevorzugten Ausführungsform der Erfindung. Anders als
in der sechsten bevorzugten Ausführungsform sind die Lötku
geln 10 auf der zweiten Oberfläche 42 des vierten Substrats 4
an Positionen angeordnet, die den vierten leitenden Kontakt
löchern 43 entsprechen, und jeweils mit den vierten leitenden
Kontaktlöchern 43 elektrisch verbunden.
Während die Erfindung anhand der zuvor beschriebenen be
vorzugten Ausführungsformen offenbart wurde, ist es nicht be
absichtigt, die Erfindung irgendwie einzuschränken. Dem Fach
mann wird deutlich sein, daß verschiedene Modifizierungen und
Abwandlungen an der Struktur der Erfindung vorgenommen werden
können, ohne vom Schutzumfang oder Grundgedanken der Erfin
dung abzuweichen. Angesichts dessen soll die Erfindung Modi
fizierungen und Abwandlungen der Erfindung erfassen, sofern
sie in den Schutzumfang der nachfolgenden Ansprüche und ihrer
Äquivalente fallen.
Claims (65)
1. Verfahren zur Herstellung eines Mehrchip-Halbleitermo
duls mit den folgenden Schritten:
- a) Bereitstellen eines Chipmontageteils mit einem er
sten und zweiten Substrat,
wobei das erste Substrat hat: eine entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche, mehrere erste leitende Kontaktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberfläche erstrecken, eine erste Schaltungsanord nung, die auf der zweiten Oberfläche strukturiert und mit den ersten leitenden Kontaktlöchern elek trisch verbunden ist, und mehrere erste Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche angeordnet und mit der ersten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden sind,
wobei das zweite Substrat hat: eine entgegengesetz te erste und zweite Oberfläche, mehrere zweite lei tende Kontaktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberfläche des zweiten Substrats erstrecken, eine zweite Schaltungsanordnung, die auf der zwei ten Oberfläche des zweiten Substrats strukturiert und mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern elek trisch verbunden ist, mehrere zweite Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche des zweiten Sub strats angeordnet und mit der zweiten Schaltungsan ordnung elektrisch verbunden sind, und eine darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnung; - b) Montieren einer ersten Kontaktstellenfläche eines ersten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats und elektrisches Verbinden mehrerer erster Kontaktstellen auf der ersten Kon taktstellenfläche mit der ersten Schaltungsanord nung;
- c) Prüfen des ersten Halbleiterchips über die ersten Prüfpunkte des ersten Substrats, so daß ein Aus tausch des ersten Halbleiterchips durchgeführt wer den kann, wenn festgestellt wird, daß der erste Halbleiterchip defekt ist;
- d) Verbinden der ersten Oberfläche des zweiten Sub strats auf der zweiten Oberfläche des ersten Sub strats, so daß der erste Halbleiterchip in der er sten Chipaufnahmeöffnung angeordnet ist und so daß die zweite Schaltungsanordnung mit der ersten Schaltungsanordnung über die ersten und zweiten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist;
- e) Montieren einer zweiten Kontaktstellenfläche eines zweiten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats und elektrisches Verbinden mehrerer zweiter Kontaktstellen auf der zweiten Kontaktstellenfläche mit der zweiten Schaltungsan ordnung; und
- f) Prüfen des zweiten Halbleiterchips über die zweiten Prüfpunkte des zweiten Substrats, so daß ein Aus tausch des zweiten Halbleiterchips durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird, daß der zweite Halbleiterchip defekt ist.
2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Schritt (b) die
folgenden Teilschritte aufweist:
Bereitstellen einer Klebeschicht mit einer entgegenge setzten ersten und zweiten Klebefläche und mehreren Fen stern, die sich durch die erste und zweite Klebefläche erstrecken;
Kleben der ersten Klebefläche der Klebeschicht an die zweite Oberfläche des ersten Substrats, so daß die Fen ster den Zugang zur ersten Schaltungsanordnung von der zweiten Klebefläche ermöglichen;
Plazieren eines leitenden Körpers in jedem der Fenster; und
Befestigen der ersten Kontaktstellenfläche des ersten Halbleiterchips auf der zweiten Klebefläche der Klebe schicht, wobei die ersten Kontaktstellen jeweils mit den leitenden Körpern in den Fenstern elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung mit der ersten Schaltungsanordnung herzustellen.
Bereitstellen einer Klebeschicht mit einer entgegenge setzten ersten und zweiten Klebefläche und mehreren Fen stern, die sich durch die erste und zweite Klebefläche erstrecken;
Kleben der ersten Klebefläche der Klebeschicht an die zweite Oberfläche des ersten Substrats, so daß die Fen ster den Zugang zur ersten Schaltungsanordnung von der zweiten Klebefläche ermöglichen;
Plazieren eines leitenden Körpers in jedem der Fenster; und
Befestigen der ersten Kontaktstellenfläche des ersten Halbleiterchips auf der zweiten Klebefläche der Klebe schicht, wobei die ersten Kontaktstellen jeweils mit den leitenden Körpern in den Fenstern elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung mit der ersten Schaltungsanordnung herzustellen.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei der Schritt (e)
die folgenden Teilschritte aufweist:
Bereitstellen einer Klebeschicht mit einer entgegenge setzten ersten und zweiten Klebefläche und mehreren Fen stern, die sich durch die erste und zweite Klebefläche erstrecken;
Kleben der ersten Klebefläche der Klebeschicht an die zweite Oberfläche des zweiten Substrats, so daß die Fen ster den Zugang zur zweiten Schaltungsanordnung von der zweiten Klebefläche ermöglichen;
Plazieren eines leitenden Körpers in jedem der Fenster; und
Befestigen der zweiten Kontaktstellenfläche des zweiten Halbleiterchips auf der zweiten Klebefläche der Klebe schicht, wobei die zweiten Kontaktstellen jeweils mit den leitenden Körpern in den Fenstern elektrisch verbun den werden, um eine elektrische Verbindung mit der zwei ten Schaltungsanordnung herzustellen.
Bereitstellen einer Klebeschicht mit einer entgegenge setzten ersten und zweiten Klebefläche und mehreren Fen stern, die sich durch die erste und zweite Klebefläche erstrecken;
Kleben der ersten Klebefläche der Klebeschicht an die zweite Oberfläche des zweiten Substrats, so daß die Fen ster den Zugang zur zweiten Schaltungsanordnung von der zweiten Klebefläche ermöglichen;
Plazieren eines leitenden Körpers in jedem der Fenster; und
Befestigen der zweiten Kontaktstellenfläche des zweiten Halbleiterchips auf der zweiten Klebefläche der Klebe schicht, wobei die zweiten Kontaktstellen jeweils mit den leitenden Körpern in den Fenstern elektrisch verbun den werden, um eine elektrische Verbindung mit der zwei ten Schaltungsanordnung herzustellen.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei im
Schritt (e) der erste und zweite Halbleiterchip auf ei
ner gemeinsamen senkrechten Achse angeordnet werden und
die zweiten Kontaktstellen um die erste Chipaufnahmeöff
nung angeordnet werden, wenn der zweite Halbleiterchip
auf dem zweiten Substrat montiert wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, wobei das Chipmontageteil
ferner aufweist: ein drittes Substrat mit einer entge
gengesetzten ersten und zweiten Oberfläche, mehreren
dritten leitenden Kontaktlöchern, die sich durch die er
ste und zweite Oberfläche des dritten Substrats erstrec
ken, einer dritten Schaltungsanordnung, die auf der
zweiten Oberfläche des dritten Substrats strukturiert
und mit den dritten leitenden Kontaktlöchern elektrisch
verbunden ist, mehreren dritten Prüfpunkten, die auf der
zweiten Oberfläche des dritten Substrats angeordnet und
mit der dritten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden
sind, und einer darin ausgebildeten zweiten Chipaufnah
meöffnung, die größer als die erste Chipaufnahmeöffnung
ist, wobei das Verfahren ferner die folgenden Schritte
aufweist:
- a) Verbinden der ersten Oberfläche des dritten Sub strats auf der zweiten Oberfläche des zweiten Sub strats, so daß der zweite Halbleiterchip in der zweiten Chipaufnahmeöffnung angeordnet wird und so daß die dritte Schaltungsanordnung mit der ersten und zweiten Schaltungsanordnung über die ersten, zweiten und dritten leitenden Kontaktlöcher elek trisch verbunden wird;
- b) Montieren einer dritten Kontaktstellenfläche eines dritten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des dritten Substrats und elektrisches Verbinden mehrerer dritter Kontaktstellen auf der dritten Kontaktstellenfläche mit der dritten Schaltungsan ordnung; und
- c) Prüfen des dritten Halbleiterchips über die dritten Prüfpunkte des dritten Substrats, so daß ein Aus tausch des dritten Halbleiterchips durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird, daß der dritte Halbleiterchip defekt ist.
6. Verfahren nach Anspruch 5, wobei im Schritt (h) der
dritte Halbleiterchip auf der gemeinsamen senkrechten
Achse angeordnet wird und die dritten Kontaktstellen um
die zweite Chipaufnahmeöffnung angeordnet werden, wenn
der dritte Halbleiterchip auf dem dritten Substrat mon
tiert wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, wobei im Schritt (d) das
zweite Substrat nicht die ersten Prüfpunkte abdeckt,
wenn das zweite Substrat auf dem ersten Substrat verbun
den wird, und im Schritt (g) das dritte Substrat nicht
die zweiten Prüfpunkte abdeckt, wenn das dritte Substrat
mit dem zweiten Substrat verbunden wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, ferner mit dem Schritt des
Beschneidens des ersten, zweiten und dritten Substrats,
um das erste, zweite und dritte Substrat mit gemeinsamen
senkrechten Kanten auszubilden.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 8, ferner mit
dem Schritt des vor dem Schritt (d) erfolgenden Montie
rens einer wärmeableitenden Metallplatte auf einer Ober
fläche des ersten Halbleiterchips entgegengesetzt zur
ersten Kontaktstellenfläche.
10. Verfahren nach Anspruch 9, wobei im Schritt (e) die
zweite Kontaktstellenfläche des zweiten Halbleiterchips
einen kontaktlosen Abschnitt hat, der an die wärmeablei
tende Platte auf dem ersten Halbleiterchip anstößt.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 6 bis 10, ferner mit
dem Schritt des vor dem Schritt (h) erfolgenden Montie
rens einer wärmeableitenden Platte auf einer Oberfläche
des zweiten Halbleiterchips entgegengesetzt zur zweiten
Kontaktstellenfläche.
12. Verfahren nach Anspruch 11, wobei im Schritt (h) die
dritte Kontaktstellenfläche des dritten Halbleiterchips
einen kontaktlosen Abschnitt hat, der an die wärmeablei
tende Platte auf dem zweiten Halbleiterchip anstößt.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, ferner mit
dem Schritt des Anordnens mehrerer Lötkugeln auf der er
sten Oberfläche des ersten Substrats an Positionen, die
den ersten leitenden Kontaktlöchern entsprechen, so daß
die Lötkugeln jeweils mit den ersten leitenden Kontakt
löchern elektrisch verbunden sind.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei das
Chipmontageteil ferner aufweist: ein drittes Substrat
mit einer entgegengesetzten ersten und zweiten Oberflä
che, mehreren dritten leitenden Kontaktlöchern, die sich
durch die erste und zweite Oberfläche des dritten Sub
strats erstrecken, einer dritten Schaltungsanordnung,
die auf der zweiten Oberfläche des dritten Substrats
strukturiert und mit den dritten leitenden Kontaktlö
chern elektrisch verbunden ist, mehreren dritten Prüf
punkten, die auf der zweiten Oberfläche des dritten Sub
strats angeordnet und mit der dritten Schaltungsanord
nung elektrisch verbunden sind, und einer darin ausge
bildeten zweiten Chipaufnahmeöffnung, wobei das Verfah
ren ferner die folgenden Schritte aufweist:
- a) Verbinden der ersten Oberfläche des dritten Sub strats auf der zweiten Oberfläche des zweiten Sub strats, so daß der zweite Halbleiterchip in der zweiten Chipaufnahmeöffnung angeordnet wird und so daß die dritte Schaltungsanordnung mit der ersten und zweiten Schaltungsanordnung über die ersten, zweiten und dritten leitenden Kontaktlöcher elek trisch verbunden wird;
- b) Montieren einer dritten Kontaktstellenfläche eines dritten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des dritten Substrats und elektrisches Verbinden mehrerer dritter Kontaktstellen auf der dritten Kontaktstellenfläche mit der dritten Schaltungsan ordnung; und
- c) Prüfen des dritten Halbleiterchips über die dritten Prüfpunkte des dritten Substrats, so daß ein Aus tausch des dritten Halbleiterchips durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird, daß der dritte Halbleiterchip defekt ist.
15. Verfahren nach Anspruch 14, wobei im Schritt (h) der
zweite und dritte Halbleiterchip auf einer gemeinsamen
Achse angeordnet werden und die dritten Kontaktstellen
um die zweite Chipaufnahmeöffnung angeordnet werden,
wenn der dritte Halbleiterchip auf dem dritten Substrat
montiert wird.
16. Verfahren nach Anspruch 15, ferner mit dem Schritt des
vor dem Schritt (h) erfolgenden Montierens einer wärme
ableitenden Platte auf einer Oberfläche des zweiten
Halbleiterchips entgegengesetzt zur zweiten Kontaktstel
lenfläche.
17. Verfahren nach Anspruch 16, wobei im Schritt (h) die
dritte Kontaktstellenfläche des dritten Halbleiterchips
einen kontaktlosen Abschnitt hat, der an die wärmeablei
tende Platte auf dem zweiten Halbleiterchip anstößt.
18. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 17, ferner mit
dem Schritt des Anordnens mehrerer Lötkugeln auf der
zweiten Oberfläche des dritten Substrats an Positionen,
die den dritten leitenden Kontaktlöchern entsprechen, so
daß die Lötkugeln jeweils mit den dritten leitenden Kon
taktlöchern elektrisch verbunden sind.
19. Verfahren zur Herstellung eines Mehrchip-Halbleitermo
duls mit den folgenden Schritten:
- a) Bereitstellen eines Chipmontageteils mit einem er
sten und zweiten Substrat,
wobei das erste Substrat hat: eine entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche, mehrere erste leitende Kontaktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberfläche erstrecken, eine erste Schaltungsanord nung, die auf der zweiten Oberfläche strukturiert und mit den ersten leitenden Kontaktlöchern elek trisch verbunden ist, und mehrere erste Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche angeordnet und mit der ersten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden sind,
wobei das zweite Substrat hat: eine entgegengesetz te erste und zweite Oberfläche, mehrere zweite lei tende Kontaktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberfläche des zweiten Substrats erstrecken, eine zweite Schaltungsanordnung, die auf der zwei ten Oberfläche des zweiten Substrats strukturiert und mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern elek trisch verbunden ist, mehrere zweite Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche des zweiten Sub strats angeordnet und mit der zweiten Schaltungsan ordnung elektrisch verbunden sind, und eine darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnung;
wobei die erste Oberfläche des zweiten Substrats auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats verbunden ist, so daß die zweite Schaltungsanord nung mit der ersten Schaltungsanordnung über die ersten und zweiten leitenden Kontaktlöcher elek trisch verbunden ist und so daß das zweite Substrat nicht die ersten Prüfpunkte abdeckt; - b) Anordnen eines ersten Halbleiterchips in der ersten Chipaufnahmeöffnung, Montieren einer ersten Kon taktstellenfläche des ersten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats und elektrisches Verbinden mehrerer erster Kontaktstel len auf der ersten Kontaktstellenfläche mit der er sten Schaltungsanordnung;
- c) Prüfen des ersten Halbleiterchips über die ersten Prüfpunkte des ersten Substrats, so daß ein Aus tausch des ersten Halbleiterchips durchgeführt wer den kann, wenn festgestellt wird, daß der erste Halbleiterchip defekt ist;
- d) Montieren einer zweiten Kontaktstellenfläche eines zweiten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats und elektrisches Verbinden mehrerer zweiter Kontaktstellen auf der zweiten Koritaktstellenfläche mit der zweiten Schaltungsan ordnung; und
- e) Prüfen des zweiten Halbleiterchips über die zweiten Prüfpunkte des zweiten Substrats, so daß ein Aus tausch des zweiten Halbleiterchips durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird, daß der zweite Halbleiterchip defekt ist.
20. Verfahren nach Anspruch 19, wobei der Schritt (b) die
folgenden Teilschritte aufweist:
Bereitstellen einer Klebeschicht mit einer entgegenge setzten ersten und zweiten Klebefläche und mehreren Fen stern, die sich durch die erste und zweite Klebefläche erstrecken;
Kleben der ersten Klebefläche der Klebeschicht an die zweite Oberfläche des ersten Substrats, so daß die Fen ster den Zugang zur ersten Schaltungsanordnung von der zweiten Klebefläche ermöglichen;
Plazieren eines leitenden Körpers in jedem der Fenster; und
Befestigen der ersten Kontaktstellenfläche des ersten Halbleiterchips auf der zweiten Klebefläche der Klebe schicht, wobei die ersten Kontaktstellen jeweils mit den leitenden Körpern in den Fenstern elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung mit der ersten Schaltungsanordnung herzustellen.
Bereitstellen einer Klebeschicht mit einer entgegenge setzten ersten und zweiten Klebefläche und mehreren Fen stern, die sich durch die erste und zweite Klebefläche erstrecken;
Kleben der ersten Klebefläche der Klebeschicht an die zweite Oberfläche des ersten Substrats, so daß die Fen ster den Zugang zur ersten Schaltungsanordnung von der zweiten Klebefläche ermöglichen;
Plazieren eines leitenden Körpers in jedem der Fenster; und
Befestigen der ersten Kontaktstellenfläche des ersten Halbleiterchips auf der zweiten Klebefläche der Klebe schicht, wobei die ersten Kontaktstellen jeweils mit den leitenden Körpern in den Fenstern elektrisch verbunden sind, um eine elektrische Verbindung mit der ersten Schaltungsanordnung herzustellen.
21. Verfahren nach Anspruch 19 oder 20, wobei der Schritt
(d) die folgenden Teilschritte aufweist:
Bereitstellen einer Klebeschicht mit einer entgegenge setzten ersten und zweiten Klebefläche und mehreren Fen stern, die sich durch die erste und zweite Klebefläche erstrecken;
Kleben der ersten Klebefläche der Klebeschicht an die zweite Oberfläche des zweiten Substrats, so daß die Fen ster den Zugang zur zweiten Schaltungsanordnung von der zweiten Klebefläche ermöglichen;
Plazieren eines leitenden Körpers in jedem der Fenster; und
Befestigen der zweiten Kontaktstellenfläche des zweiten Halbleiterchips auf der zweiten Klebefläche der Klebe schicht, wobei die zweiten Kontaktstellen jeweils mit den leitenden Körpern in den Fenstern elektrisch verbun den sind, um eine elektrische Verbindung mit der zweiten Schaltungsanordnung herzustellen.
Bereitstellen einer Klebeschicht mit einer entgegenge setzten ersten und zweiten Klebefläche und mehreren Fen stern, die sich durch die erste und zweite Klebefläche erstrecken;
Kleben der ersten Klebefläche der Klebeschicht an die zweite Oberfläche des zweiten Substrats, so daß die Fen ster den Zugang zur zweiten Schaltungsanordnung von der zweiten Klebefläche ermöglichen;
Plazieren eines leitenden Körpers in jedem der Fenster; und
Befestigen der zweiten Kontaktstellenfläche des zweiten Halbleiterchips auf der zweiten Klebefläche der Klebe schicht, wobei die zweiten Kontaktstellen jeweils mit den leitenden Körpern in den Fenstern elektrisch verbun den sind, um eine elektrische Verbindung mit der zweiten Schaltungsanordnung herzustellen.
22. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 21, wobei im
Schritt (d) die zweiten Kontaktstellen um die erste Chi
paufnahmeöffnung angeordnet werden, wenn der zweite
Halbleiterchip auf dem zweiten Substrat montiert wird.
23. Verfahren nach Anspruch 22, wobei das Chipmontageteil
ferner aufweist: ein drittes Substrat mit einer entge
gengesetzten ersten und zweiten Oberfläche, mehreren
dritten leitenden Kontaktlöchern, die sich durch die er
ste und zweite Oberfläche des dritten Substrats erstrec
ken, einer dritten Schaltungsanordnung, die auf der
zweiten Oberfläche des dritten Substrats strukturiert
und mit den dritten leitenden Kontaktlöchern elektrisch
verbunden ist, mehreren dritten Prüfpunkten, die auf der
zweiten Oberfläche des dritten Substrats angeordnet und
mit der dritten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden
sind, und einer darin ausgebildeten zweiten Chipaufnah
meöffnung, die größer als die erste Chipaufnahmeöffnung
ist, wobei die erste Oberfläche des dritten Substrats
auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats verbun
den ist, so daß die dritte Schaltungsanordnung mit der
ersten und zweiten Schaltungsanordnung über die ersten,
zweiten und dritten leitenden Kontaktlöcher elektrisch
verbunden ist, so daß die erste und zweite Chipaufnahme
öffnung auf einer gemeinsamen senkrechten Achse angeord
net sind und so daß das dritte Substrat nicht die zwei
ten Prüfpunkte abdeckt; und
wobei im Schritt (d) der zweite Halbleiterchip in der zweiten Chipaufnahmeöffnung angeordnet wird, wenn der zweite Halbleiterchip auf dem zweiten Substrat montiert wird.
wobei im Schritt (d) der zweite Halbleiterchip in der zweiten Chipaufnahmeöffnung angeordnet wird, wenn der zweite Halbleiterchip auf dem zweiten Substrat montiert wird.
24. Verfahren nach Anspruch 23, ferner mit den folgenden
Schritten:
- a) Montieren einer dritten Kontaktstellenfläche eines dritten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des dritten Substrats und elektrisches Verbinden mehrerer dritter Kontaktstellen auf der dritten Kontaktstellenfläche mit der dritten Schaltungsan ordnung; und
- b) Prüfen des dritten Halbleiterchips über die dritten Prüfpunkte des dritten Substrats, so daß ein Aus tausch des dritten Halbleiterchips durchgeführt werden kann, wenn festgestellt wird, daß der dritte Halbleiterchip defekt ist.
25. Verfahren nach Anspruch 24, wobei im Schritt (f) die
dritten Kontaktstellen um die zweite Chipaufnahmeöffnung
angeordnet werden, wenn der dritte Halbleiterchip auf
dem dritten Substrat montiert wird.
26. Verfahren nach Anspruch 24 oder 25, ferner mit dem
Schritt des Beschneidens des ersten, zweiten und dritten
Substrats, um das erste, zweite und dritte Substrat mit
gemeinsamen senkrechten Kanten auszubilden.
27. Verfahren nach einem der Ansprüche 22 bis 26, ferner mit
dem Schritt des vor dem Schritt (g) erfolgenden Montie
rens einer wärmeableitenden Metallplatte auf einer Ober
fläche des ersten Halbleiterchips entgegengesetzt zur
ersten Kontaktstellenfläche.
28. Verfahren nach Anspruch 27, wobei im Schritt (d) die
zweite Kontaktstellenfläche des zweiten Halbleiterchips
einen kontaktlosen Abschnitt hat, der an die wärmeablei
tende Platte auf dem ersten Halbleiterchip anstößt.
29. Verfahren nach einem der Ansprüche 24 bis 28, ferner mit
dem Schritt des vor dem Schritt (f) erfolgenden Montie
rens einer wärmeableitenden Platte auf einer Oberfläche
des zweiten Halbleiterchips entgegengesetzt zur zweiten
Kontaktstellenfläche.
30. Verfahren nach Anspruch 29, wobei im Schritt (f) die
dritte Kontaktstellenfläche des dritten Halbleiterchips
einen kontaktlosen Abschnitt hat, der an die wärmeablei
tende Platte auf dem zweiten Halbleiterchip anstößt.
31. Verfahren nach einem der Ansprüche 19 bis 30, ferner mit
dem Schritt des Anordnens mehrerer Lötkugeln auf der er
sten Oberfläche des ersten Substrats an Positionen, die
den ersten leitenden Kontaktlöchern entsprechen, so daß
die Lötkugeln jeweils mit den ersten leitenden Kontakt
löchern elektrisch verbunden sind.
32. Mehrchip-Halbleitermodul mit:
einem Chipmontageteil mit einem ersten und zweiten Sub strat,
wobei das erste Substrat hat: eine entgegengesetzte er ste und zweite Oberfläche, mehrere erste leitende Kon taktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberflä che erstrecken, und eine erste Schaltungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche strukturiert und mit den er sten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, wobei das zweite Substrat hat: eine entgegengesetzte er ste und zweite Oberfläche, mehrere zweite leitende Kon taktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberflä che des zweiten Substrats erstrecken, eine zweite Schal tungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche des zwei ten Substrats strukturiert und mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, und eine darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnung,
wobei die erste Oberfläche des zweiten Substrats auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats verbunden ist, so daß die zweite Schaltungsanordnung mit der ersten Schaltungsanordnung über die ersten und zweiten leiten den Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist;
einem ersten Halbleiterchip, der in der ersten Chipauf nahmeöffnung angeordnet ist und eine auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats montierte erste Kontakt stellenfläche hat, wobei die erste Kontaktstellenfläche mit mehreren ersten Kontaktstellen ausgebildet ist;
einer ersten Leitereinrichtung zum elektrischen Verbin den der ersten Kontaktstellen mit der ersten Schaltungs anordnung;
einem zweiten Halbleiterchip mit einer auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats montierten zweiten Kon taktstellenfläche, wobei die zweite Kontaktstellenfläche mit mehreren zweiten Kontaktstellen ausgebildet ist; und
einer zweiten Leitereinrichtung zum elektrischen Verbin den der zweiten Kontaktstellen mit der zweiten Schal tungsanordnung.
einem Chipmontageteil mit einem ersten und zweiten Sub strat,
wobei das erste Substrat hat: eine entgegengesetzte er ste und zweite Oberfläche, mehrere erste leitende Kon taktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberflä che erstrecken, und eine erste Schaltungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche strukturiert und mit den er sten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, wobei das zweite Substrat hat: eine entgegengesetzte er ste und zweite Oberfläche, mehrere zweite leitende Kon taktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberflä che des zweiten Substrats erstrecken, eine zweite Schal tungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche des zwei ten Substrats strukturiert und mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, und eine darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnung,
wobei die erste Oberfläche des zweiten Substrats auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats verbunden ist, so daß die zweite Schaltungsanordnung mit der ersten Schaltungsanordnung über die ersten und zweiten leiten den Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist;
einem ersten Halbleiterchip, der in der ersten Chipauf nahmeöffnung angeordnet ist und eine auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats montierte erste Kontakt stellenfläche hat, wobei die erste Kontaktstellenfläche mit mehreren ersten Kontaktstellen ausgebildet ist;
einer ersten Leitereinrichtung zum elektrischen Verbin den der ersten Kontaktstellen mit der ersten Schaltungs anordnung;
einem zweiten Halbleiterchip mit einer auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats montierten zweiten Kon taktstellenfläche, wobei die zweite Kontaktstellenfläche mit mehreren zweiten Kontaktstellen ausgebildet ist; und
einer zweiten Leitereinrichtung zum elektrischen Verbin den der zweiten Kontaktstellen mit der zweiten Schal tungsanordnung.
33. Mehrchip-Halbleitermodul nach Anspruch 32, ferner mit
einer Klebeschicht mit einer entgegengesetzten ersten
und zweiten Klebefläche und mehreren Fenstern, die sich
durch die erste und zweite Klebefläche erstrecken, wobei
die erste Klebefläche der Klebeschicht an die zweite
Oberfläche des ersten Substrats geklebt ist, so daß die
Fenster den Zugang zur ersten Schaltungsanordnung von
der zweiten Klebefläche ermöglichen, die erste Leiter
einrichtung mehrere leitende Körper aufweist, die je
weils in den Fenstern plaziert sind, die erste Kontakt
stellenfläche des ersten Halbleiterchips auf der zweiten
Klebefläche der Klebeschicht befestigt ist und die er
sten Kontaktstellen jeweils mit den leitenden Körpern in
den Fenstern elektrisch verbunden sind, um eine elektri
sche Verbindung mit der ersten Schaltungsanordnung her
zustellen.
34. Mehrchip-Halbleitermodul nach Anspruch 32 oder 33, fer
ner mit einer Klebeschicht mit einer entgegengesetzten
ersten und zweiten Klebefläche und mehreren Fenstern,
die sich durch die erste und zweite Klebefläche erstrec
ken, wobei die erste Klebefläche der Klebeschicht an die
zweite Oberfläche des zweiten Substrats geklebt ist, so
daß die Fenster den Zugang zur zweiten Schaltungsanord
nung von der zweiten Klebefläche ermöglichen, die zweite
Leitereinrichtung mehrere leitende Körper aufweist, die
jeweils in den Fenstern plaziert sind, die zweite Kon
taktstellenfläche des zweiten Halbleiterchips auf der
zweiten Klebefläche der Klebeschicht befestigt ist und
die zweiten Kontaktstellen jeweils mit den leitenden
Körpern in den Fenstern elektrisch verbunden sind, um
eine elektrische Verbindung mit der zweiten Schaltungs
anordnung herzustellen.
35. Mehrchip-Halbleitermodul nach einem der Ansprüche 32 bis
34, wobei der erste und zweite Halbleiterchip auf einer
gemeinsamen senkrechten Achse angeordnet und die zweiten
Kontaktstellen um die erste Chipaufnahmeöffnung angeord
net sind.
36. Mehrchip-Halbleitermodul nach Anspruch 35, wobei das
Chipmontageteil ferner aufweist: ein drittes Substrat
mit einer entgegengesetzten ersten und zweiten Oberflä
che, mehreren dritten leitenden Kontaktlöchern, die sich
durch die erste und zweite Oberfläche des dritten Sub
strats erstrecken, einer dritten Schaltungsanordnung,
die auf der zweiten Oberfläche des dritten Substrats
strukturiert und mit den dritten leitenden Kontaktlö
chern elektrisch verbunden ist, und einer darin ausge
bildeten zweiten Chipaufnahmeöffnung, die größer als die
erste Chipaufnahmeöffnung ist, wobei die erste Oberflä
che des dritten Substrats auf der zweiten Oberfläche des
zweiten Substrats verbunden ist, so daß der zweite Halb
leiterchip in der zweiten Chipaufnahmeöffnung angeordnet
ist und so daß die dritte Schaltungsanordnung mit der
ersten und zweiten Schaltungsanordnung über die ersten,
zweiten und dritten leitenden Kontaktlöcher elektrisch
verbunden ist, wobei das Mehrchip-Halbleitermodul ferner
aufweist:
einen dritten Halbleiterchip mit einer dritten Kontakt stellenfläche, auf der mehrere dritte Kontaktstellen an geordnet sind, wobei die dritte Kontaktstellenfläche des dritten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des dritten Substrats montiert ist und die dritten Kontakt stellen mit der dritten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden sind.
einen dritten Halbleiterchip mit einer dritten Kontakt stellenfläche, auf der mehrere dritte Kontaktstellen an geordnet sind, wobei die dritte Kontaktstellenfläche des dritten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des dritten Substrats montiert ist und die dritten Kontakt stellen mit der dritten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden sind.
37. Mehrchip-Halbleitermodul nach Anspruch 35 oder 36, fer
ner mit einer wärmeableitenden Metallplatte, die auf ei
ner Oberfläche des ersten Halbleiterchips entgegenge
setzt zur ersten Kontaktstellenfläche montiert ist.
38. Mehrchip-Halbleitermodul nach Anspruch 37, wobei die
zweite Kontaktstellenfläche des zweiten Halbleiterchips
einen kontaktlosen Abschnitt hat, der an die wärmeablei
tende Platte auf dem ersten Halbleiterchip anstößt.
39. Mehrchip-Halbleitermodul nach einem der Ansprüche 35 bis
38, wobei der dritte Halbleiterchip auf der gemeinsamen
senkrechten Achse angeordnet ist und die dritten Kon
taktstellen um die zweite Chipaufnahmeöffnung angeordnet
sind.
40. Mehrchip-Halbleitermodul nach Anspruch 39, ferner mit
einer wärmeableitenden Metallplatte, die auf einer Ober
fläche des zweiten Halbleiterchips entgegengesetzt zur
zweiten Kontaktstellenfläche montiert ist.
41. Mehrchip-Halbleitermodul nach Anspruch 40, wobei die
dritte Kontaktstellenfläche des dritten Halbleiterchips
einen kontaktlosen Abschnitt hat, der an die wärmeablei
tende Platte auf dem zweiten Halbleiterchip anstößt.
42. Mehrchip-Halbleitermodul nach einem der Ansprüche 32 bis
41, ferner mit mehreren Lötkugeln, die auf der ersten
Oberfläche des ersten Substrats an Positionen angeordnet
sind, die den ersten leitenden Kontaktlöchern entspre
chen, und jeweils mit den ersten leitenden Kontaktlö
chern elektrisch verbunden sind.
43. Mehrchip-Halbleitermodul nach einem der Ansprüche 32 bis
34, wobei das Chipmontageteil ferner aufweist: ein drit
tes Substrat mit einer entgegengesetzten ersten und
zweiten Oberfläche, mehreren dritten leitenden Kontakt
löchern, die sich durch die erste und zweite Oberfläche
des dritten Substrats erstrecken, einer dritten Schal
tungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche des drit
ten Substrats strukturiert und mit den dritten leitenden
Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, und einer darin
ausgebildeten zweiten Chipaufnahmeöffnung, wobei die er
ste Oberfläche des dritten Substrats auf der zweiten
Oberfläche des zweiten Substrats verbunden ist, so daß
der zweite Halbleiterchip in der zweiten Chipaufnahme
öffnung angeordnet ist und so daß die dritte Schaltungs
anordnung mit der ersten und zweiten Schaltungsanordnung
über die ersten, zweiten und dritten leitenden Kontakt
löcher elektrisch verbunden ist, wobei das Mehrchip-
Halbleitermodul ferner aufweist:
einen dritten Halbleiterchip mit einer dritten Kontakt stellenfläche, auf der mehrere dritte Kontaktstellen an geordnet sind, wobei die dritte Kontaktstellenfläche des dritten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des dritten Substrats montiert ist und die dritten Kontakt stellen mit der dritten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden sind.
einen dritten Halbleiterchip mit einer dritten Kontakt stellenfläche, auf der mehrere dritte Kontaktstellen an geordnet sind, wobei die dritte Kontaktstellenfläche des dritten Halbleiterchips auf der zweiten Oberfläche des dritten Substrats montiert ist und die dritten Kontakt stellen mit der dritten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden sind.
44. Mehrchip-Halbleitermodul nach Anspruch 43, ferner mit
mehreren Lötkugeln, die auf der zweiten Oberfläche des
dritten Substrats an Positionen angeordnet sind, die den
dritten leitenden Kontaktlöchern entsprechen, und je
weils mit den dritten leitenden Kontaktlöchern elek
trisch verbunden sind.
45. Verfahren zur Herstellung eines Mehrchip-Halbleitermo
duls mit den folgenden Schritten:
- a) Bereitstellen eines Chipmontageteils mit einem er
sten, zweiten und dritten Substrat,
wobei das erste Substrat eine entgegengesetzte er
ste und zweite Oberfläche sowie mehrere erste lei
tende Kontaktlöcher hat, die sich durch die erste
und zweite Oberfläche erstrecken,
wobei das zweite Substrat hat: eine entgegengesetz te erste und zweite Oberfläche, mehrere zweite lei tende Kontaktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberfläche des zweiten Substrats erstrecken, eine erste Schaltungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats strukturiert und mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, mehrere erste Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats ange ordnet und mit der ersten Schaltungsanordnung elek trisch verbunden sind, und eine darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnung,
wobei das dritte Substrat hat: eine entgegengesetz te erste und zweite Oberfläche, mehrere dritte lei tende Kontaktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberfläche des dritten Substrats erstrecken, eine zweite Schaltungsanordnung, die auf der zwei ten Oberfläche des dritten Substrats strukturiert und mit den dritten leitenden Kontaktlöchern elek trisch verbunden ist, mehrere zweite Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche des dritten Sub strats angeordnet und mit der zweiten Schaltungsan ordnung elektrisch verbunden sind, und eine darin ausgebildete zweite Chipaufnahmeöffnung, die größer als die erste Chipaufnahmeöffnung ist; - b) Verbinden der ersten Oberfläche des zweiten Sub strats auf der zweiten Oberfläche des ersten Sub strats, so daß die erste Schaltungsanordnung mit den ersten leitenden Kontaktlöchern über die zwei ten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist;
- c) Anordnen eines ersten Halbleiterchips in der ersten Chipaufnahmeöffnung, Montieren des ersten Halblei terchips auf der zweiten Oberfläche des ersten Sub strats und Drahtbonden mehrerer erster Kontaktstel len auf einer Seite des ersten Halbleiterchips mit der ersten Schaltungsanordnung;
- d) Prüfen des ersten Halbleiterchips über die ersten Prüfpunkte, so daß ein Austausch des ersten Halb leiterchips durchgeführt werden kann, wenn festge stellt wird, daß der erste Halbleiterchip defekt ist;
- e) Verbinden der ersten Oberfläche des dritten Sub strats auf der zweiten Oberfläche des zweiten Sub strats, so daß die zweite Schaltungsanordnung mit der ersten Schaltungsanordnung über die zweiten und dritten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbun den ist und so daß die erste und zweite Chipaufnah meöffnung auf einer gemeinsamen senkrechten Achse angeordnet sind;
- f) Anordnen eines zweiten Halbleiterchips in der zwei ten Chipaufnahmeöffnung, Montieren des zweiten Halbleiterchips auf der einen Seite des ersten Halbleiterchips über eine erste Klebeschicht, so daß der zweite Halbleiterchip von der zweiten Ober fläche des zweiten Substrats entlang der senkrech ten Achse beabstandet ist, und Drahtbonden mehrerer zweiter Kontaktstellen auf einer Seite des zweiten Halbleiterchips mit der zweiten Schaltungsanord nung; und
- g) Prüfen des zweiten Halbleiterchips über die zweiten Prüfpunkte, so daß ein Austausch des zweiten Halb leiterchips durchgeführt werden kann, wenn festge stellt wird, daß der zweite Halbleiterchip defekt ist.
46. Verfahren nach Anspruch 45, wobei das Chipmontageteil
ferner aufweist: ein viertes Substrat mit einer entge
gengesetzten ersten und zweiten Oberfläche, mehreren
vierten leitenden Kontaktlöchern, die sich durch die er
ste und zweite Oberfläche des vierten Substrats erstrec
ken, einer dritten Schaltungsanordnung, die auf der
zweiten Oberfläche des vierten Substrats strukturiert
und mit den vierten leitenden Kontaktlöchern elektrisch
verbunden ist, mehreren dritten Prüfpunkten, die auf der
zweiten Oberfläche des vierten Substrats angeordnet und
mit der dritten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden
sind, und einer darin ausgebildeten dritten Chipaufnah
meöffnung, die größer als die zweite Chipaufnahmeöffnung
ist, wobei das Verfahren ferner die folgenden Schritte
aufweist:
- a) Verbinden der ersten Oberfläche des vierten Sub strats auf der zweiten Oberfläche des dritten Sub strats, so daß die dritte Schaltungsanordnung mit der zweiten Schaltungsanordnung über die dritten und vierten leitenden Kontaktlöcher elektrisch ver bunden ist und so daß die dritte Chipaufnahmeöff nung auf der gemeinsamen senkrechten Achse angeord net ist;
- b) Anordnen eines dritten Halbleiterchips in der drit ten Chipaufnahmeöffnung, Montieren des dritten Halbleiterchips auf der einen Seite des zweiten Halbleiterchips über eine zweite Klebeschicht, so daß der dritte Halbleiterchip von der zweiten Ober fläche des dritten Substrats entlang der senkrech ten Achse beabstandet ist, und Drahtbonden mehrerer dritter Kontaktstellen auf einer Seite des dritten Halbleiterchips mit der dritten Schaltungsanord nung; und
- c) Prüfen des dritten Halbleiterchips über die dritten Prüfpunkte, so daß ein Austausch des dritten Halb leiterchips durchgeführt werden kann, wenn festge stellt wird, daß der dritte Halbleiterchip defekt ist.
47. Verfahren nach Anspruch 46, ferner mit dem folgenden
Schritt: Montieren eines vierten Halbleiterchips auf der
zweiten Oberfläche des vierten Substrats und elektri
sches Verbinden mehrerer vierter Kontaktstellen auf ei
ner Seite des vierten Halbleiterchips mit der dritten
Schaltungsanordnung.
48. Verfahren nach Anspruch 46 oder 47, wobei im Schritt (e)
das dritte Substrat nicht die ersten Prüfpunkte abdeckt,
wenn das dritte Substrat mit dem zweiten Substrat ver
bunden wird, und im Schritt (h) das vierte Substrat
nicht die zweiten Prüfpunkte abdeckt, wenn das vierte
Substrat mit dem dritten Substrat verbunden wird.
49. Verfahren nach Anspruch 48, ferner mit dem Schritt des
Beschneidens des ersten, zweiten, dritten und vierten
Substrats, um das erste, zweite, dritte und vierte Sub
strat mit gemeinsamen senkrechten Kanten auszubilden.
50. Verfahren nach einem der Ansprüche 47 bis 49, ferner mit
dem Schritt des Montierens einer wärmeableitenden Me
tallplatte auf einer Oberfläche des vierten Halbleiter
chips entgegengesetzt zur zweiten Oberfläche des vierten
Substrats.
51. Verfahren nach einem der Ansprüche 45 bis 50, ferner mit
dem Schritt des Anordnens mehrerer Lötkugeln auf der er
sten Oberfläche des ersten Substrats an Positionen, die
den ersten leitenden Kontaktlöchern entsprechen, so daß
die Lötkugeln jeweils mit den ersten leitenden Kontakt
löchern elektrisch verbunden sind.
52. Verfahren nach einem der Ansprüche 46 bis 50, ferner mit
dem Schritt des Anordnens mehrerer Lötkugeln auf der
zweiten Oberfläche des vierten Substrats an Positionen,
die den vierten leitenden Kontaktlöchern entsprechen, so
daß die Lötkugeln jeweils mit den vierten leitenden Kon
taktlöchern elektrisch verbunden sind.
53. Verfahren zur Herstellung eines Mehrchip-Halbleitermo
duls mit den folgenden Schritten:
- a) Bereitstellen eines Chipmontageteils mit einem er
sten, zweiten und dritten Substrat,
wobei das erste Substrat eine entgegengesetzte er ste und zweite Oberfläche sowie mehrere erste lei tende Kontaktlöcher hat, die sich durch die erste und zweite Oberfläche erstrecken,
wobei das zweite Substrat hat: eine entgegengesetz te erste und zweite Oberfläche, mehrere zweite lei tende Kontaktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberfläche des zweiten Substrats erstrecken,
eine erste Schaltungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats strukturiert und mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, mehrere erste Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats ange ordnet und mit der ersten Schaltungsanordnung elek trisch verbunden sind, und eine darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnung,
wobei die erste Oberfläche des zweiten Substrats auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats verbunden ist, so daß die erste Schaltungsanordnung mit den ersten leitenden Kontaktlöchern über die zweiten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbun den ist,
wobei das dritte Substrat hat: eine entgegengesetz te erste und zweite Oberfläche, mehrere dritte lei tende Kontaktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberfläche des dritten Substrats erstrecken,
eine zweite Schaltungsanordnung, die auf der zwei ten Oberfläche des dritten Substrats strukturiert und mit den dritten leitenden Kontaktlöchern elek trisch verbunden ist, mehrere zweite Prüfpunkte, die auf der zweiten Oberfläche des dritten Sub strats angeordnet und mit der zweiten Schaltungsan ordnung elektrisch verbunden sind, und eine darin ausgebildete zweite Chipaufnahmeöffnung, die größer als die erste Chipaufnahmeöffnung ist,
wobei die erste Oberfläche des dritten Substrats auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats verbunden ist, so daß die zweite Schaltungsanord nung mit der ersten Schaltungsanordnung über die zweiten und dritten leitenden Kontaktlöcher elek trisch verbunden ist, so daß die erste und zweite Chipaufnahmeöffnung auf einer gemeinsamen senkrech ten Achse angeordnet sind und so daß das dritte Substrat nicht die ersten Prüfpunkte abdeckt; - b) Anordnen eines ersten Halbleiterchips in der ersten Chipaufnahmeöffnung, Montieren des ersten Halblei terchips auf der zweiten Oberfläche des ersten Sub strats und Drahtbonden mehrerer erster Kontaktstel len auf einer Seite des ersten Halbleiterchips mit der ersten Schaltungsanordnung;
- c) Prüfen des ersten Halbleiterchips über die ersten Prüfpunkte, so daß ein Austausch des ersten Halb leiterchips durchgeführt werden kann, wenn festge stellt wird, daß der erste Halbleiterchip defekt ist;
- d) Anordnen eines zweiten Halbleiterchips in der zwei ten Chipaufnahmeöffnung, Montieren des zweiten Halbleiterchips auf der einen Seite des ersten Halbleiterchips über eine erste Klebeschicht, so daß der zweite Halbleiterchip von der zweiten Ober fläche des zweiten Substrats entlang der senkrech ten Achse beabstandet ist, und Drahtbonden mehrerer zweiter Kontaktstellen auf einer Seite des zweiten Halbleiterchips mit der zweiten Schaltungsanord nung; und
- e) Prüfen des zweiten Halbleiterchips über die zweiten Prüfpunkte, so daß ein Austausch des zweiten Halb leiterchips durchgeführt werden kann, wenn festge stellt wird, daß der zweite Halbleiterchip defekt ist.
54. Verfahren nach Anspruch 53, wobei das Chipmontageteil
ferner aufweist: ein viertes Substrat mit einer entge
gengesetzten ersten und zweiten Oberfläche, mehreren
vierten leitenden Kontaktlöchern, die sich durch die er
ste und zweite Oberfläche des vierten Substrats erstrec
ken, einer dritten Schaltungsanordnung, die auf der
zweiten Oberfläche des vierten Substrats strukturiert
und mit den vierten leitenden Kontaktlöchern elektrisch
verbunden ist, mehreren dritten Prüfpunkten, die auf der
zweiten Oberfläche des vierten Substrats angeordnet und
mit der dritten Schaltungsanordnung elektrisch verbunden
sind, und einer darin ausgebildeten dritten Chipaufnah
meöffnung, die größer als die zweite Chipaufnahmeöffnung
ist, wobei die erste Oberfläche des vierten Substrats
auf der zweiten Oberfläche des dritten Substrats verbun
den ist, so daß die dritte Schaltungsanordnung mit der
zweiten Schaltungsanordnung über die dritten und vierten
leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist, so daß
die dritte Chipaufnahmeöffnung auf der gemeinsamen senk
rechten Achse angeordnet ist und so daß das vierte Sub
strat nicht die zweiten Prüfpunkte abdeckt, wobei das
Verfahren ferner die folgenden Schritte aufweist:
- a) Anordnen eines dritten Halbleiterchips in der drit ten Chipaufnahmeöffnung, Montieren des dritten Halbleiterchips auf der einen Seite des zweiten Halbleiterchips über eine zweite Klebeschicht, so daß der dritte Halbleiterchip von der zweiten Ober fläche des dritten Substrats entlang der senkrech ten Achse beabstandet ist, und Drahtbonden mehrerer dritter Kontaktstellen auf einer Seite des dritten Halbleiterchips mit der dritten Schaltungsanord nung; und
- b) Prüfen des dritten Halbleiterchips über die dritten Prüfpunkte, so daß ein Austausch des dritten Halb leiterchips durchgeführt werden kann, wenn festge stellt wird, daß der dritte Halbleiterchip defekt ist.
55. Verfahren nach Anspruch 54, ferner mit dem folgenden
Schritt: Montieren eines vierten Halbleiterchips auf der
zweiten Oberfläche des vierten Substrats und elektri
sches Verbinden mehrerer vierter Kontaktstellen auf ei
ner Seite des vierten Halbleiterchips mit der dritten
Schaltungsanordnung.
56. Verfahren nach Anspruch 54 oder 55, ferner mit dem
Schritt des Beschneidens des ersten, zweiten, dritten
und vierten Substrats, um das erste, zweite, dritte und
vierte Substrat mit gemeinsamen senkrechten Kanten aus
zubilden.
57. Verfahren nach Anspruch 55 oder 56, ferner mit dem
Schritt des Montierens einer wärmeableitenden Metall
platte auf einer Oberfläche des vierten Halbleiterchips
entgegengesetzt zur zweiten Oberfläche des vierten Sub
strats.
58. Verfahren nach einem der Ansprüche 53 bis 57, ferner mit
dem Schritt des Anordnens mehrerer Lötkugeln auf der er
sten Oberfläche des ersten Substrats an Positionen, die
den ersten leitenden Kontaktlöchern entsprechen, so daß
die Lötkugeln jeweils mit den ersten leitenden Kontakt
löchern elektrisch verbunden sind.
59. Verfahren nach einem der Ansprüche 54 bis 57, ferner mit
dem Schritt des Anordnens mehrerer Lötkugeln auf der
zweiten Oberfläche des vierten Substrats an Positionen,
die den vierten leitenden Kontaktlöchern entsprechen, so
daß die Lötkugeln jeweils mit den vierten leitenden Kon
taktlöchern elektrisch verbunden sind.
60. Mehrchip-Halbleitermodul mit:
einem Chipmontageteil mit einem ersten, zweiten und dritten Substrat,
wobei das erste Substrat eine entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche und mehrere erste leitende Kontaktlö cher hat, die sich durch die erste und zweite Oberfläche erstrecken,
wobei das zweite Substrat hat: eine entgegengesetzte er ste und zweite Oberfläche, mehrere zweite leitende Kon taktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberflä che des zweiten Substrats erstrecken, eine erste Schal tungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche des zwei ten Substrats strukturiert und mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, und eine darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnung, wobei die erste Oberfläche des zweiten Substrats auf der zweiten Ober fläche des ersten Substrats verbunden ist, so daß die erste Schaltungsanordnung mit den ersten leitenden Kon taktlöchern über die zweiten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist,
wobei das dritte Substrat hat: eine entgegengesetzte er ste und zweite Oberfläche, mehrere dritte leitende Kon taktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberflä che des dritten Substrats erstrecken, eine zweite Schal tungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche des drit ten Substrats strukturiert und mit den dritten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, und eine darin ausgebildete zweite Chipaufnahmeöffnung, die größer als die erste Chipaufnahmeöffnung ist, wobei die erste Ober fläche des dritten Substrats auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats verbunden ist, so daß die zweite Schaltungsanordnung mit der ersten Schaltungsanordnung über die zweiten und dritten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist und so daß die erste und zweite Chipaufnahmeöffnung auf einer gemeinsamen senkrechten Achse angeordnet sind;
einem ersten Halbleiterchip mit einer Seite, die mit mehreren ersten Kontaktstellen versehen ist, wobei der erste Halbleiterchip in der ersten Chipaufnahmeöffnung angeordnet und auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats montiert ist, wobei die ersten Kontaktstellen mit der ersten Schaltungsanordnung drahtgebondet sind;
einem zweiten Halbleiterchip mit einer Seite, die mit mehreren zweiten Kontaktstellen versehen ist, wobei der zweite Halbleiterchip in der zweiten Chipaufnahmeöffnung angeordnet ist, wobei die zweiten Kontaktstellen mit der zweiten Schaltungsanordnung drahtgebondet sind; und einer ersten Klebeschicht zum Montieren des zweiten Halbleiterchips auf der einen Seite des ersten Halblei terchips, so daß der zweite Halbleiterchip von der zwei ten Oberfläche des zweiten Substrats entlang der senk rechten Achse beabstandet ist.
einem Chipmontageteil mit einem ersten, zweiten und dritten Substrat,
wobei das erste Substrat eine entgegengesetzte erste und zweite Oberfläche und mehrere erste leitende Kontaktlö cher hat, die sich durch die erste und zweite Oberfläche erstrecken,
wobei das zweite Substrat hat: eine entgegengesetzte er ste und zweite Oberfläche, mehrere zweite leitende Kon taktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberflä che des zweiten Substrats erstrecken, eine erste Schal tungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche des zwei ten Substrats strukturiert und mit den zweiten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, und eine darin ausgebildete erste Chipaufnahmeöffnung, wobei die erste Oberfläche des zweiten Substrats auf der zweiten Ober fläche des ersten Substrats verbunden ist, so daß die erste Schaltungsanordnung mit den ersten leitenden Kon taktlöchern über die zweiten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist,
wobei das dritte Substrat hat: eine entgegengesetzte er ste und zweite Oberfläche, mehrere dritte leitende Kon taktlöcher, die sich durch die erste und zweite Oberflä che des dritten Substrats erstrecken, eine zweite Schal tungsanordnung, die auf der zweiten Oberfläche des drit ten Substrats strukturiert und mit den dritten leitenden Kontaktlöchern elektrisch verbunden ist, und eine darin ausgebildete zweite Chipaufnahmeöffnung, die größer als die erste Chipaufnahmeöffnung ist, wobei die erste Ober fläche des dritten Substrats auf der zweiten Oberfläche des zweiten Substrats verbunden ist, so daß die zweite Schaltungsanordnung mit der ersten Schaltungsanordnung über die zweiten und dritten leitenden Kontaktlöcher elektrisch verbunden ist und so daß die erste und zweite Chipaufnahmeöffnung auf einer gemeinsamen senkrechten Achse angeordnet sind;
einem ersten Halbleiterchip mit einer Seite, die mit mehreren ersten Kontaktstellen versehen ist, wobei der erste Halbleiterchip in der ersten Chipaufnahmeöffnung angeordnet und auf der zweiten Oberfläche des ersten Substrats montiert ist, wobei die ersten Kontaktstellen mit der ersten Schaltungsanordnung drahtgebondet sind;
einem zweiten Halbleiterchip mit einer Seite, die mit mehreren zweiten Kontaktstellen versehen ist, wobei der zweite Halbleiterchip in der zweiten Chipaufnahmeöffnung angeordnet ist, wobei die zweiten Kontaktstellen mit der zweiten Schaltungsanordnung drahtgebondet sind; und einer ersten Klebeschicht zum Montieren des zweiten Halbleiterchips auf der einen Seite des ersten Halblei terchips, so daß der zweite Halbleiterchip von der zwei ten Oberfläche des zweiten Substrats entlang der senk rechten Achse beabstandet ist.
61. Mehrchip-Halbleitermodul nach Anspruch 60, wobei das
Chipmontageteil ferner aufweist: ein viertes Substrat
mit einer entgegengesetzten ersten und zweiten Oberflä
che, mehreren vierten leitenden Kontaktlöchern, die sich
durch die erste und zweite Oberfläche des vierten Sub
strats erstrecken, einer dritten Schaltungsanordnung,
die auf der zweiten Oberfläche des vierten Substrats
strukturiert und mit den vierten leitenden Kontaktlö
chern elektrisch verbunden ist, und einer darin ausge
bildeten dritten Chipaufnahmeöffnung, die größer als die
zweite Chipaufnahmeöffnung ist, wobei die erste Oberflä
che des vierten Substrats auf der zweiten Oberfläche des
dritten Substrats verbunden ist, so daß die dritte
Schaltungsanordnung mit der zweiten Schaltungsanordnung
über die dritten und vierten leitenden Kontaktlöcher
elektrisch verbunden ist und so daß die dritte Chipauf
nahmeöffnung auf der gemeinsamen senkrechten Achse ange
ordnet ist, wobei das Mehrchip-Halbleitermodul ferner
aufweist:
einen dritten Halbleiterchip mit einer Seite, die mit mehreren dritten Kontaktstellen versehen ist, wobei die dritten Kontaktstellen mit der dritten Schaltungsanord nung drahtgebondet sind; und
eine zweite Klebeschicht zum Montieren des dritten Halb leiterchips auf der einen Seite des zweiten Halbleiter chips, so daß der dritte Halbleiterchip von der zweiten Oberfläche des dritten Substrats entlang der senkrechten Achse beabstandet ist.
einen dritten Halbleiterchip mit einer Seite, die mit mehreren dritten Kontaktstellen versehen ist, wobei die dritten Kontaktstellen mit der dritten Schaltungsanord nung drahtgebondet sind; und
eine zweite Klebeschicht zum Montieren des dritten Halb leiterchips auf der einen Seite des zweiten Halbleiter chips, so daß der dritte Halbleiterchip von der zweiten Oberfläche des dritten Substrats entlang der senkrechten Achse beabstandet ist.
62. Mehrchip-Halbleitermodul nach Anspruch 61, ferner mit
einem vierten Halbleiterchip, der auf der zweiten Ober
fläche des vierten Substrats montiert ist und eine Seite
hat, die mit mehreren vierten Kontaktstellen ausgebildet
ist, die mit der dritten Schaltungsanordnung elektrisch
verbunden sind.
63. Mehrchip-Halbleitermodul nach Anspruch 62, ferner mit
einer wärmeableitenden Metallplatte, die auf einer Ober
fläche des vierten Halbleiterchips entgegengesetzt zur
zweiten Oberfläche des vierten Substrats montiert ist.
64. Mehrchip-Halbleitermodul nach einem der Ansprüche 60 bis
63, ferner mit mehreren Lötkugeln, die auf der ersten
Oberfläche des ersten Substrats an Positionen angeordnet
sind, die den ersten leitenden Kontaktlöchern entspre
chen, und jeweils mit den ersten leitenden Kontaktlö
chern elektrisch verbunden sind.
65. Mehrchip-Halbleitermodul nach einem der Ansprüche 61 bis
63, ferner mit mehreren Lötkugeln, die auf der zweiten
Oberfläche des vierten Substrats an Positionen angeord
net sind, die den vierten leitenden Kontaktlöchern ent
sprechen, und jeweils mit den vierten leitenden Kontakt
löchern elektrisch verbunden sind.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW88215325U TW426225U (en) | 1999-09-08 | 1999-09-08 | Device of multi-chip module |
TW088115461A TW423086B (en) | 1999-09-08 | 1999-09-08 | Method of packaging multi-chip module device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10031952A1 true DE10031952A1 (de) | 2001-04-05 |
Family
ID=26666737
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10031952A Withdrawn DE10031952A1 (de) | 1999-09-08 | 2000-06-30 | Mehrchip-Halbleitermodul und Herstellungsverfahren dafür |
DE10031951A Withdrawn DE10031951A1 (de) | 1999-09-08 | 2000-06-30 | Mehrchip-Halbleitermodul und Herstellungsverfahren dafür |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10031951A Withdrawn DE10031951A1 (de) | 1999-09-08 | 2000-06-30 | Mehrchip-Halbleitermodul und Herstellungsverfahren dafür |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6368894B1 (de) |
JP (2) | JP3304957B2 (de) |
DE (2) | DE10031952A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012072212A3 (de) * | 2010-11-29 | 2012-09-07 | Schweizer Electronic Ag | Elektronisches bauteil, verfahren zu dessen herstellung und leiterplatte mit elektronischem bauteil |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6368894B1 (en) * | 1999-09-08 | 2002-04-09 | Ming-Tung Shen | Multi-chip semiconductor module and manufacturing process thereof |
US20020020898A1 (en) * | 2000-08-16 | 2002-02-21 | Vu Quat T. | Microelectronic substrates with integrated devices |
US6586822B1 (en) * | 2000-09-08 | 2003-07-01 | Intel Corporation | Integrated core microelectronic package |
US7105923B2 (en) * | 2001-12-28 | 2006-09-12 | Texas Instruments Incorporated | Device and method for including passive components in a chip scale package |
EP1480271A1 (de) * | 2003-05-23 | 2004-11-24 | STMicroelectronics S.r.l. | Methode zur Qualitätsanalyse von Kontakten und Viaverbindungen in Halbleiterfertigungsprozessen mit Mehrschichtmetallisierung und dazugehörige Testchiparchitektur |
EP1627428B1 (de) * | 2003-05-28 | 2011-11-02 | Infineon Technologies AG | Kapselung für integrierte schaltungen mit einem wärmeverteilungskörper |
US7295029B2 (en) * | 2005-03-24 | 2007-11-13 | Memsic, Inc. | Chip-scale package for integrated circuits |
JP2007205908A (ja) | 2006-02-02 | 2007-08-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 重量センサ |
US20080042265A1 (en) * | 2006-08-15 | 2008-02-21 | Merilo Leo A | Chip scale module package in bga semiconductor package |
JP2008293089A (ja) * | 2007-05-22 | 2008-12-04 | Panasonic Corp | メモリカードおよびメモリカードの製造方法 |
JP2009010358A (ja) * | 2007-05-28 | 2009-01-15 | Panasonic Corp | 電子部品内蔵モジュール及びその製造方法 |
JP2008306105A (ja) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
DE102008049726B4 (de) * | 2008-09-30 | 2012-02-09 | Advanced Micro Devices, Inc. | Gestapelte Chipkonfiguration mit stromgespeistem Wärmeübertragungssystem und Verfahren zum Steuern der Temperatur in einem Halbleiterbauelement |
US20100244276A1 (en) * | 2009-03-25 | 2010-09-30 | Lsi Corporation | Three-dimensional electronics package |
US8354743B2 (en) * | 2010-01-27 | 2013-01-15 | Honeywell International Inc. | Multi-tiered integrated circuit package |
JP5482400B2 (ja) * | 2010-04-21 | 2014-05-07 | 富士通株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
CN202276549U (zh) * | 2011-09-26 | 2012-06-13 | 番禺得意精密电子工业有限公司 | 电连接组件 |
JP6356450B2 (ja) * | 2014-03-20 | 2018-07-11 | 株式会社東芝 | 半導体装置および電子回路装置 |
TWI582916B (zh) * | 2015-04-27 | 2017-05-11 | 南茂科技股份有限公司 | 多晶片封裝結構、晶圓級晶片封裝結構及其製程 |
KR102576085B1 (ko) * | 2016-10-10 | 2023-09-06 | 삼성전자주식회사 | 반도체 패키지 |
CN106793478A (zh) * | 2017-03-31 | 2017-05-31 | 三禾电器(福建)有限公司 | 一种带有窗口的电路板 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5583378A (en) * | 1994-05-16 | 1996-12-10 | Amkor Electronics, Inc. | Ball grid array integrated circuit package with thermal conductor |
TW373308B (en) * | 1995-02-24 | 1999-11-01 | Agere Systems Inc | Thin packaging of multi-chip modules with enhanced thermal/power management |
JPH09312374A (ja) * | 1996-05-24 | 1997-12-02 | Sony Corp | 半導体パッケージ及びその製造方法 |
JPH11204699A (ja) * | 1998-01-09 | 1999-07-30 | Sony Corp | 半導体装置とその製造方法と電子装置 |
JP4077951B2 (ja) * | 1998-01-14 | 2008-04-23 | 株式会社ルネサステクノロジ | 欠陥解析方法、記録媒体及び工程管理方法 |
US6368894B1 (en) * | 1999-09-08 | 2002-04-09 | Ming-Tung Shen | Multi-chip semiconductor module and manufacturing process thereof |
-
2000
- 2000-06-27 US US09/604,390 patent/US6368894B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-06-29 JP JP2000196567A patent/JP3304957B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-06-29 JP JP2000196579A patent/JP3512169B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2000-06-30 DE DE10031952A patent/DE10031952A1/de not_active Withdrawn
- 2000-06-30 DE DE10031951A patent/DE10031951A1/de not_active Withdrawn
- 2000-07-18 US US09/618,501 patent/US6704609B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012072212A3 (de) * | 2010-11-29 | 2012-09-07 | Schweizer Electronic Ag | Elektronisches bauteil, verfahren zu dessen herstellung und leiterplatte mit elektronischem bauteil |
US8811019B2 (en) | 2010-11-29 | 2014-08-19 | Schweizer Electronic Ag | Electronic device, method for producing the same, and printed circuit board comprising electronic device |
RU2556274C2 (ru) * | 2010-11-29 | 2015-07-10 | Швайцер Электроник Аг | Электронное устройство, способ его изготовления и печатная плата, содержащая электронное устройство |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3512169B2 (ja) | 2004-03-29 |
JP2001085602A (ja) | 2001-03-30 |
JP3304957B2 (ja) | 2002-07-22 |
US6704609B1 (en) | 2004-03-09 |
JP2001085610A (ja) | 2001-03-30 |
US6368894B1 (en) | 2002-04-09 |
DE10031951A1 (de) | 2001-04-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE10031952A1 (de) | Mehrchip-Halbleitermodul und Herstellungsverfahren dafür | |
DE10138278C1 (de) | Elektronisches Bauteil mit aufeinander gestapelten elektronischen Bauelementen und Verfahren zur Herstellung derselben | |
DE19821715B4 (de) | Gepacktes integriertes Schaltkreisbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE10259221B4 (de) | Elektronisches Bauteil mit einem Stapel aus Halbleiterchips und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE10045043B4 (de) | Halbleiterbauteil und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE10234951B4 (de) | Verfahren zur Herstellung von Halbleiterschaltungsmodulen | |
DE19628376A1 (de) | Integrierte Schaltkreisanordnung und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE10339770B4 (de) | Verfahren zum Herstellen einer FBGA-Anordnung | |
DE102007002707A1 (de) | System-in Package-Modul | |
DE10301512A1 (de) | Verkleinertes Chippaket und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE19904258A1 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE19801312A1 (de) | Halbleiterbauelement mit mehreren Substratlagen und zumindest einem Halbleiterchip und einem Verfahren zum Herstellen eines solchen Halbleiterbauelementes | |
DE102006016345A1 (de) | Halbleitermodul mit diskreten Bauelementen und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE102004001829A1 (de) | Halbleitervorrichtung | |
DE10251530A1 (de) | Stapelanordnung eines Speichermoduls | |
DE102005025754B4 (de) | Halbleitersensorbauteil mit einem Sensorchip und Verfahren zur Herstellung von Halbleitersensorbauteilen | |
WO2004093190A2 (de) | Multichipmodul mit mehreren halbleiterchips sowie leiterplatte mit mehreren komponenten | |
DE10138958A1 (de) | Chip-Scale-Packung, gedruckte Leiterplatte, Elektronikmodul und Leiterplatten-Entwurfsverfahren | |
DE10136655C1 (de) | Multichipmodul in COB Bauweise, insbesondere CompactFlash Card mit hoher Speicherkapazität und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE19781978B4 (de) | Gehäuse für eine integrierte Schaltung und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE19821916C2 (de) | Halbleitereinrichtung mit einem BGA-Substrat | |
DE10302022B4 (de) | Verfahren zur Herstellung eines verkleinerten Chippakets | |
DE19830158C2 (de) | Zwischenträgersubstrat mit hoher Verdrahtungsdichte für elektronische Bauelemente | |
DE69433952T2 (de) | Verpackung eines BGA-integrierten Schaltkreises mit hoher thermischer Leitfähigkeit | |
DE10153609C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements mit mehreren übereinander gestapelten und miteinander kontaktierten Chips |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |